JPH08107097A - 排気システム - Google Patents

排気システム

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JPH08107097A
JPH08107097A JP24017094A JP24017094A JPH08107097A JP H08107097 A JPH08107097 A JP H08107097A JP 24017094 A JP24017094 A JP 24017094A JP 24017094 A JP24017094 A JP 24017094A JP H08107097 A JPH08107097 A JP H08107097A
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JP
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exhaust
exhaust duct
cleaning
fluid
duct
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JP24017094A
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English (en)
Inventor
Kazuhiko Yamamoto
山本  和彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 排気ダクト内に詰まった薬品の結晶を取り除
くことができ、排気流量を一定に保つことができる排気
システムを得ることを目的とする。 【構成】 排気ダクト2内には水スプレーノズル9が設
けられており、排気流量計が排気流量が所定の下限値を
下回ったことを検出すると、この検出信号を受けたバル
ブ制御部11は、オートバルブ10を開成し、水スプレ
ーノズル9をONにするように構成されている。これに
より、水スプレーノズル9より水が排気ダクト2内の冷
却コイル23によって冷却された部分に噴射され排気ダ
クト2の内壁に付着した薬品の結晶を洗い流す。洗い流
した水はトラップ部5でトラップされ、排水ライン6を
介して排水される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は薬品を使用する装置、
設備の排気ラインに使用する排気システムに関し、特
に、半導体ウエハ,液晶板等の半導体プロセス工程で使
用する処理槽の排気システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5は従来の半導体プロセス用の排気シ
ステムを示す構成図であり、図において、1は特定の薬
品が使用されるエッチング工程の処理槽等の装置、即ち
半導体プロセス用の装置、2は処理工程で発生した薬
品,洗浄水のミスト,パーティクル等を排気処理設備へ
と導く排気ダクト、3は排気ダクト2に挿入されたダン
パ、12は排気ファン、4は排気ダクト2内の排気流量
を計測する排気流量計である。
【0003】次に動作について説明する。装置1内で使
用される薬品が、例えば高温で使用される場合その薬品
からでるミスト、又は蒸気が排気ファン12により排気
ダクト2内に吸引される。装置1から吸引された蒸気等
はダンパ2内で常温又は部屋の温度程度に冷却され液化
し、ダンパ3,排気ダクト2内,又は排気ファン12内
に付着する。この液は、やがて結晶化して排気ダクト2
内を詰まらせる。従って、装置1内の排気の流量を示す
排気流量計4の値は経時的に低下しまうという欠点があ
った。
【0004】図6は実開平2−95516号公報に示さ
れた従来の半導体プロセス用の排気システムを示す構成
図であり、図において、30は排気ダクト2に取り付け
られた排気圧検出用の圧力センサ、31は圧力コントロ
ーラ、32はミスト捕集用のU字形のトラップ、33は
トラップ32の底部に接続されたドレン排出管、34は
加圧ガス供給弁、35はドレン排出弁、36は加圧ガス
供給ノズルを具備したエジェクタ式ドレン排出機構であ
る。
【0005】次に動作について説明する。プロセス工程
の繰り返し経過に伴い、排気ダクト2内の壁面には排気
中に含まれる薬液,洗浄液のミストの液滴,薬品の結晶
等が生じるがこれらは流下する途中でトラップ32に捕
らえられる。また、トラップ32に溜まったドレンが満
杯の状態になると、排気通路が狭くなって圧力損失が増
大し、たとえ排気ファン12の回転数を高めても排気圧
力が設定値まで低下しなくなる。この際、圧力コントロ
ーラ31からの指令により加圧ガス供給弁34及びドレ
ン排出弁35が開成してエジェクタ式ドレン排出機構3
6が作動し、トラップ32に溜まっているドレンをドレ
ン排出管33を介して強制排出する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の排気システムは
以上のように構成されていたので、プロセス工程の繰り
返し経過に伴い経時的に蓄積される薬品の結晶等の付着
によって排気流量が低下するという問題点があった。実
開平2−95516号公報に示された従来の半導体プロ
セス用の排気システムは、かかる問題点を解消するため
になされたものであるが、図6に示す構成を有するトラ
ップ32は圧力損失が大きいばかりでなく、トラップ3
2以外に付着する結晶の蓄積による圧力損失低下を防止
することができないという問題点があった。
【0007】請求項1の発明は上記のような問題点を解
消するためになされたもので、排気ダクト内に詰まった
薬品の結晶をより効率的に且つ集中的に取り除くことが
でき、排気流量を一定に保つことができる排気システム
を得ることを目的とする。
【0008】請求項2の発明は、排気ダクト内に詰まっ
た薬品の結晶を効率的に且つ集中的に取り除くことがで
き、排気流量を一定に保つことができる上に、システム
の機能不全を防止する排気システムを得ることを目的と
する。
【0009】請求項3の発明は、液体を用いて排気ダク
ト内に詰まった薬品の結晶を取り除くことができる排気
システムを得ることを目的とする。
【0010】請求項4の発明は、気体を用いて排気ダク
ト内に詰まった薬品の結晶を取り除くことができる排気
システムを得ることを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る排
気システムは、排気ダクトの半導体プロセス装置と接続
されている上流側の部分を加熱して排気ダクト内に薬品
の結晶が付着することを防止する加熱手段と、該加熱手
段が設けられた排気ダクトの部分に対して下流側に設け
られ、排気に含まれる薬品ミストを結晶化すべく排気ダ
クトを冷却する冷却手段と、該冷却手段に隣接して排気
ダクト内に設けられ、冷却手段によって冷却された排気
ダクト内に付着する薬品の結晶を取り除いて排気ダクト
を洗浄すべく流体を排気ダクト内に噴出する洗浄手段と
を備えたものである。
【0012】請求項2の発明に係る排気システムは、排
気ダクト外に設けられ、冷却手段によって冷却された排
気ダクト内に付着する薬品の結晶を取り除いて排気ダク
トを洗浄すべく流体を排気ダクト内に噴出する洗浄手段
と、排気ダクトに設けられ、洗浄手段から噴出される流
体を排気ダクト内へ導入する洗浄窓とを備えたものであ
る。
【0013】請求項3の発明に係る排気システムは、洗
浄手段は液体を噴出するスプレーノズルであり、回収手
段は、排水ラインと、排水ラインを開閉し制御手段によ
って制御される他の開閉弁とを含むものである。
【0014】請求項4の発明に係る排気システムは、洗
浄手段は気体を噴出するエアーガンであり、回収手段
は、排気ダクトから取り外し可能な結晶取り出し口を含
むものである。
【0015】
【作用】請求項1の発明における排気システムは、プロ
セス工程の繰り返し経過に伴い経時的に蓄積される薬品
の結晶等の付着によって排気流量が低下すると、排気流
量計は、排気流量が所定の下限値を下回った場合これを
知らせる信号を出力する。しかしながら、排気ダクトの
上流側の部分には薬品の結晶が付着することを防止する
加熱手段が設けられ、排気ダクトの下流側には、排気に
含まれる薬品ミストを結晶化すべく排気ダクトを冷却す
る冷却手段が設けられているので、薬品の結晶は排気ダ
クトの冷却部に集中して付着することになる。制御手段
は、排気流量計から出力された信号に応答して開閉弁を
開成し洗浄手段を起動する。これにより、洗浄手段によ
って流体が排気ダクト内の冷却部へと噴出され、排気ダ
クト内を洗浄した流体がトラップ部においてトラップさ
れる。その後、トラップ部にトラップされた流体又は流
体によって取り除かれた結晶は、回収手段により回収さ
れる。このようにして、排気ダクト内に詰まった薬品の
結晶をより効率的に且つ集中的に取り除くことができ
る。
【0016】請求項2の発明における排気システムは、
プロセス工程の繰り返し経過に伴い経時的に蓄積される
薬品の結晶等の付着によって排気流量が低下すると、排
気流量計は、排気流量が所定の下限値を下回った場合こ
れを知らせる信号を出力する。しかしながら、排気ダク
トの上流側の部分には薬品の結晶が付着することを防止
する加熱手段が設けられ、排気ダクトの下流側には、排
気に含まれる薬品ミストを結晶化すべく排気ダクトを冷
却する冷却手段が設けられているので、薬品の結晶は排
気ダクトの冷却部に集中して付着することになる。制御
手段は、排気流量計から出力された信号に応答して駆動
手段を起動して洗浄窓を開成し且つ洗浄手段への流体の
供給を制御する開閉弁を開成する。これにより、排気ダ
クト外に設けられた洗浄手段が流体を排気ダクト内の冷
却部へと噴出し、排気ダクト内を洗浄した流体はトラッ
プ部においてトラップされる。その後、トラップ部にト
ラップされた流体又は流体によって取り除かれた結晶
は、回収手段により回収される。このようにして、排気
ダクト内に詰まった薬品の結晶を効率的に且つ集中的取
り除くことができる上に、洗浄手段を薬品の結晶から保
護することができる。
【0017】請求項3の発明における排気システムは、
洗浄手段であるスプレーノズルによって液体が噴出され
る。排気ダクトの内壁などから取り除かれた薬品の結晶
は、液体とともに排水ラインを介して排水される。
【0018】請求項4の発明における排気システムは、
洗浄手段であるエアーガンによって気体が噴出される。
排気ダクトの内壁などから取り除かれた薬品の結晶は、
気体によって搬送されトラップ部に蓄積する。この結晶
は、作業員などによって取り外し可能な結晶取り出し口
を介してトラップ部から取り除かれる。
【0019】
【実施例】
実施例1.以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の一実施例による排気システムを
示す構成図であり、図において、図5に示した従来の排
気システムと同様な構成要素には同一の参照符号を付し
重複する説明を省略する。4は排気流量の下限値を設定
でき、下限値をセンシング可能な排気流量計、5は処理
槽等の半導体プロセス用の装置1と排気ファン12とを
結ぶ排気ダクト2に設けられたトラップ部、6はトラッ
プ部5に取り付けられた排水ライン(回収手段)、7は
排水ライン6の開閉を行なうオートバルブ(開閉弁,回
収手段)、8は水ライン、9は水ライン8に取り付けら
れた水スプレーノズル(洗浄手段)、10は水スプレー
ノズル9をON,OFFするためのオートバルブ(開閉
弁)、11は排気流量計4からの信号に応答してオート
バルブ7,10を開閉するバルブ制御部(制御手段)、
22はヒータ(加熱手段)、23は冷却コイル(冷却手
段)である。
【0020】この実施例による排気システムは、排気ダ
クト2内全体に薬品の結晶が付着することを防止し且つ
薬品の結晶が排気ダクト2内の特定の場所、即ち冷却コ
イル23が配置された場所に限定して付着するように構
成されており、その結果、一定以上の排気流量を保つよ
うに構成されている。装置1から排気ファン12まで続
く排気ダクト2の排気ラインにおいて装置1に近い位置
の排気ダクト2の上流側には複数のヒータ22が設置さ
れており、いかなるヒータ22の位置よりも下流側の位
置の排気ダクト2には、冷却コイル23を設けている。
【0021】次に動作について説明する。常に複数のヒ
ータ22はONの状態にされ排気ダクト2内が所定の温
度になるように保温されている。これにより、装置1か
ら出た薬品の蒸気が排気ダクト2内で冷却されることが
防止され、排気ダクト2内に薬品の結晶が付着すること
が防止される。そして、結晶化せずにヒータ22によっ
て排気ダクト2の加熱された部分を通過した薬品の蒸気
は、冷却コイル23が取り付けられた部分に到達する
と、そこで冷却され結晶となる。
【0022】一方、排気流量計4において、排気ダクト
2の排気流量の下限値が予め設定される。薬品の結晶化
がこの冷却コイル22の周辺で進行するにつれて、従来
の技術で説明した様に、排気ダクト2内が詰まり排気流
量は低下していく。排気ダクト2内の排気流量が予め設
定された下限値まで低下すると、排気流量計4はそれを
検知することができ、バルブ制御部11に検知したこと
を知らせる信号を送る。信号を受けたバルブ制御部11
は、水ライン8のオートバルブ10と排水ライン6のオ
ートバルブ7とを開成する。
【0023】オートバルブ10が開成すると、冷却コイ
ル22付近に取り付けられた水スプレーノズル9がON
となり、水スプレーノズル9より水が排気ダクト2内の
冷却コイル23が取り付けられた部位に噴射され排気ダ
クト2の内壁に付着した薬品の結晶を洗い流す。洗い流
した水はトラップ部5でトラップされ、排水ライン6を
介して排水される。一定時間洗浄後、又は排気流量計4
の流量値が大きくなった時点で、バルブ制御部11は、
オートバルブ10を閉にし排気ダクト2内の洗浄を終了
し、オートバルブ7を閉にして排水をOFFにする。こ
れらの動作を繰り返すことにより装置1内の排気を常に
一定以上に保つ事が可能になる。尚、洗浄に用いる液は
水に限らず他の洗浄液でも良い。
【0024】以上示したこの実施例による排気システム
によれば、排気ダクト2内で薬品の結晶が付着する位置
を限定することができ、その部分を集中的に洗浄できる
ので洗浄の効率が良く、排気ライン全体をクリーンに
し、一定以上の排気流量を保つことが可能になる。
【0025】また、この実施例では、冷却コイル設置場
所に洗浄する箇所が1つだけ設けられていたが、これに
限定するものではなく、1本の排気ラインで複数箇所を
洗浄可能に出来るように、複数の水スプレーノズル9を
設け、複数のトラップ部5と排水ライン6とを設けても
よい。
【0026】この実施例のごとく水スプレーノズル9を
排気ダクト2内に設置する場合、好ましくは、水スプレ
ーノズル9に結晶が詰まる事を防止するために、水スプ
レーノズル9は一定時間毎に水を噴射するように構成し
てもよい。
【0027】また、ダンパ3の下流側に、水スプレーノ
ズル9及び冷却コイル23を設けたが、ダンパ3の上流
側に設けるようにしてもよい。この場合、ダンパ3への
結晶付着をより効果的に防止することができる。
【0028】実施例2.図2はこの発明の他の実施例に
よる排気システムの構成を示す構成図であり、図におい
て、図1と同様な構成要素には同一の参照符号が付され
ている。13はN2 ガスを供給するためのN2 ガスライ
ン、14はN2 ガスライン13を開閉するためのオート
バルブ(開閉弁)、15はエアーガン(洗浄手段)、1
6は結晶取り出し口(回収手段)である。
【0029】実施例1では排気ダクト2内の洗浄に水を
使用したが、この実施例2による排気システムは、N2
などのガスにより排気ダクト2の冷却コイル23設置場
所付近の内壁に付着した薬品の結晶を吹き飛ばす様に構
成されている。図2に示すように、実施例1の水ライン
8の代わりに、N2 ガスライン13が設けられており、
2 ガスライン13を介してN2 ガスがエアーガン15
に供給される。また、排水ライン6の代わりに、吹き飛
ばした結晶を作業員が取り出す事を可能にするためにト
ラップ部5に、密閉度が高く取り外し可能な結晶取り出
し口16が設けられている。
【0030】次に動作について説明する。実施例1と同
様に、まず、排気流量計4において、排気ダクト2の排
気流量の下限値が予め設定される。排気ダクト2内の冷
却コイル23設置場所付近に経時的に薬品の結晶が付着
していくについれて、排気ダクト2内が詰まり排気流量
は低下していく。排気ダクト2内の排気流量が予め設定
された下限値まで低下すると、排気流量計4はそれを検
知することができ、バルブ制御部11に検知したことを
知らせる信号を送る。信号を受けたバルブ制御部11
は、N2 ガスライン13のオートバルブ14を開成す
る。
【0031】オートバルブ14が開成すると、N2 ガス
ライン13のエアーガン15がONとなり、エアーガン
15よりN2 ガスが排気ダクト2内に噴射され排気ダク
ト2の内壁に付着した薬品の結晶を吹き飛ばす。吹き飛
ばされた結晶はトラップ部5でトラップされる。
【0032】洗浄後、作業員が結晶取り出し口16を取
外し、吹き飛ばされトラップ部5に蓄積された結晶を除
去することにより、全ての洗浄工程は終了する。
【0033】以上示したこの実施例による排気システム
によっても、排気ダクト2内で薬品の結晶が付着する位
置を限定することができ、その部分を集中的に洗浄でき
るので洗浄の効率が良く、排気流量を常に一定に保つこ
とができる。
【0034】尚、上記実施例1の排気システムは水スプ
レーノズルを備え、この実施例の排気システムはエアー
ガンを備えており、ともに水とガスとを同時に使用する
ことはなかったが、両方を併用するように構成してもよ
い。
【0035】また、この実施例では、冷却コイル設置場
所に洗浄する箇所を1つだけ設けたが、これに限定され
るものではなく1本の排気ラインで複数箇所を洗浄可能
に出来るように、複数のエアーガン15を設け、複数の
トラップ部5と結晶取り出し口16とを設けてもよい。
【0036】さらに、この実施例のごとくエアーガン1
5を排気ダクト2内に設置する場合、好ましくは、エア
ーガン15に結晶が詰まる事を防止するため、エアーガ
ン15が一定時間毎にガスを噴射するように構成しても
よい。
【0037】また、ダンパ3の下流側に、エアーガン1
5及び冷却コイル23を設けたが、ダンパ3の上流側に
設けるようにしてもよい。この場合、ダンパ3への結晶
付着をより効果的に防止することができる。
【0038】実施例3.図3はこの発明の他の実施例に
よる排気システムの構成を示す構成図であり、図におい
て、図1と同様な構成要素には同一の参照符号が付され
ている。18は洗浄窓、19は排水ライン6に設けられ
たマニュアルバルブである。
【0039】上記実施例1及び2では、自動的に排気ダ
クト2内を洗浄することが可能な排気システムを示した
が、図3の示す様に密閉度が高く、冷却コイル23が設
置されている場所よりも上流側に、取外し可能な洗浄窓
18を排気ダクト2に設け、排水ライン6にマニュアル
バルブ19を設けても良い。
【0040】次に動作について説明する。作業員は定期
的に排気流量計4の流量値をチェックする。排気ダクト
2内の排気流量が一定流量以下に低下したことが明らか
になったならば、作業員は洗浄窓18を取り外し、排水
ライン6のマニュアルバルブ19を開にする。さらに、
作業員は、ハンドシャワー等の水を噴出する装置を洗浄
窓18から排気ダクト2内に挿入し、冷却コイル23が
設けられている排気ダクト2の内壁周辺を集中的に洗浄
する。作業員は、排水終了後にマニュアルバルブ19を
閉にし、洗浄作業を終了する。これにより、上記実施例
1及び2と同様の効果を達成することができる、安価な
排気システムを提供できる。
【0041】尚、この実施例では、冷却コイル設置場所
に洗浄する箇所を1つだけ設けたが、1本の排気ライン
で複数箇所を洗浄可能に出来るように、複数の洗浄窓1
8を設け、複数のトラップ部5と排水ライン6とを設け
てもよい。
【0042】また、ダンパ3の下流側に、水スプレーノ
ズル9及び冷却コイル23を設けたが、ダンパ3の上流
側に設けるようにしてもよい。この場合、ダンパ3への
結晶付着をより効果的に防止することができる。
【0043】実施例4.図4はこの発明の他の実施例に
よる排気システムの構成を示す構成図であり、図におい
て、図1と同様な構成要素には同一の参照符号が付され
ている。20は洗浄窓、21は洗浄窓を開閉すべく駆動
するエアーシリンダ(駆動手段)である。
【0044】上記実施例1及び2による排気システムの
いずれの場合においても、排気ダクト2内に水スプレー
ノズル9又はエアーガン15が取り付けられていたが、
この実施例による排気システムでは、水スプレーノズル
9に薬品の結晶が詰まる事を防止するため、図4に示す
様に、水スプレーノズル9は排気ダクト2外に設けられ
ている。排気ダクト2には、排気ダクト2を高い密閉状
態に保ち且つ開閉可能な洗浄窓20が設けられており、
また、バルブ制御部11によって制御されて洗浄窓20
を開閉するエアーシリンダ21が設置されている。尚、
水スプレーノズル9の代わりに、エアーガンを用いても
よい。
【0045】次に動作について説明する。排気流量計4
から排気ダクト2内の排気流量が下限値より低下したこ
とを知らせる信号を受けたバルブ制御部11は、まずエ
アーシリンダ20を駆動させ洗浄窓21を開にする。次
に、水ライン8のオートバルブ10を開にし水スプレー
ノズル9をONとして排気ダクト2内の冷却コイル23
の設置場所周囲の内壁に水の噴射を開始する。水スプレ
ーノズル9より水が排気ダクト2内に噴射されると、排
気ダクト2の内壁に付着した薬品の結晶が洗い流され
る。洗い流した水はトラップ部5でトラップされ、排水
ライン6を介して排水される。一定時間洗浄後、又は排
気流量計4の流量値が大きくなった時点で、バルブ制御
部11は、オートバルブ10を閉にし排気ダクト2内の
洗浄を終了し、オートバルブ7を閉にして排水をOFF
にするとともに、エアーシリンダ20を駆動させ洗浄窓
21を閉にする。これらの動作を繰り返すことにより装
置1内の排気を常に一定以上に保つ事が可能になる。
尚、洗浄に用いる液は水に限らず他の洗浄液でも良い。
【0046】以上示したこの実施例による排気システム
によっても、排気ダクト2内で薬品の結晶が付着する位
置を限定することができ、その部分を集中的に洗浄でき
るので洗浄の効率が良く、洗浄手段である水スプレーノ
ズル等の結晶の影響による機能不全、即ちノズル等に結
晶が詰まることを確実に防止できる。
【0047】また、ダンパ3の下流側に、洗浄窓20及
び冷却コイル23を設けたが、ダンパ3の上流側に設け
るようにしてもよい。この場合、ダンパ3への結晶付着
をより効果的に防止することができる。
【0048】
【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、排気ダクト内に薬品の結晶が付着することを防止す
る加熱手段と、排気に含まれる薬品ミストを結晶化すべ
く排気ダクトを冷却する冷却手段と、冷却手段によって
冷却された排気ダクト内に付着する薬品の結晶を取り除
いて排気ダクトを洗浄すべく流体を排気ダクト内に噴出
する洗浄手段と、排気流量計から出力された信号に応答
して開閉弁を開成する制御手段と、洗浄手段によって噴
出され、排気ダクト内を洗浄した流体をトラップするト
ラップ部と、トラップされた流体又は流体によって取り
除かれた結晶を回収する回収手段とを備えるように構成
したので、排気ダクト内に詰まった薬品の結晶をより効
率的に且つ集中的に取り除くことができ、排気流量を一
定に保つことができる効果がある。
【0049】請求項2の発明によれば、排気ダクト内に
付着する薬品の結晶を取り除いて排気ダクトを洗浄すべ
く流体を排気ダクト内に噴出する洗浄手段と、洗浄手段
から噴出される流体を排気ダクト内へ導入する洗浄窓
と、洗浄窓を開成し且つ開閉弁を開成する制御手段と、
排気ダクト内を洗浄した流体をトラップするトラップ部
と、該トラップ部にトラップされた流体又は流体によっ
て取り除かれた結晶を回収する回収手段とを備えるよう
に構成したので、排気流量を一定に保つことができる上
に、薬品の結晶の影響による洗浄手段の機能不全を防止
できる効果がある。
【0050】請求項3の発明によれば、洗浄手段は液体
を噴出するスプレーノズルであり、回収手段は、排水ラ
インと、排水ラインを開閉し制御手段によって制御され
る他の開閉弁とを含むように構成したので、液体を用い
て排気ダクト内に詰まった薬品の結晶を取り除くことが
できる効果がある。
【0051】請求項4の発明によれば、洗浄手段は気体
を噴出するエアーガンであり、回収手段は、排気ダクト
から取り外し可能な結晶取り出し口を含むように構成し
たので、気体を用いて排気ダクト内に詰まった薬品の結
晶を取り除くことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施例による排気システムを示
す構成図である。
【図2】 この発明の他の実施例による排気システムを
示す構成図である。
【図3】 この発明の他の実施例による排気システムを
示す構成図である。
【図4】 この発明の他の実施例による排気システムを
示す構成図である。
【図5】 従来の排気システムの一例を示す構成図であ
る。
【図6】 従来の排気システムの他の例を示す構成図で
ある。
【符号の説明】
1 装置(処理槽)、2 排気ダクト、4 排気流量
計、5 トラップ部、6排水ライン(回収手段)、7,
10,14 オートバルブ(開閉弁)、9 水スプレー
ノズル(洗浄手段)、11 バルブ制御部(制御手
段)、15 エアーガン(洗浄手段)、16 結晶取り
出し口(回収手段)、18,21 洗浄窓、20 エア
ーシリンダ(駆動手段)、22 ヒータ(加熱手段)、
23 冷却コイル(冷却手段)。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置製作のために薬品処理を行う
    半導体プロセス用の装置に使用される排気システムにお
    いて、前記半導体プロセス用の装置に接続され薬品ミス
    トを排気する排気ダクトと、該排気ダクト内の排気流量
    を計測し排気流量が所定の下限値を下回った場合これを
    知らせる信号を出力する排気流量計と、前記排気ダクト
    の前記半導体プロセス装置と接続されている上流側の部
    分を加熱して排気ダクト内に前記薬品の結晶が付着する
    ことを防止する加熱手段と、該加熱手段が設けられた排
    気ダクトの部分に対して下流側に設けられ排気に含まれ
    る薬品ミストを結晶化すべく排気ダクトを冷却する冷却
    手段と、該冷却手段に隣接して前記排気ダクト内に設け
    られ前記冷却手段によって冷却された排気ダクト内に付
    着する前記薬品の結晶を取り除いて排気ダクトを洗浄す
    べく流体を排気ダクト内に噴出する洗浄手段と、該洗浄
    手段へ前記流体を供給する流路を開閉する開閉弁と、前
    記排気流量計から出力された前記信号に応答して前記開
    閉弁を開成する制御手段と、前記排気ダクトに設けられ
    前記洗浄手段によって噴出され前記排気ダクト内を洗浄
    した流体をトラップするトラップ部と、該トラップ部に
    トラップされた流体又は流体によって取り除かれた結晶
    を回収する回収手段とを備えたことを特徴とする排気シ
    ステム。
  2. 【請求項2】 半導体装置製作のために薬品処理を行う
    半導体プロセス用の装置に使用される排気システムにお
    いて、前記半導体プロセス用の装置に接続され薬品ミス
    トを排気する排気ダクトと、該排気ダクト内の排気流量
    を計測し排気流量が所定の下限値を下回った場合これを
    知らせる信号を出力する排気流量計と、前記排気ダクト
    の前記半導体プロセス装置と接続されている上流側の部
    分を加熱して排気ダクト内に前記薬品の結晶が付着する
    ことを防止する加熱手段と、該加熱手段が設けられた排
    気ダクトの部分に対して下流側に設けられ排気に含まれ
    る薬品ミストを結晶化すべく排気ダクトを冷却する冷却
    手段と、前記排気ダクト外に設けられ前記冷却手段によ
    って冷却された排気ダクト内に付着する前記薬品の結晶
    を取り除いて排気ダクトを洗浄すべく流体を排気ダクト
    内に噴出する洗浄手段と、前記排気ダクトに設けられ前
    記洗浄手段から噴出される流体を排気ダクト内へ導入す
    る洗浄窓と、該洗浄窓を開閉するために洗浄窓を駆動す
    る駆動手段と、前記洗浄手段へ前記流体を供給する流路
    を開閉する開閉弁と、前記排気流量計から出力された前
    記信号に応答して前記駆動手段を起動して前記洗浄窓を
    開成し且つ前記開閉弁を開成する制御手段と、前記排気
    ダクトに設けられ前記洗浄手段によって噴出され前記排
    気ダクト内を洗浄した流体をトラップするトラップ部
    と、該トラップ部にトラップされた流体又は流体によっ
    て取り除かれた結晶を回収する回収手段とを備えたこと
    を特徴とする排気システム。
  3. 【請求項3】 前記洗浄手段は液体を噴出するスプレー
    ノズルであり、前記回収手段は、排水ラインと、前記排
    水ラインを開閉し前記制御手段によって制御される他の
    開閉弁とを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2
    に記載の排気システム。
  4. 【請求項4】 前記洗浄手段は気体を噴出するエアーガ
    ンであり、前記回収手段は、前記排気ダクトから取り外
    し可能な結晶取り出し口を含むことを特徴とする請求項
    1又は請求項2に記載の排気システム。
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