JPH081069A - 回転塗布装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の下面への塗布液の付着による汚れを防
止しながら、洗浄液の回転部分への導入に関するシール
の発熱及び発塵をなくすことができ、塗布膜厚が均一で
清浄度の高い回転塗布が可能となる回転塗布装置及び方
法を提供する。 【構成】 基板１の上面に塗布液を滴下または噴霧し
て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
において、スピン軸３の回転中心を中心とするほぼ円周
上に配列された複数の円周配列穴７と、該円周配列穴と
同心で連結されている内部円環状流路８と、基板受台周
縁部の洗浄液吹出口９と、上記内部円環状流路と洗浄液
吹出口とを連結する洗浄液吹出流路１０とが、基板を載
置して回転する基板受台２に形成されていると共に、回
転しない洗浄液供給部材１２に、スピン軸の回転中心を
中心とする円環状に形成された洗浄液供給溝１６が、上
記基板受台の円周配列穴と近接して対向するように配設
されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体や液晶ディスプ
レイ素子、光ディスクなどの製造課程に使用される基板
への回転塗布装置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板の下面への塗布液の付着によ
る汚れを防止することのできる回転塗布装置としては、
例えば図１５に示す構造のものがあった。

【０００３】同図において、基板１は正方形の板状であ
り、円板状の基板受台２上に真空吸着されている。尚、
基板１は正方形に限らず、長方形でもよい。基板受台２
はスピン軸３と一体構造で、回転自在であり、図示しな
いスピン駆動モータにより回転駆動される。

【０００４】基板受台２の上面には、真空受圧面積を広
くして充分な基板保持力を得るための真空吸着溝４が形
成されており、これはスピン軸３内部の真空排気穴５に
連結されている。基板受台２の外側近傍には、固定の洗
浄液ノズル６の吹出口が配置され、基板１の下面に向け
て洗浄液を吹き付ける。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の回転塗布装置にあっては、洗浄液が基板１の上面に
まわることを防ぐために、洗浄液ノズル６の吹出口を基
板１の内接円より内側に配置せざるを得ず、基板１の角
部には洗浄液が充分届かないという欠点があった。この
欠点は基板が長方形の場合には、より顕著になる。

【０００６】この欠点を解決するためには、洗浄液吹出
口を基板周縁近傍に配置し、且つ洗浄液吹出口を基板と
一緒に回転させる必要があるが、そのためには回転部に
洗浄液を供給するためのシール機構が必要である。しか
し、洗浄液がシール材を浸食し易い潤滑性の殆どない有
機溶剤などである場合が多いことから、これを採用すれ
ば、洗浄液にシール材のかすなどの異物が混入して基板
を汚染したり、シール部の摩擦熱がスピン軸を通って基
板へ伝わって温度を上昇させ、塗布膜厚に乱れを生じさ
せるなど、基板下面への塗布液付着などより大きな問題
を引き起こしてしまう。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、上記課題を解決するために、基板の上面に塗布液を
滴下または噴霧して、基板の上面に均一な塗布膜を形成
する回転塗布装置において、スピン軸の回転中心を中心
とするほぼ円周上に配列された複数の円周配列穴と、該
円周配列穴と同心で連結されている内部円環状流路と、
基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、上記内部円環状流路
と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液吹出流路とが、基板
を載置して回転する基板受台に形成されていると共に、
回転しない洗浄液供給部材に、スピン軸の回転中心を中
心とする円環状に形成された洗浄液供給溝が、上記基板
受台の円周配列穴と近接して対向するように配設されて
いることを特徴とする回転塗布装置を提供するものであ
る。

【０００８】請求項２に記載の発明は、上記課題を解決
するために、基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
において、スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形
成された洗浄液供給溝と、該洗浄液供給溝と同心で連結
されている内部円環状流路と、基板受台周縁部の洗浄液
吹出口と、上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結
する洗浄液吹出流路とが、基板を載置して回転する基板
受台に形成されていると共に、回転しない洗浄液供給部
材に、スピン軸の回転中心を中心とするほぼ円周上に配
列されるように形成された複数の円周配列穴が、上記基
板受台の洗浄液供給溝と近接して対向するように配設さ
れていることを特徴とする回転塗布装置を提供するもの
である。

【０００９】請求項３に記載の発明は、上記課題を解決
するために、基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
において、スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形
成された洗浄液供給溝と、該洗浄液供給溝と同心で連結
されている内部円環状流路と、基板受台周縁部の洗浄液
吹出口と、上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結
する洗浄液吹出流路とが、基板を載置して回転する基板
受台に形成されていると共に、回転しない洗浄液供給部
材に、スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形成さ
れた洗浄液供給溝が、上記基板受台の洗浄液供給溝と近
接して対向するように配設されていることを特徴とする
回転塗布装置を提供するものである。

【００１０】請求項４に記載の発明は、上記課題を解決
するために、基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
において、スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形
成された円環穴と、該円環穴と同心で連結されている内
部円環状流路と、基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、上
記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液吹
出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成さ
れていると共に、回転しない洗浄液供給部材に、スピン
軸の回転中心を中心とするほぼ円周上に配列されるよう
に形成された複数の円周配列穴が、上記基板受台の円環
穴と近接して対向するように配設されていることを特徴
とする回転塗布装置を提供するものである。

【００１１】請求項５に記載の発明は、上記課題を解決
するために、基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
において、スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形
成された円環穴と、該円環穴と同心で連結されている内
部円環状流路と、基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、上
記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液吹
出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成さ
れていると共に、回転しない洗浄液供給部材に、スピン
軸の回転中心を中心とする円環状に形成された洗浄液供
給溝が、上記基板受台の円環穴と近接して対向するよう
に配設されていることを特徴とする回転塗布装置を提供
するものである。

【００１２】請求項６に記載の発明は、上記課題を解決
するために、上記洗浄液供給部材には、内側に漏れた洗
浄液が排出されるように、円周配列穴と交わらない位置
に排液口が形成されていることを特徴とする請求項１乃
至５のいずれかに記載の回転塗布装置を提供するもので
ある。

【００１３】請求項７に記載の発明は、上記課題を解決
するために、上記洗浄液吹出流路は、上記内部円環状流
路の径方向に対して、回転と逆方向に傾けて設けられて
いることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載
の回転塗布装置を提供するものである。

【００１４】請求項８に記載の発明は、上記課題を解決
するために、上記基板受台の円周配列穴、洗浄液供給
溝、円環穴のいずれかが、スピン軸の回転中心方向を向
いており、これと近接して対向する洗浄液供給部材の円
周配列穴、洗浄液供給溝のいずれかが、回転外周方向を
向いていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
に記載の回転塗布装置を提供するものである。

【００１５】請求項９に記載の発明は、上記課題を解決
するために、上記基板受台または洗浄液供給部材のいず
れか一方にスピン軸の回転中心を中心とする円環溝、他
方に同心の円環突起が形成され、互いに近接して対向す
るように配設されていることを特徴とする請求項１乃至
８のいずれかに記載の回転塗布装置を提供するものであ
る。

【００１６】請求項１０に記載の発明は、上記課題を解
決するために、上記円環溝と円環突起との組み合わせが
複数組形成されていることを特徴とする請求項９に記載
の回転塗布装置を提供するものである。

【００１７】請求項１１に記載の発明は、上記課題を解
決するために、回転塗布時に飛散する塗布液滴を捕集す
る固定容器の底面が、外周部に近い飛散塗布液回収部分
と、スピン軸の回転中心に近い洗浄液回収部分とに仕切
られており、飛散塗布液回収部分には塗布液回収配管
が、洗浄液回収部分には洗浄液回収配管がそれぞれ配設
されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれ
かに記載の回転塗布装置を提供するものである。

【００１８】請求項１２に記載の発明は、上記課題を解
決するために、基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布方法
において、洗浄液吹き出し開始タイミングになると、洗
浄液が回転しない洗浄液供給部材から回転する基板受台
に供給され、該基板受台から基板の下面の周囲に向けて
吹き出し、基板の下面に回り込む塗布液を洗浄すること
を特徴とする回転塗布方法を提供するものである。

【００１９】

【実施例】図１乃至図８は、本発明の第１の実施例を説
明するための図である。図１において、基板受台２は図
示しないスピン駆動モータにより回転駆動されるスピン
軸３と一体構造であり回転自在である。

【００２０】基板受台２の上面には、真空受圧面積を広
くして充分な基板保持力を得るための真空吸着溝４が形
成されており、これはスピン軸３内部の真空排気穴５を
通して、図示しない真空配管及び真空ポンプと連結され
る。

【００２１】基板受台２の下面には、スピン軸３の回転
中心を中心とする下向きの円環溝２ａが形成されてお
り、その底部に明けられた複数の円周配列穴７によって
同心の内部円環状流路８と連結されている。尚、この円
周配列穴７は、この穴同士をつないで、円環穴としても
よい。

【００２２】基板受台２の周縁部には、洗浄液を基板下
面の周縁部に向かって吹き出す洗浄液吹出口９が形成さ
れており、洗浄液吹出口９と内部円環状流路８とは洗浄
液吹出流路１０により連結されている。ここで、洗浄液
吹出口９の配置は図１に限定されることなく、塗布液や
基板１の表面の物性に応じて適宜選択される。

【００２３】基板受台２の周囲は、飛散する塗布液滴を
捕集するための固定容器１１によって囲まれている。固
定容器１１の底部には、下向きの円環溝２ａと近接して
対向する円環突起１２ａを有する洗浄液供給部材１２が
設置される。また、固定容器１１の底部には、容器内の
空気を排気するための排気口１３が形成され、捕集した
塗布液を回収するための排液配管１４が配管継手１５を
介して連結される。

【００２４】回転しない洗浄液供給部材１２は、その円
環突起１２ａが、回転する基板受台２の下向きの円環溝
２ａに０．０３〜０．１ｍｍ程度の間隙を以てはまり込
むような位置に設置される。円環突起１２ａの先端面に
は、円環状の洗浄液供給溝１６が形成されており、その
底に明けてある複数の円周配列穴１７によって、円環状
の洗浄液貯蔵空間１８と連結される。洗浄液貯蔵空間１
８には、配管継手１９を介して洗浄液配管２０が接続さ
れる。洗浄液配管２０は洗浄液圧送タンク２１に接続さ
れ、その途中にバルブ２２が設置される。

【００２５】図２は、基板受台２を水平方向に輪切りに
した断面を上から見た図である。同図に示すように、洗
浄液吹出口９をつなぐ洗浄液周回流路２３が設けられて
いると共に、洗浄液吹出流路１０が内部円環状流路８の
径方向に対して、回転と逆方向に傾けて設けられてい
る。これは、回転体内部に供給された洗浄液には遠心力
と共にコリオリの力が作用し、洗浄液の流れる方向が径
方向外向きから回転と逆方向に傾くので、それを効果的
に洗浄液周回流路２３及び洗浄液吹出口９に導くため
で、スピン回転中に洗浄液を吹き出す際に有効である。
尚、スピン停止中に洗浄液を吹き出す場合でも、この洗
浄液吹出流路１０の傾きが悪影響を及ぼすことがないの
は明らかである。また、基板受台２の四隅には、突上棒
貫通穴２４が明けてある。これは、自動生産設備に使用
するため、図３に示すような基板の自動着脱機構を備え
るためである。

【００２６】図３は、この実施例に装備される基板の自
動着脱機構を示す図である。図３において、基板受台２
は、スピン軸３の軸受ケース２５の上方に回転自在に載
置され、その下方に、上部ベース板２６と下部ベース板
２７の間に固定されたスライドガイドロッド２８が設置
され、それに、スライド軸受ケース２９内に備えたスラ
イド軸受を介してスライドベース板３０が昇降自在に取
付けられている。スライドベース板３０には基板突上棒
３１が固着されており、スライドベース板３０はエアシ
リンダ３２により昇降駆動される。

【００２７】回転塗布装置が自動生産設備に使用される
場合、基板の自動搬送装置との間で、基板の受け渡しを
行う必要がある。そこで、図３に示す基板の自動着脱機
構が、基板を上げ下げし、それを行う。即ち、スライド
ベース板３０の上昇と共に、基板突上棒３１が突上棒貫
通穴２４を通して上昇して、図示しない基板搬送装置に
より基板１を載置された後、スライドベース板３０及び
基板突上棒３１が下降し、基板１を基板受台２上に載置
する。尚、この時、基板突上棒３１は、突上棒貫通穴２
４を完全に抜け切り、基板受台２が回転しても干渉しな
い位置まで下降する。回転塗布が完了した基板１を切り
換える場合も同様に、基板１を基板突上棒３１が突き上
げて上昇し、図示しない基板搬送機構により、塗布すべ
き基板１に交換した後、基板突上棒３１が下降して、基
板１を基板受台２上に載置する。

【００２８】次に、動作を説明する。図１において、基
板受台２上に基板１が載置されると、図示しない真空ポ
ンプが作動するか、若しくは真空バルブが開いて、真空
排気穴５、及び真空吸着溝４を大気圧より低い圧力にす
る。これで、基板１は基板受台２上に吸着固定される。

【００２９】吸着固定された基板１上には、図示しない
滴下ノズルより塗布液が滴下される。このとき、基板受
台２は静止しているか、または低速回転している。この
後、塗布液を均一に広げるための高速回転を行う。

【００３０】ここでは、上記高速回転時に飛散する塗布
液滴が、固定容器１１から飛び出さないように、予め排
気口１３からの排気を開始し、固定容器１１内に下向き
の気流を発生させておく。

【００３１】洗浄液の吹き出しは、上記の塗布液の滴下
開始直前より、高速回転の終了直後の間で行われる。但
し、塗布液が回転塗布により基板下面にまわろうとする
作用は、基板表面の状態、塗布液の物性及び滴下量、ス
ピン条件等によって変化するので、洗浄液の吹き出しタ
イミング及び吹き出し時間は、これらを考慮して、適宜
設定される。

【００３２】洗浄液吹き出し開始タイミングになると、
洗浄液配管２０に設けられたバルブ２２が開く。この
時、洗浄液圧送タンク２１内で加圧されていた洗浄液は
流れ始める。洗浄液は、洗浄液配管２０、洗浄液貯蔵空
間１８、円周配列穴１７、洗浄液供給溝１６、円周配列
穴７、内部円環状流路８、洗浄液吹出流路１０、洗浄液
周回流路２３と流れ、洗浄液吹出口９から吹き出され
る。この洗浄液の吹き出しは、基板受台の回転、停止を
問わず可能である。

【００３３】ここで、図４に洗浄液供給部材１２の構造
を示す。洗浄液供給部材１２は円筒形をなし、その上部
に基板受台２下面の円環溝２ａと微少な間隔で対向する
円環突起１２ａがあり、それには円環状の洗浄液供給溝
１６が形成されている。洗浄液供給溝１６の底部には、
複数の円周配列穴１７が明けられている。円周配列穴１
７は、図４では図示しないが洗浄液貯蔵空間１８につな
がっている。また、洗浄液供給部材１２には、固定容器
１１と接する位置に排液口１２ｂが円周配列穴１７と交
わらないように明けられており、洗浄液供給部材１２の
内側へ漏れた洗浄液は、排液口１２ｂを通って排出され
る。

【００３４】円周配列穴１７から流れ出る洗浄液は、図
４では図示しないが、円環突起１２ａと微少な間隔で対
向する基板受台２下面の円環溝２ａに遮られて洗浄液供
給溝１６内に充満する。その後、基板受台２の円周配列
穴７を通って内部円環状流路８へ送られる。

【００３５】洗浄液供給溝１６の部分では、図５に示す
ように、洗浄液が充満すると各部に均等に圧力が作用す
る。従って、円環突起１２ａと円環溝２ａの間隔から洗
浄液が漏れる方向にも圧力が作用するが、その間隔が
０．０３〜０．１ｍｍという微少な値であり、また微少
間隔部分の長さが３０ｍｍ程度と充分長く、且つ屈曲し
ているため、この部分では流動抵抗が極めて大きくな
り、洗浄液の漏れは若干量に抑えられる。一方、円周配
列穴７の流動抵抗は大きくないので、洗浄液供給溝１６
から円周配列穴７へは洗浄液が円滑に流れる。このよう
にして、接触部分を持たない、回転部への洗浄液供給機
構が得られる。接触部分を持たないので、摩擦熱による
温度上昇や摩耗粉による汚染を排除できる。

【００３６】ところで、洗浄液供給溝１６がないと、基
板受台２の回転に従って、洗浄液供給部材の円周配列穴
１７と基板受台の円周配列穴７が合致した時だけしか洗
浄液を有効に送れないので都合が悪い。一方、洗浄液供
給溝１６の部分には洗浄液が充満し圧力がかかるので、
図６及び図７に示すように、洗浄液供給溝１６が基板受
台２の円環溝２ａに形成されていても、洗浄液供給部材
の円環突起１２ａと基板受台の円環溝２ａの両方に形成
されていても、同様に実施でき、同様の効果が得られ
る。また、基板受台の円周配列穴７に代えて基板受台に
円環穴を形成した場合には、この円環穴が基板受台の洗
浄液供給溝の作用も兼ねるので洗浄液供給溝は不要であ
る。

【００３７】また、図８に示すように、基板受台２の円
環溝２ａ及び洗浄液供給部材１２の円環突起１２ａが形
成されていなくても、基板受台２と洗浄液供給部材１２
の近接して対向する長さが充分長ければ、洗浄液の漏れ
を効果的に抑制できる。但し、この場合、基板受台２と
洗浄液供給部材１２の対向部分の長さは、最低でも５０
ｍｍ程度必要なので、基板１が、一辺２００ｍｍ以上で
あるような大型基板である必要がある。

【００３８】ここで、再び図１に戻って説明する。基板
受台２の円環溝２ａと洗浄液供給部材１２の円環突起１
２ａの微少な隙間から漏れ出た若干量の洗浄液は、固定
容器１１の底部を流れ、或いは洗浄液供給部材１２の排
液口１２ｂを通過して、排液配管１４によって排出され
るが、これが、回転塗布により固定容器内に溜まった塗
布液をも一緒に流し去るので、固定容器内を清浄に保つ
のに役立つ。

【００３９】また、この漏れ出た洗浄液が蒸発して、固
定容器１１内の空気を洗浄液の飽和蒸気に近い状態にす
るので、固定容器１１の側壁面に付着した塗布液が乾燥
するのを抑制できる。固定容器１１の側壁面に付着した
塗布液が乾燥すると、細かい粉体状になり易く、基板１
に付着し易くなるので、これの乾燥を抑制できれば、塗
布膜の汚染防止に役立つし、側壁面付着の塗布液を回収
し易くする効果もある。

【００４０】以上のようにこの実施例によれば、塗布液
の基板下面への付着を防止しながら、均一且つ清浄な塗
布膜が得られる。

【００４１】図９は、本発明の第２の実施例を説明する
ための図で、基板受台２を水平方向に輪切りにした断面
を上から見た図である。この実施例は、第１の実施例を
長方形基板用にしたもので、その他は第１の実施例と同
様であり、同様の効果が得られる。

【００４２】図１０は、本発明の第３の実施例を説明す
るための図で、基板受台２を水平方向に輪切りにした断
面を上から見た図である。この実施例は、人手にて基板
を装着するような回転塗布装置に使用するもので、突上
棒貫通穴を備えない代わりに、洗浄液吹出流路１０の形
状を洗浄液が流れ込む方向に合わせることができるた
め、基板受台２に導入した洗浄液を洗浄液吹出口９に導
くことが容易にでき、有効に使い切ることができる。

【００４３】図１１は、本発明の第４の実施例を説明す
るための図で、基板受台２とその下方のみを示した図で
ある。この実施例では、基板受台２の円環溝２ａと洗浄
液供給部材１２の円環突起１２ａとの０．０３〜０．１
ｍｍの微少な間隔を保った凹凸状の組み合わせが複数組
形成されているので、両者の対向する水平方向の長さが
短くても、この隙間から漏れ出る洗浄液を有効に抑制で
きるので、小さい基板の塗布用に適する。

【００４４】図１２は、本発明の第５の実施例を説明す
るための図で、基板受台２とその下方のみを示した図で
ある。この実施例は、第４の実施例とは逆に、基板受台
２に円環突起を形成し、洗浄液供給部材１２に円環溝を
形成したものであるが、その他は第４の実施例と同様で
あり、同様の効果が得られる。

【００４５】図１３は、本発明の第６の実施例を説明す
るための図で、基板受台２とその下方のみを示した図で
ある。この実施例では、基板受台２の円環溝２ａがスピ
ン軸３の回転中心方向を向いており、それと対向するよ
うに、回転しない洗浄液供給部材１２の円環突起１２ａ
が０．０３〜０．１ｍｍの微少な間隔で回転外周方向を
向いて配置される。ところで、この実施例は、基板受台
２に円環穴を形成した場合を示すものであるが、この場
合、円環穴が前述した上記実施例とは９０°角度が異な
るので、円環穴が内部円環状流路８と同じ形状となり、
従って、あえて円環穴を形成する必要がない。尚、この
実施例において、基板受台２に円周配列穴７や洗浄液供
給溝１６を形成しても当然よく、その場合は、内部円環
状流路８の内側に隣接してそれらが配設される。この実
施例によれば、基板受台２の回転中には遠心力の作用に
よって、洗浄液が内部円環状流路８の方向へ押し付けら
れる。従って、基板受台２の円環溝２ａと洗浄液供給部
材１２の円環突起１２ａの隙間からの洗浄液の漏れを、
スピン回転中には殆どなくすことができる。

【００４６】図１４は、本発明の第７の実施例を説明す
るための図である。この実施例では、固定容器１１の底
部に、仕切り３３が設置され、スピン軸３の回転中心に
近い洗浄液回収部分３４と、外周側の飛散塗布液回収部
分３５に分離される。飛散塗布液回収部分３５には、排
液配管１４が配管継手１５を介して連結され、排液配管
１４は排液タンク３６に連結される。洗浄液回収部分３
４には、洗浄液回収配管３７が配管継手３８を介して連
結され、洗浄液回収配管３７は洗浄液回収タンク３９に
連結される。洗浄液回収タンク３９には洗浄液戻り配管
４０が連結される。洗浄液戻り配管４０は循環ポンプ４
１及びフィルタ４２を通って洗浄液圧送タンク２１に連
結される。洗浄液圧送タンク２１からは、洗浄液配管２
０が出て、バルブ２２を経由して、配管継手１９により
洗浄液貯蔵空間１８に連結される。

【００４７】この実施例では、基板受台２の円環溝２ａ
と洗浄液供給部材１２の円環突起１２ａとの隙間から漏
れた若干量の洗浄液は、洗浄液回収部分３４にて受けら
れる。一方、塗布液と、洗浄液吹出口９から吹き出され
た洗浄液は飛散塗布液回収部分３５にて受けられるが、
これらは仕切り３３で分離されているので、２種類の液
が混合することはない。

【００４８】洗浄液回収部分３４にて受けられた洗浄液
は、洗浄液回収配管３７を通って洗浄液回収タンク３９
に貯められた後、循環ポンプ４１によりフィルタ４２を
通ってろ過された後、洗浄液圧送タンク２１に戻って再
使用される。この実施例では、漏れ出た洗浄液を循環再
使用できるので経済的である。

【００４９】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、基板
の下面への塗布液の付着による汚れを防止しながら、洗
浄液の回転部分への導入に関するシールの発熱及び発塵
をなくすことができ、塗布膜厚が均一で清浄度の高い回
転塗布が可能となる。また、若干発生する洗浄液の漏れ
を利用して、回転塗布時に飛散した塗布液の乾燥を抑制
し、乾燥した塗布液を発塵源とする汚染をも防止でき
る。従って、塗布膜厚の均一性や高い清浄度が要求され
る半導体製造分野などで使用するのに好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図２】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図３】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図４】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図５】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図６】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図７】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図８】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。

【図９】本発明の第２の実施例を説明するための図であ
る。

【図１０】本発明の第３の実施例を説明するための図で
ある。

【図１１】本発明の第４の実施例を説明するための図で
ある。

【図１２】本発明の第５の実施例を説明するための図で
ある。

【図１３】本発明の第６の実施例を説明するための図で
ある。

【図１４】本発明の第７の実施例を説明するための図で
あある。

【図１５】従来例を説明するための図である。

【符号の説明】

１…基板 ２…基板受台 ２ａ…円環溝 ３…スピン軸 ４…真空吸着溝 ５…真空排気穴 ６…洗浄液ノズル ７…円周配列穴 ８…内部円環状流路 ９…洗浄液吹出
口 １０…洗浄液吹出流路 １１…固定容器 １２…洗浄液供給部材 １２ａ…円環突
起 １２ｂ…排液口 １３…排気口 １４…排液配管 １５…配管継手 １６…洗浄液供給溝 １７…円周配列
穴 １８…洗浄液貯蔵空間 １９…配管継手 ２０…洗浄液配管 ２１…洗浄液圧
送タンク ２２…バルブ ２３…洗浄液周
回流路 ２４…突上棒貫通穴 ２５…軸受ケー
ス ２６…上部ベース板 ２７…下部ベー
ス板 ２８…スライドガイドロッド ２９…スライド
軸受ケース ３０…スライドベース板 ３１…基板突上
棒 ３２…エアシリンダ ３３…仕切り ３４…洗浄液回収部分 ３５…飛散塗布
液回収部分 ３６…排液タンク ３７…洗浄液回
収配管 ３８…配管継手 ３９…洗浄液回
収タンク ４０…洗浄液戻り配管 ４１…循環ポン
プ ４２…フィルタ

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
   て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
   において、 スピン軸の回転中心を中心とするほぼ円周上に配列され
   た複数の円周配列穴と、 該円周配列穴と同心で連結されている内部円環状流路
   と、 基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、 上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液
   吹出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成
   されていると共に、 回転しない洗浄液供給部材に、スピン軸の回転中心を中
   心とする円環状に形成された洗浄液供給溝が、上記基板
   受台の円周配列穴と近接して対向するように配設されて
   いることを特徴とする回転塗布装置。
2. 【請求項２】 基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
   て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
   において、 スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形成された洗
   浄液供給溝と、 該洗浄液供給溝と同心で連結されている内部円環状流路
   と、 基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、 上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液
   吹出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成
   されていると共に、 回転しない洗浄液供給部材に、スピン軸の回転中心を中
   心とするほぼ円周上に配列されるように形成された複数
   の円周配列穴が、上記基板受台の洗浄液供給溝と近接し
   て対向するように配設されていることを特徴とする回転
   塗布装置。
3. 【請求項３】 基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
   て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
   において、 スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形成された洗
   浄液供給溝と、 該洗浄液供給溝と同心で連結されている内部円環状流路
   と、 基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、 上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液
   吹出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成
   されていると共に、 回転しない洗浄液供給部材に、スピン軸の回転中心を中
   心とする円環状に形成された洗浄液供給溝が、上記基板
   受台の洗浄液供給溝と近接して対向するように配設され
   ていることを特徴とする回転塗布装置。
4. 【請求項４】 基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
   て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
   において、 スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形成された円
   環穴と、 該円環穴と同心で連結されている内部円環状流路と、 基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、 上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液
   吹出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成
   されていると共に、 回転しない洗浄液供給部材に、スピン軸の回転中心を中
   心とするほぼ円周上に配列されるように形成された複数
   の円周配列穴が、上記基板受台の円環穴と近接して対向
   するように配設されていることを特徴とする回転塗布装
   置。
5. 【請求項５】 基板の上面に塗布液を滴下または噴霧し
   て、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布装置
   において、 スピン軸の回転中心を中心とする円環状に形成された円
   環穴と、 該円環穴と同心で連結されている内部円環状流路と、 基板受台周縁部の洗浄液吹出口と、 上記内部円環状流路と洗浄液吹出口とを連結する洗浄液
   吹出流路とが、基板を載置して回転する基板受台に形成
   されていると共に、 回転しない洗浄液供給部材に、スピン軸の回転中心を中
   心とする円環状に形成された洗浄液供給溝が、上記基板
   受台の円環穴と近接して対向するように配設されている
   ことを特徴とする回転塗布装置。
6. 【請求項６】 上記洗浄液供給部材には、内側に漏れた
   洗浄液が排出されるように、円周配列穴と交わらない位
   置に排液口が形成されていることを特徴とする請求項１
   乃至５のいずれかに記載の回転塗布装置。
7. 【請求項７】 上記洗浄液吹出流路は、上記内部円環状
   流路の径方向に対して、回転と逆方向に傾けて設けられ
   ていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記
   載の回転塗布装置。
8. 【請求項８】 上記基板受台の円周配列穴、洗浄液供給
   溝、円環穴のいずれかが、スピン軸の回転中心方向を向
   いており、これと近接して対向する洗浄液供給部材の円
   周配列穴、洗浄液供給溝のいずれかが、回転外周方向を
   向いていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
   に記載の回転塗布装置。
9. 【請求項９】 上記基板受台または洗浄液供給部材のい
   ずれか一方にスピン軸の回転中心を中心とする円環溝、
   他方に同心の円環突起が形成され、互いに近接して対向
   するように配設されていることを特徴とする請求項１乃
   至８のいずれかに記載の回転塗布装置。
10. 【請求項１０】 上記円環溝と円環突起との組み合わせ
    が複数組形成されていることを特徴とする請求項９に記
    載の回転塗布装置。
11. 【請求項１１】 回転塗布時に飛散する塗布液滴を捕集
    する固定容器の底面が、外周部に近い飛散塗布液回収部
    分と、スピン軸の回転中心に近い洗浄液回収部分とに仕
    切られており、飛散塗布液回収部分には塗布液回収配管
    が、洗浄液回収部分には洗浄液回収配管がそれぞれ配設
    されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれ
    かに記載の回転塗布装置。
12. 【請求項１２】 基板の上面に塗布液を滴下または噴霧
    して、基板の上面に均一な塗布膜を形成する回転塗布方
    法において、 洗浄液吹き出し開始タイミングになると、洗浄液が回転
    しない洗浄液供給部材から回転する基板受台に供給さ
    れ、該基板受台から基板の下面の周囲に向けて吹き出
    し、基板の下面に回り込む塗布液を洗浄することを特徴
    とする回転塗布方法。