JPH08125329A - はんだ付け装置における雰囲気のサンプリング装置 - Google Patents

はんだ付け装置における雰囲気のサンプリング装置

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JPH08125329A
JPH08125329A JP6255027A JP25502794A JPH08125329A JP H08125329 A JPH08125329 A JP H08125329A JP 6255027 A JP6255027 A JP 6255027A JP 25502794 A JP25502794 A JP 25502794A JP H08125329 A JPH08125329 A JP H08125329A
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義昭 橘
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Nihon Dennetsu Co Ltd
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NIHON DENNETSU KK
Nihon Dennetsu Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 はんだ付け雰囲気中のフラックスヒュームを
捕獲し除去した状態を目視で確認できるようにし、ま
た、保守のサイクル時間を長くし、さらに測定遅延を生
じないサンプリング装置を得る。 【構成】 チャンバ42で覆われたはんだ付け装置41
内に、はんだ付け雰囲気をサンプリングするためのサン
プリング用パイプ26を設け、さらに水フィルタ51お
よびミストセパレータ52を介して吸引する酸素濃度測
定装置25を設ける。一方、サンプリング用パイプ26
には、三方切換弁53を介して清掃用エア供給パイプ5
4を接続し、かつ清掃用開閉弁55を介して接続された
圧縮エア供給装置56を設け、この圧縮エア供給装置5
6から噴出する圧縮エアによってサンプリング用パイプ
26を清掃する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、はんだ付け雰囲気の分
析、たとえば酸素濃度を測定するためのはんだ付け装置
における雰囲気のサンプリング装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来から、配線基板のはんだ付けプロセ
スをチャンバで覆い、このチャンバ内に窒素ガス(N2
ガス)等の不活性ガスを供給し、低酸素濃度の雰囲気中
ではんだ付けを行うはんだ付け装置が使用されている。
【0003】このようなはんだ付け装置においては、配
線基板のはんだ付け面(ランド)や実装されている電子
部品等のはんだ付け電極やリード線等の酸化が抑制され
るために、ごくわずかなフラックス量で良好なはんだ付
け性が得られる。そしてその結果として、はんだ付け後
の配線基板洗浄プロセスを省略することができるように
なり、いわゆる脱フロン化を実現することができる。
【0004】また、低酸素濃度の雰囲気中でははんだ融
液の表面張力が低下し、微細部分へのはんだ融液の流動
性が高まる。そのため、電子部品の小型化と電極やリー
ド線のファインピッチ化および配線基板への実装密度の
高まる、いわゆるマイクロソルダリングに対応すること
ができる。
【0005】そして、これらのことはフローはんだ付け
装置においてもリフローはんだ付け装置においても当て
はまる。
【0006】他方、このようなはんだ付け装置において
は、使用するフラックスの種類やクリームはんだの種類
等により、その性質に最適な酸素濃度が選択され調節・
制御される。したがって、はんだ付け雰囲気の酸素濃度
を測定することは、はんだ付けプロセスを制御し、信頼
性が高く安定したはんだ付けを行う上では必須の要件で
ある。
【0007】図7は、従来のフローはんだ付け装置を示
す側断面図であり、N2 ガス供給系と酸素濃度測定系
(雰囲気サンプリング系)はブロック図で示してある。
【0008】すなわち、フローはんだ付け装置2におい
て、配線基板1の予備加熱を行うプリヒータ8およびは
んだ融液10をポンプ機構12(図7では羽根で示して
ある)でノズル11から噴出させて噴流波13を形成す
るはんだ槽9、および配線基板1を搬送する搬送手段と
して第1の搬送コンベア4および第2の搬送コンベア5
を、ラビリンス流路を形成する為の抑止板14を備えた
トンネル状のチャンバ3が覆っている。また、6は前記
配線基板1の搬入口、7は搬出口である。
【0009】そして、N2 ガス供給装置21から流量調
節弁22(あるいは開閉弁)、図示しない流量計、N2
ガス供給用パイプ23を介して前記チャンバ3内に配設
したN2 ガス噴出用ノズル24からガスを噴出させ、チ
ャンバ3内を低酸素濃度の雰囲気とする。
【0010】他方、酸素濃度測定装置25は雰囲気サン
プリング用のポンプ(図示せず)を備えていて、サンプ
リング用パイプ26および活性炭フィルタ27、濾過フ
ィルタ28を介してはんだ付け雰囲気をサンプリング
し、酸素濃度の分析・測定を行い、排気用パイプ29か
ら排出される。
【0011】活性炭フィルタ27は、はんだ付けによっ
て生ずるフラックスヒューム中の特にアルコール成分を
吸着除去することを目的とするものである。また、濾過
フィルタ28は焼結金属フィルタや金網フィルタ等によ
って構成され、その微細な透過間隙によってフラックス
ヒューム中のミストや雰囲気中に含まれる鉛等の金属蒸
気や浮遊物を除去することを目的とするものである。す
なわち、これらは活性炭フィルタ27では吸着除去する
ことができないからである。
【0012】以上のような雰囲気のフィルタリングによ
って清潔な酸素濃度測定用雰囲気を得て、酸素濃度測定
装置25へのフラックスヒュームや金属蒸気(主にはん
だ中の鉛やスズ)、浮遊物の付着を防止し、不要な汚染
を防止している。
【0013】ちなみに、図示しない制御装置が前記の酸
素濃度測定値を入力し、N2 ガスの流量調節弁22の開
度を制御してチャンバ3内の酸素濃度を自動的に目的と
する値に保持するフィードバック制御系の構成が一般的
に採用されている。そしてこのような技術は特開平3−
101296号公報に開示されている。しかし、特に技
術的新しさを有するものではない。
【0014】図8は、従来のリフローはんだ付け装置を
示す側断面図であり、N2 ガス供給系と酸素濃度測定系
(雰囲気サンプリング系)はブロック図で示している。
図7と同一符号は同一部分を示す。
【0015】すなわち、リフローはんだ付け装置31の
チャンバ36内に配線基板1を搬送する搬送コンベア3
7を設けてあり、搬送コンベア37に沿って予備加熱部
33を構成する加熱ヒータ38とリフロー部34を構成
する加熱手段39とが配設され、さらに、配線基板1の
搬入口6には入口側ラビリンス部32、搬出口7には出
口側ラビリンス部35が抑止板14によって構成されて
いる。そして、N2 ガス供給装置21から流量調節弁
(あるいは開閉弁)22、N2 ガス供給用パイプ23を
介して前記チャンバ36内に配設したN2 ガス噴出用ノ
ズル24からN2ガスを噴出させ、チャンバ36内を低
酸素濃度の雰囲気とする。
【0016】他方、酸素濃度測定系は図7のフローはん
だ付け装置2と同様であり、サンプリング用パイプ26
および活性炭フィルタ27、濾過フィルタ28を介して
はんだ付け雰囲気をサンプリングし、酸素濃度測定装置
25の酸素濃度で分析を行い、排気用パイプ29から排
出される。ちなみに、フローはんだ付け装置2と同様
に、チャンバ36内の酸素濃度を目的とする値に自動的
に保持させるフィードバック制御系の構成が一般的に採
用されている。
【0017】そして、各フィルタ27,28の目的も同
様であり、フラックスヒューム中のアルコール成分を吸
着除去すること、そしてミストや鉛等の金属蒸気や浮遊
物を除去することを目的とするものである。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】はんだ付け雰囲気をサ
ンプリングし、この雰囲気の酸素濃度を測定する従来の
酸素濃度測定系は、その目的達成という点では満足すべ
きものであった。しかしながら、次のような改善される
べき課題があった。
【0019】(1) 活性炭フィルタ27の寿命は目視によ
って判断することができない。そのため、運転時間を管
理することによって定期的に交換する必要があった。ま
た、その際にも、フラックス塗布量が多い場合(塗布厚
を厚くしている場合あるいは配線基板1の面積が大きい
場合)やフラックスヒュームの発生量が多いフラックス
を使用している場合では、交換時期を早める等の配慮も
必要であった。
【0020】(2) 濾過フィルタ28は徐々に目詰まりを
生じてそのフィルタリング特性が低下してくるので、や
はり定期的に取り外してアルコールや有機溶剤等で洗浄
する必要がある。また、その際にも前記(1) の活性炭フ
ィルタ27の場合と同様に、フラックスヒュームの発生
量が多い場合には清掃時期を早める等の配慮も必要であ
った。
【0021】(3) 前記(1) および(2) における活性炭フ
ィルタ27の活性炭の交換保守および濾過フィルタ28
の洗浄保守のサイクル時間を長くするために、活性炭フ
ィルタ27の容積および濾過フィルタ28の容積を大き
くすることも考えられるが、その場合、酸素濃度測定装
置25がそのポンプによって吸引する雰囲気流量は一定
であるので、はんだ付け雰囲気をサンプリング用パイプ
26でサンプリングしてから酸素濃度測定装置25に到
達するまでの所要時間が長くなり、酸素濃度の測定遅延
を生ずるようになる。この測定遅延は、酸素濃度を(自
動)制御する場合においては制御の過渡応答特性を低下
させるので好ましくない。
【0022】本発明の目的は、従来技術における以上の
ような問題を解決するもので、はんだ付け雰囲気中のフ
ラックスヒュームを捕獲し・除去した状況を目視で確認
できるとともに、保守のサイクル時間を長くすることが
可能であり、測定遅延を生じない雰囲気サンプリング装
置を実現することにある。そしてその結果として、運転
操作環境とはんだ付け雰囲気の制御性に優れたはんだ付
け装置と、高品質な配線基板のはんだ付け環境を実現す
ることにある。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明は、フラックスヒ
ュームや金属蒸気等が水に極めて良好に溶け込むことに
着目している。
【0024】本発明にかかる請求項1に記載の発明は、
水中に、サンプリングしたはんだ付けの雰囲気を供給し
てサンプリングした雰囲気と水とを直接に接触させる水
フィルタと、この水フィルタ通過後の雰囲気中の水分を
除去する装置とを備えたものである。
【0025】また、請求項2に記載の発明は、水フィル
タ通過後の雰囲気中の水分を除去する装置に雰囲気冷却
装置を備えたものである。
【0026】また、請求項3に記載の発明は、はんだ付
けの雰囲気をサンプリングして水フィルタまで導くパイ
プへ圧縮エアを供給するための圧縮エア供給装置を設け
るとともに、この圧縮エア供給装置からの圧縮エアの供
給を開閉する開閉弁を備えたものである。
【0027】また、請求項4に記載の発明は、操作側か
ら見て水フィルタの背面側に圧縮エア供給開閉弁を配設
したものである。
【0028】また、請求項5に記載の発明は、水フィル
タと圧縮エア供給開閉弁とを収容する筐体を設け、この
筐体内の水フィルタを外すことによってのみ操作側から
筐体内の圧縮エア供給開閉弁の操作を可能とする大きさ
に筐体を形成したものである。
【0029】
【作用】本発明にかかる請求項1に記載の発明は、フラ
ックスヒューム中に含まれるアルコールは極めて良好に
水に溶け込み水への溶解可能量も多い。したがって、フ
ラックスヒューム中のアルコール成分が水に溶け込んで
除去される。
【0030】また、ミスト状態のフラックスヒュームや
フラックスヒューム中のはんだ等の金属蒸気も気相状態
であるため、極めて良好に水に溶け込む。そして水に接
触した後のミストは溶解し、金属蒸気等は固体化して除
去される。そのためこれらの除去可能量も極めて多い。
【0031】そして、これらフラックスヒュームが水に
溶解あるいは捕獲されると水が徐々に汚濁してくるの
で、目視によって水フィルタへのフラックスヒュームの
溶解/捕獲状況を確認することができる。
【0032】そして、水フィルタから発生する水蒸気
は、水を除去するフィルタによって除去される。したが
って、フラックスヒュームが除去された清潔な雰囲気を
得ることができる。
【0033】また、請求項2に記載の発明は、水蒸気は
冷却することによって液化するため、水フィルタから発
生した水分をきわめて良好に除去することができる。し
たがって、雰囲気冷却装置によってきわめてドライな雰
囲気を得ることができる。
【0034】また、請求項3に記載の発明は、はんだ付
け雰囲気をサンプリングして水フィルタに導くためのパ
イプ(サンプリング用パイプ)にも、微量ではあるが徐
々にフラックスヒュームが液化して付着する。
【0035】しかし、圧縮エアを供給する開閉弁を開
き、高速で噴出する圧縮エアを前記サンプリング用パイ
プに通すことにより、液化し付着したフラックスヒュー
ムを吹き飛ばして除去することができる。
【0036】また、請求項4に記載の発明は、サンプリ
ング用パイプに供給される圧縮エアは、はんだ付け雰囲
気をサンプリングするための開口側と水フィルタ側に向
かって流れる。したがって、水フィルタを取り外してか
ら圧縮エア供給開閉弁を開く操作を行う手順とすること
が良い。
【0037】したがって、操作側から見て水フィルタの
背面側に圧縮エア供給開閉弁を配設することによって、
前記手順の操作をオペレータに行わせることができる。
【0038】また、請求項5に記載の発明は、水フィル
タを取り外さないと圧縮エア供給開閉弁を操作すること
ができない。したがって、水フィルタを取り外した後に
サンプリング用パイプに高速で噴出する圧縮エアを通す
という手順をオペレータに強要することができる。
【0039】
【実施例】次に、本発明によるはんだ付け雰囲気のサン
プリング装置を、実際上どのように具体化できるかを実
施例で説明する。 〔原理〕図1(a)〜(c)は、本発明の一実施例を示
す構成図で、図1(a)は、はんだ付け雰囲気中の酸素
濃度を測定するための構成を示すブロック図であり、図
1(b),(c)は三方切換弁の切り換えの態様を示す
説明図である。これらの図において、図7と同一符号は
同一部分を示す。
【0040】すなわち、はんだ付け装置41はチャンバ
42で覆われ、コンベア等の搬送コンベア43によりチ
ャンバ42内に配線基板1を搬送し、予備加熱やフロー
はんだ付けあるいはリフローはんだ付け等の一連のはん
だ付けプロセスを実行する構成である。
【0041】一方、N2 ガス供給装置21から供給され
るN2 ガスは、N2 ガス供給用パイプ23、流量調節弁
(開閉弁)22、図示しない流量計、等を介してチャン
バ42内ヘ供給し、大気を置換して低酸素濃度の雰囲気
をチャンバ42内に形成する。
【0042】他方、チャンバ42内のはんだ付け雰囲気
は、サンプリング用パイプ26、水フィルタ51、ミス
トセパレータ52を介して酸素濃度測定装置25に吸引
し、該はんだ付け雰囲気の酸素濃度の測定を行い排気用
パイプ29から排出される。酸素濃度測定装置25はポ
ンプ(図示せず)を備えていて、自ら測定雰囲気のサン
プリングが行える構成となっている。
【0043】また、チャンバ42の直前位置のサンプリ
ング用パイプ26には、三方切換弁53を介して清掃用
エア供給パイプ54を接続し、清掃用エア供給パイプ5
4は清掃用開閉弁55を介して圧縮エア供給装置56に
接続する。なお、圧縮エア供給装置56としては、空圧
機器用として工場内の各所に配設されたいわゆる工場エ
アを利用できる。 〔酸素濃度サンプリング系〕図2は、図1の酸素濃度サ
ンプリング系を実物に則して示した斜視図である。そし
てこの例においてはチャンバ42の一部分のみを示して
あり、チャンバ42が上部チャンバ体42Aと下部チャ
ンバ体42Bとに分かれていて、上部チャンバ体42A
としてはガラス窓44と、取っ手45を設けた蓋状チャ
ンバ体を複数並べた構成としている。
【0044】チャンバ42内部のはんだ付け雰囲気は、
サンプリング用パイプ26、三方切換弁53、水フィル
タ51、ミストセパレータ52を通って酸素濃度測定装
置25に吸引され流入する構成である。また、三方切換
弁53の他方の分岐路には清掃用エア供給パイプ54を
接続し、清掃用開閉弁55を介して圧縮エア供給装置5
6に接続する構成である。
【0045】図2に示したミストセパレータ52は、空
圧機器において常用されるもので、過飽和水分やオイル
ミスト等を除去する際に使用されるものと同様のもので
ある。また、本発明にかかる水フィルタ51の構成には
特徴があるので以下に詳しく説明する。 〔水フィルタ周辺部〕図3は、図2の水フィルタ51の
構成を示す側面図で、一部を切り欠いて示した図であ
る。
【0046】すなわち、ガラス等の透明な部材で形成し
た容器(瓶)61に水62を入れ、容器61の水62の
中にサンプリングした雰囲気を噴出させるためのノズル
63を差し入れた構成である。したがって、サンプリン
グした雰囲気は水中のノズル63から噴出して気泡状態
で水62と接触しながら上昇し、水面から放出される構
成である。
【0047】なお、本実施例では同軸配管部66に工夫
をしてあり、カプラ64で接続したサンプリング用パイ
プ26から流入するチャンバ42内の雰囲気は、同軸配
管部66の中心側のパイプ65を通ってノズル63に流
れる。水面から放出された雰囲気は、同軸配管部66内
の中心側のパイプ65の外側を通りカプラ64を介して
ミストセパレータ52に流れる構成である。また、同軸
配管部66と容器61とは蓋67によって固定する構成
である。 〔水フィルタ着脱部〕図4は、図2の水フィルタ51の
着脱部の構成を示す図で、図4(a)はパッキンの構成
を説明する斜視図、図4(b)はパッキンを介して蓋を
同軸配管部に取り付けた様子を示す断面図、図4
(c),(d)は容器を蓋に取り付ける際の手順を示す
斜視図である。
【0048】すなわち、図4(a),(b)に示すよう
に蓋は二つ割パッキン68により同軸配管部66に気密
に固定され、図4(c)に示すように別のパッキン69
をサンプリング用パイプ26に通して容器61を蓋67
に挿入し、図4(d)に示すようにねじ込むことで蓋6
7と容器61とは気密に固定される構成である。 〔清掃用開閉弁の配設〕図5は、図2の水フィルタ51
と清掃用開閉弁55との配設構造を示す斜視図である。
この図において、図1と同一符号は同一部分を示す。
【0049】すなわち、図1のはんだ付け装置41の運
転・操作・保守等を行うオペレータ(操作側)から見
て、清掃用開閉弁55が水フィルタ51の背面側に位置
するように配設した構成である。さらに望ましい配設構
造は、はんだ付け装置41に設けた収容筐体71と保守
用開口部72の大きさを制限することである。つまり、
収容筐体71から保守用開閉扉73を開いて水フィルタ
51の容器61を取り外すことによってのみオペレータ
の手が清掃用開閉弁55に届くように構成する。
【0050】このことによって、水フィルタ51を取り
外した後でのみ清掃用の圧縮エアが供給できるようにな
り、水フィルタ51に清掃用のエアが流れ込むことを防
止できる。
【0051】次に、動作について説明する。
【0052】酸素濃度測定装置25は、それ自身がサン
プリング用のポンプ(図示せず)を有していて分析すべ
き雰囲気を吸引するように構成されている。したがっ
て、チャンバ42内のはんだ付け雰囲気はサンプリング
用パイプ26を通って水フィルタ51に流れ込み、水6
2と接触する。そして、フラックスヒューム中のアルコ
ール成分やミストは水62に溶け込み、はんだ等の金属
蒸気は固体化して捕獲され、はんだの金属粉等の浮遊物
も水に捕獲される。
【0053】なお、フラックスヒューム中のアルコール
やミストに対する水62の溶解量、金属蒸気や浮遊物に
対する水の捕獲量は極めて大きい。したがって、小さい
容積でもきわめて長い時間に渡って良好なフィルタリン
グ特性を得ることができる。さらに、フィルタリングに
よって汚濁が進行した水62は、容器61を取り外して
新しい水と交換すれば、常に良好なフィルタリング特性
を得ることができる。
【0054】次に、水フィルタ51を通過した後の雰囲
気はミストセパレータ52に流れ込み、水フィルタ51
で発生した水分(過飽和水分)が除去される。そして酸
素濃度の測定に不要な不純物が除去された清潔な雰囲気
が酸素濃度測定装置25に流れ込み、はんだ付け雰囲気
の酸素濃度が測定される。
【0055】一方、チャンバ42から水フィルタ51に
至るまでのサンプリング用パイプ26にも、微量ではあ
るが徐々にフラックスヒュームが液化して付着する。し
たがって、定期的に清掃することが望まれる。これらは
従来の構成においても同様に発生していたものである。
本実施例では、この清掃を圧縮エアの噴出力を利用して
行えるように構成している。
【0056】すなわち、図1、図2および図5を参照し
て説明すると、先ず水フィルタ51の容器61を取り外
し、続いて三方切換弁53を図1(b)のように清掃用
エア供給パイプ54側に切り換える。そしてその後に清
掃用開閉弁(圧縮エア供給開閉弁)55を開く。する
と、圧縮エア供給装置56から供給される圧縮エアが三
方切換弁53を通ってサンプリング用パイプ26に勢い
良く噴出し、サンプリング用パイプ26に付着していた
フラックスヒュームは吹き飛ばされて除去される。
【0057】この場合、水フィルタ51の容器61を外
してから清掃用開閉弁55の開閉操作が可能なように構
成されているので、水フィルタ51に清掃用のエアが噴
出し、吹き飛ばされたフラックスヒュームが水フィルタ
51に流れ込んだり、甚だしくは水フィルタ51の水が
酸素濃度測定装置25へ流れ込む等の不都合が生ずるよ
うなことはない。
【0058】さらにその後、三方切換弁53を図1
(c)の様に切り換えれば、三方切換弁53からチャン
バ42に至るまでの間のサンプリング用パイプ26に圧
縮エアが勢い良く噴出し、この部分のサンプリング用パ
イプ26も同様にして清掃することができる。 〔酸素濃度測定装置と水〕はんだ付け装置に用いられる
酸素濃度測定装置25としては、ジルコニアセンサを用
いた装置が一般的に使用されている。このジルコニアセ
ンサは、大気の酸素濃度(約20%)から数PPM程度
までの広い範囲に亘って酸素濃度の測定が可能であるた
め、はんだ付け装置のように酸素濃度を広い範囲に亘っ
て調節するような場合には好適なセンサである。
【0059】しかし、このジルコニアセンサは、約70
0℃程度の動作温度で使用されるため、水を被ることを
嫌う性質がある。すなわち、ジルコニアセンサが水を被
ることで酸素濃度の測定が不可能となり、甚だしくはセ
ンサが破損する。しかし、水蒸気が雰囲気中に混入して
いても問題なく使用することができる。ところが微細に
見ると、実用上問題無い程度ではあるが水蒸気の量が変
化することで酸素濃度測定値が若干変化する。すなわ
ち、水蒸気によって測定誤差を生じその誤差量は水蒸気
の量によって変化する。したがって、高精度の酸素濃度
測定を行う場合においては、水蒸気を除去して測定を行
った方が良い。
【0060】他方、本実施例の水フィルタ51で発生す
る水蒸気量は、はんだ付け装置41内の雰囲気温度や水
フィルタ51の水温で変化する。本実施例においてミス
トセパレータ52を用いて水フィルタ51で発生した水
蒸気を除去している理由はそこにある。また、水フィル
タ51の容器61を取り外してからサンプリング用パイ
プ26の清掃を行うための弁操作を行う様に構成してい
る理由もそこにある。 〔その他の実施例〕図6は、本発明の他の実施例を示す
構成図で、ミストセパレータ52に冷却装置を備えた場
合を説明する構成図であり、冷却装置として電子冷却器
を使用した場合を例示し、図1〜図3と同一符号は同一
部分を示す。電子冷却器81は小型化が容易であるの
で、小容量の冷却用途においては優れて好適である。
【0061】すなわち、本実施例は過飽和水分が冷却に
よって直ちに液化して除去できることを利用したもので
ある。
【0062】電子冷却器81は、雰囲気の冷却用パイプ
82を冷却モジュール83によって冷却する構成であ
り、冷却用パイプ82を雰囲気が通過する際に冷却され
る構成である。すなわち、その際に雰囲気中の過飽和水
分が液化し、冷却用パイプ82の下方に接続した排水用
パイプ84に液化した水分が流れ込み、ドレンポット8
5に溜まる構成である。なお、電子冷却器81は電源線
86により冷却モジュール83に電力を供給するための
電源装置87に接続するだけで作動する。
【0063】他方、ドレンポット85には予め水91を
入れ、排水用パイプ84の先端が水の中に没するように
する。これにより、排水用パイプ84が封止され、酸素
濃度測定装置25へ大気が吸引されることがなくなる。
そしてドレンポット85のさらに上側すなわち排水用パ
イプ84の先端開口位置よりも上側に、ドレンポット8
5に溜まった水が越流するように開口88を設け、この
開口88から越流した水(ドレン)91を越流水用パイ
プ89で排水ポット90に導く構成である。すなわち、
排水ポット90に溜まった水(ドレン)91を捨て去る
だけでドレン処理が完了する。
【0064】雰囲気冷却によって雰囲気中の水分を除去
する構成は、水分除去能力が優れていてきわめてドライ
な雰囲気が得られる長所がある。 〔電子冷却器を使用したミストセパレータの回収率〕表
1は、ミストセパレータ52に電子冷却器81を使用し
た場合に、水蒸気がどの程度回収されるかを測定した結
果を一覧表にして示したものである。
【0065】
【表1】 すなわち、水フィルタ51内の水62の重量を容器を含
めて測定し、その重量の変化を毎日測定して前日との重
量差、つまり水62の蒸発量を求めた。また、ドレンポ
ットと85から越流して排水ポット90に流れ込む水
(ドレン)91の重量を排水ポット90を含めて測定
し、その重量変化を毎日測定して前日との重量差つまり
水(ドレン)91の回収量を求めた。したがって、水フ
ィルタ51からの水62の蒸発量とミストセパレータ5
2による水(ドレン)91の回収量とを比較することで
回収率を求めることができる。
【0066】表1の測定結果を考察すると、第1〜第2
日の間の回収率は95%程度となり、第2〜第3日およ
び第3〜第4日の回収率は99%以上と極めて優れた値
を示している。なお、運転開始初日の第1〜第2日の間
の回収率が95%程度にとどまっている理由は、運転開
始にともなって電子冷却器81内の冷却用パイプ82内
壁などに液化・付着した水が排水ポット90に回収され
なかったためと考えられる。
【0067】また、以上の実施例で説明した雰囲気サン
プリング装置は、酸素濃度を測定・分析する場合だけに
限らず、N2 濃度の測定・分析にも使用できる。さら
に、その他アルゴンガスを供給してその濃度を測定する
場合にも有効であり、このような雰囲気分析を行う場合
には共通して有効である。
【0068】以上のように、ミストセパレータ52に電
子冷却器81を使用することで極めて高精度の酸素濃度
測定が可能な雰囲気を得ることができるようになる。
【0069】
【発明の効果】以上のように本発明による雰囲気サンプ
リング装置によれば、各請求項の構成に対応して次のよ
うな効果がある。
【0070】請求項1記載の発明は、水の中に、サンプ
リングしたはんだ付けの雰囲気を供給してサンプリング
した雰囲気と水とを直接に接触させる水フィルタと、こ
の水フィルタ通過後の雰囲気中の水分を除去する装置と
を備えたので、はんだ付け雰囲気中のフラックスヒュー
ムや金属蒸気、浮遊物を確実に溶解・捕獲し除去するこ
とができる。また、溶解・捕獲可能量もきわめて大きく
フィルタ容積を大きくする必要もない。そして水フィル
ターの容器を透明にすれば、捕獲状況を目視によって確
認することができる。したがって、保守性が良好であり
保守のサイクル時間も長くできる。また、測定遅延を生
ずるようなこともないので、保守および運転操作環境と
はんだ付け雰囲気の制御性に優れたはんだ付け装置を実
現することができる。そしてその結果、高品質な配線基
板のはんだ付け環境を実現することができる。
【0071】請求項2記載の発明は、水フィルタ通過後
の雰囲気中の水分を除去する装置に雰囲気冷却装置を備
えたので、過飽和水分の除去が一層良好に行えるので、
目的とするはんだ付け雰囲気の測定環境がさらに良好と
なって精度の高い測定を行うことができるようになる。
このことははんだ付けプロセスの制御が高い精度で行え
ることを意味し、さらに優れたはんだ付け装置を実現す
ることができる。そしてその結果、さらに高品質な配線
基板のはんだ付け環境を実現することができる。
【0072】請求項3記載の発明は、はんだ付けの雰囲
気をサンプリングして水フィルタまで導くパイプへ圧縮
エアを供給するための圧縮エア供給装置を設けるととも
に、この圧縮エア供給装置からの圧縮エアの供給を開閉
する開閉弁を備えたので、開閉弁の操作のみでサンプリ
ング用パイプの清掃を簡単に行うことが可能となり、保
守性に優れた運転操作環境を実現することができる。し
たがって、保守に必要なコストも大幅に削減できるよう
になる。
【0073】請求項4記載の発明は、水フィルタを配設
し収容した際に、操作側から見て水フィルタの背面側に
圧縮エア供給開閉弁を配設したので、水フィルタを取り
外してからサンプリング用パイプ清掃用の開閉弁を開く
ことをオペレータに行わせるので、サンプリング用パイ
プから吹き飛ばされた付着物を水フィルタに流入させる
ことがなくなる。すなわち、誤操作を防止する優れた保
守および運転操作環境を実現することができる。
【0074】請求項5記載の発明は、水フィルタと圧縮
エア供給開閉弁とを収容する筐体を設け、この筐体内の
水フィルタを外すことによってのみ操作側から筐体内の
圧縮エア供給開閉弁の操作を可能とする大きさに筐体を
形成したので、水フィルタを取り外さないと圧縮エア供
給開閉弁を操作することができない。したがって、サン
プリング用パイプから吹き飛ばされた付着物が水フィル
タに流入するようなことが確実に防止できる。すなわ
ち、誤操作を確実に防止する優れた保守および運転操作
環境を実現することができる等の利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図2】図1の酸素濃度サンプリング系を示す斜視図で
ある。
【図3】図2の水フィルタの構成を示す側面図である。
【図4】図3の水フィルタの着脱部の構成を示す図であ
る。
【図5】図2の水フィルタと清掃用開閉弁との配設構造
を示す斜視図である。
【図6】本発明の他の実施例を示す構成図である。
【図7】従来のフローはんだ付け装置を示す側断面図で
ある。
【図8】従来のリフローはんだ付け装置を示す側断面図
である。
【符号の説明】
1 配線基板 21 N2 ガス供給装置 25 酸素濃度測定装置 26 サンプリング用パイプ 41 はんだ付け装置 42 チャンバ 51 水フィルタ 52 ミストセパレータ 53 三方切換弁 54 清掃用エア供給パイプ 55 清掃用開閉弁 56 圧縮エア供給装置 61 容器 62 水 63 ノズル 66 同軸配管部 71 収容筐体 72 保守用開口部 73 保守用開閉扉 81 電子冷却器 82 冷却用パイプ 83 冷却モジュール

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水中にサンプリングしたはんだ付けの雰
    囲気を供給してサンプリングした雰囲気と前記水とを直
    接に接触させる水フィルタと、 この水フィルタ通過後の前記雰囲気中の水分を除去する
    装置と、 を備えたことを特徴とするはんだ付け装置における雰囲
    気のサンプリング装置。
  2. 【請求項2】 水フィルタ通過後の雰囲気中の水分を除
    去する装置に雰囲気冷却装置を備えた、 ことを特徴とする請求項1記載のはんだ付け装置におけ
    る雰囲気のサンプリング装置。
  3. 【請求項3】 はんだ付けの雰囲気をサンプリングして
    水フィルタまで導くパイプへ圧縮エアを供給するための
    圧縮エア供給装置を設けるとともに、この圧縮エア供給
    装置からの圧縮エアの供給を開閉する開閉弁を備えた、 ことを特徴とする請求項1または2記載のはんだ付け装
    置における雰囲気のサンプリング装置。
  4. 【請求項4】 操作側から見て水フィルタの背面側に圧
    縮エアの供給を開閉する開閉弁を配設した、 ことを特徴とする請求項3記載のはんだ付け装置におけ
    る雰囲気のサンプリング装置。
  5. 【請求項5】 水フィルタと圧縮エア供給開閉弁とを収
    容する筐体を設け、この筐体内の前記水フィルタを外す
    ことによってのみ操作側から前記筐体内の開閉弁の操作
    を可能とする大きさに前記筐体を形成した、 ことを特徴とする請求項4記載のはんだ付け装置におけ
    る雰囲気のサンプリング装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009041099A1 (ja) * 2007-09-27 2009-04-02 Yasukawa Co., Ltd. リフロー炉
JP2011038976A (ja) * 2009-08-17 2011-02-24 Senju Metal Ind Co Ltd はんだ付け用雰囲気ガス測定装置
JP2014188556A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Japan Unix Co Ltd エアカーテン機構付きはんだ付け用レーザーヘッド
JP2018122197A (ja) * 2017-01-30 2018-08-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 フラックス回収装置およびリフロー装置ならびにフラックス回収装置における気体交換方法

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