JPH081131A - ポリ塩素化ジベンゾジオキシン及び/又はポリ塩素化ジベンゾフランで汚染された固体の汚染除去方法 - Google Patents
ポリ塩素化ジベンゾジオキシン及び/又はポリ塩素化ジベンゾフランで汚染された固体の汚染除去方法Info
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A62—LIFE-SAVING; FIRE-FIGHTING
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCDD)
及び/又はジベンゾフラン(PCDF)で汚染された固
体の汚染を除去する方法。 【構成】 汚染された固体を、過酸化水素含有ガスを用
いて、又は過酸化水素含有水溶液を用いて処理し、その
際、H2O2含有ガスを、汚染された固体上に導通させる
か、又はこれをH2O2−水溶液と接触させる。 【効果】 非常に簡単な方法で汚染を除去することがで
き、かつ70〜ほぼ100%の分解率が達成される。
及び/又はジベンゾフラン(PCDF)で汚染された固
体の汚染を除去する方法。 【構成】 汚染された固体を、過酸化水素含有ガスを用
いて、又は過酸化水素含有水溶液を用いて処理し、その
際、H2O2含有ガスを、汚染された固体上に導通させる
か、又はこれをH2O2−水溶液と接触させる。 【効果】 非常に簡単な方法で汚染を除去することがで
き、かつ70〜ほぼ100%の分解率が達成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリ塩素化ジベンゾジ
オキシン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフ
ラン(PCDF)で汚染された固体の汚染除去方法に関
する。
オキシン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフ
ラン(PCDF)で汚染された固体の汚染除去方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】公的な論議において、PCDD/PCD
F−汚染された固体、例えば、スポーツ用地に撒かれて
汚染された赤色シリカ(Kieselrot)又は化学工程及び燃
焼プロセスに由来するガスを浄化するための吸着塔の負
荷された粒子状触媒堆積物又は充填物から、汚染を除去
する方法が重要性を増している。
F−汚染された固体、例えば、スポーツ用地に撒かれて
汚染された赤色シリカ(Kieselrot)又は化学工程及び燃
焼プロセスに由来するガスを浄化するための吸着塔の負
荷された粒子状触媒堆積物又は充填物から、汚染を除去
する方法が重要性を増している。
【0003】前記の有害物質は、フェントン試薬(H2
O2+Fe(II)−又はFe(III)−塩)の使用
下に酸化され、それにより分解できることが公知であ
る。このような方法が、しばしば非常に高い特殊な面積
を有する汚染された粒子状の固体から汚染を除去するた
めに経費をかけて実施されているが、これらは、実際に
はほとんど使用されていない。
O2+Fe(II)−又はFe(III)−塩)の使用
下に酸化され、それにより分解できることが公知であ
る。このような方法が、しばしば非常に高い特殊な面積
を有する汚染された粒子状の固体から汚染を除去するた
めに経費をかけて実施されているが、これらは、実際に
はほとんど使用されていない。
【0004】PCDD/PCDF−有害物質を除去する
ための大抵の方法では、有害物質を排ガスから分離除去
し、かつそれを触媒の存在下で酸化的に分解している。
ための大抵の方法では、有害物質を排ガスから分離除去
し、かつそれを触媒の存在下で酸化的に分解している。
【0005】ヨーロッパ特許(EP−A)第02280
86号明細書から、有機の不純物、例えば、ハロゲン化
炭化水素、フェノール及び他の分解されにくい有毒化合
物により汚染された水から酸化的に汚染を除去すること
が公知である。この汚染された水は、親油性でSiO2
が豊富なゼオライト上に導びかれ、その際、不純物はゼ
オライトに吸着され、かつ濃縮される。この際得られた
負荷された(汚染された)ゼオライトは、過酸化水素水
溶液を用いる処理により汚染を除去され、引き続き、再
び吸着工程で使用される。この文献は、ハロゲン化ジベ
ンゾジオキシン及びジベンゾフランについて記載してな
く、またこれらの物質が特殊なゼオライトの存在下で酸
化的に分解される可能性についても記載していない。そ
れというのも、前記の有害物質が完全に不溶性であるの
で、水の場合にはこの問題が全く生じないためである。
86号明細書から、有機の不純物、例えば、ハロゲン化
炭化水素、フェノール及び他の分解されにくい有毒化合
物により汚染された水から酸化的に汚染を除去すること
が公知である。この汚染された水は、親油性でSiO2
が豊富なゼオライト上に導びかれ、その際、不純物はゼ
オライトに吸着され、かつ濃縮される。この際得られた
負荷された(汚染された)ゼオライトは、過酸化水素水
溶液を用いる処理により汚染を除去され、引き続き、再
び吸着工程で使用される。この文献は、ハロゲン化ジベ
ンゾジオキシン及びジベンゾフランについて記載してな
く、またこれらの物質が特殊なゼオライトの存在下で酸
化的に分解される可能性についても記載していない。そ
れというのも、前記の有害物質が完全に不溶性であるの
で、水の場合にはこの問題が全く生じないためである。
【0006】ドイツ特許公開(DE−OS)第4128
106号明細書から、除塵された排ガスから、高縮合さ
れた多環式炭化水素及び特にハロゲン化ジベンゾジオキ
シン及びジベンゾフランを、20:1〜1000:1の
SiO2/Al2O3−比を有する脱アルミ化されたゼオ
ライトに吸着させることにより分離除去することが公知
である。負荷されたゼオライトの再生のために、800
℃の温度で、不活性ガス又は酸素含有ガスを用いて処理
する。この再生の際に、再び有害物質が遊離され、かつ
再生の際の排ガスを、再び後に接続された吸着段を有す
る焼却工程に導入する必要があるのは不利である。
106号明細書から、除塵された排ガスから、高縮合さ
れた多環式炭化水素及び特にハロゲン化ジベンゾジオキ
シン及びジベンゾフランを、20:1〜1000:1の
SiO2/Al2O3−比を有する脱アルミ化されたゼオ
ライトに吸着させることにより分離除去することが公知
である。負荷されたゼオライトの再生のために、800
℃の温度で、不活性ガス又は酸素含有ガスを用いて処理
する。この再生の際に、再び有害物質が遊離され、かつ
再生の際の排ガスを、再び後に接続された吸着段を有す
る焼却工程に導入する必要があるのは不利である。
【0007】ドイツ特許(DE−PS)第421005
5号明細書に記載の方法では、PCDD/PCDF−含
有ガスを、不燃性物質、例えばケイ酸、ゼオライト、ケ
イ酸塩、TiO2又はAl2O3からなる固定層又は流動
層上に導通させ、かつカロ酸又はその塩と接触させるこ
とにより浄化し、その際、PCDD−及びPCDF−有
害物質が酸化分解される。しかし、この文献は、PCD
D/PCDFで汚染された固体から、カロ酸以外の他の
酸化剤を用いて汚染を除去することを提案していない。
処理された固体から硫酸を除去し、かつ後者を無害にす
る必要があるので、カロ酸をPCDD/PCDF−分解
のために固体の存在下で使用(カロ酸そのものが過酸化
水素及び硫酸からその場で形成される場合にも)すべき
必然性は、PCDD/PCDF−汚染された固体の処理
方法は、魅力的なものとはほとんどならない。
5号明細書に記載の方法では、PCDD/PCDF−含
有ガスを、不燃性物質、例えばケイ酸、ゼオライト、ケ
イ酸塩、TiO2又はAl2O3からなる固定層又は流動
層上に導通させ、かつカロ酸又はその塩と接触させるこ
とにより浄化し、その際、PCDD−及びPCDF−有
害物質が酸化分解される。しかし、この文献は、PCD
D/PCDFで汚染された固体から、カロ酸以外の他の
酸化剤を用いて汚染を除去することを提案していない。
処理された固体から硫酸を除去し、かつ後者を無害にす
る必要があるので、カロ酸をPCDD/PCDF−分解
のために固体の存在下で使用(カロ酸そのものが過酸化
水素及び硫酸からその場で形成される場合にも)すべき
必然性は、PCDD/PCDF−汚染された固体の処理
方法は、魅力的なものとはほとんどならない。
【0008】未公開のドイツ(DE)特許出願P430
5344.0−43中に、前記の方法でガスから汚染を
除去する場合に、カロ酸の代わりに、過酸化水素も使用
できることが教示されているが、この文献は、PCDD
/PCDF−汚染された固体そのものから汚染を除去す
ることは提案していない。
5344.0−43中に、前記の方法でガスから汚染を
除去する場合に、カロ酸の代わりに、過酸化水素も使用
できることが教示されているが、この文献は、PCDD
/PCDF−汚染された固体そのものから汚染を除去す
ることは提案していない。
【0009】米国特許(US)第4632742号明細
書は、ポリクロルジフェニル、ポリクロルジベンゾジオ
キシン及びポリクロルジベンゾフランで汚染されている
鉱油及び土壌の汚染除去方法を教示している。この汚染
除去は、汚染された物質を、(a)多価アルコール又は
ポリエチレングリコール、(b)塩基、例えば、アルカ
リ金属−又はアルカリ土類金属炭酸塩及び(c)酸化剤
又は遊離基のもととなるもの、例えば、過酸化アルカリ
金属又は−アルカリ土類金属からなる試薬を用いて処理
することにより行なわれ、その際、有機に結合したハロ
ゲンは、無機ハロゲン化物に変わる。確かに、処理を室
温又は高めた温度で実施することができ、かつその際、
良好な汚染除去を達成しうるが、過酸化物以外に付加的
に塩基及び付加的にアルコール性化合物が、汚染除去の
際に存在すべきことは欠点と見做しうる。これにより、
本来の汚染除去処理に、アルコール及び塩の経費のかか
る分離除去も加えられなければならないので、粒子状物
質の汚染除去が困難になる。
書は、ポリクロルジフェニル、ポリクロルジベンゾジオ
キシン及びポリクロルジベンゾフランで汚染されている
鉱油及び土壌の汚染除去方法を教示している。この汚染
除去は、汚染された物質を、(a)多価アルコール又は
ポリエチレングリコール、(b)塩基、例えば、アルカ
リ金属−又はアルカリ土類金属炭酸塩及び(c)酸化剤
又は遊離基のもととなるもの、例えば、過酸化アルカリ
金属又は−アルカリ土類金属からなる試薬を用いて処理
することにより行なわれ、その際、有機に結合したハロ
ゲンは、無機ハロゲン化物に変わる。確かに、処理を室
温又は高めた温度で実施することができ、かつその際、
良好な汚染除去を達成しうるが、過酸化物以外に付加的
に塩基及び付加的にアルコール性化合物が、汚染除去の
際に存在すべきことは欠点と見做しうる。これにより、
本来の汚染除去処理に、アルコール及び塩の経費のかか
る分離除去も加えられなければならないので、粒子状物
質の汚染除去が困難になる。
【0010】前記の試薬は、ヨーロッパ特許(EP−
B)第0135043号明細書によると、これを被膜と
して粒子状固体担体上に施与し、かつ汚染を除去される
べき液体を、被覆された担体上に導通させる方法でも使
用することができる。しかし、この文献は、粒子状固体
の汚染除去については教示していない。
B)第0135043号明細書によると、これを被膜と
して粒子状固体担体上に施与し、かつ汚染を除去される
べき液体を、被覆された担体上に導通させる方法でも使
用することができる。しかし、この文献は、粒子状固体
の汚染除去については教示していない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、簡単な方法で実施することができ、その際、有害物
質が穏やかな条件下で酸化分解される、PCDD/PC
DF−汚染された固体の直接的汚染除去方法を提示する
ことである。本方法は、前記の方法の欠点、例えば、数
種の助剤の使用及び本来の汚染除去の後のそれらの場合
により経費のかかる除去及び廃棄処分を回避すべきであ
る。
は、簡単な方法で実施することができ、その際、有害物
質が穏やかな条件下で酸化分解される、PCDD/PC
DF−汚染された固体の直接的汚染除去方法を提示する
ことである。本方法は、前記の方法の欠点、例えば、数
種の助剤の使用及び本来の汚染除去の後のそれらの場合
により経費のかかる除去及び廃棄処分を回避すべきであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】ポリ塩素化ジベンゾジオ
キシン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフラ
ン(PCDF)で汚染された固体の汚染除去方法が発見
され、これは、汚染された固体を、過酸化水素含有ガス
を用いるか又は一連のH2O2−水溶液又は過炭酸ナトリ
ウムの水溶液から選択された過酸化水素含有水溶液を用
いて、PCDD及びPCDFの酸化の下に効果的な汚染
除去が達成されるまで相互に接触させることよりなる。
キシン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフラ
ン(PCDF)で汚染された固体の汚染除去方法が発見
され、これは、汚染された固体を、過酸化水素含有ガス
を用いるか又は一連のH2O2−水溶液又は過炭酸ナトリ
ウムの水溶液から選択された過酸化水素含有水溶液を用
いて、PCDD及びPCDFの酸化の下に効果的な汚染
除去が達成されるまで相互に接触させることよりなる。
【0013】この他の請求は、有利な方法態様に関す
る。
る。
【0014】ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCD
D)及びポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)は、次
の式:
D)及びポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)は、次
の式:
【0015】
【化1】
【0016】[ここで、式中のm+nの合計は1〜8の
整数である]の生成物であり、この生成物は、多くの異
性体及び同族体において様々な毒性を示す。
整数である]の生成物であり、この生成物は、多くの異
性体及び同族体において様々な毒性を示す。
【0017】本発明の汚染除去により、固体に吸着され
たポリ塩素化ジベンゾジオキシン/ジベンゾフランの含
分を、その酸化的分解により充分に減少させることこと
が可能であり、一般に、少なくとも70%、大抵80%
以上かつしばしば90%以上の分解率が達成される。通
常、ドイツで適用されている危険物質基準(GefstoffV)
に適合する5ng/固体g未満のPCDD/PCDF−
残分を達成することができる。汚染された固体の出発含
分は、それぞれその由来により、少なくともng/固体
g〜数ミクログラム/固体gの範囲であってよい。汚染
された固体のPCDD/PCDF−含分は、次のPCD
D−もしくはPCDF−異性体含分の合計から算出され
る:2,3,7,8−テトラクロルジベンゾジオキシン
(TCDD);1,2,3,7,8−ペンタ−CDD;
1,2,3,6,7,8−ヘキサ−CDD;1,2,
3,7,8,9−ヘキサ−CDD;1,2,3,4,
7,8−ヘキサ−CDD;2,3,7,8−テトラクロ
ルジベンゾフラン(TCDF);2,3,4,7,8−
ペンタ−CDF及び1,2,3,6,7,8−ヘキサ−
CDF。 意外なことに、本発明により非常に様々な汚
染された固体から汚染を除去することができることを発
見した。例えば、前記のヨーロッパ特許(EP−A)第
0228086号明細書から、過酸化水素でそれを活性
化させる効果が公知であった汚染されたゼオライトの場
合のみでなく、ゴミ焼却装置に由来する汚染されたスラ
ッジ及び粉じん、例えば、化学装置及び焼却装置の吸着
塔に由来する汚染された活性炭、更に汚染された天然及
び合成酸化物及びケイ酸塩の汚染除去の場合にも、非常
に良好な汚染除去結果が得られた。本発明により、汚染
された赤色シリカからも、銅加工工業に由来するスラッ
ジからも、問題なく、かつそれに吸着したPCDD/P
CDFを分解するための酸化剤としての過酸化水素の使
用下のみで汚染を除去することができる。
たポリ塩素化ジベンゾジオキシン/ジベンゾフランの含
分を、その酸化的分解により充分に減少させることこと
が可能であり、一般に、少なくとも70%、大抵80%
以上かつしばしば90%以上の分解率が達成される。通
常、ドイツで適用されている危険物質基準(GefstoffV)
に適合する5ng/固体g未満のPCDD/PCDF−
残分を達成することができる。汚染された固体の出発含
分は、それぞれその由来により、少なくともng/固体
g〜数ミクログラム/固体gの範囲であってよい。汚染
された固体のPCDD/PCDF−含分は、次のPCD
D−もしくはPCDF−異性体含分の合計から算出され
る:2,3,7,8−テトラクロルジベンゾジオキシン
(TCDD);1,2,3,7,8−ペンタ−CDD;
1,2,3,6,7,8−ヘキサ−CDD;1,2,
3,7,8,9−ヘキサ−CDD;1,2,3,4,
7,8−ヘキサ−CDD;2,3,7,8−テトラクロ
ルジベンゾフラン(TCDF);2,3,4,7,8−
ペンタ−CDF及び1,2,3,6,7,8−ヘキサ−
CDF。 意外なことに、本発明により非常に様々な汚
染された固体から汚染を除去することができることを発
見した。例えば、前記のヨーロッパ特許(EP−A)第
0228086号明細書から、過酸化水素でそれを活性
化させる効果が公知であった汚染されたゼオライトの場
合のみでなく、ゴミ焼却装置に由来する汚染されたスラ
ッジ及び粉じん、例えば、化学装置及び焼却装置の吸着
塔に由来する汚染された活性炭、更に汚染された天然及
び合成酸化物及びケイ酸塩の汚染除去の場合にも、非常
に良好な汚染除去結果が得られた。本発明により、汚染
された赤色シリカからも、銅加工工業に由来するスラッ
ジからも、問題なく、かつそれに吸着したPCDD/P
CDFを分解するための酸化剤としての過酸化水素の使
用下のみで汚染を除去することができる。
【0018】汚染除去の実施を、過酸化水素含有水溶液
の使用下又はガス状過酸化水素の使用下で行なうことが
できる。
の使用下又はガス状過酸化水素の使用下で行なうことが
できる。
【0019】過酸化水素水溶液の使用下で汚染を除去す
る場合には、後者を、汚染された固体に接触させる。過
酸化水素水溶液の濃度は、広い範囲にあってよい。通
常、10〜50重量%の過酸化水素溶液が有利である。
この接触を、通常、10〜95℃、有利に室温〜60℃
の範囲の温度で実施する。この処理は、過酸化水素水溶
液を、所望の汚染除去度が達成されるまで、汚染された
固体を含有する層を通してポンプ導入させることにより
行なうことができる。多くの場合、汚染された固体から
なる混合物と過酸化水素水溶液とを1容器中で放置し、
かつ必要な場合のみ、撹拌するだけでも充分である。過
酸化水素水溶液の排出の後に、水で固体を後洗浄する。
る場合には、後者を、汚染された固体に接触させる。過
酸化水素水溶液の濃度は、広い範囲にあってよい。通
常、10〜50重量%の過酸化水素溶液が有利である。
この接触を、通常、10〜95℃、有利に室温〜60℃
の範囲の温度で実施する。この処理は、過酸化水素水溶
液を、所望の汚染除去度が達成されるまで、汚染された
固体を含有する層を通してポンプ導入させることにより
行なうことができる。多くの場合、汚染された固体から
なる混合物と過酸化水素水溶液とを1容器中で放置し、
かつ必要な場合のみ、撹拌するだけでも充分である。過
酸化水素水溶液の排出の後に、水で固体を後洗浄する。
【0020】本発明の方法で使用される過酸化水素含有
溶液は、主として純粋な過酸化水素溶液の他に、過炭酸
ナトリウムの水溶液であってもよい。それというのも、
H2O2−付加化合物としての過炭酸ナトリウムは、水へ
の溶解後に直接、過酸化水素を放出させるからである。
実際には、この場合に制限されるアルカリ度が、汚染除
去方法の範囲内で障害とならないか、又は中和のために
又は酸性成分の汚染除去の際に役に立つ場合にのみ、当
業者は、過炭酸ナトリウム水溶液を使用する。
溶液は、主として純粋な過酸化水素溶液の他に、過炭酸
ナトリウムの水溶液であってもよい。それというのも、
H2O2−付加化合物としての過炭酸ナトリウムは、水へ
の溶解後に直接、過酸化水素を放出させるからである。
実際には、この場合に制限されるアルカリ度が、汚染除
去方法の範囲内で障害とならないか、又は中和のために
又は酸性成分の汚染除去の際に役に立つ場合にのみ、当
業者は、過炭酸ナトリウム水溶液を使用する。
【0021】H2O2含有ガスの使用下で汚染除去する場
合には、このガス混合物を、汚染された固体を含有する
層に導通させる。本発明の有利な1実施形では、0.0
1〜1容量%の過酸化水素を含有する空気を固体層に導
通させる。通常、この処理を数時間に渡り行なう。この
処理は、室温又は高めた温度で実施することができる。
ガス中に含有されたPCDD及びPCDFを、固体の存
在下、カロ酸の使用下で分解するドイツ特許(DE)第
4210055号明細書の教示とは反対に、意外なこと
に、固体に吸着されたPCDD及びPCDFを分解する
ためには、過酸化水素を単独で使用することで充分であ
り、その結果、本発明方法では、汚染を除去された固体
から、硫酸を分離除去し、中和するための付加的な処理
が必要ないことが確認された。
合には、このガス混合物を、汚染された固体を含有する
層に導通させる。本発明の有利な1実施形では、0.0
1〜1容量%の過酸化水素を含有する空気を固体層に導
通させる。通常、この処理を数時間に渡り行なう。この
処理は、室温又は高めた温度で実施することができる。
ガス中に含有されたPCDD及びPCDFを、固体の存
在下、カロ酸の使用下で分解するドイツ特許(DE)第
4210055号明細書の教示とは反対に、意外なこと
に、固体に吸着されたPCDD及びPCDFを分解する
ためには、過酸化水素を単独で使用することで充分であ
り、その結果、本発明方法では、汚染を除去された固体
から、硫酸を分離除去し、中和するための付加的な処理
が必要ないことが確認された。
【0022】本発明方法により、次の実施例に示すよう
に、PCDD及びPCDFを吸着含有する様々な固体か
ら、固層の有害物質をガス層に移行させることなく、直
接、ほとんど定量的に酸化分解して汚染を除去すること
ができる。この方法は、非常に簡単な点で優れており、
このことは、通常、非常に分解されにくいポリ塩素化ジ
ベンゾジオキシン及びジベンゾフランには期待できなか
った。以前より公知の方法とは異なり、汚染を除去する
ために、過酸化水素又は過炭酸ナトリウム以外に他の助
剤を必要としない。
に、PCDD及びPCDFを吸着含有する様々な固体か
ら、固層の有害物質をガス層に移行させることなく、直
接、ほとんど定量的に酸化分解して汚染を除去すること
ができる。この方法は、非常に簡単な点で優れており、
このことは、通常、非常に分解されにくいポリ塩素化ジ
ベンゾジオキシン及びジベンゾフランには期待できなか
った。以前より公知の方法とは異なり、汚染を除去する
ために、過酸化水素又は過炭酸ナトリウム以外に他の助
剤を必要としない。
【0023】
例1 脱アルミ化Y−ゼオライトを充填し吸着層(充填容量2
0l)上に、平均2.5ngTE/Nm3(1Nm3当り
のナノグラム毒性当量)で、PCDD/PCDFを含有
するゴミ焼却装置の排ガスを導通させると、その際、P
CDD/PCDFが吸着された。処理された排ガスのP
CDD/PCDFの濃度は、<0.1ngTE/Nm3
であった。9.2ミクログラム/kg付加された吸着剤
を、引き続き、0.03容量%過酸化水素を含有する8
0Nm3/h空気で処理した。H2O2含有空気を24時
間導通させた後に、ジオキシン及びフランの付加は0.
01ng/g未満の値まで減少した。
0l)上に、平均2.5ngTE/Nm3(1Nm3当り
のナノグラム毒性当量)で、PCDD/PCDFを含有
するゴミ焼却装置の排ガスを導通させると、その際、P
CDD/PCDFが吸着された。処理された排ガスのP
CDD/PCDFの濃度は、<0.1ngTE/Nm3
であった。9.2ミクログラム/kg付加された吸着剤
を、引き続き、0.03容量%過酸化水素を含有する8
0Nm3/h空気で処理した。H2O2含有空気を24時
間導通させた後に、ジオキシン及びフランの付加は0.
01ng/g未満の値まで減少した。
【0024】例2 ポリ塩素化ジオキシン及びフラン67ng/gで汚染さ
れた赤色シリカ試料10gを、50重量%過酸化水素溶
液25mlを用いて、60℃で処理した。6時間の処理
期間の後に、過酸化水素溶液を反応器から排出させ、汚
染を除去された固体を水で洗浄し、かつ引き続き乾燥さ
せた。ジオキシン及びフランの残分は、4ng/gであ
り、従って、ジオキシン及びフランは、94%まで分解
された。処理により生じる過酸化水素水溶液並びに洗浄
水は、ジオキシン及びフランを含有しなかった。
れた赤色シリカ試料10gを、50重量%過酸化水素溶
液25mlを用いて、60℃で処理した。6時間の処理
期間の後に、過酸化水素溶液を反応器から排出させ、汚
染を除去された固体を水で洗浄し、かつ引き続き乾燥さ
せた。ジオキシン及びフランの残分は、4ng/gであ
り、従って、ジオキシン及びフランは、94%まで分解
された。処理により生じる過酸化水素水溶液並びに洗浄
水は、ジオキシン及びフランを含有しなかった。
【0025】例3 ゴミ焼却装置に由来する、ポリ塩素化ジオキシン及びフ
ラン4ng/gで汚染された濾過粉じん10gを、前記
の例と同様に過酸化水素溶液を用いて処理した。ジオキ
シン−及びフラン分解率は、同様の操作条件下で70%
であった。
ラン4ng/gで汚染された濾過粉じん10gを、前記
の例と同様に過酸化水素溶液を用いて処理した。ジオキ
シン−及びフラン分解率は、同様の操作条件下で70%
であった。
【0026】例4 工業排ガスを浄化するための吸着塔に由来する、ポリ塩
素化ジオキシン及びフラン12ng/gで汚染された活
性炭10gを、例2と同様に、50重量%過酸化水素溶
液で処理(60℃、6時間)した。分解率は、80%だ
った。
素化ジオキシン及びフラン12ng/gで汚染された活
性炭10gを、例2と同様に、50重量%過酸化水素溶
液で処理(60℃、6時間)した。分解率は、80%だ
った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マンフレート ヴェック ドイツ連邦共和国 アルツェナウ イン デン ミュールゲルテン 21 (72)発明者 フーベルトゥス アイックホフ ドイツ連邦共和国 アルツェナウ ユリウ ス−プフイスター−リンク 12
Claims (4)
- 【請求項1】 ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCD
D)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)
で汚染された固体から汚染を除去する方法において、汚
染された固体を、過酸化水素含有ガスと、又は一連のH
2O2−水溶液又は過炭酸ナトリウムの水溶液から選択さ
れた過酸化水素含有水溶液と、PCDD及びPCDFの
酸化下で汚染除去が効果的に達成されるまで相互に接触
させることを特徴とする、ポリ塩素化ジベンゾジオキシ
ン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフラン
(PCDF)で汚染された固体の汚染除去方法。 - 【請求項2】 PCDD及び/又はPCDFで汚染され
た、一連の酸化物、ケイ酸塩、ゼオライト、ゴミ焼却装
置及び金属加工工業に由来するスラッジ及び粉じん並び
に活性炭からなる固体から汚染を除去する、請求項1に
記載の方法。 - 【請求項3】 汚染された固体を、10〜50重量%過
酸化水素水溶液を用いて、10〜95℃の範囲の温度で
処理する、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 汚染された固体を、0.01〜1容量%
のH2O2−含分を有するH2O2−含有空気を用いて処理
し、その際、有利に、H2O2−含有空気を、汚染された
固体を含有する層に導通させる、請求項1又は2に記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4415202.7 | 1994-04-30 | ||
DE4415202 | 1994-04-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH081131A true JPH081131A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=6516912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7102518A Pending JPH081131A (ja) | 1994-04-30 | 1995-04-26 | ポリ塩素化ジベンゾジオキシン及び/又はポリ塩素化ジベンゾフランで汚染された固体の汚染除去方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0679411A1 (ja) |
JP (1) | JPH081131A (ja) |
HU (1) | HUT70699A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999033525A1 (fr) * | 1997-12-25 | 1999-07-08 | Chiyoda Corporation | Procede de type humide pour rendre inoffensives des dioxines |
WO2000048968A1 (fr) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Hitachi Zosen Corporation | Procede de decomposition d'un compose organochlore |
JP2006167713A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-29 | Dowa Mining Co Ltd | 汚染土壌または汚染地下水の浄化方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116966472B (zh) * | 2023-07-28 | 2024-03-08 | 南京大学 | 一种基于限域类芬顿的飞灰高效解毒方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4648977A (en) * | 1985-12-30 | 1987-03-10 | Union Carbide Corporation | Process for removing toxic organic materials from weak aqueous solutions thereof |
US5248395A (en) * | 1989-12-26 | 1993-09-28 | Uop | Process for purifying aqueous media |
FR2676180B1 (fr) * | 1991-05-07 | 1995-08-04 | Lab Sa | Procede d'epuration de fumees contenant des polluants organiques condensables. |
DE4210055A1 (de) * | 1991-11-27 | 1993-06-09 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | Verfahren zum entfernen von halogenierten organischen verbindungen aus abgasen |
DE4305344C2 (de) * | 1993-02-20 | 1996-11-21 | Degussa | Verfahren zum Abbau von in Gasen enthaltenen hochtoxischen halogenierten organischen Verbindungen |
-
1995
- 1995-03-01 EP EP95102847A patent/EP0679411A1/de not_active Withdrawn
- 1995-04-26 JP JP7102518A patent/JPH081131A/ja active Pending
- 1995-04-28 HU HU9501244A patent/HUT70699A/hu unknown
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999033525A1 (fr) * | 1997-12-25 | 1999-07-08 | Chiyoda Corporation | Procede de type humide pour rendre inoffensives des dioxines |
US6323385B1 (en) | 1997-12-25 | 2001-11-27 | Chiyoda Corporation | Wet type method of rendering dioxins innoxious |
WO2000048968A1 (fr) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Hitachi Zosen Corporation | Procede de decomposition d'un compose organochlore |
US6483006B1 (en) | 1999-02-16 | 2002-11-19 | Hitachi Zosen Corporation | Method of decomposing organochlorine compound |
JP2006167713A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-29 | Dowa Mining Co Ltd | 汚染土壌または汚染地下水の浄化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HUT70699A (en) | 1995-10-30 |
HU9501244D0 (en) | 1995-06-28 |
EP0679411A1 (de) | 1995-11-02 |
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