JPH08111364A

JPH08111364A - 電子線描画装置

Info

Publication number: JPH08111364A
Application number: JP24373594A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Kato; 慎一加藤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1994-10-07
Filing date: 1994-10-07
Publication date: 1996-04-30

Abstract

(57)【要約】【目的】電子線描画装置の振動を高精度で検出し、描
画効率を低下させることなく描画誤差を補正し、描画精
度が向上された電子線描画装置を実現する。【構成】実際の描画前に描画データに基づきステージ
７を移動させ電子線ずれを電流検出器３５、偏差検出部
３６により検出し、ずれが最小となるアクティブダンパ
２９の制御値を振動制御部３７が決定し、その制御値を
描画パターン毎にメモリ３３１に記憶させる。最小とな
った偏差は描画パターン毎に偏差メモリ３３２に記憶さ
れる。振動値メモリ３３１に記憶された振動値データは
実描画時にステージ制御部１２からの描画パターンデー
タに応じて振動制御部３７が読み出しアクティブダンパ
２９を駆動して振動制御を行う。偏差メモリ３３２に記
憶された偏差データはステージ制御部１２からの描画パ
ターンデータに応じて偏向制御部１１が読み出し、電子
線ズレが０となるように偏向器５を補正制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子線描画装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ等の製造に使用される電子線描画
装置がある。この電子線描画装置においては、装置動作
による内部振動及び装置が設置された床の振動等の装置
外部からの各種振動により描画精度が低下する。つま
り、描画時のステージ移動は、装置自身の加振源となり
これに起因する内部振動は、試料室を介して鏡体を振動
させ変位を生じさせる。この変位によりステージ上の試
料面に対する電子線位置に相対的なずれを生じさせ、電
子線の所定目標位置への正確な位置決めを困難とし、描
画精度を悪化させてしまう。

【０００３】特に、ステージ停止時の振動の影響は大き
く、また、床振動に代表される外部振動は通常、電子光
学系鏡体、ステージ等試料移動搬送系、真空ポンプ等真
空排気系を除振台に搭載することで伝播する振動を低減
しているが、一部の振動は除振台を介し、ステージ、鏡
体を振動させ描画精度を悪化させる原因となっている。

【０００４】これら振動の影響を小さくするためには、
振動が減衰するまで待機してから描画動作を実行しなけ
ればならない。この振動減衰までの待ち時間を長くする
と、スループットが低下してしまう。

【０００５】従来の電子線描画装置においては、例え
ば、特開平１−８７５３２号公報に記載されているよう
に、鏡体をステーで補強することで振動の影響を低減し
ていた。また、“The 6th international Micro Proces
s Conference”の“Digest Papers P.P.164-165”に記
載されているように、鏡体の固有振動数を高くし、振動
し難い構造とすることで振動の影響を低減することが開
示されている。

【０００６】また、電子線描画装置において、鏡筒の変
位を検出するものとして、特開平２−２９５１０６号公
報記載の「電子ビーム露光装置」がある。この「電子ビ
ーム露光装置」においては、試料室に配置され、ステー
ジ位置の測定に用いられる、レーザー測長器からのレー
ザービームがビームスプリッタにより分割され、分割さ
れた一部のレーザービームが試料室の天井に配置された
ミラーに照射される。これにより、天井の歪が検出さ
れ、鏡筒の変位が検出される。また、鏡筒と試料室天井
との間に圧電素子が挟み込まれ、この圧電素子の出力電
圧が検出されることにより、鏡筒の変位が検出される。

【０００７】また、特開平２−１９９８１３号公報に
は、ステッパ等の露光装置における振動を防止する「露
光装置」が記載されている。この露光装置においては、
ステージ定盤と位置決め定盤との間にアクティブマウン
トが配置され、ステージ定盤上に取り付けられた加速度
計からの加速度データに基づいて、アクティブコントロ
ーラがボイスコイルモータを駆動させ、アクティブマウ
ントによりステージ定盤の振動が抑制される。このアク
ティブマウンントは、検出された振動の位相と反対位相
で振動するように、動作され、ステージ定盤の振動が抑
制される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
技術において、鏡体をステーで固定する方法にあって
は、ステー自体の剛性を高くする必要が有り、ステーの
大型化、ステーと鏡体との結合の工夫などが必要であっ
た。また、固有振動数を高くすることで描画精度に対す
る振動の影響を低減させる方法においても、鏡体及びそ
の周辺部の剛性を上げる必要が有った。そのため、鏡体
及びその周辺部が大きく、かつ重くなり、装置全体が大
きく重くなってしまうという問題があった。そこで、上
記特開平２−１９９８１３号公報に記載された「露光装
置」のように、アクティブマウントにより、積極的に振
動を抑制する方法が有効となる。

【０００９】ところで、電子線描画装置においては、描
画精度のさらなる向上が要望されている。しかしなが
ら、ステージ定盤の振動を検出し、検出した振動に基づ
いて、アクティブマウントを動作させ、振動を抑制する
方法では、電子線の描画誤差の補正に限界があり、上述
のような描画精度の向上化が困難であった。

【００１０】本発明の目的は、電子線描画装置の振動を
高精度で検出し、描画効率を低下させることなく電子線
の描画誤差を補正して、描画精度が向上された電子線描
画装置を実現することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、次のように構成される。電子線描画装置に
おいて、試料面の所定位置と電子線の試料面の照射位置
との偏差を検出する電子線偏差検出手段と、振動を発生
する振動発生手段と、電子線描画パターン毎に、電子線
偏差検出手段により検出された偏差が最小となるよう
に、振動発生手段の振動動作を制御する振動制御手段
と、描画パターン毎に電子線を偏向して、振動制御手段
により最小とされた電子線の偏差を補正する偏向補正手
段とを備える。

【００１２】好ましくは、上記電子線描画装置におい
て、描画パターン毎に、偏差が最小となる振動発生手段
の振動制御データを記憶する振動データ記憶手段と、振
動制御手段により最小とされた電子線の偏差を記憶する
偏差記憶手段とを、さらに備える。

【００１３】また、好ましくは、上記電子線描画装置に
おいて、振動発生手段は、試料移動搬送手段と除振台と
の間に配置される。また、好ましくは、上記電子線描画
装置において、鏡体の振動を検出する振動検出手段をさ
らに備え、振動制御手段は、振動データ記憶手段に記憶
された振動制御データと、振動検出手段により検出され
た鏡体の振動とに基づいて、振動発生手段の振動動作を
制御する。

【００１４】また、好ましくは、上記電子線描画装置に
おいて、鏡体を取り囲む箱体を備え、振動発生手段は、
鏡体と箱体との間に配置される。また、好ましくは、上
記電子線描画装置において、試料移動搬送手段を収容
し、鏡体と接続される試料室を備え、振動発生手段は鏡
体と試料室との間に配置される。

【００１５】

【作用】電子線による描画時には、試料移動搬送手段の
移動動作により振動が発生し、試料面の照射目的位置と
実際の電子線の照射位置との間に偏差が生じる。この偏
差は、電子線偏差検出手段によって検出される。そし
て、検出された偏差を最小とするために、振振動制御手
段が振動発生手段の振動を制御して、試料移動搬送手段
の動作により発生される振動を相殺する。これは、各描
画パターン毎に実行され、最小とされた偏差は、偏向補
正手段により偏向補正される。これにより、振動の減衰
を待つこと無く、つまり、描画効率を低下させること無
く描画誤差を補正して、描画精度を向上することができ
る。

【００１６】

【実施例】以下に、本発明の実施例を添付図面に基づい
て説明する。図１は本発明の第１実施例である電子線描
画装置の要部概略構成図であり、図１０は、本発明が適
用される電子線描画装置の全体概略構成図である。ま
ず、図１０において、電子銃１から放出される電子線２
は、絞り３１、電子レンズ４１、成形偏向器１７、絞り
３２、電子レンズ４２等により形状と電流密度とが制御
され、試料６に照射される。そして、試料６上に照射さ
れた電子線２は、偏向器５により試料６上を走査され
る。

【００１７】ＣＰＵ１３は、電子銃に高電圧を供給する
高圧電源８を制御して、電子線２の電流値や加速電圧な
どを設定する。また、ＣＰＵ１３は、描画データ入力部
（図示せず）からの描画データに基づいて、制御信号を
レンズ制御部９、成形制御部１０、偏向制御部１１等に
供給する。また、ＣＰＵ１３は、描画データを必要に応
じてディスプレイ１４に表示させる。

【００１８】また、ＣＰＵ１３は、ステージ制御部１２
に描画位置データを供給し、ステージ制御部１２により
ステージ（試料移動搬送手段）７の位置を制御する。ま
た、真空計２７により描画装置の真空度が測定され、こ
の測定値が真空度検出部２８を介して、ＣＰＵ１３真空
度データとして転送される。

【００１９】次に、図１０に示した電子線描画装置にお
いて、振動により電子線が位置ずれを発生する場合につ
いて、図１１から図１４を用いて説明する。図１１にお
いて、電子線描画装置に、外部又は内部から発生子伝搬
した振動は、試料室１６を介し鏡体（電子光学系鏡体）
１５を振動させる。この結果、変位２１を生じさせ試料
６と電子線２の照射位置の相対的なずれ２２を生じさせ
る。このずれ２２により描画精度が劣化する。このずれ
２２は、鏡体１５の振動が収束することで縮小する。し
たがって、上述したように、描画精度を上げるために
は、振動が減衰する迄、待機すればよいが、それではス
ループットの低下が免れない。

【００２０】上述した鏡体１５の振動形態は、図１２、
図１３及び図１４に示すようなものがある。図１２に示
す振動形態は、鏡体１５は剛体状であり、試料室上蓋１
８の曲げ変形により、鏡体１５が倒れ込むような、つま
り、ｘ又はｙ方向（図の左右方向）へ傾斜する状態の振
動である。

【００２１】また、図１３に示す振動形態は、鏡体１５
は剛体状であり、試料室上蓋１８の曲げ変形により、鏡
体１５がｚ方向（図の上下方向）へ変位する振動であ
る。

【００２２】また、図１４に示す振動形態は、試料室上
蓋１８は、ほぼ剛体状であり、鏡体１５の曲げ変形によ
る振動である。

【００２３】上述のような変形は、試料室上蓋１８から
鏡体１５の上部の電子銃１までの距離が長いこと、及び
試料室上蓋１８の剛性に対して、鏡体１５の重量が大き
いこと、鏡体１５が一体構造ではなく各レンズを重ねた
構造となっていることに起因する。

【００２４】次に、上述したような鏡体１５の振動によ
る電子線の位置ずれを高精度で検出し、電子線の描画誤
差を補償可能な本発明の第１実施例を説明する。この第
１実施例は、ステージ移動時に発生する振動を高精度に
検出し、補正する例である。図１において、試料室１６
と除振台２０との間には、アクティブダンパ（振動発生
手段）２９が挟み込まれて配置される。このアクティブ
ダンパは、例えば、圧電素子からなり、電圧を印加する
ことにより振動又は変形可能となっている。そして、ア
クティブダンパ２９は、除振台２０と試料室１６とを４
つの部分で接続しており、これら４つのアクティブダン
パ２９により、試料室１６と除振台２０とは、相対的に
上下左右方向に振動又は変位可能となっている。アクテ
ィブダンパ２９の振動制御は、振動制御部３７により供
給される信号により制御される。

【００２５】電流検出器３５は、試料６に照射された電
子線２の照射位置ずれに対応する電流を検出する検出器
である。偏差検出部３６は、電流検出器３５により検出
された電流値から、照射位置ずれ、つまり、目標照射位
置と実際の照射位置との偏差を検出する。この偏差は、
偏差検出部３６から振動制御部３７に供給され、偏差が
最小となるように、アクティブダンパ２９が振動制御部
３７により駆動される。

【００２６】振動値メモリ（振動データ記憶手段）３３
１は、上記偏差が最小となるために、アクティブダンパ
２９を振動させる振動値を格納する振動値メモリであ
る。また、偏差メモリ３３２は、アクティブダンパ２９
の動作により最小とされる上記偏差の値、つまり、残留
偏差を格納するメモリである。

【００２７】上記振動値メモリ３３１には、描画パター
ン毎、つまり、ステージ制御部１２により移動されるス
テージ７の移動パターン毎に振動値が記憶される。ま
た、同様に、偏差メモリ３３２には、描画パターン毎に
偏差が記憶される。

【００２８】さて、鏡体１５に伝搬される振動の中で、
ステージ７等の試料搬送系に起因する振動は、電子線描
画パターンによりその大きさが変化する。例えば、図２
に示すようにフィールドＡを描画し、次にフィールドＢ
を描画する場合、ステージ７はフィールドＡからフィー
ルドＢを高速に移動し、その加速度は大きくなる。一
方、図３に示すパターンのように描画する場合、ステー
ジ７は、一定速で連続して移動するため、その加速度は
小さい。したがって、個々の電子線描画パターンによ
り、ステージ７等の振動は異なるものとなる。

【００２９】このように種々の描画パターンが存在する
ため、実際の描画前に描画データに基いてステージ７を
移動させ、そのときに発生する電子線のずれ（偏差）を
電流検出器３５及び偏差検出部３６により検出する。そ
して、検出した偏差が最小となるようにアクティブダン
パ２９の制御振動値を振動制御部３７により決定し、決
定した制御振動値をその描画パターン毎にメモリ３３１
に記憶させる。そして、最小となった偏差を描画パター
ン毎に偏差メモリ３３２に記憶させる。

【００３０】振動値メモリ３３１に記憶された振動値デ
ータは、実際の描画時において、ステージ制御部１２か
ら供給される描画パターンデータに対応して振動制御部
３７に読み出される。そして、振動制御部３７は、読み
出した振動値データに基づき、ステージ７の動作に同期
してアクティブダンパ２９を駆動し、振動制御を行う。

【００３１】また、偏差メモリ３３２に記憶された偏差
データは、ステージ制御部１２から供給される描画パタ
ーンデータに対応して偏向制御部（偏向補正手段）１１
に読み出される。そして、偏向制御部１１は、読みだし
た偏差データに基づき、電子線のズレが０となるよう
に、偏向器５を補正制御する。つまり、描画データに偏
差データを加算することで電子線のズレを０に近づける
ことができる。

【００３２】電子線のずれを電流検出器３５により検出
することを上述したが、この電子線のずれ検出につい
て、以下に説明する。図４及び図５に示すように、試料
６面上に設けられた細いワイヤ状の部材３４に電子線を
照射し、通過した電子線を電流検出器３５により検出す
る。この場合、鏡体１５の振動に伴いワイヤ３４を通過
する電子線の量が変化するので、電流検出器３５で電流
値Ａを検出すれば、電子線のずれ（振動）を検出するこ
とができる。図６に示すように、ステージ７には電流検
出器３５とワイヤ３４が設置されており、ステージ移動
時における振動による電子線のずれが測定できる。

【００３３】以上のように、本発明の第１実施例によれ
ば、ステージ７の移動に伴う電子線のずれを検出し、検
出したずれが最小となるように、試料室１６と除振台２
０との間に配置されたアクティブダンパ２９が、振動制
御部３７により駆動される。そして、電子線ずれ（偏
差）が最小となる制御振動値が描画パターン毎に振動値
メモリ３３１に記憶され、最小とされた偏差が偏差メモ
リ３３２に記憶される。そして、描画パターン毎に、記
憶された制御振動値に基づいて、アクティブダンパ２９
が駆動制御されるとともに、記憶された電子線ずれに基
づいて、偏向制御部１１により偏向補正が行われる。

【００３４】したがって、電子線描画装置の振動を高精
度で検出し、電子線の描画誤差を補正して、描画精度が
向上された電子線描画装置を実現することができる。

【００３５】なお、個々のアクティブダンパ２９の形状
は、円柱状、角柱状、三角柱状のいずれであってもよ
い。また、複数のアクティブダンパ２９の個数は、３つ
以上であれば良い。

【００３６】図７は、本発明の第２実施例である電子線
描画装置の要部概略構成図であり、図１の例と同等なも
のには、同一の符号が付してある。そして、この図７の
例は、図１の例に、振動センサ２５と、振動検出部２６
が追加されている。図１の例においては、ステージ移動
に伴い発生する振動を抑制する場合の例であるが、鏡体
１５の振動は、ステージ移動以外の要因により発生する
場合もある。

【００３７】そこで、図７の例においては、鏡体１５の
上部に、複数の振動センサ２５を配置する。これらの振
動センサ２５は、振り子を使用したもの、又は圧電素子
を使用したものの、どちらのタイプ振動センサを使用し
てもよい。これらの振動センサ２５により検出された振
動は、振動検出部２６に供給される。そして、振動検出
部２６により、鏡体１５の水平方向及び垂直方向の振動
が算出され、算出された振動が振動情報として、振動制
御部３７に供給される。振動制御部３７は、振動検出部
２６から供給された振動情報を、ステージ７の移動に伴
い発生する振動を抑制するための制御信号に重畳して、
アクティブダンパ２９に供給する。

【００３８】以上のように、本発明の第２実施例によれ
ば、図１の例と同様な効果が得られる他、ステージ移動
以外の要因による鏡対５の振動も抑制することができ、
描画精度がさらに向上された電子線描画装置を実現する
ことができる。

【００３９】図８は、本発明の第３実施例の概略構成図
であり、図１の例と同等なものには同一の符号が付せら
れている。そして、この図８の例と図１の例との異なる
ところは、鏡体１５の上部にアクティブダンパ２４が取
り付けられていることである。この図８においては、図
１に示した、偏向制御部１１、ステージ制御部１２、電
流検出器３５、偏差検出部３６、振動制御部３７、振動
値メモリ３３１、偏差メモリ３３２と同様なものが配置
されているが、図示は省略する。

【００４０】図８の（Ａ）及び（Ｂ）において、鏡体１
５は、構造体（箱体）２３により、側面部及び上面部が
取り囲まれており、鏡体１５の上方側面部と構造体２３
との間に４つのアクティブダンパ２４が取り付けられ
（ｘｙ方向）、鏡体１５の上面部と構造体２３との間に
もアクティブダンパ２４が取り付けられている（ｚ方
向）。

【００４１】そして、これらアクティブダンパ２４は、
振動制御部３７により駆動制御される。つまり、図１の
例と同様に、描画データ毎にステージ７が移動され、そ
のときの電子線のずれが最小となるように、振動制御部
３７によりアクティブダンパ２４が駆動され、その制御
振動値が振動値メモリ３３１に格納される。そして、そ
のときの最小電子線ずれ（偏差）が偏差メモリ３３２に
格納され、格納された制御振動値に基づき、アクティブ
ダンパ２４が駆動制御され、格納された電子線偏差に基
づき、電子線が制御される。以上説明した、本発明の第
３実施例においても、図１の例と同様な効果を得ること
ができる。

【００４２】図９は、本発明の第４実施例の要部概略構
成図であり、図１の例と同等なものには同一の符号が付
せられている。そして、この図９の例と図１の例との異
なるところは、鏡体１５と試料室１６とがベローズ３８
により連結され、かつ、鏡体１５と試料室１６との間に
アクティブダンパ２７が配置される。

【００４３】この図９においては、図８の例と同様に、
図１に示した、偏向制御部１１、ステージ制御部１２、
電流検出器３５、偏差検出部３６、振動制御部３７、振
動値メモリ３３１、偏差メモリ３３２と同様なものが配
置されているが、図示は省略する。

【００４４】図９において、アクティブダンパ２７は、
４つ配置されており、ベローズ３８を間にして、ｘ方向
及びｙ方向に、それぞれ一対のアクティブダンパ２７が
互いに対向して配置されている。そして、これらアクテ
ィブダンパ２７は、振動制御部３７により駆動制御され
る。つまり、図１の例と同様に、描画データ毎にステー
ジ７が移動され、そのときの電子線のずれが最小となる
ように、振動制御部３７によりアクティブダンパ２４が
駆動され、その制御振動値が振動値メモリ３３１に格納
される。そして、そのときの最小電子線ずれ（偏差）が
偏差メモリ３３２に格納され、格納された制御振動値に
基づき、アクティブダンパ２７が駆動制御され、格納さ
れた電子線偏差に基づき、電子線が制御される。以上説
明した、本発明の第４実施例においても、図１の例と同
様な効果を得ることができる。

【００４５】なお、アクティブダンパの配置位置は、上
述した例に限らず他の位置でもよい。例えば、構造体２
３と試料室１６との間にアクティブダンパを配置する構
成でもよい。また、試料室１６と除振台２０との間及び
鏡体１５の上部と構造体２３との間の両方にアクティブ
ダンパを配置してもよい。さらに、図１、図７、図８、
図９の例を適宜、組み合わせてアクティブダンパを配置
する構成であってもよい。

【００４６】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、次のような効果がある。電子線描画装置に
おいて、電子線偏差検出手段と、振動発生手段と、電子
線描画パターン毎に、電子線の偏差が最小となるよう
に、振動発生手段の振動動作を制御する振動制御手段
と、描画パターン毎に電子線を偏向して、振動制御手段
により最小とされた電子線の偏差を補正する偏向補正手
段とを備える。電子線描画装置の振動を高精度で検出
し、描画効率を低下させることなく電子線の描画誤差を
補正して、描画精度が向上された電子線描画装置を実現
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例である電子線描画装置の要
部概略構成図である。

【図２】描画パターンによるステージの移動方向の一例
を示す図である。

【図３】描画パターンによるステージの移動方向の他の
例を示す図である。

【図４】電子線描画装置における電子線のずれ検出方法
の説明図である。

【図５】電子線描画装置における電子線のずれ検出方法
の説明図である。

【図６】電子線描画装置における電子線のずれ検出方法
の説明図である。

【図７】本発明の第２実施例である電子線描画装置の要
部概略構成図である。

【図８】本発明の第３実施例である電子線描画装置の要
部概略構成図である。

【図９】本発明の第４実施例である電子線描画装置の要
部概略構成図である。

【図１０】電子線描画装置の全体概略構成図である。

【図１１】電子線描画装置における鏡体の振動による電
子線のずれを説明する図である。

【図１２】電子線描画装置における鏡体の振動の一例を
説明する図である。

【図１３】電子線描画装置における鏡体の振動の他の例
を説明する図である。

【図１４】電子線描画装置における鏡体の振動のさらに
他の例を説明する図である。

【符号の説明】

１電子銃２電子線５偏向器６試料７ステージ８高圧電源９レンズ制御部１０成形制御部１１偏向制御部１２ステージ制御部１３ＣＰＵ１４ディスプレイ１５鏡体１６試料室１７成形偏向器２０除振台２３構造体２４アクティブダンパ２５振動センサ２６振動検出部２７真空計２８真空検出部２９アクティブダンパ３１、３２絞り３４ワイヤ３５電流検出器３６偏差検出部３７振動制御部３８ベローズ４１、４２電子レンズ３３１振動値メモリ３３２偏差メモリ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子銃と、電子光学系鏡体と、試料移動
搬送手段と、除振台とを有し、電子線から発生された電
子線を任意図形に成形し試料面上に描画する電子線描画
装置において、上記試料面の所定位置と電子線の試料面の照射位置との
偏差を検出する電子線偏差検出手段と、振動を発生する振動発生手段と、電子線描画パターン毎に、電子線偏差検出手段により検
出された上記偏差が最小となるように、振動発生手段の
振動動作を制御する振動制御手段と、描画パターン毎に電子線を偏向して、振動制御手段によ
り最小とされた電子線の偏差を補正する偏向補正手段
と、を備えることを特徴とする電子線描画装置。
【請求項２】請求項１記載の電子線描画装置におい
て、描画パターン毎に、上記偏差が最小となる振動発生
手段の振動制御データを記憶する振動データ記憶手段
と、振動制御手段により最小とされた電子線の偏差を記
憶する偏差記憶手段とを、さらに備えることを特徴とす
る電子線描画装置。
【請求項３】請求項１又は２記載の電子線描画装置に
おいて、上記振動発生手段は、試料移動搬送手段と除振
台との間に配置されることを特徴とする電子線描画装
置。
【請求項４】請求項２記載の電子線描画装置におい
て、上記鏡体の振動を検出する振動検出手段をさらに備
え、上記振動制御手段は、上記振動データ記憶手段に記
憶された振動制御データと、上記振動検出手段により検
出された鏡体の振動とに基づいて、振動発生手段の振動
動作を制御することを特徴とする電子線描画装置。
【請求項５】請求項１又は２記載の電子線描画装置に
おいて、上記鏡体を取り囲む箱体を備え、上記振動発生
手段は、上記鏡体と箱体との間に配置されることを特徴
とする電子線描画装置。
【請求項６】請求項１又は２記載の電子線描画装置に
おいて、上記試料移動搬送手段を収容し、上記鏡体と接
続される試料室を備え、上記振動発生手段は、上記鏡体
と試料室との間に配置されることを特徴とする電子線描
画装置。