JPH08137106A

JPH08137106A - 感光性ポリアミドを用いたパターン形成方法

Info

Publication number: JPH08137106A
Application number: JP27785294A
Authority: JP
Inventors: Kazuaki Nishio; 一章西尾; Toshinori Tsukada; 利徳塚田
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1994-11-11
Filing date: 1994-11-11
Publication date: 1996-05-31
Anticipated expiration: 2018-01-08
Also published as: JP3365096B2

Abstract

(57)【要約】【目的】感光性ポリアミドの溶液を用いて、水溶液で
現像することにより、耐熱性、絶縁性、無色透明性に優
れたポリアミド膜のパターンを形成する方法を提供する
ことを目的とする。【構成】感光基を有する芳香族ジアミン化合物を主成
分とする芳香族アミン成分と、芳香族トリカルボン酸化
合物を主成分とする芳香族カルボン酸成分とからなる感
光性ポリアミドの溶液を用いてポリアミド膜を形成し、
該ポリアミド膜を、所定のパターン状に露光後、塩基性
化合物を含む水溶液によって現像することを特徴とする
パターン形成方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ水溶液に対す
る溶解性が優れた、高分子鎖中に感光基及び酸性基を含
有する新規な芳香族ポリアミド、詳しくは、耐熱性、電
気的性質、機械的性質、及び透明性に優れ、カラーフィ
ルタのベースポリマー材料として好適な、アルカリ水溶
液可溶性の感光性ポリアミドに関する。さらに本発明
は、半導体工業における固体素子への絶縁膜やパッシベ
ーション膜の形成材料、及び半導体集積回路や多層プリ
ント配線板などの層間絶縁材料等の用途にも好適に用い
ることができる。

【０００２】液晶素子やエレクトロルミネッセンス（Ｅ
Ｌ）素子等のディスプレイデバイスにおいて、カラーフ
ィルタの表面に低抵抗の透明電極（酸化インジウムスズ
等）を形成するためには、カラーフィルタの耐熱性が必
要である。また、カラーフィルタの基材となるベースポ
リマー自身が着色していると、特定波長の光の透過率が
悪くなる。また、特定の電極構成の用途にはカラーフィ
ルタに絶縁性が必要である。さらに、カラーフィルタ
は、画素ごとにＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に
パターン化して形成する必要があるが、最近はディスプ
レイの高密度化に伴い、画素サイズの微細化が顕著にな
ってきている。従って、カラーフィルタの基材となるベ
ースポリマーには、耐熱性、無色透明性及び絶縁性が求
められると同時に、感光性のあるものが求められてい
る。また、半導体工業における固体素子への絶縁膜やパ
ッシベーション膜の形成材料、及び半導体集積回路や多
層プリント配線板などの層間絶縁材料の用途に対して
も、耐熱性及び絶縁性に富むことが要請され、また、高
密度化の要請から感光性のある耐熱材料が求められてい
る。

【従来の技術の説明】

【０００３】従来より、感光性ポリアミドの報告は多数
あるが、その多くは感光基を含有しないポリアミドと光
重合性不飽和化合物（モノマー）との配合によるもので
あり、感光性が十分高いものではなかった（特開昭４８
−８９００４、特開昭４９−７４７３９及び特開昭５６
−９３７９４等）。また、感光基を含有するポリアミド
も提案されている（特開昭５０−８６０５及び特開昭５
６−１２２８３３等）が、いずれも脂肪族ポリアミドで
あって、耐熱性及び感光性が不十分なものである。

【０００４】このような問題点を解決するものとして、
特開昭６０−６７２５号公報、特開昭６０−１２４６２
４には、感光基を側鎖に有する芳香族ポリアミドが開示
されている。しかし、この芳香族ポリアミドを用いてパ
ターンを形成する時に、現像を有機溶媒系で行わなけれ
ばならないために、工程上特別の配慮が必要である。ま
た、感光性のポリアミック酸（ポリイミドの前駆体）は
アルカリ水溶液で現像できるが、加熱すると、イミド化
するために、収縮により歪みや応力が生ずる問題があ
る。また、ポリイミドは通常黄色に着色しており、可視
光の波長領域のうち短波長側の透過率が低いので、カラ
ーフィルタ用途には適当ではない。

【０００５】

【本発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問
題点を解決すべくなされたものであり、感光性ポリアミ
ドの溶液を用いて、実質的に水溶液で現像することによ
り、耐熱性、絶縁性、無色透明性に優れたポリアミド膜
のパターンを形成する方法を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族アミン
成分と、芳香族カルボン酸成分との共重縮合物からなる
感光性ポリアミドの溶液を用いてポリアミド膜を形成
し、該ポリアミド膜を、所定のパターン状に露光後、塩
基性化合物を含む水溶液によって現像することを特徴と
するパターン形成方法に関する。（但し、当該芳香族ア
ミン成分は、下記一般式（Ｉ）で表される感光基をを有
する芳香族ジアミン化合物１００〜１０モル％及び下記
一般式（ＩＩ）で表される感光基を含有しない芳香族ジ
アミン化合物０〜９０モル％からなり、当該芳香族カル
ボン酸成分が、芳香族トリカルボン酸化合物１００〜１
０モル％及び芳香族ジカルボン酸化合物０〜９０モル％
からなる。）

【０００７】Ｈ₂Ｎ−Ｒ₁−ＮＨ₂ （Ｉ）（但し、式中Ｒ₁は感光基を含有する芳香族基の残基を
しめす。）Ｈ₂Ｎ−Ｒ₂−ＮＨ₂ （ＩＩ）（但し、式中Ｒ₂は感光基を含有しない芳香族基の残基
をしめす。）

【０００８】以下本発明について詳細に説明する。本発
明に用いられる感光性ポリアミドは、芳香族アミン成分
と、芳香族カルボン酸成分との共重縮合物からなるポリ
アミドである。即ち、本発明で用いられる、感光性ポリ
アミドは、芳香族アミン化合物と芳香族カルボン酸化合
物とを重縮合または共重縮合して得られるものである
（重縮合物は芳香族ジアミン成分として、一般式（Ｉ）
のジアミン化合物を用い、芳香族カルボン酸成分として
トリカルボン酸化合物を用いたときに得ることができ
る。）。

【０００９】芳香族アミン成分は、一般式（Ｉ）で表さ
れる感光基を有する芳香族ジアミン化合物１００〜１０
モル％及び一般式（ＩＩ）で表される感光基を含有しな
い芳香族ジアミン化合物０〜９０モル％からなる。一般
式（Ｉ）成分はポリアミドに感光性を与えることから必
須成分である。また、一般式（ＩＩ）成分は、ポリアミ
ドの熱的性質を向上させるのに役立つが、全く含むこと
が無くとも本発明の目的を達成し得る。さらに、好まし
くは、一般式（Ｉ）成分が１００〜６０％に対し、一般
式（ＩＩ）成分が０〜４０モル％である。一般式（Ｉ
Ｉ）成分が多すぎると、共重合体中の感光基の濃度が下
がり、光感度が低下し好ましくないからである。

【００１０】前記一般式（Ｉ）で表される芳香族ジアミ
ン化合物としては、感光性の炭化水素基を有する芳香族
ジアミンであれば良く、例えば、３，５−ジアミノ安息
香酸エチルアクリル酸エステル、２，４−ジアミノ安息
香酸エチルアクリル酸エステル、３，５−ジアミノ安息
香酸エチルメタアクリル酸エステル、２，４−ジアミノ
安息香酸エチルメタアクリル酸エステル、３，５−ジア
ミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、２，４
−ジアミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、
３，５−ジアミノ安息香酸グリシジルメタアクリレート
エステル、２，４−ジアミノ安息香酸グリシジルメタア
クリレートエステル、３，５−ジアミノ安息香酸ケイ皮
エステル、２，４−ジアミノ安息香酸ケイ皮エステルな
どの安息香酸エステル類、３，５−ジアミノベンジルア
クリレート、３，５−ジアミノベンジルメタアクリレー
トなどのベンジルアクリレート類、４−アクリルアミド
−３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２−アクリ
ルアミド−３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４
−シンナムアミド−３，４’−ジアミノジフェニルエー
テル、３，４’−ジアクリルアミド−３’，４−ジアミ
ノジフェニルエーテル、３，４’−ジシンナムアミド−
３’，４−ジアミノジフェニルエーテル、４−メチル−
２’−カルボキシエチルメタクリル酸エステル−３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル［カルボキシエチル
メタクリル酸エステルは、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ
ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＯＣ−］、４−メチル−２’−カルボキ
シエチルアクリル酸エステル−３，４’−ジアミノジフ
ェニルエーテル［カルボキシエチルアクリル酸エステル
は、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＯＣ−］などの
ジフェニルエーテル類、及び４，４’−ジアミノカルコ
ン、３，３’−ジアミノカルコン、３，４’−ジアミノ
カルコン、３’，４−ジアミノカルコン、４’−メチル
−３’，４−ジアミノカルコン、４’−メトキシ−
３’，４−ジアミノカルコン、３’−メチル−３，５−
ジアミノカルコンなどを挙げることができる。

【００１１】また、前記一般式（ＩＩ）で表される感光
基を有していないジアミン化合物としては、具体的に
は、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミ
ン、２，４−ジアミノトルエン、４，４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタ
ン、ｏ−トルイジン、１，４−ビス（４−アミノフェノ
キシ）ベンゼン、２，２’−ビス（４−アミノフェノキ
シフェニル）プロパン、ｏ−トルイジンスルホンなどを
挙げることができる。

【００１２】前記一般式（Ｉ）で表される芳香族ジアミ
ン化合物は必要に応じ２種以上併用しても良く、また、
これに併用される前記一般式（ＩＩ）で表される芳香族
ジアミン化合物も、必要に応じ２種以上併用することが
可能である。

【００１３】芳香族カルボン酸成分は、芳香族トリカル
ボン酸成分１００〜１０モル％及び芳香族ジカルボン酸
成分０〜９０モル％からなる。好ましくは、芳香族トリ
カルボン酸成分１００〜４０モル％に対し、芳香族ジカ
ルボン酸成分が０〜６０モル％である。芳香族トリカル
ボン酸成分は、本発明において、アルカリ水溶性を付与
するのにはたらく成分であり、少な過ぎるとアルカリ水
溶液で現像できなくなるからである。ここで、芳香族ト
リカルボン酸成分が有する３個のカルボキシル基のう
ち、２個はアミド結合に関与し、残余の１個のカルボキ
シル基は、ポリアミドにアルカリ水溶性を付与するので
ある。この残余のカルボキシル基は、後述するポリアミ
ド合成工程やその後の処理によって、一部がイミド化や
その他の反応を受けた形でポリアミド中に存在していて
もよい。しかし、現像時には、ポリマー中に存在する芳
香族カルボン酸成分モノマー単位のうち、少なくとも１
０％以上にカルボキシル基（カルボキシル基は、塩基性
化合物を含む水溶液に溶解し得る基、例えばカルボン酸
ハライドのような基に変性されていてもよい。）が存在
していることが好ましい。容易に現像できるためには、
４０％以上にカルボキシル基が存在していることが特に
好ましい。

【００１４】芳香族トリカルボン酸成分としては、芳香
族トリカルボン酸、その無水物及びそれらの酸ハロゲン
化物が挙げられ、具体的にはトリメリット酸またはその
無水物、３，３’，４−トリカルボキシ−ビフェニルま
たはその無水物、無水トリメリット酸クロライド、

【００１５】

【化１】

【００１６】などを挙げることができる。これらの中で
も、芳香族トリカルボン酸の酸ハロゲン化物、特に無水
トリメリット酸クロライドのようにモノ無水基とハロゲ
ン化基を包含するものが好ましい。

【００１７】本発明で用いる感光性ポリアミドは、ポリ
アミド０．５ｇ／Ｎ−メチル−２−ピロリドン１００ｍ
ｌの濃度の溶液として３０℃において測定した対数粘度
が０．１〜１．５特に０．２〜１．０の範囲にあるもの
が好ましい。

【００１８】本発明で用いる感光性ポリアミドの製造に
ついてさらに詳述すると、前記重縮合物（共重縮合物）
を合成する際の前記芳香族カルボン酸成分と前記一般式
（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される２種の芳香族ジアミン成
分との使用割合はほぼ等モルである。これらの合成反応
は、比較的低温で行うのが好ましい。即ち、有機溶媒中
で１００℃以下の反応温度で０．１〜４８時間重合反応
を行うのが好ましく、その結果前記共重縮合物が合成さ
れ、本発明で用いられるポリアミドが得られる。

【００１９】上記反応における有機溶媒としては、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチレンホス
ホアミドなどが挙げられる。

【００２０】次に本発明のパターンを形成する手順につ
いて説明する。まず、上記で得られた感光性ポリアミド
を有機溶媒に溶解し、さらに光重合開始剤、その他の添
加剤を添加したポリアミドの溶液（感光性組成物）を調
製する。ここで使用する有機溶媒としては、前記の反応
に用いた有機溶媒を用いることができる。

【００２１】配合される光重合開始剤としては、例え
ば、ビスアジド化合物、ミヒラーズケトン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2-t-ブチルア
ントラキノン、1,2-ベンゾ-9,10-アントラキノン、ベン
ジル、アニシル、4,4'- ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、1,5-アセ
ナフテン、チオキサントン又はその誘導体、トリアジン
誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
2-ベンジル-2−ジメチルアミノ-1−（4ーモルフォリノフ
ェニル）−ブタノン−１等のモルフォリノ誘導体等の光
重合開始剤を挙げることができる。

【００２２】前記の光重合開始剤として使用されるビス
アジド化合物としては、例えば、4,4'- ジアジドカルコ
ン、4,4'- ジアジドベンザルアセトン、2,6-ジ-(4'- ア
ジドベンザル) メチルシクロヘキサノン、4,4'- ジアジ
ドスチルベン等を好適に挙げることができる。また、光
重合開始剤として使用される前記のチオキサントン類と
しては、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロルチオキ
サントン等を挙げることができる。

【００２３】上記光重合開始剤の配合量は、前記感光性
ポリアミドなどの感光性樹脂１００重量部に対して、
０．２〜４０重量部、特に０．５〜３０重量部の割合と
なる量とすることが好ましい。前記の配合量が少な過ぎ
ると、得られる組成物の感度が低くなり、また、多くな
り過ぎると得られる組成物により形成される光硬化膜
（レリーフパターン）の耐熱性が低下するので好ましく
ない。

【００２４】その他の添加剤としては、例えば光感光膜
と基材との密着性向上剤、熱重合防止剤等である。

【００２５】また、着色されたパターンを形成する場合
には、感光性ポリアミドを有機溶媒に溶解し、さらに光
重合開始剤、その他の添加剤の他に着色材料を添加して
ポリアミド溶液（感光性組成物）を調製する。ここで用
いられる着色材料は、無機若しくは有機染料または無機
若しくは有機顔料が挙げられる。カラーフィルタの用途
には、色合いや耐久性の観点から有機顔料が最も好まし
い。その有機顔料としては、透明性が良く、且つ、耐熱
性、耐光性及び耐溶媒性に優れたものが好ましく、その
例としては、アゾキレート系、縮合アゾ系、フタロシア
ニン系、ベンゾイミダゾロン系、キナクリドン系、イソ
インドリノン系、ピランスロン系、ジブロムアンザンス
ロン系、インダンスロン系、アンスラピリミジン系、フ
ラバンスロン系、ペリレン系、ペリノン系、キノフタロ
ン系、チオインジゴ系、ジオキサジン系、アントラキノ
ン系などの有機顔料を挙げることができ、これらから一
種または二種以上を適宜選択して用いることができる。
上記の有機顔料は、光透過性、膜表面の均一性等の観点
から、その粒径が１μｍ以下のものを用いることが好ま
しい。

【００２６】有機顔料は、前記感光性組成物中に十分に
分散されている必要があり、例えば、ボールミル法、ロ
ール法、超音波法などの分散法を用いて感光性組成物を
調製することができる。

【００２７】このようにして得られた感光性組成物は、
例えば、その溶液を基材上に０〜６０℃の温度で塗布し
１８０℃以下の温度で乾燥して該組成物の塗膜（乾燥
膜）を形成し、次いで、その塗膜上にパターンマスクを
介して超高圧水銀灯の平行光線を照射して、該塗膜をパ
ターン状に光硬化し、その後、現像液に浸漬させて、光
硬化膜（レリーフパターン）の未露光部分（未硬化部
分）を溶出させ除去する現像を行って、レリーフパター
ンを基材上に形成させることができる。

【００２８】その感光性組成物の溶液を基材の表面へ塗
布するには、例えば、回転塗布法、ロールコート法、浸
漬法、スプレー法等の方法により行うことができる。こ
の中でも回転塗布法のような塗布方法が均一に塗布でき
るので好ましい。回転塗布法は通常、回転数として、１
００〜１００００rpm （回転／分）で行われる。実用的
には３００〜５０００rpm が好ましく、さらに好ましく
は５００〜４０００rpm である。前記の塗布膜の乾燥
は、熱風乾燥器、ホットプレートなどにより、１８０℃
以下、特に５０〜１５０℃の温度で１〜６０分間、特に
２〜３０分間程度行って、有機溶媒を実質的に除去して
感光性薄膜（塗膜）を形成することが好ましい。この乾
燥の際には減圧状態で行ってもよい。

【００２９】また、上記の感光性樹脂組成物からなる塗
膜（乾燥後の皮膜）の厚さは、通常、約０．１〜１０．
０μｍ、特に０．２〜５．０μｍ程度であることが好ま
しい。

【００３０】本発明で用いる前記現像液は、実質上水溶
液であって塩基性化合物を含むものである。即ち、塩基
性化合物を含み、水を体積分率で３０％以上好ましくは
５０％以上さらに好ましくは６０％以上含むものであ
る。現像液には水と混合できる有機溶媒を含んでいても
良く、特に、感光性組成物からなる塗布膜（乾燥後の皮
膜）との濡れ性を向上させるような有機溶媒を含んでい
てもよい。具体的には、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール等の多価アルコール類、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等の多価
アルコールのモノアルキルエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類等を挙げることができる。

【００３１】前記現像液に用いるアルカリ性物質として
は、無機塩基、有機塩基を用いることができ、具体的に
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム等のアル
カリ金属若しくはアルカリ土類金属の塩、水酸化アンモ
ニウム若しくは水酸化アンモニウムのアルキル置換体等
を挙げることができる。この中でも好ましいものは、炭
酸ナトリウム及び水酸化アンモニウムのアルキル置換体
であり、特に、水酸化アンモニウムのアルキル置換体と
しては、炭素数が１〜３個の低級アルキルが１〜４個置
換したものが好ましく、特に水酸化テトラメチルアンモ
ニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムが好ましい。

【００３２】アルカリ性物質の使用量は、溶媒に対して
０．１〜４０％（重量／重量）、好ましくは０．５〜
２０％（重量／重量）、さらに好ましくは１〜１０％
（重量／重量）である。アルカリ性物質の量が少なすぎ
ると光未照射部分の溶解が十分でなく、また、多すぎる
と溶媒に溶解しなっかったり、光照射部分まで溶解した
りする問題が起きるからである。

【００３３】前述の現像液に浸漬させて現像する際に
は、現像液中に塗膜を形成した基板を単に浸漬したり、
または浸漬と同時に現像液を攪拌したり、振動を与えた
り、超音波を作用させたりして行う。あるいは、塗膜に
現像液をスプレーすることにより現像してもよい。この
現像の操作は、露光部と非露光部の溶解の差が最も良く
出るように温度と時間を設定することができるが、操作
の容易性を考慮すると通常は室温付近の温度（好ましく
は１０〜６０℃、特に好ましくは１５〜４０℃）で数秒
〜数十分間（好ましくは３０秒〜１５分間）行うのが好
ましい。ついで、前述の現像後、形成された光硬化膜
（レリーフパターン）が形成された基材を、感光性樹脂
を溶解しない有機溶媒、或いは、水などによりリンス
し、次いで、熱風乾燥器、ホットプレート等により、約
２５０℃以下、特に２３０℃以下の温度で、１〜６０分
間、特に２〜３０分間、熱処理（ポストベーク）するこ
とが好ましい。

【００３４】

【実施例】

［実施例１］３，５−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル酸エステル
と無水トリメリット酸クロライドとの重縮合による感光
性ポリアミドの製造三口フラスコに乾燥窒素を通じてフラスコ内を置換した
後、３，５−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル酸エス
テル１９．８５ｇ（０．７５ミリモル）を入れ、これ
に、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１２０ｍｌ
を加え溶解した。溶解後、０℃で攪拌しながら無水トリ
メリット酸クロライド１５．８２ｇ（０．７５ミリモ
ル）を加え、そのまま０．５時間攪拌を続け、次いで室
温で１８時間反応させた。反応後、ＮＭＰ５０ｍｌを加
えた反応溶液をメタノール１ｌと水１ｌの混合液に加え
ポリアミドを析出させた。析出物を濾別し、乾燥し白色
のポリアミド粉末３０ｇを得た。

【００３５】［実施例２］実施例１で得られたポリアミ
ド粉末１０ｇ、熱重合禁止剤としてメチルエーテルハイ
ドロキノン０．１ｇ及びフェノチアジン０．０５ｇ、光
重合開始剤としてジエチルチオキサントン０．３ｇ、ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル０．４ｇ及びベン
ジル０．３ｇ、並びに密着向上剤としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン８ｇをＮＭＰ４０ｇ及び
ジエチレングリコールジメチルエーテル１０ｇの混合溶
液に溶解した後、１μｍのフィルタによりろ過し、感光
性ポリアミドの溶液を得た。得られた溶液を、スピンナ
ーを用いて、ガラス基板上に２０００r.p.m.で３０秒間
回転塗布し、次いでこのポリアミド膜を８０℃で１０分
間乾燥して、１．５μｍ厚のポリアミド膜を得た。この
時、ポリアミド中のトリメリット酸単位が有する３個の
カルボキシル基のうち２個はアミド結合に関与し、残余
の１個は殆どが〔−ＣＯＯＨ〕として存在していた。

【００３６】このポリアミド膜にテストマスク（凸版印
刷（株）製、トッパンテストチャートＰ）を介して２５
０Ｗの高圧水銀灯の光（ミカサ（株）製、マスクアライ
ンメント装置ＭＡ−１０型使用）を用いて、６００ｍＪ
／ｃｍ²になるように露光した。

【００３７】露光後、２．５重量％の水酸化テトラメチ
ルアンモニウム（（ＣＨ₃）₄ＮＯＨ）およびエチルセ
ロソルブ５重量％を含む水溶液を攪拌しながら、この水
溶液にポリアミド膜のついたガラス基板を４分間浸漬し
て室温下で現像を行い、さらに純粋な水で洗浄した。。
この結果、露光部のみポリアミド膜が残っていた。次い
で、このパターンを２００℃で３０分間加熱した。露光
部のポリアミド膜は１．３μｍであった。さらにこの塗
膜を２７０℃で処理したが、その塗膜に異常は認められ
なかった。また、この塗膜１．５μｍ厚の透過率を測定
したところ、４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて９０％以
上の透過率を示し、可視光の波長領域全域にて極めて透
明性が良いことが示された。

【００３８】［実施例３］｛有機顔料分散ポリアミド溶液の調製｝トリエチレング
リコールジメチルエーテル８６．０ｇに赤色顔料として
アントラキノンレッド（チバガイギー社製、クロモフタ
ルレッドＡ２Ｂ）３．５ｇを加え、混合攪拌後、水槽中
で５０Ｗの超音波を約１時間作用させて上記顔料を分散
させ、次いでこの溶液を１μｍのフッ素樹脂製フィルタ
ー（テフロンフィルター）を用いて、加圧濾過し、顔料
分散液を得た。次いで、前記の顔料分散溶液に、熱重合
防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル０．２
６ｇ及び前述の実施例１で得られたポリアミド粉末８．
５ｇを加え、十分に攪拌し均一な粘ちゅう液とした後、
水槽中で３０Ｗの超音波を約３０分間作用させた。この
ようにして得られた粘ちゅう液に、4,4'-ジアジドカル
コン０．３４ｇを加え、攪拌して１μｍのフッ素樹脂製
フィルター（テフロンフィルター）を用いて、加圧濾過
し、赤色顔料が分散されたポリアミド溶液（感光性組成
物）を得た。

【００３９】｛着色パターンの形成｝前記の赤色顔料含
有の感光性組成物を、ガラス基板上に乾燥膜厚が１．５
μｍになるようにスピンナーを用いて回転塗布し、塗布
膜を８０℃で１０分間乾燥して、ガラス基板表面に該組
成物の塗膜（乾燥膜）を形成した。この塗膜表面に、１
０μｍの間隔のストライプ状のマスクを密着させ、マス
クを介して超高圧水銀灯（５ｍＷ／ｃｍ²）を用いて露
光量が６００ｍＪ／ｃｍ²となるように露光した。次い
で、パターン露光された該塗膜を、実施例２と同様の溶
液を用いて４分間現像し、２００℃で３０分間熱処理
し、１０μｍストライプの鮮明な赤色パターンを得た。
このようにして得られた赤色パターンを２５０℃で１時
間加熱したが変色や、退色は認められなかった。

【００４０】［実施例４］有機溶媒としてＮ−メチル
−２−ピロリドンを用い、赤色顔料であるアントラキノ
ンレッドの代わりに、緑色顔料であるフタロシアニング
リーンを用いた他は実施例３と同様にして緑色顔料が分
散されたポリアミド溶液（感光性組成物）を得た。前
記の緑色顔料含有の感光性組成物を使用し、実施例３と
同様にしてガラス基板上に該組成物の塗膜（乾燥膜）を
形成し、露光し、現像などを行って、１０μｍストライ
プの鮮明な緑パターンを得た。このようにして得られ
た緑色パターンを２５０℃で１時間加熱したが変色や、
退色は認められなかった。

【００４１】［実施例５］有機溶媒としてＮ−メチル
−２−ピロリドンを用い、赤色顔料であるアントラキノ
ンレッドの代わりに、青色顔料であるフタロシアニンブ
ルーを用いた他は実施例３と同様にして青色顔料が分散
されたポリアミド溶液（感光性組成物）を得た。前記の
青色顔料含有の感光性組成物を使用し、実施例３と同様
にしてガラス基板上に該組成物の塗膜（乾燥膜）を形成
し、露光し、現像などを行って、１０μｍストライプの
鮮明な青色パターンを得た。このようにして得られた青
色パターンを２５０℃で１時間加熱したが変色や、退色
は認められなかった。

【００４２】［実施例６］ 4,4'-ジアジドカルコンの
代わりに、2,6-ジー（4'ーアジドベンザル）-4-メチルシ
クロヘキサノン０．５１ｇを用いた他は、実施例３と同
様にして赤色顔料が分散されたポリアミド溶液（感光性
組成物）を得た。前記の赤色顔料含有の感光性組成物を
使用し、実施例３と同様にしてガラス基板上に該組成物
の塗膜（乾燥膜）を形成し、露光し、現像などを行っ
て、１０μｍストライプの鮮明な赤色パターンを得た。
このようにして得られた赤色パターンを２５０℃で１時
間加熱したが変色や、退色は認められなかった。

【００４３】

【発明の効果】本発明によれば、感光性ポリアミドの溶
液を用いて、実質的に水溶液で現像することにより、耐
熱性、絶縁性、無色透明性に優れたポリアミド膜の着色
若しくは無着色パターンを形成する方法を提供すること
ができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/32 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/312 Ｂ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】芳香族アミン成分と、芳香族カルボン酸
成分との共重縮合物からなる感光性ポリアミドの溶液を
用いてポリアミド膜を形成し、該ポリアミド膜を、所定
のパターン状に露光後、塩基性化合物を含む水溶液によ
って現像することを特徴とするパターン形成方法。（但
し、当該芳香族アミン成分は、下記一般式（Ｉ）で表さ
れる感光基をを有する芳香族ジアミン化合物１００〜１
０モル％及び下記一般式（ＩＩ）で表される感光基を含
有しない芳香族ジアミン化合物０〜９０モル％からな
り、当該芳香族カルボン酸成分が、芳香族トリカルボン
酸化合物１００〜１０モル％及び芳香族ジカルボン酸化
合物０〜９０モル％からなる。）Ｈ₂Ｎ−Ｒ₁−ＮＨ₂ （Ｉ）（但し、式中Ｒ₁は感光基を含有する芳香族基の残基を
しめす。）Ｈ₂Ｎ−Ｒ₂−ＮＨ₂ （ＩＩ）（但し、式中Ｒ₂は感光基を含有しない芳香族基の残基
をしめす。）
【請求項２】前記感光性ポリアミドの溶液が着色材料
を含むものであり、着色されたパターンを形成すること
を特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。