JPH08123029A - ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐薬品性に優れ、バーニング処理を行なう事
なくＵＶインキを用いた印刷を行っても耐刷力の大き
い、現像ラチチュードの良好な、耐摩耗性が優れ、基板
に対する密着性が良く、柔軟な皮膜を与え、耐刷力の大
きい、感光性平版印刷版の製造方法及び感光性組成物を
提供することである。 【構成】 下記(a) 〜(d) を含有する塗布液を支持体上
に塗布し乾燥する製造方法及び下記(a) 〜(d) を含有す
る感光性組成物。(a) スルホンアミド基を有し水不溶か
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化 合物、(b) アル
カリ可溶性ノボラック樹脂、(c) ポジ型に作用する感光
性化合物、(d) 環状ラクトン。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版、ＩＣ回路や
フォトマスクの製造に適するポジ型感光性組成物及びポ
ジ型感光性平版印刷版の製造方法に関するものである。
更に詳しくは、ポジ型に作用する感光性化合物と、耐摩
耗性、耐薬品性に優れた高分子化合物からなる、現像ラ
チチュードが良好であるポジ型感光性組成物及びポジ型
感光性平版印刷版の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来公知のポジ型平版印刷版は、感光物
としてｏ−ナフトキノンジアジド化合物を用い、更にバ
インダーとしてノボラック型フェノール樹脂を用いた感
光性組成物からなるものである。この平版印刷版は、感
光性組成物中のノボラック型フェノール樹脂の性質上、
基板に対する密着性が悪く更に皮膜がもろく耐摩耗性が
劣るため、平版印刷版に用いたときの耐刷力が十分でな
い。更に耐薬品性が乏しく、特にＵＶインキを使用する
と平版印刷版の耐刷力が極めて不十分であることが知ら
れている。

【０００３】これらを解決するためにバインダーとして
種々の高分子化合物の検討が行われている。例えば、特
開平２−８６６号公報には、上記従来の問題点、特にＵ
Ｖインキ耐刷力を解決するために、バインダーとしてス
ルホンアミド基を有する高分子化合物を含有する感光性
組成物が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平２−８６６号公報に記載の技術には、現像時の時
間、温度の変動や現像液の濃度の変動に対する許容性
（いわゆる現像ラチチュード）が狭いといった問題があ
る。本発明の目的は、耐薬品性に優れ、バーニング処理
を行なう事なくＵＶインキを用いた印刷を行っても耐刷
力の大きい平版印刷版を与える感光性平版印刷版の製造
方法及び感光性組成物を提供することである。

【０００５】更に本発明の目的は、現像ラチチュードの
良好な感光性平版印刷版の製造方法及び感光性組成物を
提供することである。更に本発明の目的は、耐摩耗性が
優れ、基板に対する密着性が良く、柔軟な皮膜を与え、
耐刷力の大きい平版印刷版を与える感光性平版印刷版の
製造方法及び感光性組成物を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記構成
（１）〜（２）により達成することができる。 （１）下記（ａ）〜（ｄ）を含有する塗布液を支持体上
に塗布し乾燥することを特徴とするポジ型感光性平版印
刷版の製造方法。 （ａ）スルホンアミド基を有し水不溶かつアルカリ性水
溶液に可溶な高分子化合物 （ｂ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂 （ｃ）ポジ型に作用する感光性化合物 （ｄ）環状ラクトン （２）下記（ａ）〜（ｄ）を含有することを特徴とする
ポジ型感光性組成物。

【０００７】（ａ）スルホンアミド基を有し水不溶かつ
アルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物 （ｂ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂 （ｃ）ポジ型に作用する感光性化合物 （ｄ）環状ラクトン

【０００８】即ち、本発明は、上記成分（ａ）〜（ｄ）
を組み合わせることにより従来の問題の解決、特にＵＶ
インキ耐刷力に加えて現像ラチチュードを良好にでき
る。本発明は、スルホンアミド基を有する高分子化合物
バインダーによる効果の特徴であるＵＶインキ耐刷力
と、ノボラック樹脂バインダーによる効果の特徴である
良好な現像ラチチュードを両立させたものである。しか
しスルホンアミド基を含有する高分子化合物とノボラッ
ク樹脂とを併用しただけでは、上記本発明の効果は発現
しない。本発明の構成要件を組み合わせることにより、
著しく現像ラチチュードが良好となり、高いＵＶインキ
耐刷力が得られる。

【０００９】この詳細な機構は不明であるが、環状ラク
トンのスルホンアミド基を有する高分子化合物とノボラ
ック樹脂とに対する溶解性が異なり、しかも環状ラクト
ンが高沸点であるために、塗布液を塗布し乾燥した際、
感光層内の状態の変化、例えば樹脂同士の微視的な相分
離等が起こって、両バインダーの良好な性質が相補う感
光膜が得られるものと考えられる。

【００１０】本発明に使用される（ａ）スルホンアミド
基を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子
化合物は、側鎖または主鎖中に−ＳＯ₂−ＮＨ−結合を
含有する高分子化合物であり、好ましくは、側鎖中に−
ＳＯ₂−ＮＨ−結合を含有する高分子化合物である。本
発明に使用される（ａ）スルホンアミド基を有し、水不
溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、１分
子中に１つ以上のＮ上に少なくとも１つのＨ原子が結合
したスルホンアミド基と１つ以上の重合可能な不飽和結
合を有する低分子化合物を公知の重合開始剤を用いて適
当な溶媒中で重合する事により得られる。

【００１１】本発明において、さらに好適に使用される
このような低分子化合物としては、一般式（Ｉ）または
（II）で示される化合物がある。

【００１２】

【化１】

【００１３】式中、Ｘ¹、Ｘ²はそれぞれ−Ｏ−または−
ＮＲ⁷−を示す。Ｒ¹、Ｒ⁴はそれぞれ−Ｈまたは−ＣＨ₃
を示す。Ｒ²、Ｒ⁵はそれぞれ置換基を有していてもよい
Ｃ₁〜Ｃ₁₂のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基をを示す。Ｒ³は−Ｈ、置換
基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₁₂のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アラルキル基、を示す。また
Ｒ⁶は、置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₁₂のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、を
示す。またＲ⁷は水素原子または置換基を有していても
よいＣ₁〜Ｃ₁₂のアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基を示す。

【００１４】一般式（Ｉ）または（II）で示される低分
子化合物の内、本発明において特に好適に使用されるも
のは、Ｒ²、Ｒ⁵がそれぞれＣ₂〜Ｃ₆のアルキレン基、シ
クロアルキレン基、または置換基を有していてもよいフ
ェニレン基、ナフチレン基であり、Ｒ³がＨまたはＣ₁〜
Ｃ₆のアルキル基、シクロアルキル基または置換基を有
していてもよいフェニル基、ナフチル基であり、Ｒ⁶が
Ｃ₁〜Ｃ₆のアルキル基、シクロアルキル基または置換基
を有していてもよいフェニル基、ナフチル基であり、Ｒ
⁷が水素原子である化合物である。

【００１５】このような低分子化合物としては、例えば
Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｏ−メチルアミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−メチルアミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ
−エチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｍ−エチルアミノスルホニルフェニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−エチルアミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−ｎ−プロピルアミ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−
ｎ−プロピルアミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｐ−ｎ−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−ｉ−プロピルアミノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ
−プロピルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｐ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−ｎ−ブチルアミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−
ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（ｐ−ｎ−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｏ−ｉ−ブチルアミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ−ブチルア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
−ｉ−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｏ−ｓｅｃ−ブチルアミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｓｅｃ−ブチルア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
−ｓｅｃ−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｏ−ｔ−ブチルアミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｔ−ブチルアミノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｔ
−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−フェニルアミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｍ−フェニルアミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−フェニルアミ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−
（α−ナフチルアミノスルホニル）フェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｍ−（α−ナフチルアミノスルホニ
ル）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（α−ナ
フチルアミノスルホニル）フェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−（β−ナフチルアミノスルホニル）フェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−（β−ナフチルア
ミノスルホニル）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−（β−ナフチルアミノスルホニル）フェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（１−（３−アミノスルホニル）
ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−（１−（３−メチル
アミノスルホニル）ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−
（１−（３−エチルアミノスルホニル）ナフチル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｏ−メチルスルホニルアミノフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−メチルスルホニル
アミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチル
スルホニルアミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｏ−エチルスルホニルアミノフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｍ−エチルスルホニルアミノフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルアミノフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−フェニルスルホ
ニルアミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−フ
ェニルスルホニルアミノフェニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（ｐ−フェニルスルホニルアミノフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｏ−（ｐ−メチルフェニルスルホニ
ルアミノ）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−
（ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）フェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（ｐ−メチルフェニルスル
ホニルアミノ）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
−（α−ナフチルスルホニルアミノ）フェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｐ−（β−ナフチルスルホニルアミ
ノ）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−メチルス
ルホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−
エチルスルホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ
−（２−フェニルスルホニルアミノエチル）メタクリル
アミド、Ｎ−（２−ｐ−メチルフェニルスルホニルアミ
ノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−α−ナフチル
スルホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２
−β−ナフチルスルホニルアミノエチル）メタクリルア
ミド等のメタクリルアミド類、上記と同様の置換基を有
するアクリルアミド類、またｏ−アミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｏ−メチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｍ−メチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｐ−メチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｏ−エチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｍ−エチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｐ−エチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｏ−ｎ−プロピルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、ｍ−ｎ−プロピルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、ｐ−ｎ−プロピルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、ｏ−ｉ−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ｉ−プロピルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｏ−ｎ−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ｎ−
ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−
ｎ−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−ｉ−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−ｉ−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｍ−ｓｅｃ−ブチルアミノスルホニルフェニル
メタクリレート、ｐ−ｓｅｃ−ブチルアミノスルホニル
フェニルメタクリレート、ｍ−ｔ−ブチルアミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、ｐ−ｔ−ブチルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、ｏ−フェニルアミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−フェニルアミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−フェニルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−（α−ナ
フチルアミノスルホニル）フェニルメタクリレート、ｐ
−（α−ナフチルアミノスルホニル）フェニルメタクリ
レート、ｍ−（β−ナフチルアミノスルホニル）フェニ
ルメタクリレート、ｐ−（β−ナフチルアミノスルホニ
ル）フェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホ
ニル）ナフチルメタクリレート、１−（３−メチルアミ
ノスルホニル）ナフチルメタクリレート、１−（３−エ
チルアミノスルホニル）ナフチルメタクリレート、ｏ−
メチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｍ−
メチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｐ−
メチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｏ−
エチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｍ−
エチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｐ−
エチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｏ−
フェニルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｍ
−フェニルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、
ｐ−フェニルスルホニルアミノフェニルメタクリレー
ト、ｏ−（ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）フェ
ニルメタクリレート、ｍ−（ｐ−メチルフェニルスルホ
ニルアミノ）フェニルメタクリレート、ｐ−（ｐ−メチ
ルフェニルスルホニルアミノ）フェニルメタクリレー
ト、ｐ−（α−ナフチルスルホニルアミノ）フェニルメ
タクリレート、ｐ−（β−ナフチルスルホニルアミノ）
フェニルメタクリレート、２−メチルスルホニルアミノ
エチルメタクリレート、２−エチルスルホニルアミノエ
チルメタクリレート、２−フェニルスルホニルアミノエ
チルメタクリレート、２−ｐ−メチルフェニルスルホニ
ルアミノエチルメタクリレート、２−α−ナフチルスル
ホニルアミノエチルメタクリレート、２−β−ナフチル
スルホニルアミノエチルメタクリレート等のメタクリル
酸エステル類、上記と同様の置換基を有するアクリル酸
エステル類などが挙げられる。

【００１６】また、本発明において、スルホンアミド基
を有する高分子化合物を得るのに好適に使用される、ス
ルホンアミド基と重合可能な不飽和結合とを有する低分
子化合物の別の例としては、下記一般式（III）〜
（Ｖ）で示される化合物が含まれる。

【００１７】

【化２】

【００１８】Ｒ⁸、Ｒ¹⁰、Ｒ¹⁴はそれぞれ、水素原子、
ハロゲン原子またはメチル基を示し、好ましくは水素原
子である。Ｒ⁹は、置換されていてもよいＣ₁〜Ｃ₁₂のア
ルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラ
ルキレン基を示し、好ましくは、置換されていてもよい
メチレン基、フェニレン基、ナフチレン基を示す。

【００１９】Ｒ¹¹、Ｒ¹⁵はそれぞれ単結合または置換さ
れていてもよいＣ₁〜Ｃ₁₂のアルキレン基、シクロアル
キレン基、アリーレン基、アラルキレン基を示し、好ま
しくは、単結合またはメチレン基である。Ｒ¹²、Ｒ¹⁶は
それぞれ置換されていてもよいＣ₁〜Ｃ₁₂のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン
基を示し、好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₆のアルキレン基または
置換されていてもよいフェニレン基、ナフチレン基を示
す。

【００２０】Ｒ¹³は、水素原子、置換されていてもよい
Ｃ₁〜Ｃ₁₂のアルキル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基を示し、好ましくは水素原子またはＣ
₁〜Ｃ₆のアルキル基、シクロアルキル基、置換されてい
てもよいフェニル基、ナフチル基を示す。Ｒ¹⁷は置換さ
れてもよいＣ₁〜Ｃ₁₂のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示し、好ましくはＣ₁
〜Ｃ₆のアルキル基、シクロアルキル基、置換されてい
てもよいフェニル基、ナフチル基を示す。またＹ¹、Ｙ²
はそれぞれ単結合または−Ｃ（＝Ｏ）−を示す。

【００２１】上記のような一般式（III）〜（Ｖ）で示
される化合物の具体例としては、ｐ−アミノスルホニル
スチレン、ｐ−アミノスルホニル−α−メチルスチレ
ン、ｐ−アミノスルホニルフェニルアリルエーテル、ｐ
−（Ｎ−メチルアミノスルホニル）フェニルアリルエー
テル、メチルスルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、フ
ェニルスルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、メチルス
ルホニルアミノ酢酸アリルエステル、フェニルスルホニ
ルアミノ酢酸アリルエステル、ｐ−メチルスルホニルア
ミノフェニルアリルエーテルなどがある。

【００２２】本発明に好適に使用される（ａ）スルホン
アミド基を有する高分子化合物は上記の分子中にＮ上に
少なくとも１つのＨ原子が結合したスルホンアミド基と
重合可能な不飽和結合とを有する低分子化合物の単独重
合体または二種以上の共重合体であって、更に重合可能
な不飽和結合を有しかつスルホンアミド基を含まない低
分子化合物の一種以上との共重合体であることが好まし
い。

【００２３】このような重合可能な不飽和結合を含有
し、かつスルホンアミド基を含まない化合物としては、
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル
類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタ
クリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビ
ニルエステル類、スチレン類、クロトン類、エステル類
などから選ばれる重合性不飽和結合を有する化合物であ
る。具体的には、例えばアクリル酸エステル類、例えば
アルキル（該アルキル基の炭素原子数は１〜１０のもの
が好ましい）アクリレート（例えばアクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブ
チル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、
アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロ
ルエチルアクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプ
ロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペン
タエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアク
リレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート、など）、アリールアクリレート
（例えばフェニルアクリレートなど）：メタクリル酸エ
ステル類、例えば、アルキル（該アルキル基の炭素原子
数は１〜１０のものが好ましい）メタクリレート（例え
ばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ク
ロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー
ト、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロ
キシペンチルメタクリレート、２，２−ジメチル−３−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノ
メタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリ
ルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレ
ートなど）、アリールメタクリレート（例えば、フェニ
ルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチル
メタクリレートなど）：アクリルアミド類、例えばアク
リルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（該アルキル
基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、
ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロキ
シエチル基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−アリール
アクリルアミド（該アリール基としては、例えばフェニ
ル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒド
ロキシフェニル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル
アクリルアミド（該アルキル基としては、炭素原子数１
〜１０のもの、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、
イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基な
どがある。）、Ｎ，Ｎ−アリールアクリルアミド（該ア
リール基としては、例えばフェニル基などがある。）、
Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセ
トアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど：メ
タクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、Ｎ−アル
キルメタクリルアミド（該アルキル基としては、炭素原
子数１〜１０のもの、例えばメチル基、エチル基、ｔ−
ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シ
クロヘキシル基などがある。）、Ｎ−アリールメタクリ
ルアミド（該アリール基としては、フェニル基などがあ
る。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（該アル
キル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基など
がある。）、Ｎ，Ｎ−ジアリールメタクリルアミド（該
アリール基としては、フェニル基などがある。）、Ｎ−
ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−
Ｎ−フェニルメタクリルアミドなど：アリル化合物、例
えばアリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸
アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミ
チン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、
アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエ
タノールなど：ビニルエーテル類、例えばアルキルビニ
ルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エ
トキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエー
テル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエ
ーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエ
ーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチ
ルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロ
フルフリルビニルエーテルなど）、ビニルアリールエー
テル（例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエ
ーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，
４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテ
ル、ビニルアントラニルエーテルなど）：ビニルエステ
ル類、例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレー
ト、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセ
テート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニル
メトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニ
ルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニ
ルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニ
ルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、
サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロ
ル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど：スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン（例えばメチル
スチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレ
ン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロ
ルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エト
キシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンな
ど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、
４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど）、ハロゲンスチレン（例えばクロルスチレン、
ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロル
スチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジ
ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、
トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオル
メチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチ
ルスチレンなど）：クロトン酸エステル類、例えば、ク
ロトン酸アルキル（例えばクロトン酸ブチル、クロトン
酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネートなど）：イタ
コン酸ジアルキル類（例えばイタコン酸ジメチル、イタ
コン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど）：マレイン
酸あるいはフマール酸のジアルキル類（例えばジメチル
マレエート、ジブチルフマレートなど）：アクロニトリ
ル、メタクリロニトリル等がある。

【００２４】これらの重合性不飽和結合を有する化合物
のうち、好適に使用されるのはメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アク
リルアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、メタクリル酸、アクリル酸である。これらの重合性
不飽和結合を有する化合物の１種以上と、スルホンアミ
ド基を含有し、かつ重合性不飽和結合を有する化合物の
１種以上の共重合体は、ブロック体、ランダム体、グラ
フト体等いずれも用いる事ができる。

【００２５】これらの共重合体中で、スルホンアミド基
を含有する構成単位は、共重合体を構成するすべての構
成単位に対して５モル％以上含有する事が好ましく、１
０〜９０モル％含有する事がさらに好ましい。このよう
な本発明に用いられる（ａ）スルホンアミド基を有し水
不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物を合成
する際に用いられる溶媒としては、例えばエチレンジク
ロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセ
トン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−
２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢
酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。

【００２６】これらの溶媒は単独あるいは２種以上混合
して用いられる。

【００２７】また、本発明に好適に使用される（ａ）ス
ルホンアミド基を有し、水不溶かつアルカリ性水溶液に
可能な高分子化合物は、上記例示の共重合体の他に下記
ポリウレタン樹脂がある。即ち、本発明に好適に使用さ
れるポリウレタン樹脂は、ジイソシアナート化合物と、
Ｎ上に少なくとも１つのＨ原子が結合したスルホンアミ
ド基を含有するジオール化合物の反応生成物を基本骨格
とするポリウレタン樹脂である。

【００２８】本発明で好適に使用されるジイソシアナー
ト化合物として具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、２，４−トリレンジイソシアナート、２，４−ト
リレンジイソシアナートの二量体、２，６−トリレンジ
イソシアナート、ｐ−キシリレンジイソシアナート、ｍ
−キシリレンジイソシアナート、４，４′−ジフェニル
メタンジイソシアナート、１，５−ナフチレンジイソシ
アナート、３，３′−ジメチルビフェニル−４，４′−
ジイソシアナート等の如き芳香族ジイソシアナート化合
物：ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチルヘキ
サメチレンジイソシアナート、リジンジイソシアナー
ト、ダイマー酸ジイソシアナート等の如き脂肪酸ジイソ
シアナート化合物：イソホロンジイソシアナート、４，
４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアナー
ト）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）ジ
イソシアナート、１，３−（イソシアナートメチル）シ
クロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアナート化合物：
１，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイソシ
アナート２モルとの付加体等の如きジオールとジイソシ
アナートとの反応物であるジイソシアナート化合物等が
挙げられる。

【００２９】また、Ｎ上に少なくとも１つのＨ原子が結
合したスルホンアミド基を含有するジオール化合物とし
ては、具体的には以下に示すものが含まれる。即ち、ｐ
−（１，１−ジヒドロキシメチルエチルカルボニルアミ
ノ）ベンゼンスルホンアミド、ｐ−（１，１−ジヒドロ
キシメチルエチルカルボニルアミノ）ベンゼンスルホン
アミドのＮ−エチル体、Ｎ−（ｍ−メチルスルホニルア
ミノフェニル）−２，２−ジヒドロキシメチルプロパン
アミド、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルアミノフェニル）
−２，２−ジヒドロキシメチルプロパンアミド、Ｎ−
（ｍ−エチルスルホニルアミノフェニル）−２，２−ジ
ヒドロキシメチルプロパンアミド、Ｎ−（ｐ−エチルス
ルホニルアミノフェニル）−２，２−ジヒドロキシメチ
ルプロパンアミド、Ｎ−（２，２−（ジヒドロキシエチ
ルアミノカルボニル）エチル）メタンスルホンアミド、
Ｎ−（２，２−（ジヒドロキシエチルアミノカルボニ
ル）エチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−
（ジヒドロキシエチルアミノカルボニル）エチル−ｐ−
トルエンスルホンアミド、等が挙げられる。

【００３０】これらのスルホンアミド基を含有するジオ
ール化合物は、単独または２種以上組み合わせて使用す
る事ができる。

【００３１】また更に、スルホンアミド基を有せず、イ
ソシアナートと反応しない他の置換基を有していてもよ
いジオール化合物を併用することもできる。このような
ジオール化合物としては、具体的には以下に示すものが
含まれる。即ち、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，６−ヘキサンジオール、２−ブチル−１，４
−ジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタ
ンジオール、１，４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシ
クロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシク
ロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添ビ
スフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイ
ド付加体、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付
加体、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加体、水添
ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体、水添ビ
スフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロ
キノンジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレング
リコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス（２−ヒ
ドロキシエチル）−２，４−トリレンジカルバメート、
２，４−トリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバ
ミド）、ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレ
ンジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イン
フタレート、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，２−
ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス
（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス
（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸、ビス（ヒド
ロキシメチル）酢酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
酢酸、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタ
ン酸、酒石酸等が挙げられる。

【００３２】本発明に用いるポリウレタン樹脂は上記ジ
イソシアナート化合物およびジオール化合物を非プロト
ン性溶媒中、それぞれの反応性に応じた活性の公知な触
媒を添加し、加熱することにより合成される。使用する
ジイソシアナートおよびジオール化合物のモル比は好ま
しくは０．８：１〜１．２：１、より好ましくは０．８
５：１．１〜１．１：１であり、ポリマー末端にイソシ
アネート基が残存した場合、アルコール類又はアミン類
等で処理することにより、最終的にイソシアナート基が
残存しない形で合成される。

【００３３】本発明の（ａ）スルホンアミド基を有し水
不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物の分子
量は、好ましくは重量平均で２，０００以上であり、数
平均で１，０００以上である。更に好ましくは重量平均
で５，０００〜３０万の範囲であり、数平均で２，００
０〜２５万の範囲である。また多分散度（重量平均分子
量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましく
は１．１〜１０の範囲である。

【００３４】また、本発明に用いられる（ａ）スルホン
アミド基を有し水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高
分子化合物中には、未反応の単量体を含んでいてもよ
い。この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合は
１５重量％以下が望ましい。本発明に用いられる（ａ）
スルホンアミド基を有し水不溶かつアルカリ性水溶液に
可溶な高分子化合物は単独で用いても２種以上を用いて
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は、全組成物の３〜９５重量％であり、好
ましくは５〜８５重量％である。

【００３５】本発明に用いられる（ｂ）アルカリ可溶性
ノボラック樹脂としては、例えばフェノールホルムアル
デヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾー
ル（ｍ−、ｐ−、又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよ
い）混合ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルム
アルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒ
ドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン
等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物をあげること
ができる。これらのアルカリ可溶性ノボラック樹脂は、
重量平均分子量が５００〜２０，０００で、数平均分子
量が２００〜１０，０００である。

【００３６】かかる（ｂ）アルカリ可溶性ノボラック樹
脂は、全組成物の１〜７０重量％の添加量で用いられる
のが好まし。更に好ましくは３〜６０重量％である。更
に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載され
ているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のよう
な、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフ
ェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用すること
は画像の感脂性を向上させる上で好ましい。

【００３７】本発明に使用される（ｃ）ポジ型に作用す
る感光性化合物としては、具体的にはｏ−ナフトキノン
ジアジド化合物がある。本発明に使用されるｏ−ナフト
キノンジアジド化合物としては、特公昭４３−２８４０
３号公報に記載されている１，２−ジアゾナフトキノン
スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂と
のエステルであるものが好ましい。その他の好適なオル
トキノンジアジド化合物としては、米国特許第３，０４
６，１２０号および同第３，１８８，２１０号明細書中
に記載されている１，２−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂との
エステルがある。その他の有用なｏ−ナフトキノンジア
ジド化合物としては、数多くの特許に報告され、知られ
ている。たとえば、特開昭４７−５３０３号、同昭４８
−６３８０２号、同昭４８−６３８０３号、同昭４８−
９６５７５号、同昭４９−３８７０１号、同昭４８−１
３３５４号、特公昭３７−１８０１５号、同昭４１−１
１２２２号、同昭４５−９６１０号、同昭４９−１７４
８１号公報、米国特許第２，７９７，２１３号、同第
３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同
第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、
同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６
０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，
００５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３
０，９３２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各
明細書中に記載されているものをあげることができる。

【００３８】本発明において特に好ましいｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量１，０００以下のポリヒ
ドロキシ化合物と１，２−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロリドとの反応により得られる化合物である。この
ような化合物の具体例は、特開昭５１−１３９４０２
号、同５８−１５０９４８号、同５８−２０３４３４
号、同５９−１６５０５３号、同６０−１２１４４５
号、同６０−１３４２３５号、同６０−１６３０４３
号、同６１−１１８７４４号、同６２−１０６４５号、
同６２−１０６４６号、同６２−１５３９５０号、同６
２−１７８５６２号、特開平１−７６０４７号、特開平
２−２１３８４７号、米国特許第３，１０２，８０９
号、同第３，１２６，２８１号、同第３，１３０，０４
７号、同第３，１４８，９８３号、同第３，１８４，３
１０号、同第３，１８８，２１０号、同第４，６３９，
４０６号などの各公報または明細書に記載されているも
のを挙げることができる。

【００３９】これらのｏ−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを０．２〜１．２当量反応させる事が好ましく、さ
らに０．３〜１．０当量反応させる事が好ましい。また
得られるｏ−ナフトキノンジアジド化合物は、１，２−
ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及び導
入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキシル
基がすべて１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テルで転換された化合物がこの混合物中に占める割合
（完全にエステル化された化合物の含有量）は５モル％
以上である事が好ましく、さらに好ましくは２０〜９９
モル％である。

【００４０】またｏ−ナフトキノンジアジド化合物を用
いずにポジ型に作用する感光性化合物としては、例えば
特公昭５６−２６９６号の明細書等に記載されているオ
ルトニトロカルビノールエステル基を有するポリマー化
合物も本発明に使用することができる。更に光分解によ
り酸を発生する化合物と、酸により解離する−Ｃ−Ｏ−
Ｃ基又は−Ｃ−Ｏ−Ｓｉ基を有する化合物との組合せ系
も本発明に使用することができる。

【００４１】例えば光分解により酸を発生する化合物と
アセタール又はＯ，Ｎ−アセタール化合物との組合せ
（特開昭４８−８９００３号）、オルトエステル又はア
ミドアセタール化合物との組合せ（特開昭５１−１２０
７１４号）、主鎖にアセタール又はケタール基を有する
ポリマーとの組合せ（特開昭５３−１３３４２９号）、
エノールエーテル化合物との組合せ（特開昭５５−１２
９９５号）、Ｎ−アシルイミノ炭素化合物との組合せ
（特開昭５５−１２６２３６号）、主鎖にオルトエステ
ル基を有するポリマーとの組合せ（特開昭５６−１７３
４５号）、シリルエステル化合物との組合せ（特開昭６
０−１０２４７号）及びシリルエーテル化合物との組合
せ（特開昭６０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４
４６号）などが挙げられる。

【００４２】本発明の感光性組成物中に占めるこれらの
（ｃ）ポジ型に作用する感光性化合物（上記のような組
合せを含む）の量は１０〜５０重量％で、より好ましく
は１５〜４０重量％である。本発明に用いる（ｄ）環状
ラクトンは、他の成分を溶解する溶媒としても作用す
る。そのような環状ラクトンとしては、例えばα−ブチ
ロラクトン、β−プロピオラクトン、δ−バレロラクト
ンなどがあげられる。

【００４３】塗布溶媒中の（ｄ）環状ラクトンの量は、
本発明の効果が発現するに十分な量であれば特に限定さ
れない。そして、（ｄ）環状ラクトンは高沸点であるた
め塗布液を塗布、乾燥した後の感光層にも通常微量残留
している。残留量はガスクロマトグラフィーによって測
定可能である。

【００４４】本発明の組成物中には、感度を高めるため
に環状酸無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出
し剤、画像着色剤として染料やその他のフィラーなどを
加えることができる。環状酸無水物としては米国特許第
４，１１５，１２８号明細書に記載されているように無
水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ⁴ −テトラヒ
ドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マ
レイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等があ
る。これらの環状酸無水物を全組成物中の１から１５重
量％含有させることによって感度を最大３倍程度に高め
ることができる。露光後直ちに可視像を得るための焼出
し剤としては露光によって酸を放出する感光性化合物と
塩を形成し得る有機染料の組合せを代表としてあげるこ
とができる。具体的には特開昭５０−３６２０９号公
報、特開昭５３−８１２８号公報に記載されているｏ−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩
形成性有機染料の組合せや特開昭５３−３６２２３号、
同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−
１４３７４８号、同６１−１５１６４４号、同６３−５
８４４０号公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せをあげることができる。画
像の着色剤として前記の塩形成性有機染料以外に他の染
料も用いることができる。塩形成性有機染料を含めて好
適な染料として油溶性染料および塩基染料をあげること
ができる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイ
ルイエロー＃１３０、オイルピンク＃３１２、オイルグ
リーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０
３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイル
ブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業株式会
社製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレ
ット（Ｃ１４２５５５）、メチルバイオレット（Ｃ１４
２５３５）、ローダミンＢ（Ｃ１４５１７０Ｂ）、マラ
カイトグリーン（Ｃ１４２０００）、メチレンブルー
（Ｃ１５２０１５）などをあげることができる。また、
特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料
は特に好ましい。

【００４５】本発明の組成物は、上記各成分を溶解する
溶媒に溶かして支持体上に塗布する。本発明において用
いられる環状ラクトン以外の併用可能な溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエ
チルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１
−メトキシ−２−プロピルアセテート、トルエン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド、水、Ｎ−メチルピロリド
ン、テトラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジ
アセトンアルコール、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ジエチレングリコールジメチルエーテルな
どがあり、これらの溶媒を１種あるいは２種以上混合し
て使用する。

【００４６】そして、塗布液中の固形分濃度は、２〜５
０重量％である。又、塗布量は用途により異なるが、例
えば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形分と
して０．５〜３．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布量が薄く
なるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下す
る。本発明の組成物中には、塗布性を良化するための界
面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記
載されているようなフッ素系界面活性剤を添加すること
ができる。好ましい添加量は、全感光性組成物の０．０
１〜１重量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量
％である。

【００４７】上記のようにして設けられた感光層の表面
は、真空焼枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を
短縮し、かつ焼きボケを防ぐため、マット化することが
好ましい。具体的には、特開昭５０−１２５８０５号、
特公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号の各公
報に記載されているようなマット層を設ける方法、特公
昭６２−６２３３７号公報に記載されているような固体
粉末を熱融着させる方法等があげられる。

【００４８】本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版
を製造する場合、その支持体としては、アルミニウム板
が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム及びア
ルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金として
は種々のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガ
ン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッ
ケルなどの金属とアルミニウムとの合金が用いられる。
これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタンに加えて
その他無視し得る程度の量の不純物をも含むものであ
る。

【００４９】アルミニウム板は、必要に応じて表面処理
される。例えば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコ
ニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、ある
いは陽極酸化処理などの裏面処理がなされていることが
好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６号明細
書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナト
リウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許
第３，１８１，４６１号明細書に記載されているように
アルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金
属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用され
る。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独
又は二種以上を組み合わせた電界液中でアルミニウム板
を陽極として電流を流すことにより実施される。

【００５０】また、米国特許第３，６５８，６６２号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上
させる為に施されるものである。

【００５１】アルミニウム板を砂目立てするに先立っ
て、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄
なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理
を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶
剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッ
チング剤を用いる方法が広く行われている。

【００５２】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、プラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。

【００５３】上記の如き方法による砂目立ては、アルミ
ニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｈ_a）が０．３〜
１．０μとなるような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗および化学的にエッチングされる。エッチン
グ処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基あるいは
酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた
表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウム
と異なる被膜が形成されないものでなければならない。
好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質として
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリ
ウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸
二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン
酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオ
ン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニ
ッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形
成するから好ましくない。

【００５４】これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度
の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の
溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３グラムから４０グ
ラム／ｍ²になる様に行なわれるのが最も好ましいが、
これを上回るあるいは下回るものであっても差支えな
い。エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を
浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング板を塗布す
ること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ
／ｍ²の範囲となるように処理されることが好ましい。

【００５５】上記エッチング剤としては、そのエッチン
グ速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用するこ
とが好ましい。この場合、スマットが生成するので、通
常デスマット処理される。デスマット処理に使用される
酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふつ酸、ほうふ
つ化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアル
ミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽
極酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行
なうことができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム
酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等ある
いはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶
液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流すと、
アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させるこ
とができる。

【００５６】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一概には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜
１００Ｖ、電解時間３０秒〜５分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，
４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電
流密度で陽極酸化する方法、米国特許第４，２１１，６
１９号明細書に記載されているような低濃度の硫酸中で
陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，６６１
号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化
する方法が好ましい。

【００５７】上記のように粗面化され、更に陽極酸化さ
れたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても
良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，
０６６号及び同第３，１８１，４６１号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウ
ム水溶液または特公昭３６−２２０６３号公報に開示さ
れている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第
４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポ
リビニルスルホン酸で処理する方法がある。

【００５８】また、上述のように粗面化され、陽極酸化
され、更に必要に応じて親水化処理されたアルミニウム
板上には水溶性化合物からなる下塗層を設けることがで
きる。このような水溶性化合物の例としては特公昭５７
−１６３４９号公報に開示されている、水溶性金属塩と
親水性セルロースの組合せ（例えば、塩化亜鉛とカルボ
キシメチルセルロース、塩化マグネシウムとヒドロキシ
エチルセルロースなど）、米国特許３，５１１，６６１
号明細書に開示されているポリアクリルアミド、特公昭
４６−３５６８５号公報に開示されているポリビニルホ
スホン酸、特開昭６０−１４９４９１号公報に開示され
ているアミノ酸およびその塩類（Ｎａ塩、Ｋ塩等のアル
カリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、硫酸塩、酢酸
塩、りん酸塩等）、特開昭６０−２３２９９８号公報に
開示されている水酸基を有するアミン類およびその塩類
（塩酸塩、硫酸塩、りん酸塩等）、特開昭６２−１９４
９４号公報に開示されているリン酸塩、特開昭５９−１
０１６５１号公報に開示されているスルホ基を有するモ
ノマーを繰り返し単位として含む高分子化合物、特開平
４−２８２６３７号公報に記載の化合物等が挙げられ、
中でもアミノ酸およびその塩、水酸基をもつアミンおよ
びその塩は特に好ましい。このような水溶性化合物の下
塗り層は固型分で１ｍｇ／ｍ² 〜８０ｍｇ／ｍ²の範囲
で設けるのが好ましい。

【００５９】本発明で用いる感光性平版印刷版の支持体
の裏面には、現像時のアルミニウムの陽極酸化皮膜の溶
出を抑えるため、および重ねた場合の感光層の傷付きを
防ぐための高分子化合物からなるバックコート層が設け
られてもよい。バックコートの素材としては、特開平５
−２２７１号公報に記載されているような、アルカリ性
現像液に不溶の高分子化合物が好適である。

【００６０】本発明の感光性組成物に対する現像液とし
ては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナト
リウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウ
ム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重
炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカ
リ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度が０．１〜１
０重量％、好ましくは０．５〜５重量％になるように添
加される。

【００６１】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じ界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加え
ることもできる。露光に使用される光源としてはカーボ
ンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、タングステンラ
ンプ、メタルハライドランプなどがある。本発明の感光
性平版印刷版は、特開昭５４−８００２号、同５５−１
１５０４５号、特開昭５９−５８４３１号の各公報に記
載されている方法で製版処理してもよい。即ち、現像処
理後、水洗してからまたはそのまま不感脂化処理、また
は酸を含む水溶液での処理後、不感脂化処理を施しても
よい。更にこの種の感光性平版印刷版の現像工程では、
処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアルカリ濃度
が減少したり、あるいは、自動現像液長時間運転により
空気によってアルカリ濃度が減少するため処理能力が低
下するが、その際、特開昭５４−６２００４号公報に記
載のように補充液を用いて、処理能力を回復させてもよ
い。この場合、米国特許第４，８８２，２４６号明細書
に記載されている方法で補充することが好ましい。ま
た、上記のような製版処理は、特開平２−７０５４号、
同２−３２３５７号に記載されているような自動現像機
で行うことが好ましい。

【００６２】また、本発明の感光性平版印刷版を現像し
たのちに、不必要な画像部の消去を行う場合には、特公
平２−１３２９３号公報に記載されているようないわゆ
る無公害消去液（劇薬であるフッ酸を含まない）を用い
ることができる。更に、製版工程の最終工程で所望によ
り塗布される不感脂化ガムとしては、特公昭６２−１６
８３４号、同６２−２５１１８号、同６３−５２６００
号、特開昭６２−７５９５号、同６２−１１６９３号、
同６２−８３１９４号の各公報に記載されているものが
好ましい。

【００６３】更に本発明の感光性平版印刷版は、高耐刷
性能が望まれる場合のバーニング処理に適している。バ
ーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２
５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８
５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されて
いるような整面液で処理することが好ましい。

【００６４】

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定される
ものではない。

【００６５】合成例１ 攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた１リッター三ツ口
フラスコにｐ−アミノベンゼンスルホンアミド１７０．
２ｇ（１．０mole）及びテトラヒドロフラン７００ｍｌ
を入れ、氷水浴下攪拌した。この混合物にメタクリル酸
クロリド５２．３ｇ（０．５mole）を約１時間かけて滴
下ロートにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去
り、３０分間室温下で攪拌し、さらにオイルバスを用い
て６０℃に加熱しながら１時間攪拌した。反応終了後、
この反応混合物を水３リットルに攪拌下投入し、３０分
間攪拌した後、ろ過する事により、Ｎ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得ら
れた。この白色固体は、水−アセトンの混合溶媒より再
結晶する事により精製する事ができた（収量３９．３
ｇ）。

【００６６】このように得られたＮ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド９．７２ｇ（０．０
４０８mole）及びメタクリル酸メチル７．９３ｇ（０．
０７９２mole）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍ
ｌを攪拌機、冷却管を備えた２００ｍｌの三ツ口フラス
コに入れ湯水浴により６４℃に加熱しながら攪拌した。
この混合物にα，α′−アゾビスイソブチロニトリル
０．２４６ｇを加え６４℃に保ちながら窒素気流下５時
間攪拌した。反応終了後、この反応混合物を水２リット
ルに攪拌下投入し３０分間攪拌したのちろ過、乾燥する
事により１６ｇの白色固体を得た。ゲルバーミエーショ
ンクロマトグラフィーによりこの高分子化合物の重量平
均分子量（ポリスチレン標準）を測定したところ４９０
００であった。（本発明の高分子化合物（ｉ））

【００６７】合成例２ 攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた５００ｍｌ三ツ口
フラスコにメタクリル酸３１．０ｇ（０．３６mole）、
クロロギ酸エチル３９．１ｇ（０．３６mole）及びアセ
トニトリル２００ｍｌを入れ、氷水浴下攪拌した。この
混合物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６mole）
を約１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了
後、氷水浴をとり去り、室温下で３０分間攪拌し、油浴
を取り付けた。

【００６８】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０mole）を加え、油浴
にて７０℃に温めながら１時間攪拌した。反応終了後、
この混合物を水１リットルにかくはん下投入し、３０分
間攪拌した。固体をろ過により集め、さらに水５００ｍ
ｌにリスラリーしたのち、ろ過、乾燥する事によりＮ−
（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミドの
白色固体が得られた。（収量４６．９ｇ）。

【００６９】次に攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた
２０ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ（０．０１９
２mole）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ（０．０２５
８mole）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５mo
le）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入れ、
湯水浴により６５℃に加熱しながら攪拌した。この混合
物にＶ−６５（和光純薬（株）製）０．１５ｇを加え６
５℃に保ちながら窒素気流下２時間攪拌した。この反応
混合物にさらにＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）
メタクリルアミド４．６１ｇ、メタクリル酸エチル２．
９４ｇ、アクリロニトリル０．８０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド及びＶ−６５ ０．１５ｇの混合物を２
時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後さら
に６５℃で２時間攪拌した。反応終了後メタノール４０
ｇを加え、冷却し、水２リットルに攪拌下投入し、３０
分攪拌した後ろ過乾燥する事により１５ｇの白色固体を
得た。ゲルバーミエーションクロマトグラフィーにより
この高分子化合物の重量平均分子量（ポリスチレン標
準）を測定したところ５３，０００であった。（本発明
の高分子化合物（ｉｉ））

【００７０】合成例３〜５ 合成例１又は２と同様にして第１表に示される高分子化
合物（ｉｉｉ）〜（ｖ）を合成した。これらの高分子化
合物の重量平均分子量（ポリスチレン標準）はいずれも
９，０００〜８０，０００であった。

【００７１】

【表１】

【００７２】合成例６ 攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた５００ｍｌ三ツ口
フラスコに２，２−ジヒドロキシメチルプロピオン酸４
０ｇ（０．２９８mole）及び無水酢酸１００ｍｌを入
れ、氷水浴下攪拌した。この混合物にピリジン１００ｍ
ｌを滴下ロートにより約３０分間かけて滴下した。滴下
終了後、氷水浴をとり去り、オイルバスにて混合物を６
０℃に加熱しながら２時間攪拌した。反応終了後、塩酸
を加え混合物を酸性とし、分液ロートを用いてクロロホ
ルムにより抽出した。クロロホルム層を水洗したのち、
無水硫酸ナトリウムにより脱水した。このクロロホルム
溶液により溶液を減圧留去する事により、２，２−ジア
セトキシメチルプロピオン酸の白色固体５７ｇを得た。

【００７３】次に２，２−ジアセトキシメチルプロピオ
ン酸３０ｇ（０．１３７mole）及び塩化チオニル２０ｍ
ｌを攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた３００ｍｌ三
ツ口フラスコに入れ、８０℃に加熱しながら２時間攪拌
した。反応終了後、減圧留去により未反応の塩化チオニ
ル等を十分除去した後、氷水浴をつけこの反応生成物を
十分に冷却した。この反応生成物にｐ−アミノベンゼン
スルホンアミド４６．６ｇ（０．２７４mole）とテトラ
ヒドロフラン１５０ｍｌの混合物を滴下ロートにより約
１時間かけて滴下した。滴下終了後、オイルバスにて６
０℃に加熱しながら２時間攪拌した。反応終了後、この
反応混合物を水２リットル攪拌下投入し、３０分間攪拌
した後、濾過する事によりｐ−（１，１−ジアセトキシ
メチルエチルカルボニルアミノ）ベンゼンスルホンアミ
ドの白色固体が得られた。この白色固体はエタノールよ
り再結晶する事により精製できた。（収量２６ｇ）。

【００７４】次にｐ−（１，１−ジアセトキシメチルエ
チルカルボニルアミノ）ベンゼンスルホンアミド２２ｇ
（０．０６mole）及び水酸化ナトリウム４．８ｇ（０．
１２mole）、エタノール５０ｍｌ、水５０ｍｌを攪拌
機、冷却管を備えた３００ｍｌ三ツ口フラスコに入れ、
２時間加熱還流した。この反応混合物を水１リットルに
攪拌下投入し、３０分間攪拌した後、濾過する事により
ｐ−（１，１−ジヒドロキシメチルエチルカルボニルア
ミノ）ベンゼンスルホンアミドの白色固体が得られた。
この白色固体はエタノールにより再結晶する事により精
製できた（収量１１ｇ）。

【００７５】次に、ｐ−（１，１−ジヒドロキシメチル
エチルカルボニルアミノ）ベンゼンスルホンアミド５．
７３ｇ（０．０２mole）及び４，４′−ジフェニルメタ
ンジイソシアナート５．２６ｇ（０．０２１mole）、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１８ｇを攪拌機、冷却管
を備えた１００ｍｌ三ツ口フラスコに入れ、１００℃に
加熱しながら２時間攪拌した。反応終了後この反応混合
物を水５００ｍｌに攪拌下投入し３０分間攪拌した。析
出物を濾過、乾燥する事により１０ｇの白色固体を得
た。ゲルバーミエーションクロマトグラフィーによりこ
の高分子化合物の重量平均分子量（ポリスチレン標準）
を測定したところ３２０００であった。（本発明の高分
子化合物（ｖｉ））。

【００７６】実施例１〜６および比較例１〜１０ 厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板をナイロンブラシと
４００メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナ
トリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗し
た。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０クローン／ｄ
ｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、０．６μ（Ｒａ表示）であっ
た。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し５
５℃で２分間デスマットした後、２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液
中、電流密度２Ａ／ｄｍ²において厚さが２．７ｇ／ｍ²
になるように陽極酸化した。

【００７７】次に下記感光液〔Ａ〕の本発明の高分子化
合物の種類を表２のように変えて、６種類の感光液
〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−６を調整した。これらの感光液を
陽極酸化されたアルミニウム板上に塗布し、１００℃で
２分間乾燥してそれぞれの感光性平版印刷版〔Ａ〕−１
〜〔Ａ〕−６（実施例１〜６）を作成した。このときの
塗布量は乾燥重量で２．５ｇ／ｍ²であった。

【００７８】 〔感光液Ａ（本発明）〕 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドと ０．４５ｇ ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 （米国特許第３６３５７０９号の実施例１に記載のもの） 高分子化合物（表２） ０．５０ｇ クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 ０．６ｇ （ｍ−；６０％、ｐ−；４０％） ２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス ０．０２ｇ （トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン オイルブルー＃６０３（オリエント化学（製）） ０．０１ｇ γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ） ８ｇ メチルエチルケトン １２ｇ

【００７９】次に下記感光液〔Ｂ〕の本発明の高分子化
合物の種類を表２のように変え、更に感光液〔Ａ〕で用
いたγ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）の代わりにメチル
セロソルブを用いて６種類の感光液〔Ｂ〕−１〜〔Ｂ〕
−６を調整した。これらの感光液を上記感光液〔Ａ〕−
１〜〔Ａ〕−６と同様にして、感光性平版印刷版〔Ｂ〕
−１〜〔Ｂ〕−６（実施例１〜６）を作成した。

【００８０】 〔感光液Ｂ（比較例）〕 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドと ０．４５ｇ ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 （米国特許第３６３５７０９号の実施例１に記載のもの） 高分子化合物（表２） ０．５０ｇ クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 ０．６ｇ （ｍ−；６０％、ｐ−；４０％） ２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス ０．０２ｇ （トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン オイルブルー＃６０３（オリエント化学（製）） ０．０１ｇ メチルセロソルブ ８ｇ メチルエチルケトン １２ｇ

【００８１】次に下記感光液〔Ｃ〕〜〔Ｆ〕を以下のよ
うに変更した他は感光液Ａ又はＢと同様に調整した。こ
れらの感光液を上記感光液〔Ａ〕及び感光液〔Ｂ〕と同
様にして、感光性平版印刷版〔Ｃ〕、〔Ｄ〕、〔Ｅ〕、
〔Ｆ〕を作成した。

【００８２】〔感光液Ｃ（比較例７）〕感光液Ａにおい
て、高分子化合物（ｉｉ）とクレゾールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂に変えて、高分子化合物（ｉｉ）のみ
を１．１ｇ用いた。

【００８３】〔感光液Ｄ（比較例８）〕感光液Ｂにおい
て、高分子化合物（ｉｉ）とクレゾールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂に変えて、高分子化合物（ｉｉ）のみ
を１．１ｇ用いた。

【００８４】〔感光液Ｅ（比較例９）〕感光液Ａにおい
て、高分子化合物（ｉｉ）とクレゾールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂に変えて、クレゾールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂のみを１．１ｇ用いた。

【００８５】〔感光液Ｆ（比較例１０）〕感光液Ｂにお
いて、高分子化合物（ｉｉ）とクレゾールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂に変えて、クレゾールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂のみを１．１ｇ用いた。

【００８６】感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜６、〔Ｂ〕
−１〜６、〔Ｃ〕、〔Ｄ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕のそれぞ
れの感光層上に線画及び網点画像のポジ透明原画を密着
させ、３０アンペアのカーボンアーク灯で７０ｃｍの距
離から露光を行った。露光された感光性平版印刷版
〔Ａ〕−１〜６、〔Ｂ〕−１〜６、〔Ｃ〕、〔Ｄ〕、
〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕のそれぞれをＤＰ−４〔商品明：富士
写真フイルム（株）製〕の８倍希釈水溶液で２５℃にお
いて６０秒間浸漬現像した。

【００８７】得られた平版印刷版〔Ａ〕−１〜６、
〔Ｂ〕−１〜６、〔Ｃ〕、〔Ｄ〕、〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕の
それぞれを用いてハイデルベルグ社製ＫＯＲ型印刷機で
ＵＶインキを用いて上質紙に印刷した。平版印刷版
〔Ａ〕−１〜６、〔Ｂ〕−１〜６、〔Ｃ〕、〔Ｄ〕、
〔Ｅ〕及び〔Ｆ〕のそれぞれの最終印刷枚数を調べたと
ころ第２表に示す通りであった。

【００８８】現像ラチチュードはＤＰ−４を１：８に希
釈し、２５℃で３０秒及び５分間処理し濃度差０．１５
のグレースケールのベタ段数の変化（５分間処理段数−
３０秒処理段数）により表２に示した。印刷枚数は多い
程耐刷性が良く、更に現像ラチチュードを評価した段数
は少ない程現像ラチチュードが良好である。

【００８９】

【表２】

【００９０】表２からわかるように、スルホンアミド基
を有する高分子化合物、ノボラック樹脂、及びγ−ＢＬ
を含有する感光性組成物を用いた平版印刷版〔Ａ〕−１
〜６（実施例１〜６）は、平版印刷版〔Ｂ〕−１〜６
（比較例１〜６）、平版印刷版〔Ｃ〕（比較例７）、平
版印刷版〔Ｄ〕（比較例８）、平版印刷版〔Ｅ〕（比較
例９）、平版印刷版〔Ｆ〕（比較例１０）に比べＵＶイ
ンキ耐刷力及び現像ラチチュードが非常に優れている。

【００９１】実施例７〜１２及び比較例１１〜２０ 厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板をナイロンブラシと
４００メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄して基板〔Ｉ〕を用意
した。基板〔Ｉ〕を１０％水酸化ナトリウムに７０℃で
２０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後２０
％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗し、１２．７Ｖの条件下で
正弦波の交番波形電流を用いて０．７％硝酸水溶液中で
４００クローン／ｄｍ²の電気量で電解粗面化処理を行
い、水洗して基板〔ＩＩ〕を用意した。

【００９２】この基板〔ＩＩ〕を１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液中で表面の溶解量が０．９ｇ／ｍ² になるよう
に処理した。水洗後、２０％硝酸溶液中で中和、洗浄し
てデスマットを行った後、１８％硫酸水溶液中で酸化皮
膜量が３ｇ／ｍ² になるように陽極酸化した。このよう
にして得られたアルミニウム板上に、下記の感光液
〔Ｇ〕で本発明の高分子化合物の種類を変えた６種類の
感光液〔Ｇ〕−１〜６（本発明）を塗布した。１００℃
で２分間乾燥し、それぞれの感光性平版印刷版〔Ｇ〕−
１〜６（実施例７〜１２）を作成した。

【００９３】更に、下記感光液〔Ｈ〕−１〜６、
〔Ｉ〕、〔Ｊ〕、〔Ｋ〕及び〔Ｌ〕（比較例）を調整
し、〔Ｇ〕−１〜６と同様にして塗布乾燥し感光性平版
印刷版〔Ｈ〕−１〜６、〔Ｉ〕、〔Ｊ〕、〔Ｋ〕及び
〔Ｌ〕（比較例１１〜２０）を作成した。これらの感光
性平版印刷版の乾燥後の塗布量は、２．５ｇ／ｍ² であ
った。

【００９４】なお、感光液〔Ｇ〕−１〜６、〔Ｈ〕−１
〜６、〔Ｉ〕、〔Ｊ〕、〔Ｋ〕及び〔Ｌ〕に用いた高分
子化合物は表３に示した。

【００９５】 〔感光液Ｇ〕 ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと ０．４５ｇ ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド とのエステル化物（エステル化率：９０mol％） 高分子化合物（表３） ０．７７ｇ クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 ０．３３ｇ （メタ６０％、パラ４０％） ４−（ｐ−ヒドロキシベンゾイル）アミノ−２，６− ０．０２ｇ ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアジン ビクトリアピュアブル−ＢＯＨ ０．０５ｇ （保土ヶ谷化学製） メガファックＦ−１７７ ０．００４ｇ （大日本インキ製フッ素系界面活性剤） γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ） ４ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ９ｇ メチルエチルケトン ７ｇ

【００９６】 〔感光液Ｈ（比較例）〕 ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと ０．４５ｇ ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド とのエステル化物（エステル化率：９０mol％） 高分子化合物（表３） ０．７７ｇ クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 ０．３３ｇ （メタ６０％、パラ４０％） ４−（ｐ−ヒドロキシベンゾイル）アミノ−２，６− ０．０２ｇ ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリアミン ビクトリアピュアブル−ＢＯＨ ０．０５ｇ （保土ヶ谷化学製） メガファックＦ−１７７ ０．００４ｇ （大日本インキ製フッ素系界面活性剤） ジメチルホルムアミド ４ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ９ｇ メチルエチルケトン ７ｇ

【００９７】下記感光液〔Ｉ〕〜〔Ｌ〕は、感光液
〔Ｇ〕又は〔Ｈ〕を下記のように変更した以外は、感光
液〔Ｇ〕又は〔Ｈ〕と同様である。

【００９８】〔感光液Ｉ（比較例１７）〕感光液Ｇにお
いて、高分子化合物（ｉｉ）及びクレゾールホルムアル
デヒドノボラック樹脂に代えて高分子化合物（ｉｉ）の
みを１．１ｇ用いた。

【００９９】〔感光液Ｊ（比較例１８）〕感光液Ｈにお
いて、高分子化合物（ｉｉ）及びクレゾールホルムアル
デヒドノボラック樹脂に代えて高分子化合物（ｉｉ）の
みを１．１ｇ用いた。

【０１００】〔感光液Ｋ（比較例１９）〕感光液Ｇにお
いて、高分子化合物（ｉｉ）及びクレゾールホルムアル
デヒドノボラック樹脂に代えてクレゾールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂のみを１．１ｇ用いた。

【０１０１】〔感光液Ｌ（比較例２０）〕感光液Ｈにお
いて、高分子化合物（ｉｉ）及びクレゾールホルムアル
デヒドノボラック樹脂に代えてクレゾールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂のみを１．１ｇ用いた。

【０１０２】

【表３】

【０１０３】感光性平版印刷版〔Ｇ〕−１〜６（実施例
７〜１２）、〔Ｈ〕−１〜６、〔Ｉ〕、〔Ｊ〕、〔Ｋ〕
及び〔Ｌ〕（比較例１１〜２０）を、実施例１〜６及び
比較例１〜１０と同様な方法で性能を評価したところ表
３に示す通りであった。表３からわかるように、本発明
の高分子化合物、ノボラック樹脂、及びγ−ＢＬを含有
する感光性組成物を用いた平版印刷版〔Ｇ〕−１〜６
（実施例７〜１２）は、平版印刷版〔Ｈ〕−１〜６、
〔Ｉ〕、〔Ｊ〕、〔Ｋ〕及び〔Ｌ〕（比較例１１〜２
０）に比べ、ＵＶインキ耐刷力、及び現像ラチチュード
が非常に良好である。

【０１０４】

【発明の効果】本発明は、支持体上に塗布する際の塗布
性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後、露光部を水性
アルカリ現像液で使用する際の現像ラチチュードに優れ
る。得られたレリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性
が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が多
数枚得られる。

【０１０５】さらに、ＵＶインキを使用した印刷を行っ
た場合においても良好な印刷物が多数枚得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/035

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（ａ）〜（ｄ）を含有する塗布液を
   支持体上に塗布し乾燥することを特徴とするポジ型感光
   性平版印刷版の製造方法。 （ａ）スルホンアミド基を有し水不溶かつアルカリ性水
   溶液に可溶な高分子化合物 （ｂ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂 （ｃ）ポジ型に作用する感光性化合物 （ｄ）環状ラクトン
2. 【請求項２】 下記（ａ）〜（ｄ）を含有することを特
   徴とするポジ型感光性組成物。 （ａ）スルホンアミド基を有し水不溶かつアルカリ性水
   溶液に可溶な高分子化合物 （ｂ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂 （ｃ）ポジ型に作用する感光性化合物 （ｄ）環状ラクトン