JPH0784352A - 熱現像性感光体およびその熱現像性感光体を用いた画像形成方法 - Google Patents
熱現像性感光体およびその熱現像性感光体を用いた画像形成方法Info
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- JPH0784352A JPH0784352A JP16545094A JP16545094A JPH0784352A JP H0784352 A JPH0784352 A JP H0784352A JP 16545094 A JP16545094 A JP 16545094A JP 16545094 A JP16545094 A JP 16545094A JP H0784352 A JPH0784352 A JP H0784352A
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式(II)の化合物および下記一般
式(III)の化合物のいずれか一方または両方と、下
記一般式(I)の化合物とを含有する熱現像性感光体を
作製し、その感光体を用いて画像形成を行う。 【化1】 【化2】 【化3】 【効果】 増感効率が良く、かつレーザーなどを用いた
高照度短時間露光に対しても相反則不軌などの問題な
く、高画質な画像が得られる熱現像性感光体を安定して
得ることができる。
式(III)の化合物のいずれか一方または両方と、下
記一般式(I)の化合物とを含有する熱現像性感光体を
作製し、その感光体を用いて画像形成を行う。 【化1】 【化2】 【化3】 【効果】 増感効率が良く、かつレーザーなどを用いた
高照度短時間露光に対しても相反則不軌などの問題な
く、高画質な画像が得られる熱現像性感光体を安定して
得ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、有機銀塩を用いた熱現
像性感光体およびその感光体を用いた画像形成方法に関
する。
像性感光体およびその感光体を用いた画像形成方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀を用いた銀塩写真法は、感
度や諧調性などに優れ、幅広く使われている記録技術で
ある。しかし、像露光後の処理を湿式で行なうために、
作業性、簡便性、安全性に劣り、今までにも問題とされ
てきた。これに対してこれらの湿式処理をなくした乾式
材料の研究が行なわれ、特公昭43−4921号公報お
よび特公昭43−4924号公報などで開示されてい
る。これらは感光性ハロゲン化銀を触媒量用いるととも
に画像形成材として非感光性の有機銀塩を用いるもので
ある。有機銀塩が画像形成材として働くのは以下の機構
によるとされている。すなわち、(1)像露光により触
媒量の感光性ハロゲン化銀上に潜像が形成される。
(2)次に、上記潜像が触媒となり、感光体が加熱され
ることにより有機銀塩と還元剤が酸化還元反応を起こし
て有機銀塩が銀に還元され、これが像となるものであ
る。
度や諧調性などに優れ、幅広く使われている記録技術で
ある。しかし、像露光後の処理を湿式で行なうために、
作業性、簡便性、安全性に劣り、今までにも問題とされ
てきた。これに対してこれらの湿式処理をなくした乾式
材料の研究が行なわれ、特公昭43−4921号公報お
よび特公昭43−4924号公報などで開示されてい
る。これらは感光性ハロゲン化銀を触媒量用いるととも
に画像形成材として非感光性の有機銀塩を用いるもので
ある。有機銀塩が画像形成材として働くのは以下の機構
によるとされている。すなわち、(1)像露光により触
媒量の感光性ハロゲン化銀上に潜像が形成される。
(2)次に、上記潜像が触媒となり、感光体が加熱され
ることにより有機銀塩と還元剤が酸化還元反応を起こし
て有機銀塩が銀に還元され、これが像となるものであ
る。
【0003】また、これに類するものとして、特公昭4
4−26582号公報および特開昭46−6074号公
報に記載がある。また上記の他に、像露光前に加熱処理
を施して活性化させて感光性としてから像露光を行な
い、その後、現像画像を形成するために全体的に加熱す
る熱現像性感光材料およびそれらの調製方法が提案され
ている。この熱現像性感光材料は、ハロゲン化銀を含有
していないか、あるいはハロゲン化銀を含有しても感光
性を全く有していない熱現像性感光要素から成り、具体
的には特公昭51−29829号公報、同53−410
67号公報、同54−5687号公報に記載されてい
る。
4−26582号公報および特開昭46−6074号公
報に記載がある。また上記の他に、像露光前に加熱処理
を施して活性化させて感光性としてから像露光を行な
い、その後、現像画像を形成するために全体的に加熱す
る熱現像性感光材料およびそれらの調製方法が提案され
ている。この熱現像性感光材料は、ハロゲン化銀を含有
していないか、あるいはハロゲン化銀を含有しても感光
性を全く有していない熱現像性感光要素から成り、具体
的には特公昭51−29829号公報、同53−410
67号公報、同54−5687号公報に記載されてい
る。
【0004】熱現像性感光体は画像形成を湿式の工程に
よらず、乾式処理で行なうという利点により、画像通
信、医療分野、コンピュータアウトプットなどの各種工
業用感光材料として用いられている。
よらず、乾式処理で行なうという利点により、画像通
信、医療分野、コンピュータアウトプットなどの各種工
業用感光材料として用いられている。
【0005】また、ハロゲン化銀を感光要素とすること
から感光性が高く、可視領域への増感も容易であり、そ
のために各種レーザーの発信波長に感光性を付与する染
料が感光体に添加されていた。
から感光性が高く、可視領域への増感も容易であり、そ
のために各種レーザーの発信波長に感光性を付与する染
料が感光体に添加されていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のゼラチン性湿式
処理用ハロゲン化銀感光体においては、長波長の光、特
に赤色の光に対して優れた感光性付与剤として作用する
シアニン染料を用いる企画があった。しかしこれらのシ
アニン染料は乾式処理用の熱現像性感光体において増感
効率が著しく低いために、この系には適さないと考えら
れてきた。
処理用ハロゲン化銀感光体においては、長波長の光、特
に赤色の光に対して優れた感光性付与剤として作用する
シアニン染料を用いる企画があった。しかしこれらのシ
アニン染料は乾式処理用の熱現像性感光体において増感
効率が著しく低いために、この系には適さないと考えら
れてきた。
【0007】また、この点を改良した発明としては、特
公昭49−18808号公報などに記載されたメロシア
ニン色素があるが、増感色素の安定性、増感効率に問題
があり、まだ不十分であった。
公昭49−18808号公報などに記載されたメロシア
ニン色素があるが、増感色素の安定性、増感効率に問題
があり、まだ不十分であった。
【0008】また、汎用的な湿式処理用ハロゲン化銀感
光体は、湿式処理により増感色素、イラジエーション防
止色素、アンチハレーション色素などを脱色することが
できる。しかしながら、乾式処理用の熱現像性感光体で
は、加熱過程での脱色が十分できず、最小光学濃度の低
い画像が得にくいという問題がある。また、最小光学濃
度を低くするために添加量を少し抑えると、感度不良お
よび解像性不良の問題が生じる。
光体は、湿式処理により増感色素、イラジエーション防
止色素、アンチハレーション色素などを脱色することが
できる。しかしながら、乾式処理用の熱現像性感光体で
は、加熱過程での脱色が十分できず、最小光学濃度の低
い画像が得にくいという問題がある。また、最小光学濃
度を低くするために添加量を少し抑えると、感度不良お
よび解像性不良の問題が生じる。
【0009】また、イラジエーション防止色素として、
増感色素との組み合せにより減感作用が生じる場合があ
り、増感波長域に吸収のある色素をただ添加すればイラ
ジエーション防止効果が生じるとは限らない。
増感色素との組み合せにより減感作用が生じる場合があ
り、増感波長域に吸収のある色素をただ添加すればイラ
ジエーション防止効果が生じるとは限らない。
【0010】本発明はこれらの問題を解決し、640n
m〜750nmの光に対して感度良く、解像性の良い感
光体およびその感光体を用いた画像形成方法を提供する
ことを目的とする。
m〜750nmの光に対して感度良く、解像性の良い感
光体およびその感光体を用いた画像形成方法を提供する
ことを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の熱現像性感光体
は、有機銀塩と、還元剤と、感光性ハロゲン化銀および
感光性ハロゲン化銀形成剤のうちのいずれかとを少なく
とも含有する熱現像性感光体において、下記一般式(I
I)の化合物および下記一般式(III)の化合物の少
なくとも一方と、下記一般式(I)の化合物とを含有し
たものである。
は、有機銀塩と、還元剤と、感光性ハロゲン化銀および
感光性ハロゲン化銀形成剤のうちのいずれかとを少なく
とも含有する熱現像性感光体において、下記一般式(I
I)の化合物および下記一般式(III)の化合物の少
なくとも一方と、下記一般式(I)の化合物とを含有し
たものである。
【0012】
【化4】 (式(I)中、Rは水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、アリール基またはアミノ基である。
R1、R2はアリール基、もしくはR1とR2とが結合して
環を形成していても良い。R3、R4、R5は各々独立
に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
またはアラルキル基である。X3は酸素原子、イオウ原
子、炭素原子、窒素原子またはセレン原子であり、炭素
原子または窒素原子の場合には水素原子、アルキル基、
アリール基およびアラルキル基のいずれかと結合してい
る。X4は酸素原子、イオウ原子または窒素原子であっ
て、窒素原子の場合は水素原子、アルキル基、アリール
基およびアラルキル基のいずれかと結合している。X5
は酸素原子またはイオウ原子である。kは1または2で
ある。)
基、アルコキシ基、アリール基またはアミノ基である。
R1、R2はアリール基、もしくはR1とR2とが結合して
環を形成していても良い。R3、R4、R5は各々独立
に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
またはアラルキル基である。X3は酸素原子、イオウ原
子、炭素原子、窒素原子またはセレン原子であり、炭素
原子または窒素原子の場合には水素原子、アルキル基、
アリール基およびアラルキル基のいずれかと結合してい
る。X4は酸素原子、イオウ原子または窒素原子であっ
て、窒素原子の場合は水素原子、アルキル基、アリール
基およびアラルキル基のいずれかと結合している。X5
は酸素原子またはイオウ原子である。kは1または2で
ある。)
【0013】
【化5】 (式(II)中、r12、r13、r14、r15、r18、
r19、r20、r21は各々独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアミ
ノ基であって、r12とr13、r13とr14、r14とr15、
r18とr19、r19とr20、r20とr21のいずれかが結合
して環を形成していてもよい。r16、r17は各々独立に
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基である。r22、r23、r24、r25、r26
は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基
であり、r22とr24、r23とr25、r24とr26が結合し
て環を形成しても良い。X6、X7は酸素原子、イオウ原
子、炭素原子または窒素原子であり、炭素原子または窒
素原子の場合には、水素原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基のいずれかが結合している。Y1 -はア
ニオンである。o、pは0、1または2であって、しか
もo+pは2である。)
r19、r20、r21は各々独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアミ
ノ基であって、r12とr13、r13とr14、r14とr15、
r18とr19、r19とr20、r20とr21のいずれかが結合
して環を形成していてもよい。r16、r17は各々独立に
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基である。r22、r23、r24、r25、r26
は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基
であり、r22とr24、r23とr25、r24とr26が結合し
て環を形成しても良い。X6、X7は酸素原子、イオウ原
子、炭素原子または窒素原子であり、炭素原子または窒
素原子の場合には、水素原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基のいずれかが結合している。Y1 -はア
ニオンである。o、pは0、1または2であって、しか
もo+pは2である。)
【0014】
【化6】 (式(III)中、Ar1、Ar3は各々独立に水素原
子、アリール基またはアルキル基であり、Ar2および
Ar4はアリール基である。r27、r28、r29は各々独
立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはスチリ
ル基であり、Y2 -はアニオンである。)また、本発明の
画像形成方法は、上記の熱現像性感光体に像露光および
加熱を行って画像を形成するものである。
子、アリール基またはアルキル基であり、Ar2および
Ar4はアリール基である。r27、r28、r29は各々独
立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはスチリ
ル基であり、Y2 -はアニオンである。)また、本発明の
画像形成方法は、上記の熱現像性感光体に像露光および
加熱を行って画像を形成するものである。
【0015】本発明の熱現像性感光体で使用する有機銀
塩としては、「写真工学の基礎」(日本写真学会編、
(株)コロナ社、東京、第1版、1982年発行)非銀
塩編、p247や特開昭59−55429などに記載さ
れた有機酸銀やトリアゾール系銀塩などを用いることが
可能であり、感光性の低い銀塩を用いるのが好ましい。
例えば脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、チオー
ル、α−水素を有するチオカルボニル化合物、およびイ
ミノ基含有化合物などの銀塩である。
塩としては、「写真工学の基礎」(日本写真学会編、
(株)コロナ社、東京、第1版、1982年発行)非銀
塩編、p247や特開昭59−55429などに記載さ
れた有機酸銀やトリアゾール系銀塩などを用いることが
可能であり、感光性の低い銀塩を用いるのが好ましい。
例えば脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、チオー
ル、α−水素を有するチオカルボニル化合物、およびイ
ミノ基含有化合物などの銀塩である。
【0016】脂肪族カルボン酸としては、酢酸、酪酸、
コハク酸、セバシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リノレン酸、酒石酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、樟脳酸などがあるが、一般的には炭素
数が少ないほど銀塩としては不安定であるので、適度な
炭素数(例えば、炭素数が16〜26の範囲)を有する
化合物が好ましい。
コハク酸、セバシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノ
ール酸、リノレン酸、酒石酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、樟脳酸などがあるが、一般的には炭素
数が少ないほど銀塩としては不安定であるので、適度な
炭素数(例えば、炭素数が16〜26の範囲)を有する
化合物が好ましい。
【0017】芳香族カルボン酸としては、安息香酸誘導
体、キノリン酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、
サリチル酸誘導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、
フェニル酢酸誘導体、ピロメリット酸などがある。
体、キノリン酸誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導体、
サリチル酸誘導体、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、
フェニル酢酸誘導体、ピロメリット酸などがある。
【0018】チオールまたはα−水素を有するチオカル
ボニル化合物としては、3−メルカプト−4−フェニル
−1,2,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキルチ
オグリコール酸(アルキル基の炭素数が12〜23)、
ジチオ酢酸などのジチオカルボン酸類、チオステアロア
ミドなどのチオアミド類、5−カルボキシ−1−メチル
−2−フェニル−4−チオピリドン、メルカプトトリア
ジン、2−メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプト
オキサチアゾールまたは3−アミノ−5−ベンジルチオ
−1,2,4−トリアゾールなど、米国特許第4,12
3,274号記載のメルカプト化合物を挙げることがで
きる。
ボニル化合物としては、3−メルカプト−4−フェニル
−1,2,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾー
ル、2−メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキルチ
オグリコール酸(アルキル基の炭素数が12〜23)、
ジチオ酢酸などのジチオカルボン酸類、チオステアロア
ミドなどのチオアミド類、5−カルボキシ−1−メチル
−2−フェニル−4−チオピリドン、メルカプトトリア
ジン、2−メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプト
オキサチアゾールまたは3−アミノ−5−ベンジルチオ
−1,2,4−トリアゾールなど、米国特許第4,12
3,274号記載のメルカプト化合物を挙げることがで
きる。
【0019】イミノ基を含有する化合物としては、特公
昭44−30270または同45−18416記載のベ
ンゾトリアゾールもしくはその誘導体、例えばベンゾト
リアゾール、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置
換ベンゾトリアゾール類、5−クロロベンゾトリアゾー
ルなどのハロゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカ
ルボイミドベンゾトリアゾールなどのカルボイミドベン
ゾトリアゾール類、特開昭58−118639号記載の
ニトロベンゾトリアゾール類、特開昭58−11563
8号記載のスルホベンゾトリアゾール、カルボキシベン
ゾトリアゾールもしくはその塩、またはヒドロキシベン
ゾトリアゾールなど、米国特許4,220,709記載
の1,2,4−トリアゾールや1H−テトラゾール、カ
ルバゾール、サッカリン、イミダゾールおよびその誘導
体などを代表例として挙げることができる。
昭44−30270または同45−18416記載のベ
ンゾトリアゾールもしくはその誘導体、例えばベンゾト
リアゾール、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置
換ベンゾトリアゾール類、5−クロロベンゾトリアゾー
ルなどのハロゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカ
ルボイミドベンゾトリアゾールなどのカルボイミドベン
ゾトリアゾール類、特開昭58−118639号記載の
ニトロベンゾトリアゾール類、特開昭58−11563
8号記載のスルホベンゾトリアゾール、カルボキシベン
ゾトリアゾールもしくはその塩、またはヒドロキシベン
ゾトリアゾールなど、米国特許4,220,709記載
の1,2,4−トリアゾールや1H−テトラゾール、カ
ルバゾール、サッカリン、イミダゾールおよびその誘導
体などを代表例として挙げることができる。
【0020】還元剤としては、銀イオンを金属銀に還元
し得る全ての材料(好ましくは有機材料)が使用可能で
ある。
し得る全ての材料(好ましくは有機材料)が使用可能で
ある。
【0021】そのような還元剤としては、モノフェノー
ル類、ビスフェノール類、トリスフェノール類、テトラ
キスフェノール類、モノナフトール類、ビスナフトール
類、ジヒドロキシナフタレン類、スルホンアミドフェノ
ール類、ビフェノール類、トリヒドロキシナフタレン
類、ジヒドロキシベンゼン類、トリヒドロキシベンゼン
類、テトラヒドロキシベンゼン類、ヒドロキシアルキル
モノエーテル類、アスコルビン酸類、3−ピラゾリドン
類、ピラゾロン類、ピラゾリン類、糖類、フェニレンジ
アミン類、ヒドロキシアミン類、レダクトン類、ヒドロ
オキサミン酸類、ヒドラジン類、ヒドラジド類、アミド
オキシム類、N−ヒドロキシ尿素類などを挙げることが
できる。この中では特に、p−ビスフェノール類、o−
ビスフェノール類、ビスナフトール類、4−置換ナフト
ール類などが好ましい。また、特開平3−135564
号公報記載の還元剤も好ましく用いられる。
ル類、ビスフェノール類、トリスフェノール類、テトラ
キスフェノール類、モノナフトール類、ビスナフトール
類、ジヒドロキシナフタレン類、スルホンアミドフェノ
ール類、ビフェノール類、トリヒドロキシナフタレン
類、ジヒドロキシベンゼン類、トリヒドロキシベンゼン
類、テトラヒドロキシベンゼン類、ヒドロキシアルキル
モノエーテル類、アスコルビン酸類、3−ピラゾリドン
類、ピラゾロン類、ピラゾリン類、糖類、フェニレンジ
アミン類、ヒドロキシアミン類、レダクトン類、ヒドロ
オキサミン酸類、ヒドラジン類、ヒドラジド類、アミド
オキシム類、N−ヒドロキシ尿素類などを挙げることが
できる。この中では特に、p−ビスフェノール類、o−
ビスフェノール類、ビスナフトール類、4−置換ナフト
ール類などが好ましい。また、特開平3−135564
号公報記載の還元剤も好ましく用いられる。
【0022】感光性ハロゲン化銀としては、塩化銀、臭
化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀などを挙げるこ
とができる。
化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀などを挙げるこ
とができる。
【0023】これらのハロゲン化銀を調製する方法とし
ては、銀酸化化合物の一部を感光性ハロゲン化銀形成成
分、例えば臭化アンモニウム、臭化リチウム、塩化ナト
リウム、N−ブロムコハク酸イミドなどによりハロゲン
化し、ハロゲン化銀を調製する方法や、いわゆる系外ハ
ロゲン化銀を含有させる方法などが挙げられる。
ては、銀酸化化合物の一部を感光性ハロゲン化銀形成成
分、例えば臭化アンモニウム、臭化リチウム、塩化ナト
リウム、N−ブロムコハク酸イミドなどによりハロゲン
化し、ハロゲン化銀を調製する方法や、いわゆる系外ハ
ロゲン化銀を含有させる方法などが挙げられる。
【0024】これらハロゲン化銀の結晶の形状として
は、立方体状、八面体状、平板状のものを挙げることが
できるが、立方体状、平板状のハロゲン化銀が特に好ま
しい。立方体状のハロゲン化銀の結晶の一辺の長さとし
ては、好ましくは0.01〜2μm、より好ましくは
0.02〜1.3μmである。平板状のハロゲン化銀の
平均アスペクト比は好ましくは100:1〜3:1、よ
り好ましくは50:1〜5:1であり、その粒子直径は
好ましくは0.01〜2μm、より好ましくは0.02
〜1.3μmである。
は、立方体状、八面体状、平板状のものを挙げることが
できるが、立方体状、平板状のハロゲン化銀が特に好ま
しい。立方体状のハロゲン化銀の結晶の一辺の長さとし
ては、好ましくは0.01〜2μm、より好ましくは
0.02〜1.3μmである。平板状のハロゲン化銀の
平均アスペクト比は好ましくは100:1〜3:1、よ
り好ましくは50:1〜5:1であり、その粒子直径は
好ましくは0.01〜2μm、より好ましくは0.02
〜1.3μmである。
【0025】これらハロゲン化銀は通常の写真乳剤に対
して行なわれるような化学増感が施されていても良い。
すなわち、硫黄増感、貴金属増感、還元増感などを用い
ることができる。
して行なわれるような化学増感が施されていても良い。
すなわち、硫黄増感、貴金属増感、還元増感などを用い
ることができる。
【0026】またこれらハロゲン化銀の結晶表面層には
Irを含有していても良い。その含有量はハロゲン化銀
1モル当り1×10-8〜1×10-4モルが好ましく、さ
らに好ましくは1×10-7〜1×10-6とする。またI
rの含有部としては、ハロゲン化銀結晶のシェル側20
重量%、好ましくは10重量%とする。
Irを含有していても良い。その含有量はハロゲン化銀
1モル当り1×10-8〜1×10-4モルが好ましく、さ
らに好ましくは1×10-7〜1×10-6とする。またI
rの含有部としては、ハロゲン化銀結晶のシェル側20
重量%、好ましくは10重量%とする。
【0027】またこれらのハロゲン化銀は、粒子内のハ
ロゲン組成が均一あるいは異なった多重構造をとっても
良く、またハロゲン組成、粒子サイズ、粒子サイズ分布
などが異なった2種類以上のハロゲン化銀を併用しても
よい。
ロゲン組成が均一あるいは異なった多重構造をとっても
良く、またハロゲン組成、粒子サイズ、粒子サイズ分布
などが異なった2種類以上のハロゲン化銀を併用しても
よい。
【0028】感光層には、これの皮膜性、分散性を改善
する目的で適宜バインダーを含有させることが好まし
い。成分(d)のバインダーの例としては、ニトロセル
ロース、リン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ミ
リスチン酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸
・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなど
のセルロースのエステル類;メチルセルロース、エチル
セルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロースな
どのセルロースのエーテル類;ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンなどのビニル重合物類;スチレン−ブタジエ
ンコポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマ
ー、スチレン−ブタジエン−アクリロニトリルコポリマ
ー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの共重合物
類;ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレー
ト、ポリブチルアクリレート、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリ
ルなどのアクリル重合物類;ポリエチレンテレフタレー
トなどのポリエステル類;ポリ(4,4−イソプロピリ
デン−ジフェニレン−コ−1,4−シクロヘキシレンジ
メチレンカーボネート)、ポリ(エチレンジオキシ−
3,3’−フェニレンチオカーボネート)、ポリ(4,
4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−コ
−テレフタレート)、ポリ(4,4’−イソプロピリデ
ンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4,4’−se
c−ブチリデンフェニレンカーボネート)、ポリ(4,
4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブ
ロック−オキシエチレン)などのポリアクリレート重合
物類;ポリアミド類;ポリイミド類;エポキシ重合物
類;フェノール重合物類;ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、塩素化ポリエチレンなどのポリオレフィン類;およ
びゼラチンなどの天然あるいは合成の樹脂を挙げること
ができる。特に、ポリビニルブチラールやポリビニルホ
ルマールなどのようなポリビニルアセタール、あるいは
塩化ビニル酢酸ビニルコポリマーのようなビニルコポリ
マーが好ましい。
する目的で適宜バインダーを含有させることが好まし
い。成分(d)のバインダーの例としては、ニトロセル
ロース、リン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、ミ
リスチン酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸
・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなど
のセルロースのエステル類;メチルセルロース、エチル
セルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロースな
どのセルロースのエーテル類;ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンなどのビニル重合物類;スチレン−ブタジエ
ンコポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマ
ー、スチレン−ブタジエン−アクリロニトリルコポリマ
ー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの共重合物
類;ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレー
ト、ポリブチルアクリレート、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリ
ルなどのアクリル重合物類;ポリエチレンテレフタレー
トなどのポリエステル類;ポリ(4,4−イソプロピリ
デン−ジフェニレン−コ−1,4−シクロヘキシレンジ
メチレンカーボネート)、ポリ(エチレンジオキシ−
3,3’−フェニレンチオカーボネート)、ポリ(4,
4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−コ
−テレフタレート)、ポリ(4,4’−イソプロピリデ
ンジフェニレンカーボネート)、ポリ(4,4’−se
c−ブチリデンフェニレンカーボネート)、ポリ(4,
4’−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート−ブ
ロック−オキシエチレン)などのポリアクリレート重合
物類;ポリアミド類;ポリイミド類;エポキシ重合物
類;フェノール重合物類;ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、塩素化ポリエチレンなどのポリオレフィン類;およ
びゼラチンなどの天然あるいは合成の樹脂を挙げること
ができる。特に、ポリビニルブチラールやポリビニルホ
ルマールなどのようなポリビニルアセタール、あるいは
塩化ビニル酢酸ビニルコポリマーのようなビニルコポリ
マーが好ましい。
【0029】一般式(I)の化合物は、赤色および近赤
外域への増感を目的とする増感色素である。
外域への増感を目的とする増感色素である。
【0030】一般式(I)中、Rで示されるハロゲン原
子としては、例えば弗素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げら
れる。
子としては、例えば弗素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げら
れる。
【0031】R、R3、R4、R5、X3、X4で表される
置換または未置換のアルキル基のうちの未置換のアルキ
ル基としては、好ましくは炭素数が1から18の直鎖ま
たは分岐アルキルなどであり、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、アミ
ル、i−アミル、sec−アミル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、ドデシル、ステアリル、ベヘニ
ルなどを挙げることができる。
置換または未置換のアルキル基のうちの未置換のアルキ
ル基としては、好ましくは炭素数が1から18の直鎖ま
たは分岐アルキルなどであり、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、アミ
ル、i−アミル、sec−アミル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、ドデシル、ステアリル、ベヘニ
ルなどを挙げることができる。
【0032】置換アルキル基は好ましくは炭素数が1か
ら18のアルコキシアルキル基、炭素数が1から18の
ハロゲン化アルキル基、炭素数が1から18のヒドロキ
シアルキル基、炭素数が1から18のアミノアルキル
基、炭素数が2から10のカルボキシアルキルなどであ
って、例えばアルコキシアルキル基としては、メトキシ
エチル、エトキシメチル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、プロポキシメチル、i−プロポキシペンチル、
t−ブトキシエチルなどを挙げることができる。
ら18のアルコキシアルキル基、炭素数が1から18の
ハロゲン化アルキル基、炭素数が1から18のヒドロキ
シアルキル基、炭素数が1から18のアミノアルキル
基、炭素数が2から10のカルボキシアルキルなどであ
って、例えばアルコキシアルキル基としては、メトキシ
エチル、エトキシメチル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、プロポキシメチル、i−プロポキシペンチル、
t−ブトキシエチルなどを挙げることができる。
【0033】ハロゲン化アルキル基としては例えば、ク
ロロメチル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロ
ピル、ブロモヘキシルなどを挙げることができる。
ロロメチル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロ
ピル、ブロモヘキシルなどを挙げることができる。
【0034】ヒドロキシアルキル基としては、例えばヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロ
キシヘプチルなどを挙げることができる。
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロ
キシヘプチルなどを挙げることができる。
【0035】アミノアルキル基としては、例えばアミノ
メチル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチ
ル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリ
ジノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルアミ
ノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モ
ルホリノブチルなどを挙げることができる。
メチル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチ
ル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリ
ジノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルアミ
ノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モ
ルホリノブチルなどを挙げることができる。
【0036】カルボキシアルキル基としては、カルボキ
シメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カ
ルボキシヘキシルなどを挙げることができる。
シメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カ
ルボキシヘキシルなどを挙げることができる。
【0037】Rで表される置換または未置換のアルコキ
シ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、ブトキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキ
シ、ヒドロキシブトキシなどを挙げることができる。
シ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、ブトキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキ
シ、ヒドロキシブトキシなどを挙げることができる。
【0038】R、R1、R2、R3、R4、R5、X3、X4
で表される置換または未置換のアリール基としては、例
えばフェニル、トリル、ナフチル、ヒドロキシフェニ
ル、クロロフェニルなどを挙げることができる。
で表される置換または未置換のアリール基としては、例
えばフェニル、トリル、ナフチル、ヒドロキシフェニ
ル、クロロフェニルなどを挙げることができる。
【0039】Rで表される置換または未置換のアミノ基
としては、例えばアミノ、アセチルアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ピロリジノ、モ
ルホリノ、ベンゼンスルホンアミノ、トルエンスルホン
アミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノなどを挙げ
ることができる。
としては、例えばアミノ、アセチルアミノ、メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ピロリジノ、モ
ルホリノ、ベンゼンスルホンアミノ、トルエンスルホン
アミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノなどを挙げ
ることができる。
【0040】R3、R4、R5で表されるアルケニル基と
しては、例えばビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ドデシニ
ル、プレニルなどを挙げることができる。
しては、例えばビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ドデシニ
ル、プレニルなどを挙げることができる。
【0041】R3、R4、R5、X3、X4で表される置換
または未置換のアラルキル基としては、例えばベンジ
ル、フェネチル、トリルメチル、ヒドロキシベンジル、
2−ヒドロキシ−3−メチルベンジル、2−ヒドロキシ
−3−t−ブチルベンジルなどを挙げることができる。
または未置換のアラルキル基としては、例えばベンジ
ル、フェネチル、トリルメチル、ヒドロキシベンジル、
2−ヒドロキシ−3−メチルベンジル、2−ヒドロキシ
−3−t−ブチルベンジルなどを挙げることができる。
【0042】R1とR2は、結合して環を形成してもよ
く、その環にはアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ
基などが結合していてもよい。
く、その環にはアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ
基などが結合していてもよい。
【0043】以下に、一般式(I)で表される増感色素
の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定され
るものではない。
の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定され
るものではない。
【0044】
【化7】
【0045】
【化8】
【0046】
【化9】
【0047】
【化10】
【0048】
【化11】
【0049】
【化12】
【0050】
【化13】 一般式(II)および一般式(III)の化合物は、熱
現像性感光体の生保存性(未使用状態での保存性)を向
上させるとともに、アンチハレーション色素あるいはイ
ラジエーション防止色素として働き、画像の解像性を向
上させる。
現像性感光体の生保存性(未使用状態での保存性)を向
上させるとともに、アンチハレーション色素あるいはイ
ラジエーション防止色素として働き、画像の解像性を向
上させる。
【0051】一般式(II)中のr12、r13、r14、r
15、r18、r19、r20およびr21で表されるハロゲン原
子としては、例えば弗素、塩素、臭素、ヨウ素が好まし
い。
15、r18、r19、r20およびr21で表されるハロゲン原
子としては、例えば弗素、塩素、臭素、ヨウ素が好まし
い。
【0052】r12〜r26、X6、X7で表される置換また
は未置換のアルキル基のうちの未置換のアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数が1から18の直鎖または分岐
アルキルなどであり、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、アミル、i−ア
ミル、sec−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ステアリル、ベヘニルなどを挙
げることができる。
は未置換のアルキル基のうちの未置換のアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数が1から18の直鎖または分岐
アルキルなどであり、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、アミル、i−ア
ミル、sec−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ステアリル、ベヘニルなどを挙
げることができる。
【0053】置換アルキル基は好ましくは炭素数が1か
ら18のアルコキシアルキル基、炭素数が1から18の
ハロゲン化アルキル基、炭素数が1から18のヒドロキ
シアルキル基、炭素数が1から18のアミノアルキル
基、炭素数が2から10のカルボキシアルキルなどであ
って、例えばアルコキシアルキル基としては、メトキシ
エチル、エトキシメチル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、プロポキシメチル、i−プロポキシペンチル、
t−ブトキシエチルなどを挙げることができる。
ら18のアルコキシアルキル基、炭素数が1から18の
ハロゲン化アルキル基、炭素数が1から18のヒドロキ
シアルキル基、炭素数が1から18のアミノアルキル
基、炭素数が2から10のカルボキシアルキルなどであ
って、例えばアルコキシアルキル基としては、メトキシ
エチル、エトキシメチル、エトキシプロピル、エトキシ
ブチル、プロポキシメチル、i−プロポキシペンチル、
t−ブトキシエチルなどを挙げることができる。
【0054】ハロゲン化アルキル基としては例えば、ク
ロロメチル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロ
ピル、ブロモヘキシルなどを挙げることができる。
ロロメチル、クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロ
ピル、ブロモヘキシルなどを挙げることができる。
【0055】ヒドロキシアルキル基としては、例えばヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロ
キシヘプチルなどを挙げることができる。
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロ
キシヘプチルなどを挙げることができる。
【0056】アミノアルキル基としては、例えばアミノ
メチル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチ
ル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリ
ジノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルアミ
ノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モ
ルホリノブチルなどを挙げることができる。
メチル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエチ
ル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペリ
ジノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルアミ
ノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、モ
ルホリノブチルなどを挙げることができる。
【0057】カルボキシアルキル基としては、カルボキ
シメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カ
ルボキシヘキシルなどを挙げることができる。
シメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カ
ルボキシヘキシルなどを挙げることができる。
【0058】r12〜r15、r18〜r21で表される置換ま
たは未置換のアルコキシ基としては、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ、
ヒドロキシエトキシ、ヒドロキシブトキシなどを挙げる
ことができる。
たは未置換のアルコキシ基としては、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ、
ヒドロキシエトキシ、ヒドロキシブトキシなどを挙げる
ことができる。
【0059】r12〜r26、X6、X7で表される置換また
は未置換のアリール基としては、例えばフェニル、トリ
ル、ナフチル、ヒドロキシフェニル、クロロフェニルな
どを挙げることができる。
は未置換のアリール基としては、例えばフェニル、トリ
ル、ナフチル、ヒドロキシフェニル、クロロフェニルな
どを挙げることができる。
【0060】r12〜r15、r18〜r21で表される置換ま
たは未置換のアミノ基としては、例えばアミノ、アセチ
ルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ピロリジノ、モルホリノ、ベンゼンスルホンアミ
ノ、トルエンスルホンアミノ、ジプロピルアミノ、ジブ
チルアミノなどを挙げることができる。
たは未置換のアミノ基としては、例えばアミノ、アセチ
ルアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ピロリジノ、モルホリノ、ベンゼンスルホンアミ
ノ、トルエンスルホンアミノ、ジプロピルアミノ、ジブ
チルアミノなどを挙げることができる。
【0061】r16、r17、X6、X7で表されるアルケニ
ル基としては、例えばビニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ド
デシニル、プレニルなどを挙げることができる。
ル基としては、例えばビニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ド
デシニル、プレニルなどを挙げることができる。
【0062】r16、r17、X6、X7で表される置換また
は未置換のアラルキル基としては、例えばベンジル、フ
ェネチル、トリルメチル、ヒドロキシベンジル、2−ヒ
ドロキシ−3−メチルベンジル、2−ヒドロキシ−3−
t−ブチルベンジルなどを挙げることができる。
は未置換のアラルキル基としては、例えばベンジル、フ
ェネチル、トリルメチル、ヒドロキシベンジル、2−ヒ
ドロキシ−3−メチルベンジル、2−ヒドロキシ−3−
t−ブチルベンジルなどを挙げることができる。
【0063】Y1 -としては、例えば臭素、ヨウ素、塩
素、過塩素酸、テトラフルオロボレート、トルエンスル
フォネート、6フッ化水素等が好ましい。
素、過塩素酸、テトラフルオロボレート、トルエンスル
フォネート、6フッ化水素等が好ましい。
【0064】以下に、一般式(II)で表される増感色
素の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定さ
れるものではない。
素の具体例を示すが、本発明の化合物はこれらに限定さ
れるものではない。
【0065】
【化14】
【0066】
【化15】
【0067】
【化16】
【0068】
【化17】
【0069】
【化18】
【0070】
【化19】
【0071】
【化20】 次に、一般式(III)で表される化合物について、式
中Ar2、Ar4で示されるアリール基は、例えばp−ジ
メチルアミノフェニル、p−ジエチルアミノフェニル、
p−ピロリジノフェニル、p−モルホリノフェニル、p
−ジエチルアミノ−o−メチルフェニル、p−ピペリジ
ノフェニル、p−ジプロペニルアミノフェニル、p−ジ
プロパルギルアミノフェニル、p−ジメトキシエチルア
ミノフェニルなどである。
中Ar2、Ar4で示されるアリール基は、例えばp−ジ
メチルアミノフェニル、p−ジエチルアミノフェニル、
p−ピロリジノフェニル、p−モルホリノフェニル、p
−ジエチルアミノ−o−メチルフェニル、p−ピペリジ
ノフェニル、p−ジプロペニルアミノフェニル、p−ジ
プロパルギルアミノフェニル、p−ジメトキシエチルア
ミノフェニルなどである。
【0072】Ar1、Ar3で示されるアルキル基は、炭
素数1から8の鎖状または分岐状アルキル基であり、例
えばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルなどである。
素数1から8の鎖状または分岐状アルキル基であり、例
えばメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルなどである。
【0073】アリール基としては、例えばフェニル、ナ
フチル、p−トリル、p−アニシルの他にAr2、Ar4
と同義のアミノフェニル類である。
フチル、p−トリル、p−アニシルの他にAr2、Ar4
と同義のアミノフェニル類である。
【0074】r27、r28、r29で示されるアルキル基と
しては、炭素数が1から4の鎖状または分岐状アルキル
基である。アリール基としては、フェニル、トリルの他
にAr2、Ar4ど同義のアミノフェニル類である。スチ
リル基としては、p−アミノ置換スチリルの他にα−ア
リール置換スチリルである。
しては、炭素数が1から4の鎖状または分岐状アルキル
基である。アリール基としては、フェニル、トリルの他
にAr2、Ar4ど同義のアミノフェニル類である。スチ
リル基としては、p−アミノ置換スチリルの他にα−ア
リール置換スチリルである。
【0075】Y2 -はY1 -と同じである。
【0076】以下に、一般式(III)で示される色素
の好ましい具体例を挙げる。
の好ましい具体例を挙げる。
【0077】
【化21】
【0078】
【化22】
【0079】
【化23】
【0080】
【化24】
【0081】
【化25】
【0082】
【化26】
【0083】
【化27】
【0084】
【化28】
【0085】
【化29】
【0086】
【化30】
【0087】
【化31】 また、本発明の感光体には、下記の一般式VおよびVI
のチオール化号物(s)の一方または両方が添加されて
いることが好ましい。
のチオール化号物(s)の一方または両方が添加されて
いることが好ましい。
【0088】
【化32】
【0089】
【化33】 上記両式中、R6〜R15は水素原子、置換または未置換
のアルキル基、置換または未置換のアルコキシ基、カル
ボキシル基、置換または未置換のアリール基、スルホン
酸基、置換または未置換のアミノ基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子、アミド基、アルケニル基またはアルキニル基を
表し、R6とR7、R7と8、R8とR9は、それぞれ縮合環
を形成していても良い。X8は−O−、−N(R16)
−、または−S−を表すが、好ましくは−O−である。
なお、R16は水素、アルキル基またはアリール基であ
る。
のアルキル基、置換または未置換のアルコキシ基、カル
ボキシル基、置換または未置換のアリール基、スルホン
酸基、置換または未置換のアミノ基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子、アミド基、アルケニル基またはアルキニル基を
表し、R6とR7、R7と8、R8とR9は、それぞれ縮合環
を形成していても良い。X8は−O−、−N(R16)
−、または−S−を表すが、好ましくは−O−である。
なお、R16は水素、アルキル基またはアリール基であ
る。
【0090】以下に、一般式VまたはVIで示されるチ
オール化合物の好ましい構造を示すが、これらに限定さ
れるものではない。
オール化合物の好ましい構造を示すが、これらに限定さ
れるものではない。
【0091】
【化34】
【0092】
【化35】
【0093】
【化36】
【0094】
【化37】
【0095】
【化38】
【0096】
【化39】
【0097】
【化40】
【0098】
【化41】
【0099】
【化42】
【0100】
【化43】
【0101】
【化44】
【0102】
【化45】
【0103】
【化46】
【0104】
【化47】 本発明の熱現像性感光体において、各成分の好ましい配
合比は以下の通りである。
合比は以下の通りである。
【0105】有機銀塩の含有量は、感光層に対して5〜
70重量%、さらに10〜60重量%、特に20〜50
重量%が好ましい。感光層が後述するように多層で構成
されている場合も、有機銀塩の含有量は感光層全層に対
して上記値である。
70重量%、さらに10〜60重量%、特に20〜50
重量%が好ましい。感光層が後述するように多層で構成
されている場合も、有機銀塩の含有量は感光層全層に対
して上記値である。
【0106】還元剤の含有量は、有機銀塩1モルに対し
て0.05〜3モル、さらには0.2〜2モルが好まし
い。
て0.05〜3モル、さらには0.2〜2モルが好まし
い。
【0107】また、有機銀塩1モルに対して、感光性ハ
ロゲン化銀を好ましくは、0.001モル〜2モル、よ
り好ましくは0.05モル〜1モル含有させるのが望ま
しい。また、本発明においては、ハロゲン化銀のかわり
にハロゲン化銀形成剤(例えば、テトラブチルアンモニ
ウムブロマイド、N−ブロモスクシンイミド、臭素、ヨ
ウ素などのハロゲン化合物)を用いてもよく、その場
合、ハロゲン化銀形成剤の含有量は、ハロゲン化銀の場
合と同様に考えることができる。
ロゲン化銀を好ましくは、0.001モル〜2モル、よ
り好ましくは0.05モル〜1モル含有させるのが望ま
しい。また、本発明においては、ハロゲン化銀のかわり
にハロゲン化銀形成剤(例えば、テトラブチルアンモニ
ウムブロマイド、N−ブロモスクシンイミド、臭素、ヨ
ウ素などのハロゲン化合物)を用いてもよく、その場
合、ハロゲン化銀形成剤の含有量は、ハロゲン化銀の場
合と同様に考えることができる。
【0108】一般式(I)〜(III)で示される化合
物の含有量は、それぞれ有機銀塩1モル当たり1×10
-5〜1×10-2モルの範囲、特に1×10-4〜1×10
-3モルの範囲が好ましい。
物の含有量は、それぞれ有機銀塩1モル当たり1×10
-5〜1×10-2モルの範囲、特に1×10-4〜1×10
-3モルの範囲が好ましい。
【0109】必要に応じて含有する一般式(V)または
(VI)で示されるチオール化合物の含有量は、一般式
(I)で示される化合物1モルに対して、1.0×10
-1〜2.0×102モル、さらには5.0×10-1〜
1.0×102モル、特に1.0〜8.0×10モルの
範囲が好ましい。
(VI)で示されるチオール化合物の含有量は、一般式
(I)で示される化合物1モルに対して、1.0×10
-1〜2.0×102モル、さらには5.0×10-1〜
1.0×102モル、特に1.0〜8.0×10モルの
範囲が好ましい。
【0110】必要に応じて含有するバインダーの含有量
は、有機銀塩1重量部に対して0.5〜10重量部、さ
らには0.5〜5重量部が好ましい。
は、有機銀塩1重量部に対して0.5〜10重量部、さ
らには0.5〜5重量部が好ましい。
【0111】本発明の感光体は必要に応じて色調剤を含
有することができる。色調剤としては、米国特許308
0254号明細書に記載のフタラジノンまたはその誘導
体、特開昭46−6074号公報に記載の環式イミド
類、特開昭50−32927号公報に記載のフタラジノ
ン化合物などを挙げることができる。色調剤を使用する
場合は、単独あるいは他の化合物と組み合せてもよく、
その添加量は、有機銀塩1モルに対して0.01〜5モ
ル、好ましくは0.05〜2モルである。
有することができる。色調剤としては、米国特許308
0254号明細書に記載のフタラジノンまたはその誘導
体、特開昭46−6074号公報に記載の環式イミド
類、特開昭50−32927号公報に記載のフタラジノ
ン化合物などを挙げることができる。色調剤を使用する
場合は、単独あるいは他の化合物と組み合せてもよく、
その添加量は、有機銀塩1モルに対して0.01〜5モ
ル、好ましくは0.05〜2モルである。
【0112】本発明の感光体は、画像の色調性、画像形
成後の安定性を改善するために有機酸を用いることが好
ましく、特に長鎖脂肪酸銀塩と同一かまたは近傍の脂肪
酸を単独あるいは組合せて含有させるのが好ましい。そ
れらの脂肪酸の使用量は、被還元性有機銀塩に対し25
モル%〜200モル%であり、特に30モル%〜120
モル%が好ましい。
成後の安定性を改善するために有機酸を用いることが好
ましく、特に長鎖脂肪酸銀塩と同一かまたは近傍の脂肪
酸を単独あるいは組合せて含有させるのが好ましい。そ
れらの脂肪酸の使用量は、被還元性有機銀塩に対し25
モル%〜200モル%であり、特に30モル%〜120
モル%が好ましい。
【0113】本発明の感光体は、適当なカブリ防止剤を
包含することができる。カブリ防止剤としては、特公昭
47−11113号公報に記載の水銀化合物、特公昭5
5−42375号公報に記載の1,2,4−トリアゾー
ル化合物、特開昭57−30828号公報に記載のテト
ラゾール化合物、特開昭57−138630号公報記載
の安息香酸類、特開昭57−147627号公報記載の
スルホニルチオ基を有する化合物および特開昭58−1
07534号公報に記載の二塩基酸類などを挙げること
ができる。特に特開昭58−107534号公報に記載
されている二塩基酸類が好ましい。この二塩基酸は下記
の一般式(VII)で表される。
包含することができる。カブリ防止剤としては、特公昭
47−11113号公報に記載の水銀化合物、特公昭5
5−42375号公報に記載の1,2,4−トリアゾー
ル化合物、特開昭57−30828号公報に記載のテト
ラゾール化合物、特開昭57−138630号公報記載
の安息香酸類、特開昭57−147627号公報記載の
スルホニルチオ基を有する化合物および特開昭58−1
07534号公報に記載の二塩基酸類などを挙げること
ができる。特に特開昭58−107534号公報に記載
されている二塩基酸類が好ましい。この二塩基酸は下記
の一般式(VII)で表される。
【0114】
【化48】 ただし式中、R17は炭素数4以上の直鎖または分岐のア
ルキレン基またはアルケニレン基を表す。
ルキレン基またはアルケニレン基を表す。
【0115】本発明の感光体は、画像形成後の光などに
よる非画像部の着色を防止するための着色防止剤を含有
することができる。この着色防止剤としては、特開昭6
1−129642号公報に記載された化合物が好まし
い。この化合物は下記一般式(VIII)で表される。
よる非画像部の着色を防止するための着色防止剤を含有
することができる。この着色防止剤としては、特開昭6
1−129642号公報に記載された化合物が好まし
い。この化合物は下記一般式(VIII)で表される。
【0116】
【化49】 ただし式中、R18は置換または未置換のアルキル基、置
換または未置換のアリール基、アルコキシ基またはアリ
ールオキシ基を表し、R19は水素原子、置換または未置
換のアルキル基、置換または未置換のアリール基を表
し、X9は塩素原子、臭素原子または沃素原子を表す。
換または未置換のアリール基、アルコキシ基またはアリ
ールオキシ基を表し、R19は水素原子、置換または未置
換のアルキル基、置換または未置換のアリール基を表
し、X9は塩素原子、臭素原子または沃素原子を表す。
【0117】本発明の感光体はさらに、現像促進剤を含
有することができる。好ましい現像促進剤としては、特
公昭64−8809号公報に記載の脂肪酸のアルカリ金
属塩化合物を挙げることができる。
有することができる。好ましい現像促進剤としては、特
公昭64−8809号公報に記載の脂肪酸のアルカリ金
属塩化合物を挙げることができる。
【0118】本発明の感光体は、帯電防止剤を含むこと
ができる。帯電防止剤としては、含フッ素系界面活性剤
を用いることができ、あるいは特開昭64−24245
号公報に記載された含フッ素系界面活性剤とノニオン界
面活性剤とを併用して含有することもできる。
ができる。帯電防止剤としては、含フッ素系界面活性剤
を用いることができ、あるいは特開昭64−24245
号公報に記載された含フッ素系界面活性剤とノニオン界
面活性剤とを併用して含有することもできる。
【0119】所望により、本発明の実施に用いられる熱
現像性感光体には、さらにマット剤、例えばでんぷん、
二酸化チタン、酸化亜鉛、シリカを含有せしめ得る。ま
た蛍光増白剤、例えばスチルベン類、トリアジン剤、オ
キサゾール剤、クマリン蛍光増白剤を含有せしめ得る。
現像性感光体には、さらにマット剤、例えばでんぷん、
二酸化チタン、酸化亜鉛、シリカを含有せしめ得る。ま
た蛍光増白剤、例えばスチルベン類、トリアジン剤、オ
キサゾール剤、クマリン蛍光増白剤を含有せしめ得る。
【0120】本発明の感光体は、適当な支持体上に上記
各種成分を含む単層または多層を被覆形成するなどの方
法によって得ることができる。支持体としては、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどの合成樹脂
フィルム、合成紙、ポリエチレンなどの合成樹脂フィル
ムで被覆された紙、アート紙、写真用パライタ紙などの
紙類、またはアルミニウムなどの金属板(箔)、通常の
方法により金属蒸着膜を有する合成樹脂フィルムまたは
ガラス板などを挙げることができる。ただし、支持体は
必ずしも必要なものではない。
各種成分を含む単層または多層を被覆形成するなどの方
法によって得ることができる。支持体としては、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどの合成樹脂
フィルム、合成紙、ポリエチレンなどの合成樹脂フィル
ムで被覆された紙、アート紙、写真用パライタ紙などの
紙類、またはアルミニウムなどの金属板(箔)、通常の
方法により金属蒸着膜を有する合成樹脂フィルムまたは
ガラス板などを挙げることができる。ただし、支持体は
必ずしも必要なものではない。
【0121】また、熱現像感光体の透明度を上げ、画像
濃度を高くし、生保存性を改良し、場合によっては感光
体の耐熱性を高めるために、所望により感光材料層の上
に保護層を設けることができる。保護層の膜厚は1〜2
0μmが適当である。これより薄すぎると上記の効果が
なくなり、また厚すぎると特別な利点がなくただコスト
が高くなるだけである。適当なポリマーとしては、好ま
しくは耐熱性で、無色で、溶媒に溶け易いものが良く、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニルと
酢酸ビニルの共重合体(好ましくは塩化ビニルが50モ
ル%以上)、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、ポ
リメチルメタアクリレート、ベンジルセルロース、エチ
ルセルロース、セルロースアセテートブチレート、二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリビニルピロリドン、セ
ルロースプロピオネート、ポリビニルホルマール、セル
ロースアセテートブチレート、ポリカーボネート、セル
ロースアセテートプロピオネートなどを挙げることがで
きる。さらに、ゼラチン、フタル化ゼラチンなどのゼラ
チン誘導体、アクリルアミドポリマー、ポリイソブチレ
ン、ブタジエン−スチレンコポリマー(任意のモノマー
比)、ポリビニルアルコールも挙げることができる。こ
れらバインダーの他に保護層中にコロイダルシリカを含
有させても良い。
濃度を高くし、生保存性を改良し、場合によっては感光
体の耐熱性を高めるために、所望により感光材料層の上
に保護層を設けることができる。保護層の膜厚は1〜2
0μmが適当である。これより薄すぎると上記の効果が
なくなり、また厚すぎると特別な利点がなくただコスト
が高くなるだけである。適当なポリマーとしては、好ま
しくは耐熱性で、無色で、溶媒に溶け易いものが良く、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニルと
酢酸ビニルの共重合体(好ましくは塩化ビニルが50モ
ル%以上)、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、ポ
リメチルメタアクリレート、ベンジルセルロース、エチ
ルセルロース、セルロースアセテートブチレート、二酢
酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリビニルピロリドン、セ
ルロースプロピオネート、ポリビニルホルマール、セル
ロースアセテートブチレート、ポリカーボネート、セル
ロースアセテートプロピオネートなどを挙げることがで
きる。さらに、ゼラチン、フタル化ゼラチンなどのゼラ
チン誘導体、アクリルアミドポリマー、ポリイソブチレ
ン、ブタジエン−スチレンコポリマー(任意のモノマー
比)、ポリビニルアルコールも挙げることができる。こ
れらバインダーの他に保護層中にコロイダルシリカを含
有させても良い。
【0122】好ましいポリマーとしては、耐熱性が11
5℃以上であり、屈折率が20℃で1.45以上のもの
である。
5℃以上であり、屈折率が20℃で1.45以上のもの
である。
【0123】本発明の熱現像性感光体では、感光材料
層、導電層、保護層などの機能を有する各層を各々別個
に形成する場合には、これらの各層は各種の塗布方法で
塗布することができ、こういった方法には浸漬法、エア
ーナイフ法、カーテン塗布法、および米国特許第2,6
81,294号に記載のごときホッパーを用いる押出し
塗布法がある。所望により2層またはそれ以上の層を同
時に塗布することもできる。
層、導電層、保護層などの機能を有する各層を各々別個
に形成する場合には、これらの各層は各種の塗布方法で
塗布することができ、こういった方法には浸漬法、エア
ーナイフ法、カーテン塗布法、および米国特許第2,6
81,294号に記載のごときホッパーを用いる押出し
塗布法がある。所望により2層またはそれ以上の層を同
時に塗布することもできる。
【0124】また、本発明の熱現像性感光体は、像露
光、加熱(熱現像)によって形成された画像の光吸収性
を利用して、光吸収性の違いによるパターンを形成する
こともできる。すなわち、像露光部分では光が吸収さ
れ、像未露光部分では光の吸収が少ないという、光吸収
性の違いによるパターンを形成することができる。
光、加熱(熱現像)によって形成された画像の光吸収性
を利用して、光吸収性の違いによるパターンを形成する
こともできる。すなわち、像露光部分では光が吸収さ
れ、像未露光部分では光の吸収が少ないという、光吸収
性の違いによるパターンを形成することができる。
【0125】上記の光吸収性の違いを利用して、本発明
の熱現像性感光体により、重合部分と未重合部分で構成
されるパターン(以下、重合・未重合パターンと言う)
を形成することもできる。すなわち、本発明による感光
層中に重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含有
させ、像露光、熱現像および重合露光により重合・未重
合パターンを形成することができる。このように、重合
・未重合パターンが形成されるのは、像露光部分では銀
または熱現像時の酸化・還元反応によって生成される酸
化体(還元剤の酸化されたもの)による光吸収により、
重合が進行せず、像未露光部分では重合が進行するため
である。
の熱現像性感光体により、重合部分と未重合部分で構成
されるパターン(以下、重合・未重合パターンと言う)
を形成することもできる。すなわち、本発明による感光
層中に重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含有
させ、像露光、熱現像および重合露光により重合・未重
合パターンを形成することができる。このように、重合
・未重合パターンが形成されるのは、像露光部分では銀
または熱現像時の酸化・還元反応によって生成される酸
化体(還元剤の酸化されたもの)による光吸収により、
重合が進行せず、像未露光部分では重合が進行するため
である。
【0126】重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤
は、感光層中に含有されていてもよいが、感光層とは別
に、重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含有す
る重合層を設けても良い。
は、感光層中に含有されていてもよいが、感光層とは別
に、重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤を含有す
る重合層を設けても良い。
【0127】感光層と重合層とは支持体側から重合層、
感光層の順、または支持体側から感光層、重合層の順に
積層しても良いし、あるいは支持体を間に挟んで支持体
の片面に感光層を設け、他面に重合層を設けるようにし
ても良い。
感光層の順、または支持体側から感光層、重合層の順に
積層しても良いし、あるいは支持体を間に挟んで支持体
の片面に感光層を設け、他面に重合層を設けるようにし
ても良い。
【0128】本発明の熱現像性感光体に使用する光重合
開始剤としては、例えばカルボニル化合物、イオン化合
物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤、ピリ
リウムなどの染料で増感される過酸化物系開始剤などを
挙げることができる。
開始剤としては、例えばカルボニル化合物、イオン化合
物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤、ピリ
リウムなどの染料で増感される過酸化物系開始剤などを
挙げることができる。
【0129】具体的には、カルボニル化合物としては、
例えばベンジル、4,4’−ジメトキシベンジル、ジア
セチル、カンファーキノンなどのジケトン類;例えば
4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4’−ジメトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン類;例えばアセトフェノン、4−メトキシアセトフ
ェノンなどのアセトフェノン類;ベンゾイルアルキルエ
ーテル類;例えば2−クロロチオキサントン、2,4−
ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサン
トン、チオキサントン−3−カルボン酸−β−メトキシ
エチルエステルなどのチオキサントン類;ジアルキルア
ミノ基を有するカルコン類およびスチリルケトン類;
3,3’−カルボニルビス(7−メトキシクマリン)、
3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン)などのクマリン類などが挙げられる。
例えばベンジル、4,4’−ジメトキシベンジル、ジア
セチル、カンファーキノンなどのジケトン類;例えば
4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4’−ジメトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン類;例えばアセトフェノン、4−メトキシアセトフ
ェノンなどのアセトフェノン類;ベンゾイルアルキルエ
ーテル類;例えば2−クロロチオキサントン、2,4−
ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサン
トン、チオキサントン−3−カルボン酸−β−メトキシ
エチルエステルなどのチオキサントン類;ジアルキルア
ミノ基を有するカルコン類およびスチリルケトン類;
3,3’−カルボニルビス(7−メトキシクマリン)、
3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン)などのクマリン類などが挙げられる。
【0130】イオウ化合物としては、例えばジベンゾチ
アゾリルスルフィド、デシルフェニルスルフィド、ジス
ルフィドなどが挙げられる。
アゾリルスルフィド、デシルフェニルスルフィド、ジス
ルフィドなどが挙げられる。
【0131】ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭
素、キノリンスルホニルクロライド、トリハロメチル基
を有するS−トリアジン類などが挙げられる。
素、キノリンスルホニルクロライド、トリハロメチル基
を有するS−トリアジン類などが挙げられる。
【0132】レドックス系光重合開始剤としては、3価
の鉄イオン化合物(例えばクエン酸第二鉄アンモニウ
ム)と過酸化物などを組み合せて用いるものや、リボフ
ラビン、メチレンブルーなどの光還元性色素とトリエタ
ノールアミン、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せ
て用いるものなどが挙げられる。
の鉄イオン化合物(例えばクエン酸第二鉄アンモニウ
ム)と過酸化物などを組み合せて用いるものや、リボフ
ラビン、メチレンブルーなどの光還元性色素とトリエタ
ノールアミン、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せ
て用いるものなどが挙げられる。
【0133】また以上に述べた光重合開始剤(増感剤も
含む)において、2種以上の光重合開始剤を組み合せ
て、より効率の良い光重合を行なうこともできる。
含む)において、2種以上の光重合開始剤を組み合せ
て、より効率の良い光重合を行なうこともできる。
【0134】このような光重合開始剤の組合せとして
は、ジアルキルアミノ基を有するカルコンおよびスチリ
ルケトン類やクマリン類と、トリハロメチル基を有する
S−トリアジン類やカンファーキノンとの組合せなどが
挙げられる。
は、ジアルキルアミノ基を有するカルコンおよびスチリ
ルケトン類やクマリン類と、トリハロメチル基を有する
S−トリアジン類やカンファーキノンとの組合せなどが
挙げられる。
【0135】本発明の熱現像性感光体に使用する重合性
ポリマー前駆体としては、一分子中に反応性ビニル基を
少なくとも1つ持つ化合物が利用できる。
ポリマー前駆体としては、一分子中に反応性ビニル基を
少なくとも1つ持つ化合物が利用できる。
【0136】これらの化合物の反応性ビニル基として
は、スチレン系ビニル基、アクリル酸系ビニル基、メタ
クリル酸系ビニル基、アリル系ビニル基、ビニルエーテ
ルなどの他に酢酸ビニルなどのエステル系ビニル基など
重合反応性を有する置換または未置換のビニル基が挙げ
られる。
は、スチレン系ビニル基、アクリル酸系ビニル基、メタ
クリル酸系ビニル基、アリル系ビニル基、ビニルエーテ
ルなどの他に酢酸ビニルなどのエステル系ビニル基など
重合反応性を有する置換または未置換のビニル基が挙げ
られる。
【0137】このような条件を満たす重合性ポリマー前
駆体の具体例は、次の通りである。
駆体の具体例は、次の通りである。
【0138】例えば、スチレン、メチルスチレン、クロ
ルスチレン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジメ
チルアミノスチレン、シアノスチレン、ニトロスチレ
ン、ヒドロキシスチレン、アミノスチレン、カルボキシ
スチレン、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、
メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸フェニル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニ
ルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダ
ゾール、2−ビニルイミダゾール、N−メチル−2−ビ
ニルイミダゾール、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロ
エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−
メチルフェニルビニルエーテル、p−クロロフェニルビ
ニルエーテルなどの一価の単量体;ジビニルベンゼン、
シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジ
スチリル、グルタル酸ジスチリル、アジピン酸ジスチリ
ル、マレイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β,
β’−ジメチルグルタル酸ジスチリル、2−ブロモグル
タル酸ジスチリル、α,α’−ジクロログルタル酸ジス
チリル、テレフタル酸ジスチリル、シュウ酸ジ(エチル
アクリレート)、シュウ酸ジ(メチルアクリレート)、
マロン酸ジ(エチルアクリレート)、マロン酸ジ(メチ
ルエチルアクリレート)、コハク酸ジ(エチルアクリレ
ート)、グルタル酸ジ(エチルアクリレート)、アジピ
ン酸ジ(エチルアクリレート)、マレイン酸ジ(エチル
アクリレート)、フマル酸ジ(エチルアクリレート)、
β,β’−ジメチルグルタル酸ジ(エチルアクリレー
ト)、エチレンジアクリルアミド、プロピレンジアクリ
ルアミド、1,4−フェニレンジアクリルアミド、1,
4−フェニレンビス(オキシエチルアクリレート)、
1,4−フェニレンビス(オキシメチルエチルアクリレ
ート)、1,4−ビス(アクリロイルオキシエトキシ)
シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリロイルオキシメ
チルエトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリ
ロイルオキシエトキシカルバモイル)ベンゼン、1,4
−ビス(アクリロイルオキシメチルエトキシカルバモイ
ル)ベンゼン、1,4−ビス(アクリロイルオキシエト
キシカルバモイル)シクロヘキサン、ビス(アクリロイ
ルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキシル)メタ
ン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)、シュウ酸ジ
(メチルエチルメタクリレート)、マロン酸ジ(エチル
メタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエチルメタクリ
レート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレート)、コハ
ク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、グルタル酸ジ
(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタクリレー
ト)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、フマル酸
ジ(メチルエチルメタクリレート)、β,β’−ジメチ
ルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1,4−フ
ェニレンビス(オキシエチルメタクリレート)、1,4
−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキサ
ンアクリロイルオキシエトキシエチルビニルエーテルな
どの2価の単量体;ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(ヒドロキシスチレン)、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、シアヌル酸トリアク
リレート、シアヌル酸トリメタクリレート、1,1,1
−トリメチロールプロパントリアクリレート、1,1,
1−トリメチロールプロパントリメタクリレート、シア
ヌル酸トリ(エチルアクリレート)、1,1,1−トリ
メチロールプロパントリ(エチルアクリレート)、シア
ヌル酸トリ(エチルビニルエーテル)、1,1,1−ト
リメチロールプロパントリ(トルエンジイソシアネー
ト)とヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物、1,
1,1−トリメチロールプロパントリ(ヘキサンジイソ
シアネート)とp−ヒドロキシスチレンとの縮合物など
の3価の単量体;エチレンテトラアクリルアミド、プロ
ピレンテトラアクリルアミドなどの4価の単量体、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの6価の単
量体などを挙げることができる。
ルスチレン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジメ
チルアミノスチレン、シアノスチレン、ニトロスチレ
ン、ヒドロキシスチレン、アミノスチレン、カルボキシ
スチレン、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、
メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタ
クリル酸フェニル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニ
ルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダ
ゾール、2−ビニルイミダゾール、N−メチル−2−ビ
ニルイミダゾール、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロ
エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−
メチルフェニルビニルエーテル、p−クロロフェニルビ
ニルエーテルなどの一価の単量体;ジビニルベンゼン、
シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジ
スチリル、グルタル酸ジスチリル、アジピン酸ジスチリ
ル、マレイン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β,
β’−ジメチルグルタル酸ジスチリル、2−ブロモグル
タル酸ジスチリル、α,α’−ジクロログルタル酸ジス
チリル、テレフタル酸ジスチリル、シュウ酸ジ(エチル
アクリレート)、シュウ酸ジ(メチルアクリレート)、
マロン酸ジ(エチルアクリレート)、マロン酸ジ(メチ
ルエチルアクリレート)、コハク酸ジ(エチルアクリレ
ート)、グルタル酸ジ(エチルアクリレート)、アジピ
ン酸ジ(エチルアクリレート)、マレイン酸ジ(エチル
アクリレート)、フマル酸ジ(エチルアクリレート)、
β,β’−ジメチルグルタル酸ジ(エチルアクリレー
ト)、エチレンジアクリルアミド、プロピレンジアクリ
ルアミド、1,4−フェニレンジアクリルアミド、1,
4−フェニレンビス(オキシエチルアクリレート)、
1,4−フェニレンビス(オキシメチルエチルアクリレ
ート)、1,4−ビス(アクリロイルオキシエトキシ)
シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリロイルオキシメ
チルエトキシ)シクロヘキサン、1,4−ビス(アクリ
ロイルオキシエトキシカルバモイル)ベンゼン、1,4
−ビス(アクリロイルオキシメチルエトキシカルバモイ
ル)ベンゼン、1,4−ビス(アクリロイルオキシエト
キシカルバモイル)シクロヘキサン、ビス(アクリロイ
ルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキシル)メタ
ン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)、シュウ酸ジ
(メチルエチルメタクリレート)、マロン酸ジ(エチル
メタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエチルメタクリ
レート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレート)、コハ
ク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、グルタル酸ジ
(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタクリレー
ト)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、フマル酸
ジ(メチルエチルメタクリレート)、β,β’−ジメチ
ルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1,4−フ
ェニレンビス(オキシエチルメタクリレート)、1,4
−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキサ
ンアクリロイルオキシエトキシエチルビニルエーテルな
どの2価の単量体;ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ(ヒドロキシスチレン)、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、シアヌル酸トリアク
リレート、シアヌル酸トリメタクリレート、1,1,1
−トリメチロールプロパントリアクリレート、1,1,
1−トリメチロールプロパントリメタクリレート、シア
ヌル酸トリ(エチルアクリレート)、1,1,1−トリ
メチロールプロパントリ(エチルアクリレート)、シア
ヌル酸トリ(エチルビニルエーテル)、1,1,1−ト
リメチロールプロパントリ(トルエンジイソシアネー
ト)とヒドロキシエチルアクリレートとの縮合物、1,
1,1−トリメチロールプロパントリ(ヘキサンジイソ
シアネート)とp−ヒドロキシスチレンとの縮合物など
の3価の単量体;エチレンテトラアクリルアミド、プロ
ピレンテトラアクリルアミドなどの4価の単量体、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの6価の単
量体などを挙げることができる。
【0139】なお、上記の重合性ポリマー前駆体を2種
以上用いても良い。
以上用いても良い。
【0140】重合性ポリマー前駆体および光重合開始剤
を本発明の熱現像性感光体に含有する場合、光重合開始
剤は還元剤1モルに対して0.01〜10モル、さらに
は0.5〜3.0モル含有するのが好ましい。また、光
重合開始剤は、重合性ポリマー前駆体100重量部に対
して0.1〜30重量部、さらには0.5〜10重量部
とするのが好ましい。
を本発明の熱現像性感光体に含有する場合、光重合開始
剤は還元剤1モルに対して0.01〜10モル、さらに
は0.5〜3.0モル含有するのが好ましい。また、光
重合開始剤は、重合性ポリマー前駆体100重量部に対
して0.1〜30重量部、さらには0.5〜10重量部
とするのが好ましい。
【0141】本発明において、感光層の厚さは0.1〜
50μm、さらには1〜30μm、特には2〜20μm
とするのが好ましい。
50μm、さらには1〜30μm、特には2〜20μm
とするのが好ましい。
【0142】感光層を多層構成とする場合、有機銀塩、
ハロゲン化銀および一般式(I)で示される増感色素を
含有する層と、還元剤を含有する層との多層とするのが
よい。一般式(II)および(III)の化合物は、ど
ちらの層に含有させてもよい。あるいは、一般式(I
I)および(III)の化合物を含有する層を感光層と
は別に形成して、感光層の上、あるいは感光層と支持体
との間、あるいは感光層とは反対側の支持体上に設けて
もよい。また、必要に応じて含有する一般式(V)また
は(VI)のチオール化合物は、増感色素を含有する層
に含める。
ハロゲン化銀および一般式(I)で示される増感色素を
含有する層と、還元剤を含有する層との多層とするのが
よい。一般式(II)および(III)の化合物は、ど
ちらの層に含有させてもよい。あるいは、一般式(I
I)および(III)の化合物を含有する層を感光層と
は別に形成して、感光層の上、あるいは感光層と支持体
との間、あるいは感光層とは反対側の支持体上に設けて
もよい。また、必要に応じて含有する一般式(V)また
は(VI)のチオール化合物は、増感色素を含有する層
に含める。
【0143】重合層を感光層とは別に設ける場合、重合
層の好ましい厚さの範囲も上記の感光層の厚さの範囲と
同様である。
層の好ましい厚さの範囲も上記の感光層の厚さの範囲と
同様である。
【0144】次に、本発明の感光体を用いて画像を形成
する方法について説明する。
する方法について説明する。
【0145】本発明の感光体は、先に説明した色素を含
有することから、良好な感光性と熱現像性を示すととも
に、赤色および近赤外域に高い感度を有する。従って、
本発明の感光体に対して、半導体レーザー光またはLE
D光、特に640〜750nmの光で所望の像に応じた
像露光を施すと、銀核が発生してまず潜像が形成でき
る。さらに、これに適当な加熱(熱現像)を施せば、酸
化還元反応によって像露光に応じた画像が現像できる。
有することから、良好な感光性と熱現像性を示すととも
に、赤色および近赤外域に高い感度を有する。従って、
本発明の感光体に対して、半導体レーザー光またはLE
D光、特に640〜750nmの光で所望の像に応じた
像露光を施すと、銀核が発生してまず潜像が形成でき
る。さらに、これに適当な加熱(熱現像)を施せば、酸
化還元反応によって像露光に応じた画像が現像できる。
【0146】このようにして画像を形成する本発明の画
像形成方法は、その処理上の取扱いが簡易であり、機械
化に好都合であるだけでなく、半導体レーザーまたはL
ED光を用いることができるため、コンパクトかつ経済
的な方法である。本発明の感光体によれば、像露光スピ
ードが1×10-5sec/dot〜1×10-7sec/
dotと短時間であっても、相反則不軌の問題は発生し
ない。
像形成方法は、その処理上の取扱いが簡易であり、機械
化に好都合であるだけでなく、半導体レーザーまたはL
ED光を用いることができるため、コンパクトかつ経済
的な方法である。本発明の感光体によれば、像露光スピ
ードが1×10-5sec/dot〜1×10-7sec/
dotと短時間であっても、相反則不軌の問題は発生し
ない。
【0147】さらに、重合性ポリマー前駆体および光重
合開始剤を含有する本発明の熱現像性感光体では、上記
の像露光および熱現像後、熱現像性感光体の全面に感光
層側から重合露光を施すことにより、重合・未重合パタ
ーンを形成することができる。
合開始剤を含有する本発明の熱現像性感光体では、上記
の像露光および熱現像後、熱現像性感光体の全面に感光
層側から重合露光を施すことにより、重合・未重合パタ
ーンを形成することができる。
【0148】重合露光過程において用いる光源として
は、例えば太陽光、タングステンランプ、水銀灯、ハロ
ゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、LED、レーザ
ー光線などを使用することができる。
は、例えば太陽光、タングステンランプ、水銀灯、ハロ
ゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、LED、レーザ
ー光線などを使用することができる。
【0149】重合露光の波長は、像露光の光の波長と同
じであっても異なっていてもよい。なお、像露光の場合
と同一波長の光を用いても、通常感光性ハロゲン化銀は
光重合開始剤よりも十分に高い感光感度を有するので、
上記像露光過程において光重合が起きない程度の強度の
光で潜像書込みが行なえる。例えば、像露光過程では、
感光体の面上で概ね100μJ/cm2、好ましくは3
0μJ/cm2、より好ましくは15μJ/cm2までの
光で露光を行ない、重合露光過程では、感光体の面上で
概ね500μJ/cm2までの光で露光を行なうとよ
い。重合露光を行なわない場合も、像露光過程は上記条
件で行なう。
じであっても異なっていてもよい。なお、像露光の場合
と同一波長の光を用いても、通常感光性ハロゲン化銀は
光重合開始剤よりも十分に高い感光感度を有するので、
上記像露光過程において光重合が起きない程度の強度の
光で潜像書込みが行なえる。例えば、像露光過程では、
感光体の面上で概ね100μJ/cm2、好ましくは3
0μJ/cm2、より好ましくは15μJ/cm2までの
光で露光を行ない、重合露光過程では、感光体の面上で
概ね500μJ/cm2までの光で露光を行なうとよ
い。重合露光を行なわない場合も、像露光過程は上記条
件で行なう。
【0150】露光スピードとしては、10-3sec/d
otから10-7sec/dotまでの露光時間でも相反
則不軌が生じずに実用的な最大光学濃度を得ることがで
きるが、必要に応じて前副露光あるいは後副露光を行な
っても良い。
otから10-7sec/dotまでの露光時間でも相反
則不軌が生じずに実用的な最大光学濃度を得ることがで
きるが、必要に応じて前副露光あるいは後副露光を行な
っても良い。
【0151】本発明の感光体を加熱現像する手段として
は各種あり、例えば感光体を簡単な加熱プレートなどと
接触せしめてもよいし、加熱したドラムに接触せしめて
もよく、場合によっては加熱された空間内を通過させて
もよい。また、高周波加熱やレーザービームにより加熱
してもよい。加熱温度は70〜160℃、さらには90
〜150℃が適当であり、より好ましくは100〜14
0℃である。加熱時間を延長あるいは短縮することによ
り、上述の範囲内でより高いあるいはより低い温度で用
いることができる。現像時間は通常1〜60秒、好まし
くは3〜20秒である。
は各種あり、例えば感光体を簡単な加熱プレートなどと
接触せしめてもよいし、加熱したドラムに接触せしめて
もよく、場合によっては加熱された空間内を通過させて
もよい。また、高周波加熱やレーザービームにより加熱
してもよい。加熱温度は70〜160℃、さらには90
〜150℃が適当であり、より好ましくは100〜14
0℃である。加熱時間を延長あるいは短縮することによ
り、上述の範囲内でより高いあるいはより低い温度で用
いることができる。現像時間は通常1〜60秒、好まし
くは3〜20秒である。
【0152】
【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0153】(実施例1)下記の組成よりなる感光性組
成物を安全光下で調製した。
成物を安全光下で調製した。
【0154】 ポリビニルブチラール 5.0g ベヘン酸銀 2.5g ベヘン酸 2.0g 臭化銀 0.2g フタラジノン 1.0g 2,2’−メチレンビス(6− t−ブチル−4−メチルフェノール) 1.0g キシレン 30ml n−ブタノール 30ml 上記の臭化銀は結晶の面指数が{100}の立方晶であ
って、1辺の長さの平均が0.07μmの結晶であっ
た。
って、1辺の長さの平均が0.07μmの結晶であっ
た。
【0155】前記の化合物(I−4)5mgと化合物
(II−1)5mgとをN,N−ジメチルホルムアミド
(DMF)10mlに溶解し、その溶液を上記感光性組
成物に添加した。さらに、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾール60mgをDMF1mlに溶解した溶液を上記感
光性組成物に添加した。
(II−1)5mgとをN,N−ジメチルホルムアミド
(DMF)10mlに溶解し、その溶液を上記感光性組
成物に添加した。さらに、2−メルカプトベンゾオキサ
ゾール60mgをDMF1mlに溶解した溶液を上記感
光性組成物に添加した。
【0156】この感光性組成物をポリエチレンテレフタ
レート(PET)フィルム上に乾燥膜厚10μmとなる
ように塗布して感光層とし、その上に保護層として乾燥
膜厚2μmのポリビニルアルコール層を塗布して本発明
の熱現像性感光体を得た。
レート(PET)フィルム上に乾燥膜厚10μmとなる
ように塗布して感光層とし、その上に保護層として乾燥
膜厚2μmのポリビニルアルコール層を塗布して本発明
の熱現像性感光体を得た。
【0157】こうして得た熱現像性感光体について、感
光体作製直後の感度およびカブリ濃度と、未使用状態で
長期間保存した後の感度およびカブリ濃度を測定した。
保存の条件は、50℃、80%RHの環境下で72時間
とした。
光体作製直後の感度およびカブリ濃度と、未使用状態で
長期間保存した後の感度およびカブリ濃度を測定した。
保存の条件は、50℃、80%RHの環境下で72時間
とした。
【0158】感度およびカブリ濃度は、熱現像性感光体
に画像を形成し、形成された画像の透過光学濃度(O.
D.)を測定することにより求めた。
に画像を形成し、形成された画像の透過光学濃度(O.
D.)を測定することにより求めた。
【0159】すなわち本発明においては、像露光エネル
ギーが0.1μJ/cm2のときの透過光学濃度をカブ
リ濃度とした。また、カブリ濃度に0.5を加えた透過
光学濃度にするのに必要な像露光エネルギー値を感度と
した。従って、感度は像露光エネルギーに対する透過光
学濃度の特性曲線と、カブリ濃度とから求める。
ギーが0.1μJ/cm2のときの透過光学濃度をカブ
リ濃度とした。また、カブリ濃度に0.5を加えた透過
光学濃度にするのに必要な像露光エネルギー値を感度と
した。従って、感度は像露光エネルギーに対する透過光
学濃度の特性曲線と、カブリ濃度とから求める。
【0160】透過光学濃度の測定には、透過反射兼用色
濃度計NLM−STD−Tr(ナルミ商会製)を用い
た。
濃度計NLM−STD−Tr(ナルミ商会製)を用い
た。
【0161】画像形成は、熱現像性感光体を波長670
nmの半導体レーザーで像露光し、その後118℃に設
定した熱現像機内で10秒間熱現像して行った。半導体
レーザーのスポット径は20μm×40μmで、露光ス
ピードは1.67×10-7sec/dotとした。
nmの半導体レーザーで像露光し、その後118℃に設
定した熱現像機内で10秒間熱現像して行った。半導体
レーザーのスポット径は20μm×40μmで、露光ス
ピードは1.67×10-7sec/dotとした。
【0162】像露光エネルギーに対する透過光学濃度の
特性曲線は、像露光エネルギーを変えて画像形成を行
い、得られた画像の透過光学濃度を測定することにより
作成した。
特性曲線は、像露光エネルギーを変えて画像形成を行
い、得られた画像の透過光学濃度を測定することにより
作成した。
【0163】こうして求めた感度およびカブリ濃度を表
1に示した。
1に示した。
【0164】(比較例1および2)実施例1で用いた増
感色素(I−4)に代えて、下記の増感色素(R−1)
を用い、その他は実施例1と同様にして熱現像性感光体
を作製した(比較例1)。また、増感色素(I−4)を
添加しない以外は実施例1と同様にして熱現像性感光体
を作製した(比較例2)。
感色素(I−4)に代えて、下記の増感色素(R−1)
を用い、その他は実施例1と同様にして熱現像性感光体
を作製した(比較例1)。また、増感色素(I−4)を
添加しない以外は実施例1と同様にして熱現像性感光体
を作製した(比較例2)。
【0165】これらの熱現像性感光体を用いて、実施例
1と同様にして感度およびカブリ濃度を測定した。測定
結果を表1に示した。
1と同様にして感度およびカブリ濃度を測定した。測定
結果を表1に示した。
【0166】
【化50】
【0167】
【表1】 (実施例2)下記の組成より成る感光性組成物を安全光
下で調製した。
下で調製した。
【0168】 ポリビニルホルマール 5.0g ベンゾトリアゾール銀 3.0g ホモフタル酸 0.5g 臭化銀(ヘキサクロロイリジウム(IV)酸 ナトリウム添加物;10-6mol%/AgBr)0.2g フタラジノン 1.0g 4,4’−メチレンビス(6− t−ブチル−4−メチルフェノール) 1.0g キシレン 35ml n−ブタノール 25ml 上記の臭化銀は結晶の面指数が{100}の立方晶であ
って、1辺の長さの平均が0.06μmの結晶であっ
た。
って、1辺の長さの平均が0.06μmの結晶であっ
た。
【0169】上記組成物に、前記した化合物(I−6)
5mgと化合物(II−3)7mgとをDMF7mlに
溶解したものを添加し、また同時に2−メルカプトベン
ゾチアゾール70mgをDMF1.5mlに溶解したも
のを添加した。
5mgと化合物(II−3)7mgとをDMF7mlに
溶解したものを添加し、また同時に2−メルカプトベン
ゾチアゾール70mgをDMF1.5mlに溶解したも
のを添加した。
【0170】この組成物をPETフィルム上に乾燥膜厚
10μmとなるように塗布し、感光層を設け、その上に
保護層として乾燥膜厚2μmのポリビニルアルコール層
を塗布し、本発明の感光体を得た。
10μmとなるように塗布し、感光層を設け、その上に
保護層として乾燥膜厚2μmのポリビニルアルコール層
を塗布し、本発明の感光体を得た。
【0171】この感光体を690nmの半導体レーザー
を用いて、1.50×10-5sec/dotのスピード
で、像面エネルギー30μJ/cm2で露光し、130
℃に設定した熱現像機内で10秒間熱現像を行なったと
ころ、410nmにピークを有する良好な画像が得られ
た。
を用いて、1.50×10-5sec/dotのスピード
で、像面エネルギー30μJ/cm2で露光し、130
℃に設定した熱現像機内で10秒間熱現像を行なったと
ころ、410nmにピークを有する良好な画像が得られ
た。
【0172】(実施例3)2,2’−メチレンビス(6
−t−ブチル−4−メチルフェノール)1.0gの代わ
りに、4,4’−メチレンビス(6−t−ブチル−2−
メチルフェノール)1.0gを用いた以外は、実施例1
と同様にして感光体組成物を調製した。この感光体組成
物を、6μm厚のPETフィルム上に乾燥膜厚9μmと
なるように塗布して感光層とし、さらにこの感光層上に
保護層として乾燥膜厚2μmとなるように、ポリビニル
アルコール層を設けた。PETフィルムの感光層の設け
られた面とは反対側の面には予め厚さ6μmの重合層が
設けられている。この重合層の組成は、アロンクスM6
300(東亜合成化学製)1.75部(重量部。以下同
様)、ポリエステル樹脂(バイロン#200、東洋紡
製)2.25部、塩化ゴム(山陽国策パルプ製)0.2
部、2,4−ジエチルチオキサントン0.37部、p−
ジエチルアミノ安息香酸エチル0.37部であった。
−t−ブチル−4−メチルフェノール)1.0gの代わ
りに、4,4’−メチレンビス(6−t−ブチル−2−
メチルフェノール)1.0gを用いた以外は、実施例1
と同様にして感光体組成物を調製した。この感光体組成
物を、6μm厚のPETフィルム上に乾燥膜厚9μmと
なるように塗布して感光層とし、さらにこの感光層上に
保護層として乾燥膜厚2μmとなるように、ポリビニル
アルコール層を設けた。PETフィルムの感光層の設け
られた面とは反対側の面には予め厚さ6μmの重合層が
設けられている。この重合層の組成は、アロンクスM6
300(東亜合成化学製)1.75部(重量部。以下同
様)、ポリエステル樹脂(バイロン#200、東洋紡
製)2.25部、塩化ゴム(山陽国策パルプ製)0.2
部、2,4−ジエチルチオキサントン0.37部、p−
ジエチルアミノ安息香酸エチル0.37部であった。
【0173】この重合層に銅版をラミネートして、本発
明の感光体を得た。
明の感光体を得た。
【0174】この感光体の感光層に波長680nmの半
導体レーザーを用いて20μJ/cm2で像露光し、そ
の後、120℃に調節したドラム型の加熱機で10秒間
加熱した。次いで、感光体の感光層側から超高圧水銀灯
(牛尾電気社製、USH−500D)を用いて、一様に
2秒間重合露光した。重合露光は超高圧水銀灯を感光体
から80cm離して行なった。こうして、感光体Jにつ
いてPETフィルムと銅版とを分離すると、銅版に重合
層の重合した部分(以下、重合部分と称する)が残り、
PETフィルムには重合層の重合しなかった部分(以
下、未重合部分と称する)が残った。こうして形成され
た重合部分は、像露光の際に光の照射されなかった部分
に対応し、未重合部分は像露光の際に光の照射された部
分に対応するものであった。
導体レーザーを用いて20μJ/cm2で像露光し、そ
の後、120℃に調節したドラム型の加熱機で10秒間
加熱した。次いで、感光体の感光層側から超高圧水銀灯
(牛尾電気社製、USH−500D)を用いて、一様に
2秒間重合露光した。重合露光は超高圧水銀灯を感光体
から80cm離して行なった。こうして、感光体Jにつ
いてPETフィルムと銅版とを分離すると、銅版に重合
層の重合した部分(以下、重合部分と称する)が残り、
PETフィルムには重合層の重合しなかった部分(以
下、未重合部分と称する)が残った。こうして形成され
た重合部分は、像露光の際に光の照射されなかった部分
に対応し、未重合部分は像露光の際に光の照射された部
分に対応するものであった。
【0175】(実施例4)下記の組成から成る分散液を
ホモミキサーを用いて安全光下で調製した。
ホモミキサーを用いて安全光下で調製した。
【0176】 ポリビニルブチラール 3.0g ポリメチルメタクリレート 1.0g ベヘン酸銀 2.5g ベヘン酸 1.5g アゼライン酸 0.5g 臭化銀 0.6g フタラジノン 0.5g 2,2’−メチレンビス(6− t−ブチル−4−メチルフェノール) 2.4g キシレン 30ml n−ブタノール 30ml 上記の臭化銀は結晶の面指数が{100}の立方晶であ
って、1辺の長さが平均0.08μmの結晶であった。
って、1辺の長さが平均0.08μmの結晶であった。
【0177】前記した化合物(I−4)5mgをDMF
5mlに溶解し、その溶液を上記分散液に添加した。さ
らに、2−メルカプトベンゾオキサゾール60mgをD
MF1mlに溶解した溶液を上記分散液に添加した。
5mlに溶解し、その溶液を上記分散液に添加した。さ
らに、2−メルカプトベンゾオキサゾール60mgをD
MF1mlに溶解した溶液を上記分散液に添加した。
【0178】さらに、これとは別途に下記の組成の溶液
を調製した。
を調製した。
【0179】 ポリエステル樹脂(バイロン200、東洋紡製) 5g オリゴエステルアクリレート (アロニックスM300、東亜合成化学製) 3g 多価イソシアネート(コロネートL、日本ポリウレタン製) 1.5g 色素(III−2) 0.15g 酢酸ナトリウム 0.02g ジブチルスズジラウレート 0.03g メチルエチルケトン 60ml この溶液をポリエステルフィルム上にアプリケーターを
用いて乾燥膜厚1μmになるように塗布したのち、60
℃で30時間硬化処理を行ない、アンチハレーション層
を作製した。この上に上記分散液を乾燥膜厚10μmに
なるように塗布して、感光層を設けた。さらにその感光
層の上にポリビニルアルコールの2μmの保護層を設
け、本発明の感光体を得た。
用いて乾燥膜厚1μmになるように塗布したのち、60
℃で30時間硬化処理を行ない、アンチハレーション層
を作製した。この上に上記分散液を乾燥膜厚10μmに
なるように塗布して、感光層を設けた。さらにその感光
層の上にポリビニルアルコールの2μmの保護層を設
け、本発明の感光体を得た。
【0180】上記のようにして作製した熱現像性感光体
について、次のようにして解像度の評価を行った。
について、次のようにして解像度の評価を行った。
【0181】まず、熱現像性感光体に対して、波長68
0nmの半導体レーザーにより、300dpi、600
dpiおよび900dpiの解像度で像露光し、その後
120℃に設定した熱現像機内で10秒間熱現像して画
像形成を行った。半導体レーザーのスポット径は20μ
m×40μmで、露光スピードは1.67×10-7se
c/dotとした。また、像露光のエネルギーは、感光
体表面で30μJ/cm2とした。
0nmの半導体レーザーにより、300dpi、600
dpiおよび900dpiの解像度で像露光し、その後
120℃に設定した熱現像機内で10秒間熱現像して画
像形成を行った。半導体レーザーのスポット径は20μ
m×40μmで、露光スピードは1.67×10-7se
c/dotとした。また、像露光のエネルギーは、感光
体表面で30μJ/cm2とした。
【0182】次に、こうして得た画像について、像露光
部の透過光学濃度と、像露光部と像露光部との間の未像
露光部の透過光学濃度を測定して画像の解像度を評価し
た。解像度評価における透過光学濃度の測定は、カール
ツワイス社製顕微分光光度計UMSPを用いて波長55
0nm±5nmの光で行った。解像度の測定結果を表2
に示した。
部の透過光学濃度と、像露光部と像露光部との間の未像
露光部の透過光学濃度を測定して画像の解像度を評価し
た。解像度評価における透過光学濃度の測定は、カール
ツワイス社製顕微分光光度計UMSPを用いて波長55
0nm±5nmの光で行った。解像度の測定結果を表2
に示した。
【0183】(比較例3)色素(III−2)の代わり
にローダミン色素を用いた以外は実施例4と同様にして
感光体を作製し、実施例4と同様の評価を行なった。結
果は表2に示す。
にローダミン色素を用いた以外は実施例4と同様にして
感光体を作製し、実施例4と同様の評価を行なった。結
果は表2に示す。
【0184】
【表2】 (実施例5)下記の組成から成る分散液をホモミキサー
を用いて安全光下で調製した。
を用いて安全光下で調製した。
【0185】 ポリビニルブチラール 5.0g ベヘン酸銀 3.0g ベヘン酸 2.0g 臭化銀 0.4g 2,6−ジクロロ−4−ベンゼン スルホンアミドフェノール 2.3g フタラジノン 0.3g o−フタル酸 0.2g キシレン 35ml n−ブタノール 30ml 前記した化合物(I−2)5mgをDMF5mlに溶解
し、その溶液を上記分散液に添加した。
し、その溶液を上記分散液に添加した。
【0186】さらに、これとは別途に下記の組成の溶液
を調製した。
を調製した。
【0187】 アクリル樹脂(BR−75、三菱レーヨン製) 6g オリゴエステルアクリレート (アロニックスM300、東亜合成化学製) 2g 多価イソシアネート(コロネートHL、日本ポリウレタン製) 2g 色素(II−3) 0.2g ジブチルスズジラウレート 0.01g メチルエチルケトン 60ml この溶液をポリエステルフィルム上に、乾燥膜厚1μm
になるように塗布した。この塗布面の反対面に上記分散
液を用いて、乾燥膜厚8μmになるように感光層を設け
た。さらにその感光層の上にポリビニルアルコールとコ
ロイダルシリカの1:1重量比の組成の保護層を2μm
塗布し、本発明の感光体を得た。
になるように塗布した。この塗布面の反対面に上記分散
液を用いて、乾燥膜厚8μmになるように感光層を設け
た。さらにその感光層の上にポリビニルアルコールとコ
ロイダルシリカの1:1重量比の組成の保護層を2μm
塗布し、本発明の感光体を得た。
【0188】この感光体に実施例4と同様にして露光
し、115℃で12秒間熱現像した後、実施例4と同様
に解像度の評価を行なった。その結果、300dpi、
600dpi、900dpiのラインは鮮明に現像され
ており、コントラストの高いものであった。
し、115℃で12秒間熱現像した後、実施例4と同様
に解像度の評価を行なった。その結果、300dpi、
600dpi、900dpiのラインは鮮明に現像され
ており、コントラストの高いものであった。
【0189】(比較例4)色素(II−3)を含有させ
ない以外は実施例5と同様にして感光体を作製し、同様
に評価した。その結果、900dpiの部分は解像され
ず、感光体の解像性が劣っていることがわかった。
ない以外は実施例5と同様にして感光体を作製し、同様
に評価した。その結果、900dpiの部分は解像され
ず、感光体の解像性が劣っていることがわかった。
【0190】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により、増
感効率が良く、かつレーザーなどを用いた高照度短時間
露光に対しても相反則不軌などの問題なく、高画質な画
像が得られる熱現像性感光体を安定して得ることができ
る。
感効率が良く、かつレーザーなどを用いた高照度短時間
露光に対しても相反則不軌などの問題なく、高画質な画
像が得られる熱現像性感光体を安定して得ることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福井 哲朗 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 上野 和則 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 加々美 憲二 神奈川県平塚市南原1丁目24番40号 オリ エンタル写真工業株式会社内 (72)発明者 鈴木 雅雄 神奈川県平塚市南原1丁目24番40号 オリ エンタル写真工業株式会社内 (72)発明者 西野 勝也 神奈川県平塚市南原1丁目24番40号 オリ エンタル写真工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 有機銀塩と、還元剤と、感光性ハロゲン
化銀および感光性ハロゲン化銀形成剤のうちのいずれか
とを少なくとも含有する熱現像性感光体において、下記
一般式(II)の化合物および下記一般式(III)の
化合物の少なくとも一方と、下記一般式(I)の化合物
とを含有することを特徴とする熱現像性感光体。 【化1】 (式(I)中、Rは水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、アリール基またはアミノ基である。
R1、R2はアリール基、もしくはR1とR2とが結合して
環を形成していても良い。R3、R4、R5は各々独立
に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基
またはアラルキル基である。X3は酸素原子、イオウ原
子、炭素原子、窒素原子またはセレン原子であり、炭素
原子または窒素原子の場合には水素原子、アルキル基、
アリール基およびアラルキル基のいずれかと結合してい
る。X4は酸素原子、イオウ原子または窒素原子であっ
て、窒素原子の場合は水素原子、アルキル基、アリール
基およびアラルキル基のいずれかと結合している。X5
は酸素原子またはイオウ原子である。kは1または2で
ある。) 【化2】 (式(II)中、r12、r13、r14、r15、r18、
r19、r20、r21は各々独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアミ
ノ基であって、r12とr13、r13とr14、r14とr15、
r18とr19、r19とr20、r20とr21のいずれかが結合
して環を形成していてもよい。r16、r17は各々独立に
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はアラルキル基である。r22、r23、r24、r25、r26
は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基
であり、r22とr24、r23とr25、r24とr26が結合し
て環を形成しても良い。X6、X7は酸素原子、イオウ原
子、炭素原子または窒素原子であり、炭素原子または窒
素原子の場合には、水素原子、アルキル基、アリール
基、アラルキル基のいずれかが結合している。Y1 -はア
ニオンである。o、pは0、1または2であって、しか
もo+pは2である。) 【化3】 (式(III)中、Ar1、Ar3は各々独立に水素原
子、アリール基またはアルキル基であり、Ar2および
Ar4はアリール基である。r27、r28、r29は各々独
立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはスチリ
ル基であり、Y2 -はアニオンである。) - 【請求項2】 請求項1記載の熱現像性感光体に像露光
および加熱を行って画像を形成することを特徴とする画
像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16545094A JPH0784352A (ja) | 1993-07-19 | 1994-07-18 | 熱現像性感光体およびその熱現像性感光体を用いた画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-178221 | 1993-07-19 | ||
JP17822193 | 1993-07-19 | ||
JP16545094A JPH0784352A (ja) | 1993-07-19 | 1994-07-18 | 熱現像性感光体およびその熱現像性感光体を用いた画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0784352A true JPH0784352A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=26490186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16545094A Pending JPH0784352A (ja) | 1993-07-19 | 1994-07-18 | 熱現像性感光体およびその熱現像性感光体を用いた画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0784352A (ja) |
-
1994
- 1994-07-18 JP JP16545094A patent/JPH0784352A/ja active Pending
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