JPH0785455B2 - アモルファスコアおよびその製造方法 - Google Patents
アモルファスコアおよびその製造方法Info
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- JPH0785455B2 JPH0785455B2 JP61069964A JP6996486A JPH0785455B2 JP H0785455 B2 JPH0785455 B2 JP H0785455B2 JP 61069964 A JP61069964 A JP 61069964A JP 6996486 A JP6996486 A JP 6996486A JP H0785455 B2 JPH0785455 B2 JP H0785455B2
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- Japan
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- core
- amorphous
- main component
- curing
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15383—Applying coatings thereon
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- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は機械的強度に優れ、高周波磁気特性に優れたア
モルファスコアの製造方法に関するものである。
モルファスコアの製造方法に関するものである。
アモルファスコアは高周波磁気特性に優れるため各種磁
性部品への適用が行なわれている。アモルファス薄帯は
磁気特性を改善するため熱処理を行なうと脆化し、機械
的強度が低下する。このためコアケースに入れたり、、
コーティング等を行ないアモルファス薄帯からなるコア
の破損を防いでいる。
性部品への適用が行なわれている。アモルファス薄帯は
磁気特性を改善するため熱処理を行なうと脆化し、機械
的強度が低下する。このためコアケースに入れたり、、
コーティング等を行ないアモルファス薄帯からなるコア
の破損を防いでいる。
また、カットコアやギャップ付きのコアを作製する場合
は、熱処理後のアモルファス薄帯が脆化しているためコ
アをエポキシ系樹脂等によって含浸し機械的強度を上げ
カットの際のアモルファス薄帯の破損や変形を防いでい
る。
は、熱処理後のアモルファス薄帯が脆化しているためコ
アをエポキシ系樹脂等によって含浸し機械的強度を上げ
カットの際のアモルファス薄帯の破損や変形を防いでい
る。
しかし、上記のアモルファスコアはいくつかの問題点を
有している。
有している。
含浸していないアモルファスコアの場合は、コーティン
グする際にアモルファス薄帯の層間のガスにより気泡が
生じ、コーティング表面がきたなくなり、寸法精度がで
ない等の問題や、コアが取り扱い中に破損したり、変形
してしまう等の問題がある。
グする際にアモルファス薄帯の層間のガスにより気泡が
生じ、コーティング表面がきたなくなり、寸法精度がで
ない等の問題や、コアが取り扱い中に破損したり、変形
してしまう等の問題がある。
一方、エポキシ樹脂等で含浸した場合は、ひずみが入り
やすく磁気特性が劣化する、温特が悪い等の問題や、カ
ットの際や、電気的絶縁をとるためコーティングする際
温度が上がり樹脂の軟化によりコアの変形が起こる等の
問題点がある。
やすく磁気特性が劣化する、温特が悪い等の問題や、カ
ットの際や、電気的絶縁をとるためコーティングする際
温度が上がり樹脂の軟化によりコアの変形が起こる等の
問題点がある。
本発明の目的は、機械的強度、磁気特性に優れたアモル
ファスコアの製造方法を提供することである。
ファスコアの製造方法を提供することである。
本発明は表面が変成アルキルシリケートを主成分とする
無機ワニス硬化物で被覆されたアモルファス強磁性薄帯
からなるアモルファスコアである。
無機ワニス硬化物で被覆されたアモルファス強磁性薄帯
からなるアモルファスコアである。
また、さらに本発明はアモルファス強磁性薄帯を巻回し
た後、変成アルキルシリケートを主成分とする無機ワニ
ス中に浸し、取り出した後、常温乾燥により硬化あるい
はアモルファス強磁性薄帯の結晶化温度以下の温度で加
熱硬化させるアモルファスコアの製造方法と、アモルフ
ァス強磁性薄帯の片面あるいは両面に変成アルキルシリ
ケートを主成分とする無機ワニスを塗布あるいは噴霧あ
るいは無機ワニス中を通過させながら巻回した後、常温
乾燥により硬化、あるいはアモルファス強磁性薄帯の結
晶化温度以下の温度で加熱硬化させるアモルファスコア
の製造方法である。
た後、変成アルキルシリケートを主成分とする無機ワニ
ス中に浸し、取り出した後、常温乾燥により硬化あるい
はアモルファス強磁性薄帯の結晶化温度以下の温度で加
熱硬化させるアモルファスコアの製造方法と、アモルフ
ァス強磁性薄帯の片面あるいは両面に変成アルキルシリ
ケートを主成分とする無機ワニスを塗布あるいは噴霧あ
るいは無機ワニス中を通過させながら巻回した後、常温
乾燥により硬化、あるいはアモルファス強磁性薄帯の結
晶化温度以下の温度で加熱硬化させるアモルファスコア
の製造方法である。
本発明において変成アルキルシリケートを主成分とする
無機ワニスとは主成分である変成エチルシリケートや変
成ブチルシリケートをイソプロピルアルコール等の低級
脂肪族アルコールに溶解分散したものである。本樹脂を
用いアモルファスコアを硬化させることにより機械的強
度に優れ、磁気特性に優れたアモルファスコアを得るこ
とができる。このため、磁気特性の劣化の小さいカット
コアやギャップ付きコアを作成することが可能となる。
また磁気特性を向上させるためあらかじめコアを熱処理
しておくことが望ましい。更にエポキシ樹脂等とは異な
り高温でも変質しないため、アモルファスコアの熱処理
とワニスの硬化を同時に行なうこともできる。また層間
絶縁の効果もある。このため工数の低減を行なうことも
可能となる。また熱処理の際硬化させることができるの
で熱処理後のコアの取り扱いの際の変形をきにする必要
もなくなる。
無機ワニスとは主成分である変成エチルシリケートや変
成ブチルシリケートをイソプロピルアルコール等の低級
脂肪族アルコールに溶解分散したものである。本樹脂を
用いアモルファスコアを硬化させることにより機械的強
度に優れ、磁気特性に優れたアモルファスコアを得るこ
とができる。このため、磁気特性の劣化の小さいカット
コアやギャップ付きコアを作成することが可能となる。
また磁気特性を向上させるためあらかじめコアを熱処理
しておくことが望ましい。更にエポキシ樹脂等とは異な
り高温でも変質しないため、アモルファスコアの熱処理
とワニスの硬化を同時に行なうこともできる。また層間
絶縁の効果もある。このため工数の低減を行なうことも
可能となる。また熱処理の際硬化させることができるの
で熱処理後のコアの取り扱いの際の変形をきにする必要
もなくなる。
特に、電気的絶縁をとるためにコーティングコアを作製
する際には気泡の発生や樹脂の軟化によるコアの変形が
なく好ましい結果を得ることができる。
する際には気泡の発生や樹脂の軟化によるコアの変形が
なく好ましい結果を得ることができる。
また、本製造方法の無機ワニス硬化の際に磁場を印加す
ることにより磁場中熱処理と同様の効果を得ることがで
き、磁気特性を制御することも可能である。
ることにより磁場中熱処理と同様の効果を得ることがで
き、磁気特性を制御することも可能である。
また、場合によっては変成アルキルシリケートを主成分
とする無機ワニス中に充填材を添加したり、コアを無機
ワニス中に浸す際、減圧中で行なっても良い。
とする無機ワニス中に充填材を添加したり、コアを無機
ワニス中に浸す際、減圧中で行なっても良い。
なお、高温で硬化させる場合は、真空中あるいはArやN2
等の不活性ガス中で行なうのがより望ましい。
等の不活性ガス中で行なうのがより望ましい。
また、使用するアモルファス材は、たとえば、組成式 （Fe1-aMa）100-x-ySixBy（at％） で表わされ、ここでＭはTi,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,
Ni,Co,Cu,Ag,Au,Ru,Rh,Pd,Pt,Y,希土類元素から選ばれ
る少なくとも１種であり、 ０≦ａ≦0.1,x≦19,5≦ｙ≦25,15≦ｘ＋ｙ≦30の関係を
有するもの、あるいは （Co1-x-y-zFexMnyNiz）100-a-b-cMaSibBc ここで、ＭはTi,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Cu,Ag,Au,Y,希
土類元素のうちから選ばれた少なくとも１種以上の元素
であり、 ０≦ｘ≦0.1,0≦ａ≦b,18≦ｂ＋ｃ≦30,0≦ｙ≦0.2,8≦
ｂ≦18,0≦ｚ≦0.13,7≦ｃ≦18 の関係を有するものが特に磁気特性の点で優れている。
Ni,Co,Cu,Ag,Au,Ru,Rh,Pd,Pt,Y,希土類元素から選ばれ
る少なくとも１種であり、 ０≦ａ≦0.1,x≦19,5≦ｙ≦25,15≦ｘ＋ｙ≦30の関係を
有するもの、あるいは （Co1-x-y-zFexMnyNiz）100-a-b-cMaSibBc ここで、ＭはTi,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Cu,Ag,Au,Y,希
土類元素のうちから選ばれた少なくとも１種以上の元素
であり、 ０≦ｘ≦0.1,0≦ａ≦b,18≦ｂ＋ｃ≦30,0≦ｙ≦0.2,8≦
ｂ≦18,0≦ｚ≦0.13,7≦ｃ≦18 の関係を有するものが特に磁気特性の点で優れている。
以下本発明を実施例に従って説明する。
実施例１ 単ロール法により幅5mm、板厚15μmmのアモルファス薄
帯を作成し、外径19mm、内径15mmに巻回しN2ガス雰囲気
中で熱処理を行ない周波数200KHz、磁束密度の波高値Bm
が2kGの場合のコア損失Ｗ0.2/200kを測定した。測定後
コアを変性エチルシリケートを主成分とする無機ワニス
中に15分間浸し、取り出した後180℃に１時間保持し硬
化させる本発明の製造方法を行ない、同様にコア損失を
測定した。
帯を作成し、外径19mm、内径15mmに巻回しN2ガス雰囲気
中で熱処理を行ない周波数200KHz、磁束密度の波高値Bm
が2kGの場合のコア損失Ｗ0.2/200kを測定した。測定後
コアを変性エチルシリケートを主成分とする無機ワニス
中に15分間浸し、取り出した後180℃に１時間保持し硬
化させる本発明の製造方法を行ない、同様にコア損失を
測定した。
また従来から用いられているエポキシ樹脂による含浸を
行なった同組成のアモルファスコアのコア損失も比較の
ため測定した。
行なった同組成のアモルファスコアのコア損失も比較の
ため測定した。
測定した結果を第１表に示す。
本発明の製造方法により作成したアモルファスコアは、
熱処理後のコアより損失は増加するものの従来から使用
されているエポキシ樹脂で含浸したコアに比べてコア損
失の増加が少ない。
熱処理後のコアより損失は増加するものの従来から使用
されているエポキシ樹脂で含浸したコアに比べてコア損
失の増加が少ない。
また、1mの高さから落下させても破損せず、機械的強度
に優れており、落下後のコア損失の増加も認められなか
った。
に優れており、落下後のコア損失の増加も認められなか
った。
このように、本発明の製造方法を適用すれば、機械的強
度に優れ従来の含浸したコアより低損失のコアを得るこ
とができる上に、落下させても磁気特性の劣化が小さい
アモルファスコアを得ることができる。
度に優れ従来の含浸したコアより低損失のコアを得るこ
とができる上に、落下させても磁気特性の劣化が小さい
アモルファスコアを得ることができる。
実施例２ 第１図は本発明により製造したFe73.5Cu1Mo3Si13.5B9ア
モルファス磁心Ａと従来のエポキシ樹脂で含浸した磁心
Ｂの周波数200KHz,Bm2kGのコア損失Ｗ0.2/200kの温度依
存性を示す。
モルファス磁心Ａと従来のエポキシ樹脂で含浸した磁心
Ｂの周波数200KHz,Bm2kGのコア損失Ｗ0.2/200kの温度依
存性を示す。
本発明の磁心Ａは従来のエポキシ樹脂で含浸した磁心Ｂ
より温度によるコア損失の変化が小さく温度特性が優れ
ている。
より温度によるコア損失の変化が小さく温度特性が優れ
ている。
実施例３ 第２表に本発明により製造したコーティングしたアモル
ファスコアＣと、含浸を行なわずにコーティングした従
来のアモルファスコアのコーティング層表面の欠陥の数
を比較して示す。
ファスコアＣと、含浸を行なわずにコーティングした従
来のアモルファスコアのコーティング層表面の欠陥の数
を比較して示す。
本発明により製造したコーティングコアＣの欠陥は従来
のコーティングコアより著しくコーティング層表面の欠
陥が減少しており優れている。
のコーティングコアより著しくコーティング層表面の欠
陥が減少しており優れている。
実施例４ 第３表に本発明による製造方法においてCo70Fe1Mn5Si15
B9アモルファス薄帯を用い無機ワニスを250℃で硬化さ
せる際コアの磁路方向に磁場を印加した場合Ｅと磁路を
直角方向に磁場を印加した場合Ｆ、磁場を印加しなかっ
た場合Ｇの直流Ｂ−Ｈカーブの角形比Br/Bsの１例を比
較して示す。
B9アモルファス薄帯を用い無機ワニスを250℃で硬化さ
せる際コアの磁路方向に磁場を印加した場合Ｅと磁路を
直角方向に磁場を印加した場合Ｆ、磁場を印加しなかっ
た場合Ｇの直流Ｂ−Ｈカーブの角形比Br/Bsの１例を比
較して示す。
表から明らかな様に、無機ワニスを硬化させる際磁場を
印加することにより、角形比Br/Bs等の磁気特性を通常
の磁場中熱処理と同様に変えることができる。このため
通常行なわれている磁場中熱処理の工程を省略すること
ができることになり、工数を減らす上で大きな効果があ
る。
印加することにより、角形比Br/Bs等の磁気特性を通常
の磁場中熱処理と同様に変えることができる。このため
通常行なわれている磁場中熱処理の工程を省略すること
ができることになり、工数を減らす上で大きな効果があ
る。
本発明によれば、従来不充分であったアモルファスコア
の機械的強度、高周波磁気特性を改善できる上にコーテ
ィングコアの表面の欠陥減少する、熱処理工程と硬化の
工程を兼ねることによる工数低減が行なえるためその効
果は著しいものがある。
の機械的強度、高周波磁気特性を改善できる上にコーテ
ィングコアの表面の欠陥減少する、熱処理工程と硬化の
工程を兼ねることによる工数低減が行なえるためその効
果は著しいものがある。
第１図は本発明により製造したFe73.5Cu1Mo3Si13.5B9ア
モルファス磁心Ａと従来のエポキシ樹脂で含浸した磁心
Ｂの周波数200KHz,Bm2kGのコア損失Ｗ0.2/200kの温度依
存性を示した図である。
モルファス磁心Ａと従来のエポキシ樹脂で含浸した磁心
Ｂの周波数200KHz,Bm2kGのコア損失Ｗ0.2/200kの温度依
存性を示した図である。
Claims (5)
- 【請求項１】表面が変成アルキルシリケートを主成分と
する無機ワニス硬化物で被覆されたアモルファス強磁性
薄帯からなることを特徴とするアモルファスコア。 - 【請求項２】アモルファス強磁性薄帯を巻回した後、変
成アルキルシリケートを主成分とする無機ワニス中に浸
し、取り出した後、常温乾燥により硬化あるいはアモル
ファス強磁性薄帯の結晶化温度以下の温度で加熱硬化さ
せることを特徴とするアモルファスコアの製造方法。 - 【請求項３】アモルファス強磁性薄帯の片面あるいは両
面に変成アルキルシリケートを主成分とする無機ワニス
を塗布あるいは噴霧あるいは無機ワニス中を通過させな
がら巻回した後、常温乾燥により硬化、あるいはアモル
ファス強磁性薄帯の結晶化温度以下の温度で加熱硬化さ
せることを特徴とするアモルファスコアの製造方法。 - 【請求項４】特許請求の範囲第２項または第３項の製造
方法を行った後更にコア表面にコーティングを行うこと
を特徴とするアモルファスコアの製造方法。 - 【請求項５】変成アルキルシリケートを主成分とする無
機ワニスを硬化させる際に磁場を印加することを特徴と
する特許請求の範囲第２項から第４項のいずれかの項に
記載のアモルファスコアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61069964A JPH0785455B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | アモルファスコアおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61069964A JPH0785455B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | アモルファスコアおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62226610A JPS62226610A (ja) | 1987-10-05 |
| JPH0785455B2 true JPH0785455B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=13417842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61069964A Expired - Lifetime JPH0785455B2 (ja) | 1986-03-28 | 1986-03-28 | アモルファスコアおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0785455B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59181522A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-16 | Toshiba Corp | 誘導磁気鉄心の製造方法 |
| JPS6155164A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | シリカ被膜の形成方法 |
-
1986
- 1986-03-28 JP JP61069964A patent/JPH0785455B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62226610A (ja) | 1987-10-05 |
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