JPH0811059A - パウダービーム加工システム - Google Patents

パウダービーム加工システム

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JPH0811059A
JPH0811059A JP6168631A JP16863194A JPH0811059A JP H0811059 A JPH0811059 A JP H0811059A JP 6168631 A JP6168631 A JP 6168631A JP 16863194 A JP16863194 A JP 16863194A JP H0811059 A JPH0811059 A JP H0811059A
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JP
Japan
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filter
powder
air
dust collector
chamber
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JP6168631A
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English (en)
Inventor
Akio Mishima
彰生 三島
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 フィルタの交換回数を減らし生産性を向上さ
せることができるともに、配管内における粒子の残存を
無くすことができるパウダービーム加工システムを提供
する。 【構成】 混合室5から一定量の粉体2を圧縮空気と共
に噴射ノズル13から噴射し、これを加工室5内の被加
工物4に吹き付けて被加工物4を加工するとともに、噴
射ノズル13から噴射された前記エアを集塵機9を通し
て排気するものであって、集塵機9内に送られたエアの
少なくとも一部を加工室5内に戻すためのエア循環路を
設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばガラス基板や半
導体基板等の被加工物に対してパウダー状の粒子をノズ
ルから噴射してエッチング加工あるいはコーティング加
工(いわゆるデポジション)を行うための加工装置とし
て使用されるパウダービーム加工システムに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路やプリント配線回
路、さらには磁気ヘッド等の各種機能素子の製造に際し
ては、様々な微細加工が必要となっている。このような
ことから、各方面で加工技術に関する研究が進められて
おり、その一つとして、0.1μm〜30μmのパウダ
ー状の粉体を圧縮空気に混合して噴射する、いわゆるパ
ウダービーム加工法が知られている。
【0003】図2は、従来のパウダービーム加工装置の
一例として示す全体の構成図である。図2において、こ
の加工装置は、大別して圧縮空気を供給するエアコンプ
レッサー等でなるエア源51と、このエア源51から送
り出された圧縮エアが供給され、粉体52が収容された
混合室53と、圧縮エアと共に一定量の粉体52を噴射
して被加工物54の表面を加工する加工室55と、この
加工室55内の粉体52を回収するサイクロン56及び
このサイクロン56で回収された粉体52を一旦収容し
ておくためのリザーブ室57と、加工が終わった被加工
物54に圧縮エアを吹き付けて洗浄するための洗浄室5
8と、サイクロン56を通ったエアと洗浄室58を通っ
たエア内に混入している粉体52を捕集した後に排気す
るための集塵機59等で構成されている。
【0004】さらに詳述すると、エア源51から引き出
された圧縮エア供給パイプ60は、途中で3つの圧縮エ
ア供給パイプ60a,60b,60cとに分岐されてい
る。このうち、圧縮エア供給パイプ60aは混合室53
内の底部に導かれ、また圧縮エア供給パイプ60bは加
工室55に、圧縮エア供給パイプ60cは洗浄室58
に、それぞれ導かれている。また、圧縮エア供給パイプ
60aの途中には、混合室53内に供給される圧縮エア
の圧力を微調整する調整弁61が設けられている。さら
に、圧縮エア供給パイプ60bの途中には圧力調整弁6
2を有し、この圧縮エア供給パイプ60bの先端部に噴
射ノズル63が設けられ、この噴射ノズル63が加工室
55内に配置されている。加えて、圧縮エア供給パイプ
60bの途中、すなわち圧力調整弁62と噴射ノズル6
3との間には混合器64が設けられ、この途中が混合器
64と送り出しパイプ65を介して混合室53内の上部
と接続されている。一方、圧縮エア供給パイプ60cの
先端部には洗浄ノズル66が設けられ、この洗浄ノズル
66が洗浄室58内に配置されている。
【0005】混合室53は、円筒状の容器からなり、そ
の内部に微粒子からなる上記粉体52が収納されてい
る。また、混合室53の底部は円錐形状で、底面にサー
メット(金属粉を燒結して形成される無数の微細孔を多
孔質)等よりなる図示せぬ円板状のフィルタが設けら
れ、このフィルタの背面側に上記圧縮エア供給パイプ6
0aの一端が接続された構成となっている。したがっ
て、圧縮エア供給パイプ60aに供給される圧縮エア
は、そのフィルタを通って混合室53内に導入されて混
合室53内の粉体52をまき上げ、パイプ65及び混合
器64を介して圧縮エア供給パイプ60b内に送られ
る。また、混合室53の内部には、この混合室53内で
粉体52と圧縮エアとが均一に混ざるようにするための
攪拌翼67が設けられており、この攪拌翼67で常に攪
拌されている。
【0006】一方、混合室53の外部で、その底面には
電子天秤68が配設されており、混合室53は電子天秤
68の上に搭載されて混合室53内の粉体52を含めて
重量を計測している。すなわち、電子天秤68は、混合
室53から送り出された噴射ノズル63より一定量の粉
体52の噴出、つまり混合室53内の総重量が一定に減
少できることを監視することを目的とするものであり、
電子天秤68によって計測している混合室53の総重量
の減少量を、図示せぬ制御ユニット部に入力し、この減
少量に基づいて圧力調整弁61,62を制御して、噴射
ノズル63から噴射する粉体の噴射量が一定となるよう
に調整している。
【0007】加工室55は、この加工室55の底部に接
続されている粉体回収パイプ69によりリザーブ室57
の上部に設けられたサイクロン56に接続されている。
【0008】リザーブ室57内には、水平状態にスクリ
ューコンベア70が配置されて、このスクリューコンベ
ア70が図示せぬモータにより回転され、この回転でリ
ザーブ室57の粉体52を混合室53の上部に形成され
た粉体送給口71へ通じるパイプ72内に供給できる構
造になっている。また、粉体送給口71にはバルブ73
が設けられている。
【0009】洗浄室58は、この洗浄室58の上部に接
続されているエア排出パイプ74により集塵機59内に
接続されている。また、エア排気パイプ74の途中には
サイクロン56の上部に接続されているエア排出パイプ
75が接続されている。
【0010】集塵機59内にはフィルタ76が配設され
ている。そして、エア排出パイプ74を通して排出され
てくる圧縮エアを、この圧縮エア内に混入されてくる粉
体52をフィルタ76で捕集した後、排気パイプ77を
通して排気できる構造になっている。
【0011】次に、このように構成されたパウダービー
ム加工装置の動作について説明する。混合室53内の粉
体52は圧縮エア供給パイプ60aから混合室53内へ
圧送される圧縮エアのまき上げと攪拌翼67による攪拌
とにより、常に攪拌混合されている。そして、混合室5
3内の粉体52は、圧縮エア供給パイプ60bを圧送さ
れる圧縮エアによって送り出しパイプ65内が負圧にな
ることによって、一定量の粉体が送り出しパイプ65を
通して吸い出される。この吸い出された粉体52は、混
合器64の部分で圧縮エア供給パイプ60b内を圧送さ
れる圧縮エアと合流し、噴射ノズル63から圧縮エアと
共に粉体52が噴射され、これが被加工物54に吹き付
けられることにより、被加工物54の加工が行われる。
【0012】粉体52による被加工物54の加工が行わ
れる加工室55の底部には、粉体52が堆積する。この
堆積された粉体52は、ノズル63から粉体52と共に
噴出された圧縮エアの排風作用(排気流)によって粉体
回収パイプ69よりサイクロン56に運ばれ、このサイ
クロン56でリザーブ室57内へ回収される。
【0013】一方、粉体52が回収された後の排気流は
集塵機59内に送られ、サイクロン56で完全に回収さ
れなかった粉塵が集塵機59内のフィルタ76で捕集さ
れた後、排気パイプ77を通して外部に排気される。
【0014】また、混合室53内の粉体52が減少し、
電子天秤68の計測に基づいて混合室53内への供給指
令があると、バルブ73が開放され、そしてスクリュー
コンベア70の駆動により粉体52がパイプ72側に運
ばれて粉体送給口71から混合室53内へ粉体52が収
容される。混合室53内への粉体52が所定量収容され
ると、これが電子天秤68によって検知されバルブ73
が閉じられ、これと同時にスクリューコンベア70が停
止し、粉体52の供給が停止する。
【0015】さらに、加工が終了した被加工物54は、
洗浄室58に送られ、この洗浄室58内で洗浄ノズル6
6より圧縮エアが吹き付けられて粉塵が飛ばされて洗浄
され、この後、次工程へ運ばれる。また、洗浄室58内
に噴出された圧縮エアは、エア排気パイプ74を通って
集塵機59内に送られ、集塵機59内のフィルタ76で
粉塵が捕集された後、排気パイプ77を通して外部に排
気される。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように構成したパウダービーム加工装置は、加工室55
内で噴射ノズル63より噴射された粉体52は、粉体回
収パイプ69内を排気流と共に流れるとき、サイクロン
56で回収され、その後の排気流は集塵機59内のフィ
ルタ76を通り、さらに排気パイプ77を通して外部に
排気される構造となっているが、この構造では次の
(1)〜(3)に述べるような問題点があった。 (1)噴射ノズル63から噴出されるエアの流量が少な
いと、加工室55からサイクロン56までの粉体回収パ
イプ69内に粉体52が溜まり、十分に回収出来ない場
合あった。なお、図3は配管(粉体回収パイプ69)内
での風速(メートル[m]/分)と配管内での微粒子残
存率(%)との関係を示すものである。ここでは、微粒
子(粉体52)の平均粒径が0.6〜10μmとした場
合であり、風速は少なくとも毎分15メートル以上に設
定しなければならないことが分かる。 (2)加工室55内で噴射ノズル63から噴射された排
気流と洗浄室58内で噴射ノズル66から噴射された排
気流とが、集塵機59のフィルタ76を通して常に排気
されているので、フィルタ76の目詰まりも早く、フィ
ルタ76の交換作業を頻繁にしなければならないので、
生産性が悪い。 (3)そこで、例えば図4に示すように、集塵機59内
に粗粒子を捕集する第1のフィルタ76aと、この第1
のフィルタ76aの後ろ側に第1のフィルタ76aが捕
集する粒子よりも細かい微粒子を捕集する第2のフィル
タ76bとを設けて、2段構成のフィルタとすることに
より交換時期を延ばすことも可能になるが、この場合で
も加工室55内で噴射ノズル63から噴射された排気流
と洗浄室58内で噴射ノズル66から噴射された排気流
とが、集塵機59のフィルタ76を通して常に排気され
ているので、フィルタ76の交換を早い時期にしなけれ
ばならない。また、常に第1のフィルタ76aと第2の
フィルタ76bを通して排気するので、風速を早くする
ことができない。このため、粉体回収パイプ69内にお
ける微粒子残存率が高くなる。
【0017】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的はフィルタの交換回数を減らし生産
性を向上させることができるともに、配管内における粒
子の残存を無くすことができるパウダービーム加工シス
テムを提供することにある。さらに、他の目的は、以下
に説明する内容の中で順次明らかにして行く。
【0018】
【課題を解決するための手段】この目的は、本発明にあ
っては、一定量の粉体を圧縮空気と共に噴射ノズルから
加工室内の被加工物に吹き付けて被加工物を加工すると
ともに、前記噴射ノズルから噴射された前記エアを集塵
機を通して排気するパウダービーム加工システムにおい
て、前記集塵機内に送られた前記エアの少なくとも一部
を前記加工室内に戻すためのエア循環路を設けた構成と
することによって達成される。
【0019】また、前記集塵機内に、粗粒子を捕集する
第1のフィルタと、排気されてくるエアに対して前記第
1のフィルタよりも後ろ側に設けられて前記第1のフィ
ルタが捕集する粒子よりも細かい粒子を捕集する第2の
フィルタとを設け、前記集塵機と前記加工室との間に設
けられる前記エア循環路の一端側を前記第1のフィルタ
と前記第2のフィルタとの間に配設するとともに、前記
第2のフィルタの後ろ側に排気路を設けた構成とするこ
とも可能である。
【0020】
【作用】このように構成した本発明によるパウダービー
ム加工システムは、加工室から戻される排気流の一部は
エア循環路を通して循環させているので、単に循環され
ている流路内に配置されるフィルタは目が粗く空気抵抗
が少ないフィルタを使用することができ、風速を高めら
ることができる。これにより、粉体搬送をスムースに行
わせて配管内での粉体の残存を無くすことができる。
【0021】また、集塵機内に、粗粒子を捕集する第1
のフィルタと、排気されてくるエアに対して第1のフィ
ルタよりも後ろ側に設けられて、第1のフィルタが捕集
する粒子よりも細かい粒子を捕集する第2のフィルタと
を設け、集塵機と加工室との間に設けられるエア循環路
の一端側を第1のフィルタと第2のフィルタとの間に配
設するとともに、第2のフィルタの後ろ側に排気路を設
けた構成とした場合では、通常は粗い第1のフィルタを
通って排気流が循環され、細かい第2のフィルタを通っ
て排気されるのは、循環路内の空気量が一定以上になっ
たときだけとなる。よって、フィルタ全体の目詰まりを
減らしてフィルタの交換時期を延ばし、生産性を向上さ
せることができる。さらに、風量を低下させることな
く、外部に排出される排気中に含まれる粉塵の量を減ら
すことができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。図1は、本発明のパウダービーム加工
システムとしての加工装置の一例を示す全体構成図であ
る。
【0023】図1において、この加工装置は、大別して
圧縮空気を供給するエアコンプレッサー等でなるエア源
1と、このエア源1から送り出された圧縮エアが供給さ
れ、粉体2が収容された混合室3と、圧縮エアと共に一
定量の粉体2を噴射して被加工物4の表面を加工する加
工室5と、この加工室5内の粉体2を回収するサイクロ
ン6及びこのサイクロン6で回収された粉体2を一旦収
容しておくためのリザーブ室7と、加工が終わった被加
工物4に圧縮エアを吹き付けて洗浄するための洗浄室8
と、サイクロン6を通ったエアと洗浄室8を通ったエア
内に混入している粉体2を捕集した後に排気するための
集塵機9等で構成されている。なお、ここでの粉体2は
0.1μm〜30μm程度のものである。
【0024】さらに詳述すると、エア源1から引き出さ
れた圧縮エア供給パイプ10は、途中で3つの圧縮エア
供給パイプ10a,10b,10cとに分岐されてい
る。このうち、圧縮エア供給パイプ10aは混合室3内
の底部に導かれ、圧縮エア供給パイプ10bは加工室5
に、圧縮エア供給パイプ10cは洗浄室8に、それぞれ
導かれている。また、圧縮エア供給パイプ10aの途中
には、混合室3内に供給される圧縮エアの圧力を微調整
する調整弁11が設けられている。さらに、圧縮エア供
給パイプ10bの途中には、圧力調整弁12を有し、こ
の圧縮エア供給パイプ10bの先端部に噴射ノズル13
が設けられ、この噴射ノズル13が加工室5内に配置さ
れている。加えて、圧縮エア供給パイプ10bの途中、
すなわち圧力調整弁12と噴射ノズル13との間には混
合器14が設けられ、この途中が混合器14と送り出し
パイプ15を介して混合室3内の上部と接続されてい
る。一方、圧縮エア供給パイプ10cの先端部には洗浄
ノズル16が設けられ、この洗浄ノズル16が洗浄室8
内に配置されている。
【0025】混合室3は、円筒状の容器からなり、その
内部に微粒子からなる上記粉体2が収納されている。ま
た、混合室3の底部は円錐形状で、底面にサーメット
(金属粉を燒結して形成される無数の微細孔を多孔質)
等よりなる図示せぬ円板状のフィルタが設けられ、この
フィルタの背面側に上記圧縮エア供給パイプ10aの一
端が接続された構成となっている。したがって、圧縮エ
ア供給パイプ10aに供給される圧縮エアは、そのフィ
ルタを通って混合室3内に導入されて混合室2内の粉体
2をまき上げ、パイプ15及び混合器14を介して圧縮
エア供給パイプ10b内に送られる。また、混合室3の
内部には、この混合室3内で粉体2と圧縮エアとが均一
に混ざるようにするための攪拌翼17が設けられてお
り、この攪拌翼17で常に攪拌されている。
【0026】一方、混合室3の外部で、その底面には電
子天秤18が配設されており、混合室3は電子天秤18
の上に搭載されて混合室3内の粉体2を含めて重量を計
測している。すなわち、電子天秤18は、混合室3から
送り出された噴射ノズル13より一定量の粉体2の噴
出、つまり混合室3内の総重量が一定に減少できること
を監視することを目的とするものであり、電子天秤18
によって計測している混合室3の総重量の減少量を、図
示せぬ制御ユニット部に入力し、この減少量に基づいて
圧力調整弁11,12を制御して、噴射ノズル13から
噴射する粉体の噴射量が一定となるように調整してい
る。
【0027】加工室5は、この加工室5の底部に接続さ
れている粉体回収パイプ19によりリザーブ室7の上部
に設けられたサイクロン6に接続されている。また、サ
イクロン56の上部には、一端が集塵機9に接続された
エア排出パイプ25の他端が接続されている。
【0028】リザーブ室7内には、水平状態にスクリュ
ーコンベア20が配置されて、このスクリューコンベア
20が図示せぬモータにより回転され、この回転でリザ
ーブ室7の粉体2を混合室3の上部に形成された粉体送
給口21へ通じるパイプ22内に供給できる構造になっ
ている。また、粉体送給口21にはバルブ23が設けら
れている。
【0029】洗浄室8は、この洗浄室8の上部に接続さ
れている第1の循環パイプ24aにより集塵機9内に接
続されているとともに、一端が加工室55の上部に接続
されている第2の循環パイプ24bの他端が加工室5の
上部に接続されている。
【0030】集塵機9内には、第1のフィルタ(ラフフ
ィルタ)26aと、この第1のフィルタ26aが捕集す
る粒子よりも細かい微粒子を捕集する第2のフィルタ
(ミクロフィルタ)26bとが配設されている。なお、
本実施例での第2のフィルタ26bで捕集する微粒子と
は、例えば例えばSiC,BC,Al2O3,SiO2等、平均粒径が
0.6〜10μmのもので、第1のフィルタ26aで捕
集される粒子は、これよりも大きい10μm以上のもの
となる。そして、この集塵機9には、第1のフィルタ2
6aの前側にエア排出パイプ25の一端が連結開口さ
れ、この第1のフィルタ26aの後ろ側で、かつ第2の
フィルタ26bの前側、すなわち第1フィルタ26aと
第2のフィルタ26bの間に循環パイプ24bの一端が
連結開口されている。さらに、第2のフィルタ26bの
後ろ側には、この第2のフィルタ26bを通ったエアを
外部に排気させるための排気パイプ27が取り付けられ
た構造になっている。
【0031】次に、このように構成されたパウダービー
ム加工装置の動作について説明する。混合室3内の粉体
2は圧縮エア供給パイプ10aから混合室3内へ圧送さ
れる圧縮エアのまき上げと攪拌翼17による攪拌とによ
り、常に攪拌混合されている。そして、混合室3内の粉
体2は、圧縮エアパイプ10bを圧送される圧縮エアに
よって送り出しパイプ15内が負圧になることによっ
て、一定量の粉体が送り出しパイプ15を通して吸い出
される。この吸い出された粉体2は、混合器14の部分
で圧縮エア供給パイプ10c内を圧送される圧縮エアと
合流し、噴射ノズル13から圧縮エアと共に粉体2が噴
射され、これが被加工物4に吹き付けられることにより
被加工物4の加工が行われる。
【0032】粉体2による被加工物4の加工が行われる
加工室5の底部には、粉体2が堆積する。この堆積され
た粉体2は、ノズル3から粉体2と共に噴出された圧縮
エアの排風作用(排気流)によって粉体回収パイプ19
よりサイクロン6に運ばれ、このサイクロン6でリザー
ブ室7内へ回収される。
【0033】一方、粉体2が回収された後の排気流は集
塵機9内に送られ、サイクロン56で完全に回収されな
かった粉塵が集塵機9内の第1のフィルタ26aで捕集
された後、通常は第1の循環パイプ24aを通して洗浄
室8に送られ、洗浄室8から第2の循環パイプ24bを
通して再び加工室55に戻るエア循環路を通して循環さ
れる。そして、ノズル3から粉体2が噴出れた直後で
は、エア循環路内のエア圧が瞬間的に大きくなることか
ら、このときだけ集塵機9内で第1のフィルタ(ラフフ
ィルタ)26aを通ったエアの一部が第2のフィルタ
(ミクロフィルタ)26bを通過し、排気パイプ27を
通して外部に排出される。したがって、集塵機9内で
は、通常は粗い目をした第1のフィルタだけを通過して
循環しているので、循環しているエアに対してさほど大
きな空気抵抗とはならない。これにより比較的早い速度
エアを流すことができ、本実施例では図3で示したよう
に、微粒子残存率が最も少ない毎分15メートル以上で
流す。
【0034】また、混合室3内の粉体2が減少し、電子
天秤18の計測に基づいて混合室3内への供給指令があ
ると、バルブ23が開放され、そしてスクリューコンベ
ア20の駆動により粉体2がパイプ22側に運ばれ粉体
送給口21から混合室3内へ粉体2が収容される。混合
室3内への粉体2が所定量収容されると、これが電子天
秤18によって検知されバルブ23が閉じられ、これと
同時にスクリューコンベア20が停止し、粉体2の供給
が停止する。
【0035】さらに、加工が終了した被加工物4は、洗
浄室8に送られ、この洗浄室8内で洗浄ノズル16より
圧縮エアが吹き付けられて粉塵が飛ばされ、この後で次
工程へ運ばれる。また、洗浄室8内に噴出された圧縮エ
アは第2の循環パイプ24bを通って加工室5内に戻さ
れ、この加工室5内の粉体2と共に粉体回収パイプ19
よりサイクロン6側に運ばれ、同様の処理が行われる。
【0036】したがって、この実施例の構造によるパウ
ダービーム加工システムは、加工室5から戻される排気
流の一部は粉体回収パイプ19,25,粗い第1のフィ
ルタ26a(集塵機9)、第1の循環パイプ24a,洗
浄室8,第2の循環パイプ24bとでなるエア循環路を
通して循環させることも可能になり、風速を毎分15メ
ートル以上に高めて粉体搬送をスムースに行わせ、これ
により配管内での粉体2の残存を無くすことができる。
【0037】また、通常は空気抵抗の少ない粗い第1の
フィルタ26aを通って排気流が循環され、細かい第2
のフィルタ26bを通って排気されるのは、噴射ノズル
13から圧縮エアが噴出されて循環路内の空気量が一定
以上になったときだけなので、第1,第2のフィルタ2
6a,26b全体の目詰まりを減らしてフィルタの交換
時期を延ばし、生産性を向上させることができる。さら
に、風量を低下させることなく、排気パイプ27を通し
て外部に排出される排気中に含まれる粉塵の量を減らす
ことができる。
【0038】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明のパウダー
ビーム加工システムによれば、加工室から戻される排気
流の一部はエア循環路を通して循環させているので、単
に循環されている流路内に配置されるフィルタは目が粗
く空気抵抗が少ないフィルタを使用することができ、風
速を高めらることができる。こりにより、粉体搬送をス
ムースに行わせて配管内での粉体の残存を無くすことが
できる。
【0039】また、集塵機内に、粗粒子を捕集する第1
のフィルタと、排気されてくるエアに対して第1のフィ
ルタよりも後ろ側に設けられて、第1のフィルタが捕集
する粒子よりも細かい粒子を捕集する第2のフィルタと
を設け、集塵機と加工室との間に設けられるエア循環路
の一端側を第1のフィルタと第2のフィルタとの間に配
設するとともに、第2のフィルタの後ろ側に排気路を設
けた構成とした場合では、通常は粗い第1のフィルタを
通って排気流が循環され、細かい第2のフィルタを通っ
て排気されるのは、循環路内の空気量が一定以上になっ
たときだけとなる。よって、フィルタ全体の目詰まりを
減らしてフィルタの交換時期を延ばし、生産性を向上さ
せることができる。さらに、風量を低下させることな
く、外部に排出される排気中に含まれる粉塵の量を減ら
すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例として示すパウダービーム加
工システムの全体構成図である。
【図2】従来のパウダービーム加工システムの一例を示
す全体構成図である。
【図3】微粒子残存率と風速との関係を示した図であ
る。
【図4】従来のシステムにおける集塵機の一変形例を示
す図である。
【符号の説明】
1 エア源 2 粉体 3 混合室 4 被加工物 5 加工室 9 集塵機 13 噴射ノズル 19 粉体回収パイプ 24a 第1の循環パイプ 24b 第2の循環パイプ 25 エア排出パイプ 26a 第1のフィルタ 26b 第2のフィルタ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年9月20日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】混合室53は、円筒状の容器からなり、そ
の内部に微粒子からなる上記粉体52が収納されてい
る。また、混合室53の底部は円錐形状で、底面にサー
メット(金属粉を焼結して形成される無数の微細孔から
なる多孔質)等よりなる図示せぬ円板状のフィルタが設
けられ、このフィルタの背面側に上記圧縮エア供給パイ
プ60aの一端が接続された構成となっている。したが
って、圧縮エア供給パイプ60aに供給される圧縮エア
は、そのフィルタを通って混合室53内に導入されて混
合室53内の粉体52をまき上げ、パイプ65及び混合
器64を介して圧縮エア供給パイプ60b内に送られ
る。また、混合室53の内部には、この混合室53内で
粉体52と圧縮エアとが均一に混ざるようにするための
攪拌翼67が設けられており、この攪拌翼67で常に攪
拌されている。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】混合室3は、円筒状の容器からなり、その
内部に微粒子からなる上記粉体2が収納されている。ま
た、混合室3の底部は円錐形状で、底面にサーメット
(金属粉を焼結して形成される無数の微細孔からなる
孔質)等よりなる図示せぬ円板状のフィルタが設けら
れ、このフィルタの背面側に上記圧縮エア供給パイプ1
0aの一端が接続された構成となっている。したがっ
て、圧縮エア供給パイプ10aに供給される圧縮エア
は、そのフィルタを通って混合室3内に導入されて混合
内の粉体2をまき上げ、パイプ15及び混合器14
を介して圧縮エア供給パイプ10b内に送られる。ま
た、混合室3の内部には、この混合室3内で粉体2と圧
縮エアとが均一に混ざるようにするための攪拌翼17が
設けられており、この攪拌翼17で常に攪拌されてい
る。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】加工室5は、この加工室5の底部に接続さ
れている粉体回収パイプ19によりリザーブ室7の上部
に設けられたサイクロン6に接続されている。また、サ
イクロンの上部には、一端が集塵機9に接続されたエ
ア排出パイプ25の他端が接続されている。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】洗浄室8は、この洗浄室8の上部に接続さ
れている第1の循環パイプ24aにより集塵機9内に接
続されているとともに、一端が洗浄室8の下部に接続さ
れている第2の循環パイプ24bの他端が加工室5の上
部に接続されている。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0030
【補正方法】変更
【補正内容】
【0030】集塵機9内には、第1のフィルタ(ラフフ
ィルタ)26aと、この第1のフィルタ26aが捕集す
る粒子よりも細かい微粒子を捕集する第2のフィルタ
(ミクロフィルタ)26bとが配設されている。なお、
本実施例での第2のフィルタ26bで捕集する微粒子と
は、例えば例えばSiC,BC,Al O, SiO
等、平均粒径が0.6〜10μmのもので、第1のフィ
ルタ26aで捕集される粒子は、これよりも大きい10
μm以上のものとなる。そして、この集塵機9には、第
1のフィルタ26aの前側にエア排出パイプ25の一端
が連結開口され、この第1のフィルタ26aの後ろ側
で、かつ第2のフィルタ26bの前側、すなわち第1フ
ィルタ26aと第2のフィルタ26bの間に循環パイプ
24bの一端が連結開口されている。さらに、第2のフ
ィルタ26bの後ろ側には、この第2のフィルタ26b
を通ったエアを外部に排気させるための排気パイプ27
が取り付けられた構造になっている。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】次に、このように構成されたパウダービー
ム加工装置の動作について説明する。混合室3内の粉体
2は圧縮エア供給パイプ10aから混合室3内へ圧送さ
れる圧縮エアのまき上げと攪拌翼17による攪拌とによ
り、常に攪拌混合されている。そして、混合室3内の粉
体2は、圧縮エアパイプ10bを圧送される圧縮エアに
よって送り出しパイプ15内が負圧になることによっ
て、一定量の粉体が送り出しパイプ15を通して吸い出
される。この吸い出された粉体2は、混合器14の部分
で圧縮エア供給パイプ10b内を圧送される圧縮エアと
合流し、噴射ノズル13から圧縮エアと共に粉体2が噴
射され、これが被加工物4に吹き付けられることにより
被加工物4の加工が行われる。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0032
【補正方法】変更
【補正内容】
【0032】粉体2による被加工物4の加工が行われる
加工室5の底部には、粉体2が堆積する。この堆積され
た粉体2は、ノズル13から粉体2と共に噴出された圧
縮エアの排風作用(排気流)によって粉体回収パイプ1
9よりサイクロン6に運ばれ、このサイクロン6でリザ
ーブ室7内へ回収される。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】一方、粉体2が回収された後の排気流は集
塵機9内に送られ、サイクロン56で完全に回収されな
かった粉塵が集塵機9内の第1のフィルタ26aで捕集
された後、通常は第1の循環パイプ24aを通して洗浄
室8に送られ、洗浄室8から第2の循環パイプ24bを
通して再び加工室55に戻るエア循環路を通して循環さ
れる。そして、ノズル13から粉体2が噴出れた直後で
は、エア循環路内のエア圧が瞬間的に大きくなることか
ら、このときだけ集塵機9内で第1のフィルタ(ラフフ
ィルタ)26aを通ったエアの一部が第2のフィルタ
(ミクロフィルタ)26bを通過し、排気パイプ27を
通して外部に排出される。したがって、集塵機9内で
は、通常は粗い目をした第1のフィルタだけを通過して
循環しているので、循環しているエアに対してさほど大
きな空気抵抗とはならない。これにより比較的早い速度
エアを流すことができ、本実施例では図3で示したよう
に、微粒子残存率が最も少ない毎分15メートル以上で
流す。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一定量の粉体を圧縮空気と共に噴射ノズ
    ルから加工室内の被加工物に吹き付けて被加工物を加工
    するとともに、前記噴射ノズルから噴射された前記エア
    を集塵機を通して排気するパウダービーム加工システム
    において、 前記集塵機内に送られた前記エアの少なくとも一部を前
    記加工室内に戻すためのエア循環路を設けたことを特徴
    とするパウダービーム加工システム。
  2. 【請求項2】 前記集塵機内に粗粒子を捕集する第1の
    フィルタと、排気されてくる前記エアに対して前記第1
    のフィルタよりも後ろ側に設けられて前記第1のフィル
    タが捕集する粒子よりも細かい粒子を捕集する第2のフ
    ィルタとを設け、前記集塵機と前記加工室との間に設け
    られる前記エア循環路の一端側を前記第1のフィルタと
    前記第2のフィルタとの間に配設するとともに、前記第
    2のフィルタの後ろ側に排気路を設けて成る請求項1に
    記載のパウダービーム加工システム。
  3. 【請求項3】 前記加工室から前記集塵機内に送られる
    前記エアの速度を略毎分15メートルに設定して成る請
    求項1または2に記載のパウダービーム加工システム。
  4. 【請求項4】 一定量の粉体を圧縮空気と共に噴射ノズ
    ルから加工室内の被加工物に吹き付けて被加工物を加工
    するとともに、加工後に前記被加工物を洗浄室内でエア
    を吹き付けて洗浄し、かつ前記噴射ノズルから噴射され
    た前記エアを集塵機を通して排気するパウダービーム加
    工システムにおいて、 前記集塵機内に戻された前記エアの少なくとも一部を前
    記洗浄室を通して前記加工室内に戻すためのエア循環路
    を設けたことを特徴とするパウダービーム加工システ
    ム。
  5. 【請求項5】 前記集塵機内に粗粒子を捕集する第1の
    フィルタと、排気されてくるエアに対して前記第1のフ
    ィルタよりも後ろ側に設けられて前記第1のフィルタが
    捕集する粒子よりも細かい粒子を捕集する第2のフィル
    タとを設け、前記集塵機と前記洗浄室との間に設けられ
    る前記エア循環路の一端側を前記第1のフィルタと前記
    第2のフィルタとの間に配設するとともに、前記第2の
    フィルタの後ろ側に排気路を設けて成る請求項4に記載
    のパウダービーム加工システム。
  6. 【請求項6】 前記加工室から前記集塵機内に送られる
    前記エアの速度を略毎分15メートルに設定して成る請
    求項4または5に記載のパウダービーム加工システム。
JP6168631A 1994-06-29 1994-06-29 パウダービーム加工システム Pending JPH0811059A (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0413574A (ja) * 1990-05-07 1992-01-17 Hitachi Ltd ブラスト加工装置
JPH05337832A (ja) * 1992-06-02 1993-12-21 Sony Corp 微粒子噴射加工装置
JPH06410A (ja) * 1992-02-12 1994-01-11 Takeda Chem Ind Ltd ガス処理装置
JPH06114737A (ja) * 1992-10-05 1994-04-26 Sony Corp 粉体供給装置

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