JPH0794397B2 - 1,1―ジクロロ―1―フルオロエタンの精製法 - Google Patents

1,1―ジクロロ―1―フルオロエタンの精製法

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JPH0794397B2
JPH0794397B2 JP2239779A JP23977990A JPH0794397B2 JP H0794397 B2 JPH0794397 B2 JP H0794397B2 JP 2239779 A JP2239779 A JP 2239779A JP 23977990 A JP23977990 A JP 23977990A JP H0794397 B2 JPH0794397 B2 JP H0794397B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はクロロフルオロ炭化水素の分野に関し、特に1,
1−ジクロロ−1−フルオロエタン(141bとも呼称され
る)の精製法に関する。
この化合物を1,1−ジクロロエチレン(A.E.Feiring,J.F
luorine Chem.1979,14(1),7−18)または1,1,1−ト
リクロロエタン(西独特許第2,137,806号)より調製す
ると、不純物として、1,1−ジクロロ−1−フルオロエ
タンを使用する際に望ましくない不飽和クロロまたはク
ロロフルオロ化合物が含まれる。これらの不飽和不純物
の中で最も問題のものは、1,1−ジクロロ−1−フルオ
ロエタンの沸点(32℃)と非常に近接した沸点(各々3
1.7℃及び33℃)を有する1,1−ジクロロエチレン及びジ
クロロアセチレンである。
これらの不純物、主に1,1−ジクロロエチレン及びジク
ロロアセチレンを除去し得る方法が知見され、非常に純
粋な1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンが得られた。
本発明による精製方法は、1,1−ジクロロエチレン及び
/またはジクロロアセチレンを含む粗1,1−ジクロロ−
1−フルオロエタンに塩素及び/またはHClを作用さ
せ、この処理をルイス酸および任意にHFの存在下で行
い、次いでこのように処理した生成物を蒸留することか
らなる。
本発明による方法に従って処理される粗1,1−ジクロロ
−1−フルオロエタンは一般に、1,1−ジクロロ−1−
フルオロエタン50〜99.8重量%、1,1−ジクロロエチレ
ン0.1〜0.3重量%、1,1,1−トリクロロエタン0〜25重
量%、1−クロロ−1,1−ジフルオロエタン0.1〜25重量
%、及び他の不飽和化合物例えばジクロロアセチレンを
ごく微量(ほぼ10〜20ppm)含み、さらに溶解した塩酸
及びフッ化水素酸も含む。勿論、本発明による方法に従
って1,1−ジクロロエチレンを0.1%未満または最大約10
%含む粗生成物を処理してもよい。
以下の記載では、操作条件は最も重要な不純物である1,
1−ジクロロエチレンに関連して定義されている。
塩素及び/または水素酸の使用量は、処理されるべき粗
1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン中の1,1−ジクロロ
エチレン量と、触媒として使用されるルイス酸に依存す
る。実際、例えばアンチモン触媒はSb+5の状態でしか活
性でなく、且つオレフィン類によってSb+3に還元される
傾向があるので、塩素化及び/または塩化水素化または
フッ化水素化反応を行うべく触媒を活性状態に保持する
ためには最少量の塩素が必要である。
のモル比は、好ましくは少なくとも1.2に等しく、最高1
0であるが、3〜7が好都合である。塩素及び/または
水素酸は、処理されるべき粗生成物中にガス状または液
状で直接導入されるか、または処理されるべき粗生成物
のフラクション中に予め溶解されていてもよい。操作は
−20〜+70℃の範囲の温度で行われる。しかしながら、
好ましくは35℃以下であり、好都合には−5〜30℃で、
この温度であれば処理されるべき粗生成物中に存在する
及び/または処理中に形成される1,1,1−トリクロロエ
タンの分解が防げる。
操作は大気圧または25バールまでの圧力下で行われる
が、工業的条件下では5〜15バールの圧力で行うのが好
都合である。
本発明による処理は例えばFeCl3、SbCl5、TaF5、TiC
l4、MoCl5、SnCl4、NbF5などのルイス酸からなる触媒の
存在下で行われる。触媒の量は、処理されるべき粗生成
物に対して0.001〜1重量%である。
本発明による方法は非継続的に行われ得るが、工業的条
件下では継続的に操作するのが好ましい。処理時間は広
い範囲で変動し得る。処理時間は、処理されるべき粗1,
1−ジクロロ−1−フルオロエタン中に当初存在する1,1
−ジクロロエチレンの量及び使用操作条件に依存し、要
求される1,1−ジクロロエチレンの除去率にも依存す
る。1,1−ジクロロエチレンの除去率は、サンプルを取
り、サンプルをクロマトグラフィー分析することにより
簡単にモニターできる。上記した操作条件によって、事
実上完全に1,1−ジクロロエチレンを数分間(SbCl5を使
用)〜数時間(FeCl3を使用)で除去し得る。
処理を終了し、所要により触媒を分離した後、生成物を
蒸留すれば、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンを高
純度で得ることができる。この蒸留は、当初から存在し
た及び/または処理中に形成されたより軽いまたはより
重い化合物から1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンを
分離することを意図したものであり、好ましくは大気圧
下で行われ、また過圧または減圧下で行っても良い。
本発明による処理を触媒の存在下で行う際、触媒を蒸留
前にアルカリまたは塩基により洗浄して分離しても、ま
たは例えばトリアルキルまたはトリアリールホスフェー
ト、アルコールまたは水などのルイス塩基によって錯形
成しても良い。
以下の実施例は、本発明を限定することなく例証するも
のである。
実施例1 1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン0.81モル及び1,1−
ジクロロエチレン3.1×10-3モルからなる混合物95gを、
黒色ガラスの丸底フラスコ中に入れた。混合物を0℃で
攪拌しながら、塩素1.2g及び五塩化アンチモン0.25gを
急激に添加した。添加してから10分後、サンプルを取
り、ガスクロマトグラフィーにかけた。測定するまで、
サンプルに亜ヒ酸ナトリウムを少量添加して反応の進行
を止めた。
以下の結果が得られた。
1,1−ジクロロエチレンが消失し、1,1−ジクロロ−1−
フルオロエタンの一部分が1−クロロ−1,1−ジフルオ
ロエタン及び1,1,1−トリクロロエタンへ不均化し、後
者の化合物が僅かテトラクロロエタンに塩素化するのが
検出された。
次いで、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンを直ちに
混合物の分別蒸留によって他の構成成分から分離した。
実施例2 以下のものを使用して、実施例1と同一装置及び同一温
度(0℃)にて操作を行った。
−1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン0.7モル及び1,1
−ジクロロエチレン2.1×10-3モルからなる混合物82g、 −塩素1g、及び −FeCl3 0.5g。
反応停止後、時間(t)の関数として実施されたクロマ
トグラフ分析より以下の結果が得られた。
実施例3 以下のものを使用して、ほぼ29℃で、実施例1と同一装
置を使用して操作を行った。
−1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン97.9g及び1,1−
ジクロロエチレン0.17gからなる混合物98.07g、 −塩素0.8g、及び −FeCl3 0.42g。
反応停止後にクロマトグラフ分析を行って以下の結果が
得られた。
実施例4 ジクロロアセチレン46.5mgを含む1,1−ジクロロ−1−
フルオロエタン500gを15〜16℃で攪拌しながらガラス製
反応器中に入れ、次いでSbCl5 800mg及び塩素0.3gを添
加した。15分後の混合物の分析では、ジクロロアセチレ
ンが完全に消失し、主に1,2−ジクロロエチレンに転化
していた。
実施例5 工業用1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン2167gを黒色
ガラス製反応器に入れ、15〜16℃で攪拌し続け、次いで
FeCl3 600mgを添加した。次に、塩素を浸漬チューブを
用いてほぼ5g/の溶存塩素量を保持する速度で導入し
た。
以下の表に当初の組成及び反応6時間後に測定した組成
を示す。
反応6時間後に得られた反応混合物にトリブチルホスフ
ェート2.5gを添加し、次いで蒸留した。最初と最後のフ
ラクションを除去して、99.5%以上の純度の1,1−ジク
ロロ−1−フルオロエタン1600gを回収した。
実施例6 1,1−ジクロロエチレン0.22重量%を含む1,1−ジクロロ
−1−フルオロエタン100gを反応器中に入れ、次いでFe
Cl3 210mgを添加した。混合物を−3℃に冷却し、HClガ
スで満たした。
2時間後に、サンプルのクロマトグラフ分析で1,1−ジ
クロロエチレン濃度0.13%及び1,1,1−トリクロロエタ
ンピークを検出した。
試験を10時間継続すると、1,1−ジクロロエチレン濃度
が0.05%であるのが検知された。
実施例7 1,1−ジクロロエチレン0.14重量%を含む1,1−ジクロロ
−1−フルオロエタン100gを反応器中に入れた。これを
−10℃に冷却し、次いでSbCl5 400mgを添加し、混合物
をHClガスで満たした。
1時間後、サンプル中の1,1−ジクロロエチレン濃度は
0.02%以下であった。1,1,1−トリクロロエタン及び1
−クロロ−1,1−ジフルオロエタンがクロマトグラム上
に検出された。
実施例8 1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン及び1−クロロ−
1,1−ジフルオロエタンの製造工程からの100/hの速度
での反応流出物を、10バールに加圧し、温度を9℃にほ
ぼ3時間保持した。この間、ごく少量の塩素(ほぼ200g
/h)を注入してSbCl5触媒を活性状態に保持した。
当初及び最終組成を以下の表に重量%で示した。
この実施例では、水素酸(HCl+HF)の含有量を高く
し、加圧し且つ低温にすると、活性を塩素の注入によっ
て保持したSbCl5触媒の存在下で不飽和生成物の飽和生
成物への変化が起きた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シルバン・ペルドウリユー フランス国、69390・ベルネゾン、リユ・ ドウ・ラ・マソニエール・シヤルリイ、 707 (56)参考文献 特開 平3−24024(JP,A) 特開 平3−20231(JP,A)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1,1−ジクロロエチレン及び/またはジク
    ロロアセチレンを含む粗1,1−ジクロロ−1−フルオロ
    エタンに塩素及び/またはHClを作用させ、この処理を
    ルイス酸および任意にHFの存在下で行い、次いでこのよ
    うに処理した生成物を蒸留することを特徴とする粗1,1
    −ジクロロ−1−フルオロエタンの精製方法。
  2. 【請求項2】塩素及び/またはHClのモル比 CH2=CCl2 が1.2〜10、好ましくは3〜7である請求項1に記載の
    方法。
  3. 【請求項3】処理を−20〜+70℃、好ましくは−5〜+
    30℃の温度で実施する請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】処理されるべき粗生成物に対し0.001〜1
    重量%のルイス酸触媒の存在下で処理する請求項1〜3
    のいずれか1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】処理を継続して実施する請求項1〜4のい
    ずれか1項に記載の方法。
JP2239779A 1989-09-12 1990-09-10 1,1―ジクロロ―1―フルオロエタンの精製法 Expired - Fee Related JPH0794397B2 (ja)

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