JPH08134014A - ３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法 - Google Patents
３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法Info
- Publication number
- JPH08134014A JPH08134014A JP27515394A JP27515394A JPH08134014A JP H08134014 A JPH08134014 A JP H08134014A JP 27515394 A JP27515394 A JP 27515394A JP 27515394 A JP27515394 A JP 27515394A JP H08134014 A JPH08134014 A JP H08134014A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- isobenzofuranone
- trifluoro
- hexafluoro
- reaction
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】容易に入手可能な原料から、工業的に有利な方
法で３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル
酸を合成する。 【構成】３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジ
フルオリドおよび／または３，３，４，５，６，７−ヘ
キサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノンを、
無機塩基と水の存在下に反応せしめる。
法で３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル
酸を合成する。 【構成】３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジ
フルオリドおよび／または３，３，４，５，６，７−ヘ
キサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノンを、
無機塩基と水の存在下に反応せしめる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は医農薬中間体、特にキノ
ロン系抗菌剤の中間体として有用な３，５，６−トリフ
ルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法に関する。
ロン系抗菌剤の中間体として有用な３，５，６−トリフ
ルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロ
キシフタル酸を得る方法には、３，４，５，６−テトラ
フルオロフタル酸を出発原料として、アルカリ触媒の存
在下、水中で反応させる方法が提案されている（特開昭
６３−２６４４３９）。
キシフタル酸を得る方法には、３，４，５，６−テトラ
フルオロフタル酸を出発原料として、アルカリ触媒の存
在下、水中で反応させる方法が提案されている（特開昭
６３−２６４４３９）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法で
は、出発原料が入手しにくい問題がある。例えば、出発
原料の３，４，５，６−テトラフルオロフタル酸を合成
する方法としては、フタロニトリルを塩素化してテトラ
クロロフタロニトリルに変換し、その後、フッ素化し、
さらに加水分解をする方法（特開昭６１−８５３４９
等）、テトラクロロ無水フタル酸をアミン類と反応さ
せ、テトラクロロフタルイミド類とし、さらにフッ素
化、加水分解する方法（特開昭６３−２５８４４２、Ｕ
ＳＰ５０４７５５３）が報告されている。
は、出発原料が入手しにくい問題がある。例えば、出発
原料の３，４，５，６−テトラフルオロフタル酸を合成
する方法としては、フタロニトリルを塩素化してテトラ
クロロフタロニトリルに変換し、その後、フッ素化し、
さらに加水分解をする方法（特開昭６１−８５３４９
等）、テトラクロロ無水フタル酸をアミン類と反応さ
せ、テトラクロロフタルイミド類とし、さらにフッ素
化、加水分解する方法（特開昭６３−２５８４４２、Ｕ
ＳＰ５０４７５５３）が報告されている。
【０００４】しかし、いずれの方法においても、精製工
程で多量の極性溶媒を用いなければならず、かつ、３，
４，５，６−テトラフルオロフタル酸は水相側から得な
ければならないため、水の除去に手間取る問題がある。
また、高純度の３，４，５，６−テトラフルオロフタル
酸を得るためには、さらに再結晶等の精製工程が必要で
ある。したがって、３，４，５，６−テトラフルオロフ
タル酸を大量合成する方法としては不利であり、３，
４，５，６−テトラフルオロフタル酸を出発原料とする
従来の方法での工業的な実施は困難であった。
程で多量の極性溶媒を用いなければならず、かつ、３，
４，５，６−テトラフルオロフタル酸は水相側から得な
ければならないため、水の除去に手間取る問題がある。
また、高純度の３，４，５，６−テトラフルオロフタル
酸を得るためには、さらに再結晶等の精製工程が必要で
ある。したがって、３，４，５，６−テトラフルオロフ
タル酸を大量合成する方法としては不利であり、３，
４，５，６−テトラフルオロフタル酸を出発原料とする
従来の方法での工業的な実施は困難であった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来の技術が
有する上記の欠点を解消し、工業的に有利な３，５，６
−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法を
提供する。
有する上記の欠点を解消し、工業的に有利な３，５，６
−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法を
提供する。
【０００６】すなわち、本発明は、３，４，５，６−テ
トラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／または
３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３
Ｈ］−イソベンゾフラノンを、無機塩基と水の存在下に
反応せしめることを特徴とする３，５，６−トリフルオ
ロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法を提供する。
トラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／または
３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３
Ｈ］−イソベンゾフラノンを、無機塩基と水の存在下に
反応せしめることを特徴とする３，５，６−トリフルオ
ロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法を提供する。
【０００７】また、本発明は、テトラクロロ無水フタル
酸を塩素化して３，３，４，５，６，７−ヘキサクロロ
−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノンとせしめ、該３，
３，４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イ
ソベンゾフラノンをフッ素化して３，４，５，６−テト
ラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／または３，
３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−
イソベンゾフラノンとせしめ、該３，４，５，６−テト
ラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／または３，
３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−
イソベンゾフラノンを無機塩基と水の存在下に反応せし
めることを特徴とする３，５，６−トリフルオロ−４−
ヒドロキシフタル酸の製造方法を提供する。
酸を塩素化して３，３，４，５，６，７−ヘキサクロロ
−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノンとせしめ、該３，
３，４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イ
ソベンゾフラノンをフッ素化して３，４，５，６−テト
ラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／または３，
３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−
イソベンゾフラノンとせしめ、該３，４，５，６−テト
ラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／または３，
３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−
イソベンゾフラノンを無機塩基と水の存在下に反応せし
めることを特徴とする３，５，６−トリフルオロ−４−
ヒドロキシフタル酸の製造方法を提供する。
【０００８】本発明の製造方法は、必ずしも明確ではな
いが、下記の化学式で表すことができる。
いが、下記の化学式で表すことができる。
【０００９】
【化１】
【００１０】本発明において、３，４，５，６−テトラ
フルオロフタロイルジフルオリド（１）と３，３，４，
５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベン
ゾフラノン（２）は、工業的に入手容易なテトラクロロ
無水フタル酸（４）を、塩素化し、つぎにフッ素化する
ことによって高収率で得ることができる。すなわち、テ
トラクロロ無水フタル酸（４）を塩素化して３，３，
４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベ
ンゾフラノン（５）とせしめ、つぎにフッ素化せしめる
ことによって、３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
イルジフルオリド（１）および／または３，３，４，
５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベン
ゾフラノン（２）が得られる。
フルオロフタロイルジフルオリド（１）と３，３，４，
５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベン
ゾフラノン（２）は、工業的に入手容易なテトラクロロ
無水フタル酸（４）を、塩素化し、つぎにフッ素化する
ことによって高収率で得ることができる。すなわち、テ
トラクロロ無水フタル酸（４）を塩素化して３，３，
４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベ
ンゾフラノン（５）とせしめ、つぎにフッ素化せしめる
ことによって、３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
イルジフルオリド（１）および／または３，３，４，
５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベン
ゾフラノン（２）が得られる。
【００１１】テトラクロロ無水フタル酸（４）は工業的
に入手容易な化合物である。テトラクロロ無水フタル酸
（４）を塩素化して３，３，４，５，６，７−ヘキサク
ロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（５）とする
方法は、通常の塩素化の方法および条件が適用できる。
例えば、通常の塩素化剤と反応することにより実施でき
る。塩素化剤としては、五塩化リン、オキシ塩化リン、
塩化チオニル等が好ましく、特に、五塩化リンが好まし
い。塩素化剤の使用量はテトラクロロ無水フタル酸
（４）の１モルに対して、０．０１〜１０モル程度、好
ましくは０．５〜２モルがよい。
に入手容易な化合物である。テトラクロロ無水フタル酸
（４）を塩素化して３，３，４，５，６，７−ヘキサク
ロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（５）とする
方法は、通常の塩素化の方法および条件が適用できる。
例えば、通常の塩素化剤と反応することにより実施でき
る。塩素化剤としては、五塩化リン、オキシ塩化リン、
塩化チオニル等が好ましく、特に、五塩化リンが好まし
い。塩素化剤の使用量はテトラクロロ無水フタル酸
（４）の１モルに対して、０．０１〜１０モル程度、好
ましくは０．５〜２モルがよい。
【００１２】塩素化反応は無溶媒、または溶媒の存在下
のいずれであっても実施できる。溶媒としては、反応物
を溶かすものであれば特に限定されず、非プロトン性極
性溶媒または非プロトン性非極性溶媒が好ましい。非プ
ロトン性極性溶媒としては、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、１，３−ジメチルイミダゾリジノン
等、非プロトン性非極性溶媒としては、トルエン、キシ
レン、トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、および
モノクロロベンゼン等が好ましい。溶媒の量は、テトラ
クロロ無水フタル酸の１重量部に対して０．０１〜１０
０重量部程度、好ましくは、０．１〜５重量部がよい。
のいずれであっても実施できる。溶媒としては、反応物
を溶かすものであれば特に限定されず、非プロトン性極
性溶媒または非プロトン性非極性溶媒が好ましい。非プ
ロトン性極性溶媒としては、スルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、１，３−ジメチルイミダゾリジノン
等、非プロトン性非極性溶媒としては、トルエン、キシ
レン、トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、および
モノクロロベンゼン等が好ましい。溶媒の量は、テトラ
クロロ無水フタル酸の１重量部に対して０．０１〜１０
０重量部程度、好ましくは、０．１〜５重量部がよい。
【００１３】塩素化反応の反応温度は塩素化剤の種類や
溶媒の有無、溶媒の種類、反応物の量等によって適宜変
更可能であり、通常の場合、２０℃〜３００℃程度、好
ましくは、１００〜２００℃がよい。
溶媒の有無、溶媒の種類、反応物の量等によって適宜変
更可能であり、通常の場合、２０℃〜３００℃程度、好
ましくは、１００〜２００℃がよい。
【００１４】上記の塩素化反応で得られた、３，３，
４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベ
ンゾフラノン（５）は、フッ素化反応せしめることによ
り、３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフル
オリド（１）および／または３，３，４，５，６，７−
ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
（２）となる。
４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベ
ンゾフラノン（５）は、フッ素化反応せしめることによ
り、３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフル
オリド（１）および／または３，３，４，５，６，７−
ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
（２）となる。
【００１５】フッ素化反応は、フッ素化剤と反応させる
ことにより実施できる。フッ素化剤としては、アルカリ
金属フッ化物が好ましく、特に、ＮａＦ、ＫＦ、Ｒｂ
Ｆ、ＣｓＦ等が好ましい。これらのうち、ＫＦが好まし
く、特にスプレー乾燥したフッ化カリウムが好ましい。
フッ素化剤の量は３，３，４，５，６，７−ヘキサクロ
ロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（５）の１モル
に対して０．１〜２０モル程度、好ましくは２〜１２モ
ルである。
ことにより実施できる。フッ素化剤としては、アルカリ
金属フッ化物が好ましく、特に、ＮａＦ、ＫＦ、Ｒｂ
Ｆ、ＣｓＦ等が好ましい。これらのうち、ＫＦが好まし
く、特にスプレー乾燥したフッ化カリウムが好ましい。
フッ素化剤の量は３，３，４，５，６，７−ヘキサクロ
ロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（５）の１モル
に対して０．１〜２０モル程度、好ましくは２〜１２モ
ルである。
【００１６】上記のフッ素化反応や無溶媒あるいは溶媒
の存在下のいずれであっても実施できるが、溶媒の存在
下で実施するのが好ましい。溶媒としては、反応物を溶
かすものであれば特に限定されず、非プロトン性溶媒ま
たは非プロトン性非極性溶媒が好ましい。非プロトン性
溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルスルホン、スルホラン、ヘキサメチルホスホルトリア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、 １，３−ジメチル
イミダゾリジノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、
ジオキサン、ジグライム、テトラグライム等が好まし
く、特にスルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが
好ましい。非プロトン性非極性溶媒としては、トルエ
ン、キシレン、トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、およびモノクロロベンゼン等が好ましい。
の存在下のいずれであっても実施できるが、溶媒の存在
下で実施するのが好ましい。溶媒としては、反応物を溶
かすものであれば特に限定されず、非プロトン性溶媒ま
たは非プロトン性非極性溶媒が好ましい。非プロトン性
溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルスルホン、スルホラン、ヘキサメチルホスホルトリア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、 １，３−ジメチル
イミダゾリジノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、
ジオキサン、ジグライム、テトラグライム等が好まし
く、特にスルホラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが
好ましい。非プロトン性非極性溶媒としては、トルエ
ン、キシレン、トリクロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、およびモノクロロベンゼン等が好ましい。
【００１７】溶媒の量は３，３，４，５，６，７−ヘキ
サクロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノンの１重量
部に対して０．５〜１０重量部、好ましくは１〜５重量
部程度がよい。
サクロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノンの１重量
部に対して０．５〜１０重量部、好ましくは１〜５重量
部程度がよい。
【００１８】フッ素化反応の際に、反応促進剤として相
間移動触媒を含ませてもよい。相間移動触媒としては、
テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアン
モニウムブロミド等の四級アンモニウム塩、Ｎ−ネオペ
ンチル−４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノ）−ピリジ
ニウムクロリド、Ｎ−（２−エチル−ヘキシル）−４−
（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノ）−ピリジニウムクロリ
ド等のピリジニウム塩、またはテトラブチルホスホニウ
ムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等の
四級ホスホニウム塩等が挙げられる。これらのうち、テ
トラブチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホス
ホニウムブロミドが好ましい。
間移動触媒を含ませてもよい。相間移動触媒としては、
テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアン
モニウムブロミド等の四級アンモニウム塩、Ｎ−ネオペ
ンチル−４−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノ）−ピリジ
ニウムクロリド、Ｎ−（２−エチル−ヘキシル）−４−
（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノ）−ピリジニウムクロリ
ド等のピリジニウム塩、またはテトラブチルホスホニウ
ムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等の
四級ホスホニウム塩等が挙げられる。これらのうち、テ
トラブチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホス
ホニウムブロミドが好ましい。
【００１９】相間移動触媒の量としては、３，３，４，
５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾ
フラノンの１００重量部に対して１〜５０重量部程度、
好ましくは５〜２０重量部がよい。
５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾ
フラノンの１００重量部に対して１〜５０重量部程度、
好ましくは５〜２０重量部がよい。
【００２０】上記フッ素化反応の反応温度は５０℃〜２
５０℃、好ましくは１００℃〜２３０℃がよい。
５０℃、好ましくは１００℃〜２３０℃がよい。
【００２１】上記のフッ素化反応により得られる３，
４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリド
（１）と３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１
−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（２）は、通常の場合
混合物として得られるが、必要に応じて分離操作を行
い、各々を単独で得ることもできる。蒸留操作は、再結
晶等の精製方法に比べて、容易であり、かつ、大量を精
製できるため、有利である。３，４，５，６−テトラフ
ルオロフタロイルジフルオリドおよび３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノンの生成比率は、反応条件等によって変化し得る。
４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリド
（１）と３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１
−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（２）は、通常の場合
混合物として得られるが、必要に応じて分離操作を行
い、各々を単独で得ることもできる。蒸留操作は、再結
晶等の精製方法に比べて、容易であり、かつ、大量を精
製できるため、有利である。３，４，５，６−テトラフ
ルオロフタロイルジフルオリドおよび３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノンの生成比率は、反応条件等によって変化し得る。
【００２２】３，４，５，６−テトラフルオロフタロイ
ルジフルオリド（１）および３，３，４，５，６，７−
ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
（２）は、各々を単独で用いてもよく、また、両方を用
いてもよい。３，４，５，６−テトラフルオロフタロイ
ルジフルオリド（１）および／または３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノン（２）を上記の反応によって得る場合には、上記
反応の生成物をそのまま用いるのが好ましい。３，４，
５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリド（１）
および３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−
［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（２１）の両化合物を用
いる場合の割合については、特に限定されず、いずれの
割合であってもよい。
ルジフルオリド（１）および３，３，４，５，６，７−
ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
（２）は、各々を単独で用いてもよく、また、両方を用
いてもよい。３，４，５，６−テトラフルオロフタロイ
ルジフルオリド（１）および／または３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノン（２）を上記の反応によって得る場合には、上記
反応の生成物をそのまま用いるのが好ましい。３，４，
５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリド（１）
および３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−
［３Ｈ］−イソベンゾフラノン（２１）の両化合物を用
いる場合の割合については、特に限定されず、いずれの
割合であってもよい。
【００２３】３，４，５，６−テトラフルオロフタロイ
ルジフルオリド（１）および／または３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノン（２）は、つぎに、無機塩基と水の存在下に反応
せしめる。
ルジフルオリド（１）および／または３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノン（２）は、つぎに、無機塩基と水の存在下に反応
せしめる。
【００２４】無機塩基としては、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等
が好ましい。また、該無機塩基は、２種以上を用いても
よい。無機塩基の量は、出発原料である３，４，５，６
−テトラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／また
は３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３
Ｈ］−イソベンゾフラノンの１モルに対して、０．０１
〜１００モル程度が好ましく、特に０．１〜２０モルが
好ましい。
炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等
が好ましい。また、該無機塩基は、２種以上を用いても
よい。無機塩基の量は、出発原料である３，４，５，６
−テトラフルオロフタロイルジフルオリドおよび／また
は３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３
Ｈ］−イソベンゾフラノンの１モルに対して、０．０１
〜１００モル程度が好ましく、特に０．１〜２０モルが
好ましい。
【００２５】水の量としては、通常の場合、出発原料で
ある３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフル
オリド（１）および／または３，３，４，５，６，７−
ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
（２）の１モルに対して、０．０１〜１００００モル程
度が好ましく、特に０．１〜３００モルが好ましい。ま
た、本発明においては、水とともに水溶性に有機溶剤を
含ませてもよい。有機溶剤としては、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類が好ましい。また、有機溶剤を
含ませる場合の量は、水の１００重量部に対して、１〜
１０重量部程度が好ましい。
ある３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフル
オリド（１）および／または３，３，４，５，６，７−
ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
（２）の１モルに対して、０．０１〜１００００モル程
度が好ましく、特に０．１〜３００モルが好ましい。ま
た、本発明においては、水とともに水溶性に有機溶剤を
含ませてもよい。有機溶剤としては、メタノール、エタ
ノール等のアルコール類が好ましい。また、有機溶剤を
含ませる場合の量は、水の１００重量部に対して、１〜
１０重量部程度が好ましい。
【００２６】反応温度は、０℃〜２００℃程度であり、
通常は、加熱条件が好ましく、特に６０℃〜１３０℃が
好ましい。反応圧力は、常圧、減圧、または加圧のいず
れであってもよいが、通常は、常圧が好ましい。また、
反応時間は、通常の場合、程度である。
通常は、加熱条件が好ましく、特に６０℃〜１３０℃が
好ましい。反応圧力は、常圧、減圧、または加圧のいず
れであってもよいが、通常は、常圧が好ましい。また、
反応時間は、通常の場合、程度である。
【００２７】反応生成物は、通常、酸性化し、抽出し
て、高純度の３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキ
シフタル酸（４）が得られる。酸としては、特に限定さ
れず、例えば、塩酸、硫酸等の水溶液が挙げられる。ま
た、必要に応じて、精製処理を施してもよい。
て、高純度の３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキ
シフタル酸（４）が得られる。酸としては、特に限定さ
れず、例えば、塩酸、硫酸等の水溶液が挙げられる。ま
た、必要に応じて、精製処理を施してもよい。
【００２８】本発明により得られた３，５，６−トリフ
ルオロ−４−ヒドロキシフタル酸（３）は、医農薬の中
間体等として有用な化合物である。例えば、特開平１−
２６８６６２に記載の方法にしたがって、３，５，６−
トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸（３）を脱炭酸
し、アルキル化剤と反応させることによって２，４，５
−トリフルオロ−３−メトキシ安息香酸が得られる。
２，４，５−トリフルオロ−３−メトキシ安息香酸は、
キノロン骨格の８位のメトキシ基を有するキノロン系抗
菌剤の原料として有用な化合物である。
ルオロ−４−ヒドロキシフタル酸（３）は、医農薬の中
間体等として有用な化合物である。例えば、特開平１−
２６８６６２に記載の方法にしたがって、３，５，６−
トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸（３）を脱炭酸
し、アルキル化剤と反応させることによって２，４，５
−トリフルオロ−３−メトキシ安息香酸が得られる。
２，４，５−トリフルオロ−３−メトキシ安息香酸は、
キノロン骨格の８位のメトキシ基を有するキノロン系抗
菌剤の原料として有用な化合物である。
【００２９】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する
が、これらによって本発明は限定されない。
が、これらによって本発明は限定されない。
【００３０】［例１］３，４，５，６−テトラフルオロ
フタロイルジフルオリドおよび３，３，４，５，６，７
−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
の合成例：５リットルの圧力対応の反応器にテトラクロ
ロ無水フタル酸８００ｇ（２．７９７モル）、五塩化リ
ン６０８ｇ（２．７９７モル）、トリクロロベンゼン８
００ｇを仕込み、その後、１５０℃に保ちながら２４時
間撹拌した。つぎに、溶媒、未反応物、および副生成物
を減圧下留去し、３，３，４，５，６，７−ヘキサクロ
ロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン８１１ｇ（収率
８５％）を得た。
フタロイルジフルオリドおよび３，３，４，５，６，７
−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
の合成例：５リットルの圧力対応の反応器にテトラクロ
ロ無水フタル酸８００ｇ（２．７９７モル）、五塩化リ
ン６０８ｇ（２．７９７モル）、トリクロロベンゼン８
００ｇを仕込み、その後、１５０℃に保ちながら２４時
間撹拌した。つぎに、溶媒、未反応物、および副生成物
を減圧下留去し、３，３，４，５，６，７−ヘキサクロ
ロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン８１１ｇ（収率
８５％）を得た。
【００３１】つぎに、スプレー乾燥フッ化カリウム１２
０３ｇ（２０．１４モル）、スルホラン３４００ｇを仕
込み、激しく撹拌しながら、１３０℃で６時間反応させ
た。その後、反応液から蒸留分離を行い、３，４，５，
６−テトラフルオロフタロイルジフルオリドと３，３，
４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソ
ベンゾフラノンの混合物（モル比１：１）５００．８ｇ
を得た。収率７４％であった。３，４，５，６−テトラ
フルオロフタロイルジフルオリドと３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノンの純度は９９．４％であった。
０３ｇ（２０．１４モル）、スルホラン３４００ｇを仕
込み、激しく撹拌しながら、１３０℃で６時間反応させ
た。その後、反応液から蒸留分離を行い、３，４，５，
６−テトラフルオロフタロイルジフルオリドと３，３，
４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソ
ベンゾフラノンの混合物（モル比１：１）５００．８ｇ
を得た。収率７４％であった。３，４，５，６−テトラ
フルオロフタロイルジフルオリドと３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノンの純度は９９．４％であった。
【００３２】［例２］３，５，６−トリフルオロ−４−
ヒドロキシフタル酸の合成例：還流コンデンサおよび撹
拌機を備えた２０００ｃｃのガラス製反応器に、水酸化
ナトリウム２１１ｇ（５．１２モル）、水酸化カルシウ
ム１３８ｇ（１．９モル）、および水８００ｇ（４４．
４モル）を仕込んだ。つぎに、例１で得られた３，４，
５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリドと３，
３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−
イソベンゾフラノンの混合物（モル比１：１）２００ｇ
（０．８２６モル）を滴下し、激しく撹拌しながら１０
０℃で６時間還流させた。つぎに、３５％塩酸を酸性に
なるまで加え、酢酸エチルの４００ｇで抽出した。溶媒
を留去し、３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシ
フタル酸１８７ｇを得た。収率９６．０％であった。液
体クロマトグラフィーで分析したところ、純度は９９．
２％であった。
ヒドロキシフタル酸の合成例：還流コンデンサおよび撹
拌機を備えた２０００ｃｃのガラス製反応器に、水酸化
ナトリウム２１１ｇ（５．１２モル）、水酸化カルシウ
ム１３８ｇ（１．９モル）、および水８００ｇ（４４．
４モル）を仕込んだ。つぎに、例１で得られた３，４，
５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリドと３，
３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−
イソベンゾフラノンの混合物（モル比１：１）２００ｇ
（０．８２６モル）を滴下し、激しく撹拌しながら１０
０℃で６時間還流させた。つぎに、３５％塩酸を酸性に
なるまで加え、酢酸エチルの４００ｇで抽出した。溶媒
を留去し、３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシ
フタル酸１８７ｇを得た。収率９６．０％であった。液
体クロマトグラフィーで分析したところ、純度は９９．
２％であった。
【００３３】［例３］３，５，６−トリフルオロ−４−
ヒドロキシフタル酸の合成例：還流コンデンサおよび撹
拌機を備えた２０００ｃｃガラス製反応器に、炭酸ナト
リウム４３７ｇ（４．１２モル）、および水８００ｇ
（４４．４モル）を仕込んだ。つぎに、例１で得られた
３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリ
ドと３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−
［３Ｈ］−イソベンゾフラノンの混合物（モル比１：
１）２００ｇ（０．８２６モル）を滴下し、激しく撹拌
しながら１００℃で２４時間還流させた。つぎに３５％
塩酸を酸性になるまで加え、酢酸エチルの４００ｇで抽
出した。溶媒を留去し、３，５，６−トリフルオロ−４
−ヒドロキシフタル酸１７８ｇを得た。収率９２．３％
であった。液体クロマトグラフで分析したところ、純度
は９９．１％であった。
ヒドロキシフタル酸の合成例：還流コンデンサおよび撹
拌機を備えた２０００ｃｃガラス製反応器に、炭酸ナト
リウム４３７ｇ（４．１２モル）、および水８００ｇ
（４４．４モル）を仕込んだ。つぎに、例１で得られた
３，４，５，６−テトラフルオロフタロイルジフルオリ
ドと３，３，４，５，６，７−ヘキサフルオロ−１−
［３Ｈ］−イソベンゾフラノンの混合物（モル比１：
１）２００ｇ（０．８２６モル）を滴下し、激しく撹拌
しながら１００℃で２４時間還流させた。つぎに３５％
塩酸を酸性になるまで加え、酢酸エチルの４００ｇで抽
出した。溶媒を留去し、３，５，６−トリフルオロ−４
−ヒドロキシフタル酸１７８ｇを得た。収率９２．３％
であった。液体クロマトグラフで分析したところ、純度
は９９．１％であった。
【００３４】［例４］２，４，５−トリフルオロ−３−
メトキシ安息香酸の合成例：還流コンデンサ、撹拌機お
よび滴下ロートを備えた２リットルガラス製反応器に、
例３で得られた３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロ
キシフタル酸１００ｇ、水酸化ナトリウム２２ｇ、水４
００ｇを仕込み、激しく撹拌しながら還流下、２０時間
脱炭酸反応を行った。反応率は９９．６％であった。つ
ぎに反応器を室温まで冷却し、ジメチル硫酸３２０ｇを
加えた。その後、反応液のｐＨを８．５〜９．５にコン
トロールしながら１０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下
し、６時間反応を行った。さらに１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液を３５０ｇ加え、６時間反応を続けた。その後
３５％塩酸を滴下して、反応液を酸性化し、生成物を沈
殿させた。濾過、乾燥後、２，４，５−トリフルオロ−
３−メトキシ安息香酸７２．５ｇを得た。収率８３％で
あった。
メトキシ安息香酸の合成例：還流コンデンサ、撹拌機お
よび滴下ロートを備えた２リットルガラス製反応器に、
例３で得られた３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロ
キシフタル酸１００ｇ、水酸化ナトリウム２２ｇ、水４
００ｇを仕込み、激しく撹拌しながら還流下、２０時間
脱炭酸反応を行った。反応率は９９．６％であった。つ
ぎに反応器を室温まで冷却し、ジメチル硫酸３２０ｇを
加えた。その後、反応液のｐＨを８．５〜９．５にコン
トロールしながら１０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下
し、６時間反応を行った。さらに１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液を３５０ｇ加え、６時間反応を続けた。その後
３５％塩酸を滴下して、反応液を酸性化し、生成物を沈
殿させた。濾過、乾燥後、２，４，５−トリフルオロ−
３−メトキシ安息香酸７２．５ｇを得た。収率８３％で
あった。
【００３５】
【発明の効果】本発明方法によれば、入手容易な原料か
ら、安全、かつ、効率的に、３，５，６−トリフルオロ
−４−ヒドロキシフタル酸を合成できる。本発明の反応
は、高収率、かつ特殊な試薬や煩雑な操作を要しないこ
とから、工業的な製造方法としても有利である。
ら、安全、かつ、効率的に、３，５，６−トリフルオロ
−４−ヒドロキシフタル酸を合成できる。本発明の反応
は、高収率、かつ特殊な試薬や煩雑な操作を要しないこ
とから、工業的な製造方法としても有利である。
Claims (2)
- 【請求項１】３，４，５，６−テトラフルオロフタロイ
ルジフルオリドおよび／または３，３，４，５，６，７
−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラノン
を無機塩基と水の存在下に反応せしめることを特徴とす
る３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸
の製造方法。 - 【請求項２】テトラクロロ無水フタル酸を塩素化して
３，３，４，５，６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］
−イソベンゾフラノンとせしめ、該３，３，４，５，
６，７−ヘキサクロロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフラ
ノンをフッ素化して３，４，５，６−テトラフルオロフ
タロイルジフルオリドおよび／または３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノンとせしめ、該３，４，５，６−テトラフルオロフ
タロイルジフルオリドおよび／または３，３，４，５，
６，７−ヘキサフルオロ−１−［３Ｈ］−イソベンゾフ
ラノンを無機塩基と水の存在下に反応せしめることを特
徴とする３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフ
タル酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27515394A JP3543391B2 (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | ３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27515394A JP3543391B2 (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | ３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08134014A true JPH08134014A (ja) | 1996-05-28 |
| JP3543391B2 JP3543391B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=17551418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27515394A Expired - Fee Related JP3543391B2 (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | ３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3543391B2 (ja) |
-
1994
- 1994-11-09 JP JP27515394A patent/JP3543391B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3543391B2 (ja) | 2004-07-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8431718B2 (en) | Process for the preparation of 5-fluoro-1-alkyl-3-fluoroalky1-1H-pyrazole-4-carbonyl chlorides and fluorides | |
| IE72169B1 (en) | Processes for producing 5-fluorobenzoic acids and their intermediates | |
| EP0669310B1 (en) | Processes for producing tetrafluorophthalic anhydride | |
| JP3543391B2 (ja) | ３，５，６−トリフルオロ−４−ヒドロキシフタル酸の製造方法 | |
| JPH0748341A (ja) | ２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸の製造法 | |
| JPH02145538A (ja) | フツ素化安息香酸類及びその中間体の製造方法 | |
| JP3874925B2 (ja) | クロロメチルフェニル酢酸の製造方法 | |
| JPH0449264A (ja) | ２，３，４，５―テトラフルオロ安息香酸の製造方法 | |
| JPH10168051A (ja) | ２，３−ジハロゲノ−６−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造法 | |
| HU183181B (en) | Process for producing 4-fluoro-3-bromo-benzoyl-fluoride | |
| US4952719A (en) | Process for the preparation of halo aromatic compounds | |
| JPH07233161A (ja) | ３，４，５，６−テトラフルオロ無水フタル酸の製造方法 | |
| JP2993877B2 (ja) | 含ハロゲン芳香族ニトリル化合物の製造方法 | |
| JP3887757B2 (ja) | シアノベンゼンスルホニルクロリドの製造方法 | |
| JP2010270028A (ja) | アダマンタノール類の製造方法 | |
| JP3234766B2 (ja) | スルホン酸ハロゲン化物の製造方法 | |
| JP3174968B2 (ja) | ２−ハロゲノ−６−置換チオベンゾニトリル類の製造法 | |
| JPH0449263A (ja) | ２，３，４，５―テトラフルオロ安息香酸の新規製造法 | |
| JPH04984B2 (ja) | ||
| JP3563040B2 (ja) | ハロゲン化ｍ−フェニレンジアミン化合物 | |
| JP2003335743A (ja) | アミド化合物 | |
| JP2524756B2 (ja) | ２，４−ジクロル−３−メチルフェノ−ルの製造方法 | |
| JP2001172247A (ja) | ４−シアノ−２−フルオロベンジルクロリドの製造方法 | |
| KR100264694B1 (ko) | 플루오로벤조산 및 플루오로벤조산 에스테르의 제조 방법 | |
| JPH0543553A (ja) | ３，５−ジクロロピラゾール−４−カルボン酸エステル類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040202 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20040316 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20040329 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |