JPH078857B2 - アジド化合物 - Google Patents
アジド化合物Info
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- JPH078857B2 JPH078857B2 JP27326988A JP27326988A JPH078857B2 JP H078857 B2 JPH078857 B2 JP H078857B2 JP 27326988 A JP27326988 A JP 27326988A JP 27326988 A JP27326988 A JP 27326988A JP H078857 B2 JPH078857 B2 JP H078857B2
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- cis
- pyridyl
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、一般式 （式中、Ｒはホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエト
キシメチル基、1,3−ジオキソラン−２−イル基、N,N−
ジメチルアミノメチル基、N,N−ジエチルアミノメチル
基、ピペリジノメチル基、ピロリジノメチル基、４−ヒ
ドロキシピペリジノメチル基、３−メチルピペリジノメ
チル基、1,2,3,6−テトラヒドロ−１−ピリジルメチル
基、１−ペルヒドロアゼピニルメチル基、モルホリノメ
チル基、チオモルホリノメチル基または４−メチル−１
−ピペラリジニルメチル基であり、Ｙはエチレン基また
はビニレン基である。）で表わされるアジド化合物に関
する。
キシメチル基、1,3−ジオキソラン−２−イル基、N,N−
ジメチルアミノメチル基、N,N−ジエチルアミノメチル
基、ピペリジノメチル基、ピロリジノメチル基、４−ヒ
ドロキシピペリジノメチル基、３−メチルピペリジノメ
チル基、1,2,3,6−テトラヒドロ−１−ピリジルメチル
基、１−ペルヒドロアゼピニルメチル基、モルホリノメ
チル基、チオモルホリノメチル基または４−メチル−１
−ピペラリジニルメチル基であり、Ｙはエチレン基また
はビニレン基である。）で表わされるアジド化合物に関
する。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされるアジド化合物
は、ヒスタミンH2受容体拮抗作用に基づく抗消化性潰瘍
剤として有用な化合物の中間体となる化合物である。
は、ヒスタミンH2受容体拮抗作用に基づく抗消化性潰瘍
剤として有用な化合物の中間体となる化合物である。
（従来の技術） 従来、ヒスタミンH2受容体拮抗作用に基づく抗消化性潰
瘍剤として、例えば式 で表される化合物が知られている（特開昭61-85365号参
照）。更に高活性な化合物を見出すべく検討した結果、
一般式 （式中、Ｙは前記と同じである。）で表される化合物が
見出されるに至った（特開昭63-225371号）。前記化合
物Ａ及び化合物Ｂを製造するには、一般式 （式中、R2は二置換アミノ基である。）で表される化合
物と一般式 （式中、Ｙは前記と同じである。）で表される化合物と
を反応させ、得られる一般式 （式中、R2およびＹは前記と同じである。）で表わされ
るアミン化合物を共通の原料にしていた。
瘍剤として、例えば式 で表される化合物が知られている（特開昭61-85365号参
照）。更に高活性な化合物を見出すべく検討した結果、
一般式 （式中、Ｙは前記と同じである。）で表される化合物が
見出されるに至った（特開昭63-225371号）。前記化合
物Ａ及び化合物Ｂを製造するには、一般式 （式中、R2は二置換アミノ基である。）で表される化合
物と一般式 （式中、Ｙは前記と同じである。）で表される化合物と
を反応させ、得られる一般式 （式中、R2およびＹは前記と同じである。）で表わされ
るアミン化合物を共通の原料にしていた。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、従来の前記中間体Ａを用いる製造法は、
前記中間体Ａへの誘導が極めて煩雑であり、前記化合物
Ａ及び化合物Ｂの簡便な製造方法とは言いがたく、新た
な製造法が求められていた。
前記中間体Ａへの誘導が極めて煩雑であり、前記化合物
Ａ及び化合物Ｂの簡便な製造方法とは言いがたく、新た
な製造法が求められていた。
（問題点を解決するための手段） そこで本発明者等は、従来の問題点を解決するため鋭意
検討した結果、前記化合物Ａおよび化合物Ｂを製造する
ための中間体として前記一般式（Ｉ）で表されるアジド
化合物を見出し、本発明を完成した。
検討した結果、前記化合物Ａおよび化合物Ｂを製造する
ための中間体として前記一般式（Ｉ）で表されるアジド
化合物を見出し、本発明を完成した。
以下、前記一般式（Ｉ）で表されるアジド化合物の合成
法につき示す。
法につき示す。
（式中ＲおよびＹは前記と同じであり、X1はハロゲン原
子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスル
ホニルオキシ基である。） 〔第一工程〕 本工程は、前記一般式（II）で表わされるアルコール化
合物をハロゲン化、メタンスルホニル化またはｐ−トル
エンスルホニル化反応を行い前記一般式（III）で表わ
される化合物を製造するものである。
子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスル
ホニルオキシ基である。） 〔第一工程〕 本工程は、前記一般式（II）で表わされるアルコール化
合物をハロゲン化、メタンスルホニル化またはｐ−トル
エンスルホニル化反応を行い前記一般式（III）で表わ
される化合物を製造するものである。
前記一般式（II）で表わされるアルコール化合物におい
て、Ｒは、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキ
シメチル基、1,3−ジオキソラン−２−イル基などの保
護されたホルミル基、またはN,N−ジメチルアミノメチ
ル基、N,N−ジエチルアミノメチル基、ピペリジノメチ
ル基、ピロリジノメチル基、４−ヒドロキシピペリジノ
メチル基、３−メチルピペリジノメチル基、1,2,3,6−
テトラヒドロ−１−ピリジルメチル基、１−ペルヒドロ
アゼピニルメチル基、モルホリノメチル基、チオモルホ
リノメチル基、４−メチル−１−ピペラジニルメチル基
などの置換アミノメチル基であり、Ｙは、エチレン基ま
たはcisもしくはtransのビニレン基である。
て、Ｒは、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキ
シメチル基、1,3−ジオキソラン−２−イル基などの保
護されたホルミル基、またはN,N−ジメチルアミノメチ
ル基、N,N−ジエチルアミノメチル基、ピペリジノメチ
ル基、ピロリジノメチル基、４−ヒドロキシピペリジノ
メチル基、３−メチルピペリジノメチル基、1,2,3,6−
テトラヒドロ−１−ピリジルメチル基、１−ペルヒドロ
アゼピニルメチル基、モルホリノメチル基、チオモルホ
リノメチル基、４−メチル−１−ピペラジニルメチル基
などの置換アミノメチル基であり、Ｙは、エチレン基ま
たはcisもしくはtransのビニレン基である。
前記一般式（II）で表わされるアルコール化合物は、例
えば、２−アミノ−４−メチルピリジンまたはイソニコ
チン酸オキシドを原料とし用い、特開平1-230556号に開
示されている方法に従い製造することができる。（以下
式１参照）。
えば、２−アミノ−４−メチルピリジンまたはイソニコ
チン酸オキシドを原料とし用い、特開平1-230556号に開
示されている方法に従い製造することができる。（以下
式１参照）。
（式中X2は塩素原子または臭素原子を表わし、R1は水酸
基の保護基であり、Ｒ′はジメトキシメチル基、ジエト
キシメチル基または1,3−ジオキソラン−２−イル基で
ある。） 前記一般式（II）で表わされるアルコール化合物は、塩
化チオニル、五塩化リン、臭化チオニル、五臭化リンな
どによりのハロゲン化、塩化メタンスルホニル、無水メ
タンスルホニルなどによりメタンスルホニル化、塩化ｐ
−トルエンスルホニル、無水ｐ−トルエンスルホニルな
どによりｐ−トルエンスルホニル化することができ前記
一般式（III）で表わされる化合物を製造することがで
きる。
基の保護基であり、Ｒ′はジメトキシメチル基、ジエト
キシメチル基または1,3−ジオキソラン−２−イル基で
ある。） 前記一般式（II）で表わされるアルコール化合物は、塩
化チオニル、五塩化リン、臭化チオニル、五臭化リンな
どによりのハロゲン化、塩化メタンスルホニル、無水メ
タンスルホニルなどによりメタンスルホニル化、塩化ｐ
−トルエンスルホニル、無水ｐ−トルエンスルホニルな
どによりｐ−トルエンスルホニル化することができ前記
一般式（III）で表わされる化合物を製造することがで
きる。
本工程を実施するには溶媒中で行うことが望ましく、例
えば、エチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）、
ジメトキシエタン（DME）、ジオキサンなどのエーテル
類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、
ジメチルホルムアミド（DMF）などのアミド類を使用す
ることができる。
えば、エチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）、
ジメトキシエタン（DME）、ジオキサンなどのエーテル
類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類、
ジメチルホルムアミド（DMF）などのアミド類を使用す
ることができる。
本工程の実施に際しては、有機塩基の存在下に行うこと
が好ましく、ピリジン、トリエチルアミンなどを使用す
ることができる。反応は、０〜30℃の温度範囲を選ぶこ
とにより円滑に進行する。
が好ましく、ピリジン、トリエチルアミンなどを使用す
ることができる。反応は、０〜30℃の温度範囲を選ぶこ
とにより円滑に進行する。
本工程は、前記一般式（III）で表わされる化合物をア
ジ化ナトリウム、アジ化カリウムなどのアジ化金属と反
応させ、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を製造す
るものである。
ジ化ナトリウム、アジ化カリウムなどのアジ化金属と反
応させ、前記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を製造す
るものである。
本工程を実施するには、溶媒中で行うことが望ましくア
セトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロ
パノールなどのアルコール類、テトラハイドロフラン
（THF）などのエーテル類、アセトニトリルなどのニト
リル類およびそれらと水との混合溶媒、DMFなどのアミ
ド類を使用することができる。さらにエチルエーテル、
テトラヒドロフラン（THF）、ジメトキシエタン（DM
E）、ジオキサンなどのエーテル類、クロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素類、DMFなどのアミド類を
使用し、塩化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、硫酸水
素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムなどの有機アンモニ
ウム塩類または12−クラウン−４、18−クラウン−６な
どのクラウンエーテル類を加え反応を行うこともでき
る。反応は０〜30℃の範囲で行うことができる。
セトンなどのケトン類、メタノール、エタノール、プロ
パノールなどのアルコール類、テトラハイドロフラン
（THF）などのエーテル類、アセトニトリルなどのニト
リル類およびそれらと水との混合溶媒、DMFなどのアミ
ド類を使用することができる。さらにエチルエーテル、
テトラヒドロフラン（THF）、ジメトキシエタン（DM
E）、ジオキサンなどのエーテル類、クロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエンなどの芳香族炭化水素類、DMFなどのアミド類を
使用し、塩化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、硫酸水
素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムなどの有機アンモニ
ウム塩類または12−クラウン−４、18−クラウン−６な
どのクラウンエーテル類を加え反応を行うこともでき
る。反応は０〜30℃の範囲で行うことができる。
以上の如くして得られた前記一般式（Ｉ）で表わされる
アジド化合物は、還水素化リチウムアルミニウム、水素
化アルミニウム、トリフェニルホスフィンなどの還元剤
および接触還元などにより容易に還元され、前記中間体
Ａなどのアミン化合物を製造することができる。
アジド化合物は、還水素化リチウムアルミニウム、水素
化アルミニウム、トリフェニルホスフィンなどの還元剤
および接触還元などにより容易に還元され、前記中間体
Ａなどのアミン化合物を製造することができる。
また、さらにアミン化合物は特開昭63-225371号に開示
されている方法により化合物Ｂに導くことができる。
されている方法により化合物Ｂに導くことができる。
以下、参考例および実施例により本願発明をさらに詳し
く説明する。
く説明する。
参考例１ １−メタンスルホニルオキシ−４−〔４−（ジエトキシ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２−ブテン ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール（2.0g）、トリエ
チルアミン（0.86g）をベンゼン（50ml）に溶解し、室
温下、塩化メタンスルホニル（0.94g）のベンゼン溶液
（10ml）を滴下した。
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２−ブテン ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール（2.0g）、トリエ
チルアミン（0.86g）をベンゼン（50ml）に溶解し、室
温下、塩化メタンスルホニル（0.94g）のベンゼン溶液
（10ml）を滴下した。
30分撹拌後、反応溶液に飽和重曹水を加え、アルカリ性
にて抽出、乾燥後、溶媒を留去し、１−メタンスルホニ
ルオキシ−４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−cis−２−ブテン（2.58g,定量的）を得
た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.24（3H×2,t,J＝7.8Hz）,3.04
（3H,s）,3.50〜3.65（4H,m）,4.95〜5.00（4H,m）,5.4
4（1H,s）,5.75〜5.85（1H,m）,6.00〜6.10（1H,m）,6.
88（1H,s）,7.00（1H,d,J＝5.4Hz）,8.13（1H,d,J＝5.4
Hz） IR（cm‐1,film）:1616,1566,1178 C15H23NO6S：実測値 345.1238 計算値 345.1245 実施例１ ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド １−メタンスルホニルオキシ−４−〔４−（ジエトキシ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２−ブテン
（2.58g）をアセトン−水（10:1）混液（50ml）に溶解
し、氷冷下、アジ化ナトリウム（0.59g）を加え、徐々
に室温まで戻した。
にて抽出、乾燥後、溶媒を留去し、１−メタンスルホニ
ルオキシ−４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−cis−２−ブテン（2.58g,定量的）を得
た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.24（3H×2,t,J＝7.8Hz）,3.04
（3H,s）,3.50〜3.65（4H,m）,4.95〜5.00（4H,m）,5.4
4（1H,s）,5.75〜5.85（1H,m）,6.00〜6.10（1H,m）,6.
88（1H,s）,7.00（1H,d,J＝5.4Hz）,8.13（1H,d,J＝5.4
Hz） IR（cm‐1,film）:1616,1566,1178 C15H23NO6S：実測値 345.1238 計算値 345.1245 実施例１ ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド １−メタンスルホニルオキシ−４−〔４−（ジエトキシ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２−ブテン
（2.58g）をアセトン−水（10:1）混液（50ml）に溶解
し、氷冷下、アジ化ナトリウム（0.59g）を加え、徐々
に室温まで戻した。
２時間撹拌後、反応溶液を濃縮し、残渣を塩化メチレン
にとり、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４−〔４−（ジ
エトキシメチル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２−
ブテン−１−アジド（2.19g,定量的）を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.24（3H×2,t,J＝6.3Hz）,3.50
〜3.65（4H,m）,3.99（2H,d,J＝7.2Hz）,4.92（2H,d,J
＝5.7Hz）,5.44（1H,s）,5.70〜5.80（1H,m）,5.95〜6.
05（1H,m）,6.88（1H,s）,7.00（1H,d,J＝5.7Hz）,8.13
（1H,d,J＝5.7Hz） IR（cm‐1,film）:2104,1616,1566 C14H20N4O3：実測値 292.1527 計算値 292.1534 参考例２ ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アミン ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド（2.19g）を無水テ
トラヒドロフラン（50ml）に溶解し、室温下、トリフェ
ニルホスフィン（2.16g）を加え、18時間撹拌した後、
水（0.13ml）を加えた。
にとり、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４−〔４−（ジ
エトキシメチル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２−
ブテン−１−アジド（2.19g,定量的）を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.24（3H×2,t,J＝6.3Hz）,3.50
〜3.65（4H,m）,3.99（2H,d,J＝7.2Hz）,4.92（2H,d,J
＝5.7Hz）,5.44（1H,s）,5.70〜5.80（1H,m）,5.95〜6.
05（1H,m）,6.88（1H,s）,7.00（1H,d,J＝5.7Hz）,8.13
（1H,d,J＝5.7Hz） IR（cm‐1,film）:2104,1616,1566 C14H20N4O3：実測値 292.1527 計算値 292.1534 参考例２ ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アミン ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド（2.19g）を無水テ
トラヒドロフラン（50ml）に溶解し、室温下、トリフェ
ニルホスフィン（2.16g）を加え、18時間撹拌した後、
水（0.13ml）を加えた。
３時間撹拌後、反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチルに
とり、10％酢酸酸性で洗浄した。
とり、10％酢酸酸性で洗浄した。
水層（酢酸層）を氷冷下、炭酸カリウムで塩基性とし、
塩化メチレンで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキシ〕
−cis−２−ブテン−１−アミン（1.28g,64％）を得
た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.23（3H×2,t,J＝7.5Hz）,1.55
（2H,br−ｓ）,3.45（2H,d,J＝4.8Hz）,3.45〜3.65（4
H,m）,4.89（2H,d,J＝5.4Hz）,5.43（1H,s）,5.75（2H,
m）,6.87（1H,s）,6.97（1H,d,J＝4.5Hz）,8.13（1H,d,
J＝4.5Hz） IR（cm‐1,film）:3400,3200,3000,2950,1680,1620,157
0 C14H22N2O3：実測値 266.1642 計算値 266.2641 参考例３ ４−〔４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ〕−cis
−２−ブテン−１−オール ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール（2.0g）をアセト
ン−水（4:1）混液（50ml）に溶解し、ｐ−トルエンス
ルホン酸一水和物（143mg）を加えた。
塩化メチレンで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキシ〕
−cis−２−ブテン−１−アミン（1.28g,64％）を得
た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.23（3H×2,t,J＝7.5Hz）,1.55
（2H,br−ｓ）,3.45（2H,d,J＝4.8Hz）,3.45〜3.65（4
H,m）,4.89（2H,d,J＝5.4Hz）,5.43（1H,s）,5.75（2H,
m）,6.87（1H,s）,6.97（1H,d,J＝4.5Hz）,8.13（1H,d,
J＝4.5Hz） IR（cm‐1,film）:3400,3200,3000,2950,1680,1620,157
0 C14H22N2O3：実測値 266.1642 計算値 266.2641 参考例３ ４−〔４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ〕−cis
−２−ブテン−１−オール ４−〔４−（ジエトキシメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール（2.0g）をアセト
ン−水（4:1）混液（50ml）に溶解し、ｐ−トルエンス
ルホン酸一水和物（143mg）を加えた。
２時間還流後、反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチルに
とり、冷飽和重曹水に加え、有機層を分離した。
とり、冷飽和重曹水に加え、有機層を分離した。
水層を再度、酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わ
せ、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、４−
〔４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２
−ブテン−１−オール（1.54g,定量的）を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:2.85（1H,t,J＝5.6Hz）,4.35（2
H,d,J＝5.6Hz）,5.05（2H,d,J＝6.9Hz）,5.75〜5.85（1
H,m）,5.85〜5.95（1H,m）,7.16（1H,s）,7.31（1H,d,J
＝5.4Hz）,8.32（1H,d,J＝5.4Hz）,10.00（1H,s） IR（cm‐1,film）:3352,2880,1714,1616,1566 C10H11NO3：実測値 193.0728 計算値 193.0738 参考例４ ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール ４−〔４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ〕−cis
−２−ブテン−１−オール（1.43g）をクロロホルム（1
5ml）に溶解し、氷冷下、ピペリジン（1.26g）を加え、
室温にて８時間撹拌後、溶媒およびピペリジンを留去し
た。
せ、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、４−
〔４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ〕−cis−２
−ブテン−１−オール（1.54g,定量的）を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:2.85（1H,t,J＝5.6Hz）,4.35（2
H,d,J＝5.6Hz）,5.05（2H,d,J＝6.9Hz）,5.75〜5.85（1
H,m）,5.85〜5.95（1H,m）,7.16（1H,s）,7.31（1H,d,J
＝5.4Hz）,8.32（1H,d,J＝5.4Hz）,10.00（1H,s） IR（cm‐1,film）:3352,2880,1714,1616,1566 C10H11NO3：実測値 193.0728 計算値 193.0738 参考例４ ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール ４−〔４−（ホルミル）ピリジル−２−オキシ〕−cis
−２−ブテン−１−オール（1.43g）をクロロホルム（1
5ml）に溶解し、氷冷下、ピペリジン（1.26g）を加え、
室温にて８時間撹拌後、溶媒およびピペリジンを留去し
た。
残渣を再度クロロホルム（15ml）に溶解し、氷冷下、ピ
ペリジン（1.26g）を加え、室温にて18時間撹拌後、濃
縮した。
ペリジン（1.26g）を加え、室温にて18時間撹拌後、濃
縮した。
残渣をクロロホルム（20ml）に溶解し、氷冷下、水素化
ホウ素ナトリウム（0.74g）を懸濁したエタノール溶液
（30ml）に滴下した。
ホウ素ナトリウム（0.74g）を懸濁したエタノール溶液
（30ml）に滴下した。
１時間撹拌後、氷冷下、過剰の水素化ホウ素ナトリウム
を10％酢酸で分解、溶液を中〜弱酸性とした後、濃縮、
残渣を酢酸エチルにとり、10％酢酸酸性で洗浄した。
を10％酢酸で分解、溶液を中〜弱酸性とした後、濃縮、
残渣を酢酸エチルにとり、10％酢酸酸性で洗浄した。
水層（酢酸層）を氷冷下、炭酸カリウムで塩基性とし、
クロロホルムで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕
−cis−２−ブテン−１−オール（1.64g,85％）を得
た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.35〜1.50（2H,m）,1.50〜1.65
（4H,m）,2.25〜2.45（4H,m）,3.40（2H,s）,4.33（2H,
d,J＝6.6Hz）,5.00（2H,d,J＝7.8Hz）,5.70〜5.80（1H,
m）,5.85〜5.95（1H,m）,6.73（1H,s）,6.88（1H,d,J＝
4.5Hz）,8.00（1H,d,J＝4.5Hz） IR（cm‐1,film）:3396,1656,1616,1562 C15H22N2O2：実測値 262.1683 計算値 262.1684 実施例２ ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール（500mg）、トリエ
チルアミン（232mg）をベンゼン（30ml）に溶解し、室
温下、塩化メタンスルホニル（240mg）のベンゼン溶液
（5ml）を滴下した。
クロロホルムで抽出、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、４
−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕
−cis−２−ブテン−１−オール（1.64g,85％）を得
た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.35〜1.50（2H,m）,1.50〜1.65
（4H,m）,2.25〜2.45（4H,m）,3.40（2H,s）,4.33（2H,
d,J＝6.6Hz）,5.00（2H,d,J＝7.8Hz）,5.70〜5.80（1H,
m）,5.85〜5.95（1H,m）,6.73（1H,s）,6.88（1H,d,J＝
4.5Hz）,8.00（1H,d,J＝4.5Hz） IR（cm‐1,film）:3396,1656,1616,1562 C15H22N2O2：実測値 262.1683 計算値 262.1684 実施例２ ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−オール（500mg）、トリエ
チルアミン（232mg）をベンゼン（30ml）に溶解し、室
温下、塩化メタンスルホニル（240mg）のベンゼン溶液
（5ml）を滴下した。
30分撹拌後、反応溶液に飽和重曹水を加え、アルカリ性
にて、ベンゼン抽出し、有機層を乾燥した。
にて、ベンゼン抽出し、有機層を乾燥した。
この溶液、アジ化ナトリウム（136mg），臭化テトラ−
ｎ−ブチルアンモニウム（62mg）を加え、２時間撹拌
後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、
４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド（576mg,定量的）
を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.35〜1.50（2H,m）,1.50〜1.70
（4H,m）,2.15〜2.45（4H,m）,3.41（2H,s）,3.99（2H,
d,J＝6.6Hz）,4.91（2H,d,J＝7.8Hz）,5.70〜5.80（1H,
m）,6.00〜6.20（1H,m）,6.73（1H,s）,6.89（1H,d,J＝
4.5Hz）,8.05（1H,d,J＝4.5Hz） IR（cm‐1,film）:2104,1616,1564 C15H21N5O：実測値 287.1749 計算値 287.1752 参考例５ ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アミン ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド（225mg）を無水テ
トラヒドロフラン（20ml）に溶解し、室温下、トリフェ
ニルホスフィン（226mg）を加え、18時間撹拌後、水
（0.02ml）を加えた。
ｎ−ブチルアンモニウム（62mg）を加え、２時間撹拌
後、酢酸エチルで希釈、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、
４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド（576mg,定量的）
を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.35〜1.50（2H,m）,1.50〜1.70
（4H,m）,2.15〜2.45（4H,m）,3.41（2H,s）,3.99（2H,
d,J＝6.6Hz）,4.91（2H,d,J＝7.8Hz）,5.70〜5.80（1H,
m）,6.00〜6.20（1H,m）,6.73（1H,s）,6.89（1H,d,J＝
4.5Hz）,8.05（1H,d,J＝4.5Hz） IR（cm‐1,film）:2104,1616,1564 C15H21N5O：実測値 287.1749 計算値 287.1752 参考例５ ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アミン ４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−cis−２−ブテン−１−アジド（225mg）を無水テ
トラヒドロフラン（20ml）に溶解し、室温下、トリフェ
ニルホスフィン（226mg）を加え、18時間撹拌後、水
（0.02ml）を加えた。
３時間撹拌した後、反応溶液を濃縮し、残渣を酢酸エチ
ルにとり、10％‐酢酸酸性にて抽出した。
ルにとり、10％‐酢酸酸性にて抽出した。
水層（酢酸層）を酢酸エチル洗浄後、炭酸カリウムで塩
基性とし、塩化メチレンで抽出し、水洗、乾燥後、溶媒
を留去し、４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−cis−２−ブテン−１−アミン（180mg,8
8％）を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.35〜1.50（2H,m）,1.50〜1.65
（4H,m）,2.25〜2.45（4H,m）,3.40（2H,s）,3.46（2H,
d,J＝4.8Hz）,4.88（2H,d,J＝4.8Hz）,5.70〜5.82（2H,
m）,6.73（1H,s）,6.87（1H,d,J＝5.4Hz）,8.06（1H,d,
J＝5.4Hz） IR（cm‐1,film）:3384,1616,1564 C15H23N3O：実測値 261.1821 計算値 261.1840 （発明の効果） 本願発明の前記一般式（Ｉ）で表わされるアジド化合物
は前記中間体Ａおよび前記化合物Ｂを簡便に効率よく合
成できる。
基性とし、塩化メチレンで抽出し、水洗、乾燥後、溶媒
を留去し、４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−cis−２−ブテン−１−アミン（180mg,8
8％）を得た。1 H‐NMR（δ，CDCl3）:1.35〜1.50（2H,m）,1.50〜1.65
（4H,m）,2.25〜2.45（4H,m）,3.40（2H,s）,3.46（2H,
d,J＝4.8Hz）,4.88（2H,d,J＝4.8Hz）,5.70〜5.82（2H,
m）,6.73（1H,s）,6.87（1H,d,J＝5.4Hz）,8.06（1H,d,
J＝5.4Hz） IR（cm‐1,film）:3384,1616,1564 C15H23N3O：実測値 261.1821 計算値 261.1840 （発明の効果） 本願発明の前記一般式（Ｉ）で表わされるアジド化合物
は前記中間体Ａおよび前記化合物Ｂを簡便に効率よく合
成できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/54 9454−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 401/06 ２１１ 405/04 ２１３
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 で表わされるアジド化合物（式中、Ｒはホルミル基、ジ
メトキシメチル基、ジエトキシメチル基、1,3−ジオキ
ソラン−２−イル基、N,N−ジメチルアミノメチル基、
N,N−ジエチルアミノメチル基、ピペリジノメチル基、
ピロリジノメチル基、４−ヒドロキシピペリジノメチル
基、３−メチルピペリジノメチル基、1,2,3,6−テトラ
ヒドロ−１−ピリジルメチル基、１−ペルヒドロアゼピ
ニルメチル基、モルホリノメチル基、チオモルホリノメ
チル基または４−メチル−１−ピペラリジニルメチル基
であり、Ｙはエチレン基またはビニレン基である。）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27326988A JPH078857B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | アジド化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27326988A JPH078857B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | アジド化合物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6192320A Division JP2590749B2 (ja) | 1994-07-25 | 1994-07-25 | ピリジルオキシ誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02121969A JPH02121969A (ja) | 1990-05-09 |
| JPH078857B2 true JPH078857B2 (ja) | 1995-02-01 |
Family
ID=17525484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27326988A Expired - Lifetime JPH078857B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | アジド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH078857B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0125155B1 (ko) * | 1991-01-30 | 1997-12-05 | 오카자키 히로타로 | 프탈이미드 화합물 및 그 제조방법 |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP27326988A patent/JPH078857B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02121969A (ja) | 1990-05-09 |
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