JPH08134355A - ハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法 - Google Patents
ハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法Info
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- JPH08134355A JPH08134355A JP6302991A JP30299194A JPH08134355A JP H08134355 A JPH08134355 A JP H08134355A JP 6302991 A JP6302991 A JP 6302991A JP 30299194 A JP30299194 A JP 30299194A JP H08134355 A JPH08134355 A JP H08134355A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/004—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/12—Polymers
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 耐熱性、接着性、そして耐摩耗性に優れ、ま
た増粘させることによりスクリーン印刷も可能であり、
しかも蛍光を発するハイブリッドガラス製造用の前駆体
組成物およびこれを用いたハイブリッドガラスの製造方
法を提供する。 【構成】 A−Si(OR1 ) 3 (A:ウレイド基また
はアミノ基を有する官能基、R1 はメチル基またはエチ
ル基を示す)からなるウレイド基またはアミノ基を有す
るシリコントリアルコキシド30〜95モル%と、一般
式 B−Si(OR2 ) 3 (B:フェニル基、R2 はメ
チル基またはエチル基を示す)からなるフェニル基を有
するシリコントリアルコキシド5〜70モル%と、チタ
ニウムあるいはアルミニウムのキレートもしくはそのア
ルコキシド0.1〜10モル%、そして蛍光色素0.0
1〜10重量%を含んでいる。
た増粘させることによりスクリーン印刷も可能であり、
しかも蛍光を発するハイブリッドガラス製造用の前駆体
組成物およびこれを用いたハイブリッドガラスの製造方
法を提供する。 【構成】 A−Si(OR1 ) 3 (A:ウレイド基また
はアミノ基を有する官能基、R1 はメチル基またはエチ
ル基を示す)からなるウレイド基またはアミノ基を有す
るシリコントリアルコキシド30〜95モル%と、一般
式 B−Si(OR2 ) 3 (B:フェニル基、R2 はメ
チル基またはエチル基を示す)からなるフェニル基を有
するシリコントリアルコキシド5〜70モル%と、チタ
ニウムあるいはアルミニウムのキレートもしくはそのア
ルコキシド0.1〜10モル%、そして蛍光色素0.0
1〜10重量%を含んでいる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハイブリッドガラス製造
用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法
に係り、詳しくは色素レーザの発振源、波長変換素子と
して使用できる他、ガラス、陶磁器、タイル、プラスチ
ック等の着色材等に使用されるハイブリッドガラス製造
用の前駆体組成物およびこれを用いたハイブリッドガラ
スの製造方法に関する。
用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法
に係り、詳しくは色素レーザの発振源、波長変換素子と
して使用できる他、ガラス、陶磁器、タイル、プラスチ
ック等の着色材等に使用されるハイブリッドガラス製造
用の前駆体組成物およびこれを用いたハイブリッドガラ
スの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ゾル−ゲル法により、ガラスやセ
ラミックス等を低温合成法によって得ることは古くから
知られている。この方法は、例えば4官能の金属アルコ
キシドの溶液を使用し、これの加水分解とこれに続く縮
重合反応によるものである。この方法は、ガラスの成型
が溶融法より低温度でできること、異種元素を分子レベ
ルで混合できること、そして化学構造の設計が容易であ
るといった特長を有している。しかし、このゾル−ゲル
法も厚膜、塊状物が作製できないことや、作製温度が8
00°C以上と高く、また内部組織を充分に発達させる
ために作製時間に数日かかるといった問題があった。
ラミックス等を低温合成法によって得ることは古くから
知られている。この方法は、例えば4官能の金属アルコ
キシドの溶液を使用し、これの加水分解とこれに続く縮
重合反応によるものである。この方法は、ガラスの成型
が溶融法より低温度でできること、異種元素を分子レベ
ルで混合できること、そして化学構造の設計が容易であ
るといった特長を有している。しかし、このゾル−ゲル
法も厚膜、塊状物が作製できないことや、作製温度が8
00°C以上と高く、また内部組織を充分に発達させる
ために作製時間に数日かかるといった問題があった。
【0003】また、有機と無機の中間の性質をもつハイ
ブリッドガラスの製造方法では、1、2、3官能アルコ
キシドを縮重合することにより得ることができる。例え
ば、特開平2−137737号公報には、親和性の乏し
い有機シロキサンと無機シロキサンとをシリコントリア
ルコキシドで結合して得たハイブリッドガラスが開示さ
れている。
ブリッドガラスの製造方法では、1、2、3官能アルコ
キシドを縮重合することにより得ることができる。例え
ば、特開平2−137737号公報には、親和性の乏し
い有機シロキサンと無機シロキサンとをシリコントリア
ルコキシドで結合して得たハイブリッドガラスが開示さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のハイブ
リッドガラスでは、異種元素を分子レベルで混合できる
こと、そして化学構造の設計が容易であり、また作業温
度が低くなる特長をもっているが、耐熱性と接着性の両
方に優れるハイブリッドガラスが得られていなかった。
例えば、フェニル基含有シロキサンを使用したハイブリ
ッドガラスでは、耐熱性に優れた膜が出来るが、フェニ
ル基を含有するために、膜は硬くてもろくなり過ぎて、
基材上で作製した膜が剥がれやすくなるといった問題が
あった。
リッドガラスでは、異種元素を分子レベルで混合できる
こと、そして化学構造の設計が容易であり、また作業温
度が低くなる特長をもっているが、耐熱性と接着性の両
方に優れるハイブリッドガラスが得られていなかった。
例えば、フェニル基含有シロキサンを使用したハイブリ
ッドガラスでは、耐熱性に優れた膜が出来るが、フェニ
ル基を含有するために、膜は硬くてもろくなり過ぎて、
基材上で作製した膜が剥がれやすくなるといった問題が
あった。
【0005】本発明はこのような問題点を改善するもの
であり、耐熱性、接着性、そして耐摩耗性に優れ、また
増粘させることによりスクリーン印刷も可能であり、し
かも蛍光を発することが可能なハイブリッドガラス製造
用の前駆体組成物およびこれを用いたハイブリッドガラ
スの製造方法を提供する。
であり、耐熱性、接着性、そして耐摩耗性に優れ、また
増粘させることによりスクリーン印刷も可能であり、し
かも蛍光を発することが可能なハイブリッドガラス製造
用の前駆体組成物およびこれを用いたハイブリッドガラ
スの製造方法を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式 A−
Si(OR1 ) 3 (A:ウレイド基またはアミノ基を有
する官能基、R1 はメチル基またはエチル基を示す)か
らなるウレイド基またはアミノ基を有するシリコントリ
アルコキシド30〜95モル%と、一般式 B−Si
(OR2 ) 3 (B:フェニル基、R2 はメチル基または
エチル基を示す)からなるフェニル基を有するシリコン
トリアルコキシド5〜70モル%と、チタニウムあるい
はアルミニウムのキレートもしくはそのアルコキシド
0.1〜10モル%、そして蛍光色素0.01〜10重
量%を含んだハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物
にある。また、本発明は、上記前駆体組成物を加水分
解、縮合するハイブリッドガラスの製造方法も含む。
Si(OR1 ) 3 (A:ウレイド基またはアミノ基を有
する官能基、R1 はメチル基またはエチル基を示す)か
らなるウレイド基またはアミノ基を有するシリコントリ
アルコキシド30〜95モル%と、一般式 B−Si
(OR2 ) 3 (B:フェニル基、R2 はメチル基または
エチル基を示す)からなるフェニル基を有するシリコン
トリアルコキシド5〜70モル%と、チタニウムあるい
はアルミニウムのキレートもしくはそのアルコキシド
0.1〜10モル%、そして蛍光色素0.01〜10重
量%を含んだハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物
にある。また、本発明は、上記前駆体組成物を加水分
解、縮合するハイブリッドガラスの製造方法も含む。
【0007】本発明で使用する一般式A−Si(O
R1 ) 3 であるウレイド基またはアミノ基を有するシリ
コントリアルコキシドとしては、Aがウレイド基または
アミノ基を有する官能基で、例えばγ−ウレイドプロピ
ル、γ−アミノプロピル、N−(β−アミノエチル)−
γ−アミノプロピル等からなり、またR1 がメチル基ま
たはエチル基であり、具体的にはγ−ウレイドプロピル
トリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン等が挙げられる。これは膜を柔軟にするため
に添加される。この添加量は30〜95モル%、好まし
くは45〜85モル%であり、30モル%未満の場合に
はハイブリッドガラス膜と基体間の接着力が低下し、一
方95モル%を越えると該膜の耐熱性が低下し、また酸
化によってガラス膜が変色する問題がある。
R1 ) 3 であるウレイド基またはアミノ基を有するシリ
コントリアルコキシドとしては、Aがウレイド基または
アミノ基を有する官能基で、例えばγ−ウレイドプロピ
ル、γ−アミノプロピル、N−(β−アミノエチル)−
γ−アミノプロピル等からなり、またR1 がメチル基ま
たはエチル基であり、具体的にはγ−ウレイドプロピル
トリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン等が挙げられる。これは膜を柔軟にするため
に添加される。この添加量は30〜95モル%、好まし
くは45〜85モル%であり、30モル%未満の場合に
はハイブリッドガラス膜と基体間の接着力が低下し、一
方95モル%を越えると該膜の耐熱性が低下し、また酸
化によってガラス膜が変色する問題がある。
【0008】一般式B−Si(OR2 ) 3 であるフェニ
ル基を有するシリコントリアルコキシドとしては、Bが
フェニル基であり、R2 がメチル基またはエチル基であ
る。具体的には、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシランである。これは膜に耐熱性を付与
するために添加される。この添加量は5〜70モル%、
好ましくは10〜50モル%であり、5モル%未満の場
合には膜の耐熱性が低下し、また70モル%を越える
と、ガラス膜と基体間の接着力が低下する。
ル基を有するシリコントリアルコキシドとしては、Bが
フェニル基であり、R2 がメチル基またはエチル基であ
る。具体的には、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシランである。これは膜に耐熱性を付与
するために添加される。この添加量は5〜70モル%、
好ましくは10〜50モル%であり、5モル%未満の場
合には膜の耐熱性が低下し、また70モル%を越える
と、ガラス膜と基体間の接着力が低下する。
【0009】更に、チタニウムあるいはアルミニウムの
キレートもしくはそのアルコキシドのうち、キレートと
してはエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネー
ト)、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトネー
ト、ジヒドロキシビスラクタクトチタン等があり、また
アルコキシドとしてはアルミニウムイソプロピレート、
アルミニウムエチレート、モノsecブトキシアルミニ
ウムジイソプロピレート、テトライソプロポキシチタ
ン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラステアリルオ
キシチタン等がある。これは膜に接着性を付与するため
に添加されるが、この添加量は0.1〜10モル%、好
ましくは2〜5モル%であり、0.1モル%未満の場合
にはガラス膜と基体間の接着力が低下し、また10モル
%を越えると、膜の強度が低下する。
キレートもしくはそのアルコキシドのうち、キレートと
してはエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネー
ト)、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトネー
ト、ジヒドロキシビスラクタクトチタン等があり、また
アルコキシドとしてはアルミニウムイソプロピレート、
アルミニウムエチレート、モノsecブトキシアルミニ
ウムジイソプロピレート、テトライソプロポキシチタ
ン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラステアリルオ
キシチタン等がある。これは膜に接着性を付与するため
に添加されるが、この添加量は0.1〜10モル%、好
ましくは2〜5モル%であり、0.1モル%未満の場合
にはガラス膜と基体間の接着力が低下し、また10モル
%を越えると、膜の強度が低下する。
【0010】従って、本発明では、膜に柔軟性を付与す
るウレイド基またはアミノ基を有するシリコントリアル
コキシドと、膜に耐熱性を付与するフェニル基を有する
シリコントリアルコキシドと、膜に接着性を付与するチ
タニウムあるいはアルミニウムのキレートもしくはその
アルコキシドとを添加し重合することによって、得られ
た膜は最高200°Cの比較的高温まで耐久性を有し、
しかも基体と強固に接着したポリオルガノシロキサンを
作製することができる。
るウレイド基またはアミノ基を有するシリコントリアル
コキシドと、膜に耐熱性を付与するフェニル基を有する
シリコントリアルコキシドと、膜に接着性を付与するチ
タニウムあるいはアルミニウムのキレートもしくはその
アルコキシドとを添加し重合することによって、得られ
た膜は最高200°Cの比較的高温まで耐久性を有し、
しかも基体と強固に接着したポリオルガノシロキサンを
作製することができる。
【0011】上記重合においては、原料液をペースト化
してその後注型するため、重合温度を脱水縮合時に生成
するアルコールの沸点温度近くの60〜80°Cに維持
し、また重合時間を1時間以内で行うことができる。ま
た、重合時にはアルコキシドの加水分解に必要な水を全
てのアルコキシド1モルに対して最高3モルおよび50
重量%未満の溶剤を添加して、反応を促進することがで
きる。これにより、アルコキシドの加水分解、脱水縮合
が起こり、重合が始まりペーストができる。このペース
トを150〜250°Cで熱処理することでハイブリッ
ドガラス膜を製造することができる。尚、特に、スクリ
ーン印刷をする場合には、アルコールをロータリエバポ
レーター等で蒸留して増粘することができる。
してその後注型するため、重合温度を脱水縮合時に生成
するアルコールの沸点温度近くの60〜80°Cに維持
し、また重合時間を1時間以内で行うことができる。ま
た、重合時にはアルコキシドの加水分解に必要な水を全
てのアルコキシド1モルに対して最高3モルおよび50
重量%未満の溶剤を添加して、反応を促進することがで
きる。これにより、アルコキシドの加水分解、脱水縮合
が起こり、重合が始まりペーストができる。このペース
トを150〜250°Cで熱処理することでハイブリッ
ドガラス膜を製造することができる。尚、特に、スクリ
ーン印刷をする場合には、アルコールをロータリエバポ
レーター等で蒸留して増粘することができる。
【0012】本発明で使用する溶剤としては、ジメチル
イミダゾリジノン、メタクレゾール、ジメチルホルムア
ミド、カルビトール、ターピノール、ジアセトンアルコ
ール、トリエチレングリコール、パラキシレン等の高沸
点の有機溶剤がある。
イミダゾリジノン、メタクレゾール、ジメチルホルムア
ミド、カルビトール、ターピノール、ジアセトンアルコ
ール、トリエチレングリコール、パラキシレン等の高沸
点の有機溶剤がある。
【0013】上記ペーストは直接ガラス等の基材表面に
ディッピング、スプレー、コーティング、印刷等の方法
で塗布し、厚さ約500μmまでの膜厚に調節すること
ができる。それ以上の膜厚にすると、熱処理の段階で気
泡が入りやすくなる。むろん、スクリーン印刷も可能で
ある。このスクリーン印刷の手順は、水平に置かれたス
クリーン(例えば、ポリエステル平織物、255メッシ
ュ)の下に、数ミリメートルの間隔をもたせて印刷基板
(ガラス)を設置する。このスクリーンの上に上記組成
物をのせた後、スキージーを用いてスクリーン全面に組
成物を広げる。この時には、スクリーンと印刷基板とは
間隔を有している。続いて、スクリーンが印刷基板に接
触する程度にスキージーでスクリーンを押さえ付けて移
動させ、印刷をする。以後これを繰り返す。
ディッピング、スプレー、コーティング、印刷等の方法
で塗布し、厚さ約500μmまでの膜厚に調節すること
ができる。それ以上の膜厚にすると、熱処理の段階で気
泡が入りやすくなる。むろん、スクリーン印刷も可能で
ある。このスクリーン印刷の手順は、水平に置かれたス
クリーン(例えば、ポリエステル平織物、255メッシ
ュ)の下に、数ミリメートルの間隔をもたせて印刷基板
(ガラス)を設置する。このスクリーンの上に上記組成
物をのせた後、スキージーを用いてスクリーン全面に組
成物を広げる。この時には、スクリーンと印刷基板とは
間隔を有している。続いて、スクリーンが印刷基板に接
触する程度にスキージーでスクリーンを押さえ付けて移
動させ、印刷をする。以後これを繰り返す。
【0014】また、本発明で使用する蛍光色素として
は、ローダミン6G、ローダミンBなどのキサンテン系
有機化合物、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリ
ン、6,7−ジヒドロキシクマリンなどのクマリン系有
機化合物、この他1,4−ビス〔2−(5−フェニルオ
キサゾリル)〕ベンゼン、1,4−ビス(2−メチルス
チリル)ベンゼン、2,5−ビス(5−t−ブチルベン
ズオキサゾリル)チオフェン、4,4−ビス(5−メチ
ルベンズオキサゾール−2−イル)スチルベンなどの有
機化合物が使用できる。上記蛍光色素の添加量は0.0
1〜10重量%であり、好ましくは0.5〜5重量%で
ある。添加量が0.01重量%未満の場合には、蛍光の
発光強度が小さ過ぎ、一方10重量%を越えると、ハイ
ブリッドガラス前駆体組成物に溶けきらないものがあ
り、不透明なハイブリッドガラスが得られる。
は、ローダミン6G、ローダミンBなどのキサンテン系
有機化合物、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリ
ン、6,7−ジヒドロキシクマリンなどのクマリン系有
機化合物、この他1,4−ビス〔2−(5−フェニルオ
キサゾリル)〕ベンゼン、1,4−ビス(2−メチルス
チリル)ベンゼン、2,5−ビス(5−t−ブチルベン
ズオキサゾリル)チオフェン、4,4−ビス(5−メチ
ルベンズオキサゾール−2−イル)スチルベンなどの有
機化合物が使用できる。上記蛍光色素の添加量は0.0
1〜10重量%であり、好ましくは0.5〜5重量%で
ある。添加量が0.01重量%未満の場合には、蛍光の
発光強度が小さ過ぎ、一方10重量%を越えると、ハイ
ブリッドガラス前駆体組成物に溶けきらないものがあ
り、不透明なハイブリッドガラスが得られる。
【0015】更に、本発明では、他の各種添加剤、例え
ばシリカ粉、金属あるいはセラミックス粉等を使用する
ことができる。
ばシリカ粉、金属あるいはセラミックス粉等を使用する
ことができる。
【0016】
【作用】本発明のハイブリッドガラス製造用の前駆体組
成物およびハイブリッドガラスの製造方法では、ウレイ
ド基またはアミノ基を有するシリコントリアルコキシド
がガラス膜の柔軟性を与え、フェニル基を有するシリコ
ントリアルコキシドがガラス膜に耐熱性を付与し、そし
てチタニウムあるいはアルミニウムのキレートあるいは
アルコキシドがガラス膜に接着性を付与する機能をそれ
ぞれ有しているために、耐熱性、接着性、耐摩耗性に優
れ、そして蛍光を発することが可能なガラス膜を作製す
ることができる。
成物およびハイブリッドガラスの製造方法では、ウレイ
ド基またはアミノ基を有するシリコントリアルコキシド
がガラス膜の柔軟性を与え、フェニル基を有するシリコ
ントリアルコキシドがガラス膜に耐熱性を付与し、そし
てチタニウムあるいはアルミニウムのキレートあるいは
アルコキシドがガラス膜に接着性を付与する機能をそれ
ぞれ有しているために、耐熱性、接着性、耐摩耗性に優
れ、そして蛍光を発することが可能なガラス膜を作製す
ることができる。
【0017】
【実施例】次に、本発明を具体的な実施例により更に詳
細に説明する。 実施例1〜6 表1に示すように、ウレイド基またはアミノ基を有する
シリコントリアルコキシドとしてγ−ウレイドプロピル
トリエトキシシランを使用し、フェニル基を有するシリ
コントリアルコキシドにフェニルトリメトキシシランあ
るいはフェニルトリエトキシシランを使用し、そしてチ
タニウムあるいはアルミニウムのアルコキシドとしてテ
トライソプロポキシチタンを、またチタニウムあるいは
アルミニウムのキレートとしてエチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレートを用いた。
細に説明する。 実施例1〜6 表1に示すように、ウレイド基またはアミノ基を有する
シリコントリアルコキシドとしてγ−ウレイドプロピル
トリエトキシシランを使用し、フェニル基を有するシリ
コントリアルコキシドにフェニルトリメトキシシランあ
るいはフェニルトリエトキシシランを使用し、そしてチ
タニウムあるいはアルミニウムのアルコキシドとしてテ
トライソプロポキシチタンを、またチタニウムあるいは
アルミニウムのキレートとしてエチルアセトアセテート
アルミニウムジイソプロピレートを用いた。
【0018】これらの各原料を表1の配合にしたがって
混合するとともに、これにアルコキシド1モルに対して
3モルの水とジメチルイミダゾリジノン20重量%、そ
して種々の蛍光色素を所定量添加し、エバポレータにて
70°Cで60分蒸留して増粘させ、これにシリカ粉を
10重量%混合し攪拌した。得られた組成物をステンレ
ス#325のスクリーンを用いて、ガラス基板上に印刷
した後、これを120°Cに設定されたオーブン中で3
0分間熱処理して重合を終え、ガラス基板上に厚さ20
μmのガラス膜を作製した。
混合するとともに、これにアルコキシド1モルに対して
3モルの水とジメチルイミダゾリジノン20重量%、そ
して種々の蛍光色素を所定量添加し、エバポレータにて
70°Cで60分蒸留して増粘させ、これにシリカ粉を
10重量%混合し攪拌した。得られた組成物をステンレ
ス#325のスクリーンを用いて、ガラス基板上に印刷
した後、これを120°Cに設定されたオーブン中で3
0分間熱処理して重合を終え、ガラス基板上に厚さ20
μmのガラス膜を作製した。
【0019】上記膜の接着性、耐熱性、耐摩耗性、光吸
収特性、そして蛍光特性を評価した。得られた結果を表
1に併記する。尚、評価方法は以下の通りである。 1.接着性の評価方法 まず、ガラス膜の外観を観察して膜が固化しているかど
うかを調べる。膜が固化している場合、直径2mmのス
テンレス棒を膜の表面に押圧100g、引っかき速度2
cm/秒で長さ2cm擦り付け、これを5回行って膜が
ガラス基板に接着しているか、あるいは剥離するかを調
べた。
収特性、そして蛍光特性を評価した。得られた結果を表
1に併記する。尚、評価方法は以下の通りである。 1.接着性の評価方法 まず、ガラス膜の外観を観察して膜が固化しているかど
うかを調べる。膜が固化している場合、直径2mmのス
テンレス棒を膜の表面に押圧100g、引っかき速度2
cm/秒で長さ2cm擦り付け、これを5回行って膜が
ガラス基板に接着しているか、あるいは剥離するかを調
べた。
【0020】2.耐熱性の評価方法 ガラス基板上に作製した膜を120°Cに設定されたオ
ーブン中で30分間加熱した後、膜の外観状態を目視に
より評価した。○は膜の外観に変化がない場合であり、
△は膜が変色する場合であり、×は膜が基板から剥離す
る場合を示す。
ーブン中で30分間加熱した後、膜の外観状態を目視に
より評価した。○は膜の外観に変化がない場合であり、
△は膜が変色する場合であり、×は膜が基板から剥離す
る場合を示す。
【0021】3.耐摩耗性の評価方法 テーパー摩耗試験機を用い、摩耗輪CS−10Fで25
0g荷重で500回転摩耗試験を行い、試験後の膜の外
観状態を目視して評価した。○は膜の外観に変化がない
場合であり、×は摩耗により膜の表面に傷が生じている
場合を示す。
0g荷重で500回転摩耗試験を行い、試験後の膜の外
観状態を目視して評価した。○は膜の外観に変化がない
場合であり、×は摩耗により膜の表面に傷が生じている
場合を示す。
【0022】4.光吸収特性 自記分光光度計U−3300(日立製作所社製)を用い
て評価した。
て評価した。
【0023】5.蛍光特性 ピコ秒蛍光寿命測定装置(浜松ホトニクス社製)で励起
波長377nmで評価した。
波長377nmで評価した。
【0024】
【表1】
【0025】この結果によると、本実施例により得られ
たハイブリッドガラス膜は、優れた接着性、耐熱性、そ
して耐摩耗性を有しており、また蛍光色素がよく分散
し、蛍光を発することが判る。
たハイブリッドガラス膜は、優れた接着性、耐熱性、そ
して耐摩耗性を有しており、また蛍光色素がよく分散
し、蛍光を発することが判る。
【0026】比較例1〜6 表2の配合にしたがって混合するとともに、これにアル
コキシド1モルに対して3モルの水とジメチルイミダゾ
リジノン20重量%、そして種々の蛍光色素を所定量添
加し、エバポレータにて70°Cで60分蒸留して増粘
させ、これにシリカ粉を10重量%混合し攪拌した。得
られた組成物をステンレス#325のスクリーンを用い
て、ガラス基板上に印刷した後、これを120°Cに設
定されたオーブン中で30分間熱処理して重合を終え、
ガラス基板上に厚さ20μmのガラス膜を作製した。
コキシド1モルに対して3モルの水とジメチルイミダゾ
リジノン20重量%、そして種々の蛍光色素を所定量添
加し、エバポレータにて70°Cで60分蒸留して増粘
させ、これにシリカ粉を10重量%混合し攪拌した。得
られた組成物をステンレス#325のスクリーンを用い
て、ガラス基板上に印刷した後、これを120°Cに設
定されたオーブン中で30分間熱処理して重合を終え、
ガラス基板上に厚さ20μmのガラス膜を作製した。
【0027】上記膜の接着性、耐熱性、光吸収特性、そ
して蛍光特性を評価した。得られた結果を表2に併記す
る。
して蛍光特性を評価した。得られた結果を表2に併記す
る。
【0028】
【表2】
【0029】この結果によると、比較例により得られた
ハイブリッドガラス膜は、接着性、耐熱性、そして耐摩
耗性に劣っていることが判る。特に、比較例5のように
エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレー
トの添加量を多くすると、ガラス膜の強度が低下してい
る。また、比較例6のようにγ−ウレイドプロピルトリ
エトキシシランの添加量を多くすると、ガラス膜が酸化
して変色している。
ハイブリッドガラス膜は、接着性、耐熱性、そして耐摩
耗性に劣っていることが判る。特に、比較例5のように
エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレー
トの添加量を多くすると、ガラス膜の強度が低下してい
る。また、比較例6のようにγ−ウレイドプロピルトリ
エトキシシランの添加量を多くすると、ガラス膜が酸化
して変色している。
【0030】実施例7〜9 γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン76モル%、
フェニルトリメトキシシラン19モル%、エチルアセト
アセテートアルミニウムジイソプロピレート15モル%
を混合し、これにアルコキシド1モルに対して3モルの
水とジメチルイミダゾリジノン20重量%とを添加し、
そして種々の蛍光色素を所定量添加し、エバポレータに
て70°Cで60分蒸留して増粘させ、これにシリカ粉
を10重量%混合し攪拌した。得られた組成物をステン
レス#325のスクリーンを用いて、ガラス基板上に印
刷した後、これを120°Cに設定されたオーブン中で
30分間熱処理して重合を終え、ガラス基板上に厚さ2
0μmのガラス膜を作製した。
フェニルトリメトキシシラン19モル%、エチルアセト
アセテートアルミニウムジイソプロピレート15モル%
を混合し、これにアルコキシド1モルに対して3モルの
水とジメチルイミダゾリジノン20重量%とを添加し、
そして種々の蛍光色素を所定量添加し、エバポレータに
て70°Cで60分蒸留して増粘させ、これにシリカ粉
を10重量%混合し攪拌した。得られた組成物をステン
レス#325のスクリーンを用いて、ガラス基板上に印
刷した後、これを120°Cに設定されたオーブン中で
30分間熱処理して重合を終え、ガラス基板上に厚さ2
0μmのガラス膜を作製した。
【0031】上記膜の接着性、耐熱性、耐摩耗性、光吸
収特性、そして蛍光特性を評価した。得られた結果を表
3に併記する。
収特性、そして蛍光特性を評価した。得られた結果を表
3に併記する。
【0032】
【表3】
【0033】この結果によると、実施例のハイブリッド
ガラス膜は、特に蛍光強度が高いことが判る。
ガラス膜は、特に蛍光強度が高いことが判る。
【0034】
【発明の効果】以上のように本発明のように、所定量の
ウレイド基またはアミノ基を有するシリコントリアルコ
キシドと、フェニル基を有するシリコントリアルコキシ
ドと、そしてチタニウムあるいはアルミニウムのキレー
トもしくはそのアルコキシドを添加することにより、耐
熱性、接着性、耐摩耗性、そして優れた蛍光を発するガ
ラス膜を作製することができる効果がある。
ウレイド基またはアミノ基を有するシリコントリアルコ
キシドと、フェニル基を有するシリコントリアルコキシ
ドと、そしてチタニウムあるいはアルミニウムのキレー
トもしくはそのアルコキシドを添加することにより、耐
熱性、接着性、耐摩耗性、そして優れた蛍光を発するガ
ラス膜を作製することができる効果がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 和生 神戸市長田区浜添通4丁目1番21号 三ツ 星ベルト株式会社内 (72)発明者 山口 良雄 神戸市長田区浜添通4丁目1番21号 三ツ 星ベルト株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 一般式 A−Si(OR1 ) 3 (A:ウ
レイド基またはアミノ基を有する官能基、R1 はメチル
基またはエチル基を示す)からなるウレイド基またはア
ミノ基を有するシリコントリアルコキシド30〜95モ
ル%と、一般式 B−Si(OR2 ) 3 (B:フェニル
基、R2 はメチル基またはエチル基を示す)からなるフ
ェニル基を有するシリコントリアルコキシド5〜70モ
ル%と、チタニウムあるいはアルミニウムのキレートも
しくはそのアルコキシド0.1〜10モル%、そして蛍
光色素0.01〜10重量%を含んだことを特徴とする
ハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物。 - 【請求項2】 γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、あるいはN−(β−
アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ンから選ばれてなるウレイド基またはアミノ基を有する
シリコントリアルコキシド45〜85モル%と、フェニ
ルトリメトキシシラン、そしてフェニルトリエトキシシ
ランから選ばれてなるフェニル基を有するシリコントリ
アルコキシド10〜50モル%と、チタニウムあるいは
アルミニウムのキレートもしくはそのアルコキシド2〜
5モル%、そして蛍光色素0.01〜10重量%を含ん
だことを特徴とするハイブリッドガラス製造用の前駆体
組成物。 - 【請求項3】 一般式 A−Si(OR1 )3 (A:ウ
レイド基またはアミノ基を有する官能基、R1 はメチル
基またはエチル基を示す)からなるウレイド基またはア
ミノ基を有するシリコントリアルコキシド30〜95モ
ル%と、一般式 B−Si(OR2 ) 3 (B:フェニル
基、R2 はメチル基またはエチル基を示す)からなるフ
ェニル基を有するシリコントリアルコキシド5〜70モ
ル%と、チタニウムあるいはアルミニウムのキレートも
しくはそのアルコキシド0.1〜10モル%、そして蛍
光色素0.01〜10重量%を添加し、加水分解、縮合
することを特徴とするハイブリッドガラスの製造方法。 - 【請求項4】 重合時に水と溶剤とを添加してペースト
を得た後、これを熱処理してハイブリッドガラスを得る
請求項3記載のハイブリッドガラスの製造方法。 - 【請求項5】 水の添加量は全てのアルコキシド1モル
に対して最高3モルであり、溶剤の添加量は50重量%
未満である請求項3記載のハイブリッドガラスの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6302991A JPH08134355A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6302991A JPH08134355A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08134355A true JPH08134355A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17915623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6302991A Pending JPH08134355A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | ハイブリッドガラス製造用の前駆体組成物およびハイブリッドガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08134355A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006249402A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-09-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 蛍光体ガラス材料 |
US20100291487A1 (en) * | 2008-01-11 | 2010-11-18 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group |
-
1994
- 1994-11-10 JP JP6302991A patent/JPH08134355A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006249402A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-09-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 蛍光体ガラス材料 |
JP4528948B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2010-08-25 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 蛍光体ガラス材料 |
US20100291487A1 (en) * | 2008-01-11 | 2010-11-18 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group |
US9760006B2 (en) * | 2008-01-11 | 2017-09-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Silicon-containing resist underlayer film forming composition having urea group |
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