JPH08119626A - アンモニア水の製造装置 - Google Patents
アンモニア水の製造装置Info
- Publication number
- JPH08119626A JPH08119626A JP6256471A JP25647194A JPH08119626A JP H08119626 A JPH08119626 A JP H08119626A JP 6256471 A JP6256471 A JP 6256471A JP 25647194 A JP25647194 A JP 25647194A JP H08119626 A JPH08119626 A JP H08119626A
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- JP
- Japan
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- ammonia
- water
- ammonia gas
- tank
- aqueous ammonia
- Prior art date
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- Withdrawn
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01C—AMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
- C01C1/00—Ammonia; Compounds thereof
- C01C1/02—Preparation, purification or separation of ammonia
- C01C1/022—Preparation of aqueous ammonia solutions, i.e. ammonia water
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 アンモニアガスをアンモニア飽和水中に噴出
させることによりアンモニアガスをアンモニア飽和水に
より洗浄する洗浄槽（Ａ）、該洗浄槽から回収されたア
ンモニアガス中のミストを除去するためのミスト分離器
（Ｂ）及び該ミスト分離器から回収されたアンモニアガ
スを水に吸収させる吸収装置（Ｃ）を有するアンモニア
水の製造装置。 【効果】 金属（主に鉄）固体不純物が高度に除去され
た高純度なアンモニア水を製造し得るアンモニア水の製
造装置を提供することができる。
させることによりアンモニアガスをアンモニア飽和水に
より洗浄する洗浄槽（Ａ）、該洗浄槽から回収されたア
ンモニアガス中のミストを除去するためのミスト分離器
（Ｂ）及び該ミスト分離器から回収されたアンモニアガ
スを水に吸収させる吸収装置（Ｃ）を有するアンモニア
水の製造装置。 【効果】 金属（主に鉄）固体不純物が高度に除去され
た高純度なアンモニア水を製造し得るアンモニア水の製
造装置を提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アンモニア水の製造装
置に関するものである。更に詳しくは、本発明は、金属
（主に鉄）固体不純物が高度に除去された高純度なアン
モニア水を製造し得るアンモニア水の製造装置に関する
ものである。
置に関するものである。更に詳しくは、本発明は、金属
（主に鉄）固体不純物が高度に除去された高純度なアン
モニア水を製造し得るアンモニア水の製造装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体工場において用いられるシリコン
ウエハーの洗浄液として、アンモニア水が使用される。
この用途に使用されるアンモニア水は、金属（主に鉄）
固体不純物が高度に除去された高純度なアンモニア水で
あることが要求される。しかも、かかる要求は、近年、
一層高度なものとなっている。
ウエハーの洗浄液として、アンモニア水が使用される。
この用途に使用されるアンモニア水は、金属（主に鉄）
固体不純物が高度に除去された高純度なアンモニア水で
あることが要求される。しかも、かかる要求は、近年、
一層高度なものとなっている。
【０００３】高純度アンモニア水の製造方法として、市
販のアンモニア水をフィルターで濾過して用いる方法、
液体アンモニアを気化させ、水に吸収させる方法などが
知られている。しかしながら、従来の方法により得られ
るアンモニア水は、前記の要求水準に鑑み、必ずしも十
分なものではなかった。
販のアンモニア水をフィルターで濾過して用いる方法、
液体アンモニアを気化させ、水に吸収させる方法などが
知られている。しかしながら、従来の方法により得られ
るアンモニア水は、前記の要求水準に鑑み、必ずしも十
分なものではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】かかる現状に鑑み、本
発明が解決しようとする課題は、金属（主に鉄）固体不
純物が高度に除去された高純度なアンモニア水を製造し
得るアンモニア水の製造装置を提供する点に存する。
発明が解決しようとする課題は、金属（主に鉄）固体不
純物が高度に除去された高純度なアンモニア水を製造し
得るアンモニア水の製造装置を提供する点に存する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、ア
ンモニアガスをアンモニア飽和水中に噴出させることに
よりアンモニアガスをアンモニア飽和水により洗浄する
洗浄槽（Ａ）、該洗浄槽から回収されたアンモニアガス
中のミストを除去するためのミスト分離器（Ｂ）及び該
ミスト分離器から回収されたアンモニアガスを水に吸収
させる吸収装置（Ｃ）を有するアンモニア水の製造装置
に係るものである。
ンモニアガスをアンモニア飽和水中に噴出させることに
よりアンモニアガスをアンモニア飽和水により洗浄する
洗浄槽（Ａ）、該洗浄槽から回収されたアンモニアガス
中のミストを除去するためのミスト分離器（Ｂ）及び該
ミスト分離器から回収されたアンモニアガスを水に吸収
させる吸収装置（Ｃ）を有するアンモニア水の製造装置
に係るものである。
【０００６】以下、詳細に説明する。
【０００７】本発明の製造装置は、アンモニアガスをア
ンモニア飽和水中に噴出させることによりアンモニアガ
スをアンモニア飽和水により洗浄する洗浄槽（Ａ）を有
する必要がある。
ンモニア飽和水中に噴出させることによりアンモニアガ
スをアンモニア飽和水により洗浄する洗浄槽（Ａ）を有
する必要がある。
【０００８】洗浄槽（Ａ）の具体例としては、槽の外部
から槽の底付近にアンモニアガスを導くための配管及び
該配管の先端に設置された噴出部分を有する槽をあげる
ことができる。ここで、該噴出部分としては、複数の小
孔を有するリング状の管をあげることができる。
から槽の底付近にアンモニアガスを導くための配管及び
該配管の先端に設置された噴出部分を有する槽をあげる
ことができる。ここで、該噴出部分としては、複数の小
孔を有するリング状の管をあげることができる。
【０００９】洗浄槽（Ａ）の内部には、アンモニア飽和
水が保持されている。アンモニアガスは該アンモニア飽
和水の中に噴出され、アンモニア飽和水と接触しながら
アンモニア飽和水中を上昇し、遂にアンモニア飽和水の
上面から逸散して、洗浄槽（Ａ）の上部から回収され
る。本発明においては、上記のアンモニアガスがアンモ
ニア飽和水と接触する過程において、アンモニアガス中
の金属（主に鉄）固体不純物が十分に洗浄・除去される
のである。ここで、問題となる金属固体不純物として
は、アンモニアガスを供給するための配管から発生する
ものも含まれる。なお、アンモニアガスとアンモニア飽
和水の接触時間（すなわち、アンモニア飽和水中に噴出
されたアンモニアガスがアンモニア飽和水の上面から逸
散するまでの時間であり、〔噴出孔の位置より上部にあ
るアンモニア飽和水の体積（ｍ3 ）／アンモニアガスの
流量（ｍ3 ／ｓｅｃ）〕により求められる。）は、通常
５〜３０秒、好ましくは１０〜２０秒である。該時間が
短すぎると固体微粒子などの不純物の洗浄・除去効果が
不十分なことがあり、一方該時間が長すぎると装置が大
型となり、不経済であることがある。
水が保持されている。アンモニアガスは該アンモニア飽
和水の中に噴出され、アンモニア飽和水と接触しながら
アンモニア飽和水中を上昇し、遂にアンモニア飽和水の
上面から逸散して、洗浄槽（Ａ）の上部から回収され
る。本発明においては、上記のアンモニアガスがアンモ
ニア飽和水と接触する過程において、アンモニアガス中
の金属（主に鉄）固体不純物が十分に洗浄・除去される
のである。ここで、問題となる金属固体不純物として
は、アンモニアガスを供給するための配管から発生する
ものも含まれる。なお、アンモニアガスとアンモニア飽
和水の接触時間（すなわち、アンモニア飽和水中に噴出
されたアンモニアガスがアンモニア飽和水の上面から逸
散するまでの時間であり、〔噴出孔の位置より上部にあ
るアンモニア飽和水の体積（ｍ3 ）／アンモニアガスの
流量（ｍ3 ／ｓｅｃ）〕により求められる。）は、通常
５〜３０秒、好ましくは１０〜２０秒である。該時間が
短すぎると固体微粒子などの不純物の洗浄・除去効果が
不十分なことがあり、一方該時間が長すぎると装置が大
型となり、不経済であることがある。
【００１０】なお、アンモニアガスを洗浄槽（Ａ）に供
給するに先立ち、フィルターによりアンモニアガスを濾
過することが好ましい。
給するに先立ち、フィルターによりアンモニアガスを濾
過することが好ましい。
【００１１】本発明の製造装置は、上記の洗浄槽から回
収されたアンモニアガス中のミストを除去するためのミ
スト分離器（Ｂ）を有するものである。
収されたアンモニアガス中のミストを除去するためのミ
スト分離器（Ｂ）を有するものである。
【００１２】ミスト分離器（Ｂ）の具体例としては、充
填物を有する塔をあげることができる。充填物として
は、ラシヒリングなどをあげることができる。
填物を有する塔をあげることができる。充填物として
は、ラシヒリングなどをあげることができる。
【００１３】前記洗浄槽（Ａ）から回収されたアンモニ
アガスは、通常ミスト分離器（Ｂ）の下部に導入され、
充填物によりアンモニアガス中のミストが除去され、ミ
スト分離器（Ｂ）の上部から回収される。なお、除去さ
れたミストは、塔の下部から排出される。
アガスは、通常ミスト分離器（Ｂ）の下部に導入され、
充填物によりアンモニアガス中のミストが除去され、ミ
スト分離器（Ｂ）の上部から回収される。なお、除去さ
れたミストは、塔の下部から排出される。
【００１４】本発明の製造装置は、上記のミスト分離器
から回収されたアンモニアガスを水に吸収させる吸収装
置（Ｃ）を有するものである。
から回収されたアンモニアガスを水に吸収させる吸収装
置（Ｃ）を有するものである。
【００１５】吸収装置（Ｃ）の具体例としては、吸収槽
又は吸収塔をあげることができる。
又は吸収塔をあげることができる。
【００１６】吸収槽としては、槽の外部から槽の底付近
にアンモニアガスを導くための配管及び該配管の先端に
設置された噴出部分並びにアンモニアを吸収させるべき
原料水を供給する配管及び製造されたアンモニア水を取
り出すための配管を有する通常の吸収槽を用いることが
できる。なお、該噴出部分としては、複数の小孔を有す
るリング状の管をあげることができる。
にアンモニアガスを導くための配管及び該配管の先端に
設置された噴出部分並びにアンモニアを吸収させるべき
原料水を供給する配管及び製造されたアンモニア水を取
り出すための配管を有する通常の吸収槽を用いることが
できる。なお、該噴出部分としては、複数の小孔を有す
るリング状の管をあげることができる。
【００１７】吸収塔としては、塔頂部にアンモニアを吸
収させるべき原料水を供給する配管を有し、塔底部にア
ンモニアガスを供給する配管及び製造されたアンモニア
水を取り出すための配管を有する通常の吸収塔を用いる
ことができる。
収させるべき原料水を供給する配管を有し、塔底部にア
ンモニアガスを供給する配管及び製造されたアンモニア
水を取り出すための配管を有する通常の吸収塔を用いる
ことができる。
【００１８】前記ミスト分離器（Ｂ）から回収されたア
ンモニアガスは、吸収装置（Ｃ）に供給され、別途吸収
装置（Ｃ）に供給された原料水に吸収され、目的のアン
モニア水が製造される。ここで、用いる原料水として
は、いわゆる超純水を用いることが好ましい。
ンモニアガスは、吸収装置（Ｃ）に供給され、別途吸収
装置（Ｃ）に供給された原料水に吸収され、目的のアン
モニア水が製造される。ここで、用いる原料水として
は、いわゆる超純水を用いることが好ましい。
【００１９】本発明の製造装置により得られるアンモニ
ア水は、金属（主に鉄）固体不純物が高度に除去された
高純度なアンモニア水であり、半導体工場において用い
られるシリコンウエハーの洗浄液などとして、最適に使
用され得る。
ア水は、金属（主に鉄）固体不純物が高度に除去された
高純度なアンモニア水であり、半導体工場において用い
られるシリコンウエハーの洗浄液などとして、最適に使
用され得る。
【００２０】
【実施例】次に、本発明を実施例によって説明する。
【００２１】実施例１ 槽（直径０．３５ｍ×高さ２．５ｍの円筒形）の外部か
ら槽の底付近にアンモニアガスを導くための配管及び該
配管の先端に複数の小孔を有するリング状の管をを有す
る洗浄槽、充填物としてラシヒリングを用いたミスト分
離器（直径０．２ｍ×高さ２．０ｍの円筒形）及び槽
（直径１．９ｍ×高さ４．４ｍの円筒形）の外部から槽
の底付近にアンモニアガスを導くための配管及び該配管
の先端に設置された噴出部分並びにアンモニアを吸収さ
せるべき原料水を供給する配管及び製造されたアンモニ
ア水を取り出すための配管を有する吸収槽を用いた。原
料アンモニアガスの流量は３０ｋｇ／ｈｒとし、また原
料水の流量は７２ｋｇ／ｈｒとした。なお、洗浄槽にお
ける接触時間は１５秒とした。
ら槽の底付近にアンモニアガスを導くための配管及び該
配管の先端に複数の小孔を有するリング状の管をを有す
る洗浄槽、充填物としてラシヒリングを用いたミスト分
離器（直径０．２ｍ×高さ２．０ｍの円筒形）及び槽
（直径１．９ｍ×高さ４．４ｍの円筒形）の外部から槽
の底付近にアンモニアガスを導くための配管及び該配管
の先端に設置された噴出部分並びにアンモニアを吸収さ
せるべき原料水を供給する配管及び製造されたアンモニ
ア水を取り出すための配管を有する吸収槽を用いた。原
料アンモニアガスの流量は３０ｋｇ／ｈｒとし、また原
料水の流量は７２ｋｇ／ｈｒとした。なお、洗浄槽にお
ける接触時間は１５秒とした。
【００２２】上記の条件にて９０時間定常的に継続して
アンモニア水を製造した。その結果、合計１０ｍ3 のア
ンモニア水を得た。該アンモニア水について、その中に
含有される鉄の濃度を測定（誘導結合プラズマ質量計
（ＩＣＰ−ＭＳ）を用いた。）した結果、鉄の濃度は１
０ｗｔ ｐｐｔ以下であり、満足すべき低い水準であっ
た。
アンモニア水を製造した。その結果、合計１０ｍ3 のア
ンモニア水を得た。該アンモニア水について、その中に
含有される鉄の濃度を測定（誘導結合プラズマ質量計
（ＩＣＰ−ＭＳ）を用いた。）した結果、鉄の濃度は１
０ｗｔ ｐｐｔ以下であり、満足すべき低い水準であっ
た。
【００２３】比較例１ 洗浄槽及びミスト分離器を用いなかったこと以外は、実
施例１と同様に行なった。その結果、得られたアンモニ
ア水中の鉄の濃度は３０ｗｔ ｐｐｔであり、高い水準
を示した。
施例１と同様に行なった。その結果、得られたアンモニ
ア水中の鉄の濃度は３０ｗｔ ｐｐｔであり、高い水準
を示した。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、金
属（主に鉄）固体不純物が高度に除去された高純度なア
ンモニア水を製造し得るアンモニア水の製造装置を提供
することができた。
属（主に鉄）固体不純物が高度に除去された高純度なア
ンモニア水を製造し得るアンモニア水の製造装置を提供
することができた。
Claims (1)
- 【請求項１】 アンモニアガスをアンモニア飽和水中に
噴出させることによりアンモニアガスをアンモニア飽和
水により洗浄する洗浄槽（Ａ）、該洗浄槽から回収され
たアンモニアガス中のミストを除去するためのミスト分
離器（Ｂ）及び該ミスト分離器から回収されたアンモニ
アガスを水に吸収させる吸収装置（Ｃ）を有するアンモ
ニア水の製造装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6256471A JPH08119626A (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | アンモニア水の製造装置 |
| KR1019950036509A KR960013992A (ko) | 1994-10-21 | 1995-10-21 | 암모니아수의 제조장치 및 제조방법 |
| TW084111221A TW324705B (en) | 1994-10-21 | 1995-10-24 | Device and method for producing aqueous ammonia |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6256471A JPH08119626A (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | アンモニア水の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08119626A true JPH08119626A (ja) | 1996-05-14 |
Family
ID=17293102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6256471A Withdrawn JPH08119626A (ja) | 1994-10-21 | 1994-10-21 | アンモニア水の製造装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08119626A (ja) |
| KR (1) | KR960013992A (ja) |
| TW (1) | TW324705B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002020117A (ja) * | 2000-05-23 | 2002-01-23 | Rohm & Haas Co | 腐食的な供給施設における鉄汚染を防止する方法及び装置 |
| US6534027B2 (en) | 2000-12-27 | 2003-03-18 | Ashland, Inc. | Process for producing ammonia with ultra-low metals content |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101798189B1 (ko) | 2015-07-16 | 2017-11-16 | 동양하이테크산업주식회사 | 마이크로 콘택트 스크러빙 방식의 수산화암모늄 제조 시스템 |
-
1994
- 1994-10-21 JP JP6256471A patent/JPH08119626A/ja not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-10-21 KR KR1019950036509A patent/KR960013992A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-10-24 TW TW084111221A patent/TW324705B/zh active
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002020117A (ja) * | 2000-05-23 | 2002-01-23 | Rohm & Haas Co | 腐食的な供給施設における鉄汚染を防止する方法及び装置 |
| EP1160199A3 (en) * | 2000-05-23 | 2003-06-11 | Rohm And Haas Company | Method and apparatus for preventing iron contamination in an ammonia recovery process |
| US6534027B2 (en) | 2000-12-27 | 2003-03-18 | Ashland, Inc. | Process for producing ammonia with ultra-low metals content |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960013992A (ko) | 1996-05-22 |
| TW324705B (en) | 1998-01-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040309 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040322 |