JPH0790296A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属、樹脂、硝子、セラミックなどの工業部
品に付着したハンダフラックス、加工油、切粉、塵芥等
の除去に用いる洗浄剤組成物であり、オゾン層破壊の恐
れがなく、広範な汚染に対し優れた洗浄性を呈する。 【構成】 炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールのエチ
レンオキシド2〜4モル付加物の一種以上を85〜97
重量%、非イオン界面活性剤を0.5〜5重量%、水を
0.1〜5重量%で構成する事を特長とする工業部品洗
浄用洗浄剤組成物。 【効果】 安全性に優れ、洗浄性並びに洗浄後の洗浄剤
除去性に優れる。
品に付着したハンダフラックス、加工油、切粉、塵芥等
の除去に用いる洗浄剤組成物であり、オゾン層破壊の恐
れがなく、広範な汚染に対し優れた洗浄性を呈する。 【構成】 炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールのエチ
レンオキシド2〜4モル付加物の一種以上を85〜97
重量%、非イオン界面活性剤を0.5〜5重量%、水を
0.1〜5重量%で構成する事を特長とする工業部品洗
浄用洗浄剤組成物。 【効果】 安全性に優れ、洗浄性並びに洗浄後の洗浄剤
除去性に優れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、工業部品、詳しくは金
属、樹脂、硝子、セラミックなどの部品に付着するハン
ダフラックス、加工油、切粉、塵芥などを洗浄する洗浄
剤組成物に関するものである。
属、樹脂、硝子、セラミックなどの部品に付着するハン
ダフラックス、加工油、切粉、塵芥などを洗浄する洗浄
剤組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の工業部品に付着するハンダフラッ
クス、加工油、切粉、塵芥などの洗浄には、CFC−1
13や1,1,1−トリクロロエタンに代表されるハロ
ゲン化炭化水素が広く用いられていた。又、今日ではそ
れらハロゲン化炭化水素に替わる洗浄剤類として、アル
コール類、石油系炭化水素類或は各種水系洗浄剤類が利
用されている。
クス、加工油、切粉、塵芥などの洗浄には、CFC−1
13や1,1,1−トリクロロエタンに代表されるハロ
ゲン化炭化水素が広く用いられていた。又、今日ではそ
れらハロゲン化炭化水素に替わる洗浄剤類として、アル
コール類、石油系炭化水素類或は各種水系洗浄剤類が利
用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の(1)多くのハロゲン化炭化水素類にあって
は、オゾン層を破壊する原因物質として使用に制限を受
けるに到り、(2)アルコール類は洗浄に対し、汚染選
択性が観られたり比較的低い引火点を持つことで、その
取り扱い、安全性に懸念があり、(3)石油系炭化水素
類は洗浄に対し、汚染選択性や洗浄後の洗浄液の除去
性、即ちリンス性に多大の労力を要し、いずれの洗浄剤
も広範な洗浄用途に制限を受けていることが知られてい
る。一方、高沸点溶剤のひとつであるグリコールエーテ
ルを主剤とし、これに界面活性剤と水を加えた準水系洗
浄剤は、水分の調整で引火点に対する懸念、即ち安全性
が確保され、かつ、フラックス洗浄性が優れるものの、
洗浄後の洗浄剤自身の除去に設備上多くのスペースを必
要としたり、物理的手段を必要とするという問題点があ
った。
うな従来の(1)多くのハロゲン化炭化水素類にあって
は、オゾン層を破壊する原因物質として使用に制限を受
けるに到り、(2)アルコール類は洗浄に対し、汚染選
択性が観られたり比較的低い引火点を持つことで、その
取り扱い、安全性に懸念があり、(3)石油系炭化水素
類は洗浄に対し、汚染選択性や洗浄後の洗浄液の除去
性、即ちリンス性に多大の労力を要し、いずれの洗浄剤
も広範な洗浄用途に制限を受けていることが知られてい
る。一方、高沸点溶剤のひとつであるグリコールエーテ
ルを主剤とし、これに界面活性剤と水を加えた準水系洗
浄剤は、水分の調整で引火点に対する懸念、即ち安全性
が確保され、かつ、フラックス洗浄性が優れるものの、
洗浄後の洗浄剤自身の除去に設備上多くのスペースを必
要としたり、物理的手段を必要とするという問題点があ
った。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
従来の問題点に着目してなされたものである。すなわ
ち、本発明は炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールのエ
チレンオキシド2〜4モル付加物の1種以上を85〜9
7重量%、非イオン界面活性剤を0.1〜5重量%、水
を3〜15重量%で構成することを特長とする工業部品
洗浄用洗浄剤組成物である。工業部品とは金属、樹脂、
硝子、セラミックスなどからなり、これら部品の製造、
加工工程中に付着するハンダフラックス、加工油、切
粉、塵芥などを洗浄除去する。
従来の問題点に着目してなされたものである。すなわ
ち、本発明は炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールのエ
チレンオキシド2〜4モル付加物の1種以上を85〜9
7重量%、非イオン界面活性剤を0.1〜5重量%、水
を3〜15重量%で構成することを特長とする工業部品
洗浄用洗浄剤組成物である。工業部品とは金属、樹脂、
硝子、セラミックスなどからなり、これら部品の製造、
加工工程中に付着するハンダフラックス、加工油、切
粉、塵芥などを洗浄除去する。
【0005】(手段を構成する要件)本発明に使用する
炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールは、イソプロピル
アルコール、イソブチルアルコール、セカンダリーブチ
ルアルコール、ターシャリーブチルアルコール等が挙げ
られる。非イオン界面活性剤には、ポリオキシアルキレ
ンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンブロックポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、シ
ョ糖脂肪酸エステル等が挙げられる。水は、その洗浄剤
の使用用途により異なるが、軟水或は電気伝導度0.2
μS/cm以下の純水が好ましい。炭素数3〜4の脂肪
族分岐アルコールエチレンオキシド2〜4モル付加物で
あることが、洗浄効果並びに洗浄剤の容易な除去性能を
得るためには必須であり、炭素数5以上の脂肪族分岐ア
ルコールや炭素数3〜4の脂肪族直鎖アルコールでは、
洗浄効果並びに洗浄剤の容易な除去性能のバランス性能
を得ることは難しい。又、炭素数3〜4の脂肪族分岐ア
ルコールのエチレンオキシド1モル付加物や、炭素数3
〜4の脂肪族分岐アルコールのエチレンオキシド5モル
以上の付加物でも洗浄効果及び洗浄剤の容易な除去性能
のバランス性能を得ることが難しく、特に1モル付加物
では、人体に対する安全性が懸念される場合がある。更
に、エチレンオキシド以外のプロピレンオキシド、ブチ
レンオキシド付加物は、特に容易な除去性能に劣る。炭
素数3〜4の脂肪族分岐アルコールのエチレンオキシド
2〜4モル付加物を97重量%より多く使用すると、広
範な汚染に対する洗浄効果に劣り、一方、85重量%未
満では洗浄後の除去性能が劣る。界面活性剤は、非イオ
ン界面活性剤に限定され、イオン性を有すアニオン界面
活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤は、微量
残存した場合に素材へ悪影響がある。非イオン界面活性
剤の使用範囲は0.1〜5重量%が好ましく、5重量%
を越えると洗浄後の除去性能に劣り、0.1重量%以下
では洗浄効果が劣る。水の添加量は、引火性を無くすた
めに3重量%以上が必要であり、洗浄性能上15重量%
を超えると好ましくない。本発明洗浄剤組成物を工業部
品の洗浄に使用する場合、そのまま使用できるが、用途
によっては最大限20倍まで水で希釈して使用できる。
炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールは、イソプロピル
アルコール、イソブチルアルコール、セカンダリーブチ
ルアルコール、ターシャリーブチルアルコール等が挙げ
られる。非イオン界面活性剤には、ポリオキシアルキレ
ンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンブロックポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、シ
ョ糖脂肪酸エステル等が挙げられる。水は、その洗浄剤
の使用用途により異なるが、軟水或は電気伝導度0.2
μS/cm以下の純水が好ましい。炭素数3〜4の脂肪
族分岐アルコールエチレンオキシド2〜4モル付加物で
あることが、洗浄効果並びに洗浄剤の容易な除去性能を
得るためには必須であり、炭素数5以上の脂肪族分岐ア
ルコールや炭素数3〜4の脂肪族直鎖アルコールでは、
洗浄効果並びに洗浄剤の容易な除去性能のバランス性能
を得ることは難しい。又、炭素数3〜4の脂肪族分岐ア
ルコールのエチレンオキシド1モル付加物や、炭素数3
〜4の脂肪族分岐アルコールのエチレンオキシド5モル
以上の付加物でも洗浄効果及び洗浄剤の容易な除去性能
のバランス性能を得ることが難しく、特に1モル付加物
では、人体に対する安全性が懸念される場合がある。更
に、エチレンオキシド以外のプロピレンオキシド、ブチ
レンオキシド付加物は、特に容易な除去性能に劣る。炭
素数3〜4の脂肪族分岐アルコールのエチレンオキシド
2〜4モル付加物を97重量%より多く使用すると、広
範な汚染に対する洗浄効果に劣り、一方、85重量%未
満では洗浄後の除去性能が劣る。界面活性剤は、非イオ
ン界面活性剤に限定され、イオン性を有すアニオン界面
活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤は、微量
残存した場合に素材へ悪影響がある。非イオン界面活性
剤の使用範囲は0.1〜5重量%が好ましく、5重量%
を越えると洗浄後の除去性能に劣り、0.1重量%以下
では洗浄効果が劣る。水の添加量は、引火性を無くすた
めに3重量%以上が必要であり、洗浄性能上15重量%
を超えると好ましくない。本発明洗浄剤組成物を工業部
品の洗浄に使用する場合、そのまま使用できるが、用途
によっては最大限20倍まで水で希釈して使用できる。
【0006】
【実施例】表1の各洗浄剤組成物を調整し、効果例1〜
4のテストに供した。
4のテストに供した。
【0007】
【表1】
【0008】効果例−1 ロジン系フラックス付着モデ
ル基板洗浄性 モデル基板5枚を60℃に加温(但し、アルコールは3
0℃とする)した、各洗浄組成物原液に浸漬し、40K
Hz/600Wの超音波洗浄を行う。 洗浄後、加温純
水水洗2槽を経て乾燥処理の後、オメガメーターにより
NaCl換算されたイオン残渣量を求め、洗浄性の比較
を行う。 効果例−2 油性切削油付着アルミ部品洗浄性 0.5mmφ/深さ3mmの袋穴を4か所有すアルミ部
品3個を、水により10倍に希釈した各洗浄組成物を6
0℃に加温(但し、アルコールは30℃とする)した洗
浄液に浸漬し、40KHz/600Wの超音波洗浄を行
う。洗浄後、加温純水水洗2槽を経て乾燥処理の後、四
塩化炭素にて抽出し、赤外分光光度法にて部品1個あた
りの残存油分量を測定洗浄性の比較を行う。 効果例−3 モデル基板による洗浄剤組成物残存性 効果例−1に用いた清浄なモデル基板を各洗浄組成物原
液に浸漬し、基板1枚に対し100mlの純水2槽で水
洗し乾燥処理の後、四塩化炭素にて抽出し、赤外分光光
度法にて基板1枚に対する各洗浄組成物残存量を測定し
た。これにより、除去性能の比較を行う。 効果例−4 引火点の測定 クリーブランドオープンカップ式法に準じ、各洗浄組成
物の引火点を測定する。引火性を発現する場合×、発現
しない場合○で示す。
ル基板洗浄性 モデル基板5枚を60℃に加温(但し、アルコールは3
0℃とする)した、各洗浄組成物原液に浸漬し、40K
Hz/600Wの超音波洗浄を行う。 洗浄後、加温純
水水洗2槽を経て乾燥処理の後、オメガメーターにより
NaCl換算されたイオン残渣量を求め、洗浄性の比較
を行う。 効果例−2 油性切削油付着アルミ部品洗浄性 0.5mmφ/深さ3mmの袋穴を4か所有すアルミ部
品3個を、水により10倍に希釈した各洗浄組成物を6
0℃に加温(但し、アルコールは30℃とする)した洗
浄液に浸漬し、40KHz/600Wの超音波洗浄を行
う。洗浄後、加温純水水洗2槽を経て乾燥処理の後、四
塩化炭素にて抽出し、赤外分光光度法にて部品1個あた
りの残存油分量を測定洗浄性の比較を行う。 効果例−3 モデル基板による洗浄剤組成物残存性 効果例−1に用いた清浄なモデル基板を各洗浄組成物原
液に浸漬し、基板1枚に対し100mlの純水2槽で水
洗し乾燥処理の後、四塩化炭素にて抽出し、赤外分光光
度法にて基板1枚に対する各洗浄組成物残存量を測定し
た。これにより、除去性能の比較を行う。 効果例−4 引火点の測定 クリーブランドオープンカップ式法に準じ、各洗浄組成
物の引火点を測定する。引火性を発現する場合×、発現
しない場合○で示す。
【0009】
(1)本発明洗浄剤組成物は、CFC−113や1,
1,1−トリクロロエタンなどのオゾン層破壊物質に該
当せず、(2)一般のアルコール類に比較し、水分調整
を図ることで引火性の心配を無くすこともでき、且つ汚
染物質に対する洗浄選択性を改善でき、(3)石油系炭
化水素類に比較し、洗浄後における洗浄剤の除去を不要
とし、(4)今日広く用いられている準水系洗浄剤や界
面活性剤より構成される水系洗浄剤に比較し、洗浄剤の
容易な除去性能とあらゆる汚染対象物に対し優れた洗浄
性能を発揮するものである。
1,1−トリクロロエタンなどのオゾン層破壊物質に該
当せず、(2)一般のアルコール類に比較し、水分調整
を図ることで引火性の心配を無くすこともでき、且つ汚
染物質に対する洗浄選択性を改善でき、(3)石油系炭
化水素類に比較し、洗浄後における洗浄剤の除去を不要
とし、(4)今日広く用いられている準水系洗浄剤や界
面活性剤より構成される水系洗浄剤に比較し、洗浄剤の
容易な除去性能とあらゆる汚染対象物に対し優れた洗浄
性能を発揮するものである。
Claims (1)
- 【請求項1】 炭素数3〜4の脂肪族分岐アルコールの
エチレンオキシド2〜4モル付加物の1種以上を85〜
97重量%、非イオン界面活性剤を0.1〜5重量%、
水を3〜15重量%で構成することを特長とする工業部
品洗浄用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26423293A JP3253195B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 洗浄剤組成物 |
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JP2012052024A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 光造形樹脂成形体用洗浄剤組成物 |
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- 1993-09-27 JP JP26423293A patent/JP3253195B2/ja not_active Expired - Fee Related
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