JPH0781999A - 非磁性基板の製造方法 - Google Patents
非磁性基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH0781999A JPH0781999A JP5246046A JP24604693A JPH0781999A JP H0781999 A JPH0781999 A JP H0781999A JP 5246046 A JP5246046 A JP 5246046A JP 24604693 A JP24604693 A JP 24604693A JP H0781999 A JPH0781999 A JP H0781999A
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- Japan
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- starting materials
- magnetic
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- washing
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 原料の塩素濃度が20ppm以下となるように水
洗した後、混合、成形、焼成して非磁性酸化物基板を製
造する。 【効果】 焼成した基板の抗折力の低下を防止できる。
洗した後、混合、成形、焼成して非磁性酸化物基板を製
造する。 【効果】 焼成した基板の抗折力の低下を防止できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非磁性基板の製造方法
に関し、特に、磁気ヘッド用非磁性酸化物基板の製造方
法に関する。
に関し、特に、磁気ヘッド用非磁性酸化物基板の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、非磁性基板を製造する際、その原
料はＦｅ、Ｍｇ、Ｃａなどの金属元素の不純物品位を確
認した後使用していた。
料はＦｅ、Ｍｇ、Ｃａなどの金属元素の不純物品位を確
認した後使用していた。
【０００３】例えば、Ｆｅは基板の磁気特性を劣化させ
るため 0.2wt% 以下となるように管理されていた。
るため 0.2wt% 以下となるように管理されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気ヘ
ッド用セラミックス材料の原料のひとつである酸化コバ
ルトはその製造に際して塩化水素を使用したり、原料と
して塩化コバルトを使用するため、製品である酸化コバ
ルト中に塩化物が混入することがあった。しかし、この
ように管理された原料を使用して非磁性基板を製造して
も、原料のロットによって抗折力の低い基板しか得られ
ないという問題があった。
ッド用セラミックス材料の原料のひとつである酸化コバ
ルトはその製造に際して塩化水素を使用したり、原料と
して塩化コバルトを使用するため、製品である酸化コバ
ルト中に塩化物が混入することがあった。しかし、この
ように管理された原料を使用して非磁性基板を製造して
も、原料のロットによって抗折力の低い基板しか得られ
ないという問題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点について抗折力試験片を検討した結果、焼成した基板
に混入した塩化物が破壊の起点として作用し、抗折力を
悪化させていることを見い出した。さらに塩化物の混入
経路としては原料であり、これを水洗等の前処理で除去
することにより安定した特性の基板が製造できることを
見い出した。
点について抗折力試験片を検討した結果、焼成した基板
に混入した塩化物が破壊の起点として作用し、抗折力を
悪化させていることを見い出した。さらに塩化物の混入
経路としては原料であり、これを水洗等の前処理で除去
することにより安定した特性の基板が製造できることを
見い出した。
【０００６】すなわち、本発明は、原料を混合、成形、
焼成することにより非磁性基板を製造する方法におい
て、該原料の塩素濃度が20ppm以下となるように前処理
した後、混合、成形、焼成することを特徴とする非磁性
基板の製造方法を提供するものである。
焼成することにより非磁性基板を製造する方法におい
て、該原料の塩素濃度が20ppm以下となるように前処理
した後、混合、成形、焼成することを特徴とする非磁性
基板の製造方法を提供するものである。
【０００７】また、上記前処理方法が水洗である非磁性
基板の製造方法を提供するものである。
基板の製造方法を提供するものである。
【０００８】さらに、上記非磁性基板が非磁性酸化物基
板であり、特に酸化コバルトを含む非磁性酸化物基板で
ある非磁性基板の製造方法を提供するものである。
板であり、特に酸化コバルトを含む非磁性酸化物基板で
ある非磁性基板の製造方法を提供するものである。
【０００９】本発明の理解を容易にするため、以下、本
発明の構成を具体的かつ詳細に説明する。非磁性基板の
製造は、原料を混合、成形、焼成することにより実施さ
れる。すなわち、原料を所望の組成に秤量し、乾式ある
いは湿式で混合した後、所定形状に成形し、それを焼成
した後、機械加工により基板とする。なお、混合工程の
後に仮焼、粉砕して焼成し易い粉体特性を与えることも
行われる。また焼成は、焼結のみの場合と、相対密度を
上げるためにさらにＨＩＰ処理を行うこともある。
発明の構成を具体的かつ詳細に説明する。非磁性基板の
製造は、原料を混合、成形、焼成することにより実施さ
れる。すなわち、原料を所望の組成に秤量し、乾式ある
いは湿式で混合した後、所定形状に成形し、それを焼成
した後、機械加工により基板とする。なお、混合工程の
後に仮焼、粉砕して焼成し易い粉体特性を与えることも
行われる。また焼成は、焼結のみの場合と、相対密度を
上げるためにさらにＨＩＰ処理を行うこともある。
【００１０】本発明では、原料の塩素濃度が20ppm以下
となるように前処理するのは、20ppmを超えると局所的
に塩化物が残存して、これが起点となって基板の抗折力
を低下させるからであり、より望ましくは10ppm以下と
なるようにする。また、前処理方法としては、酸やアル
カリ水溶液を用いても良いが、水洗が最も簡単で新たな
汚染もなく好ましい。さらに、本発明の対象となる非磁
性基板は、酸化物基板に限定されず、窒化物基板や酸化
物・窒化物複合基板にも適用可能であるが、その製造工
程から塩化物を含有し易い酸化コバルトを原料とする非
磁性酸化物基板に最も有効に適用される。
となるように前処理するのは、20ppmを超えると局所的
に塩化物が残存して、これが起点となって基板の抗折力
を低下させるからであり、より望ましくは10ppm以下と
なるようにする。また、前処理方法としては、酸やアル
カリ水溶液を用いても良いが、水洗が最も簡単で新たな
汚染もなく好ましい。さらに、本発明の対象となる非磁
性基板は、酸化物基板に限定されず、窒化物基板や酸化
物・窒化物複合基板にも適用可能であるが、その製造工
程から塩化物を含有し易い酸化コバルトを原料とする非
磁性酸化物基板に最も有効に適用される。
【００１１】次に、原料の塩素濃度を20ppm以下とする
前処理方法として水洗について説明する。図１に水洗方
法を示す。まず、原料粉体に水を加えスラリー化しそれ
を濾過して濾過ケ−キとし、さらにその濾過ケーキを再
びスラリー化するという工程を繰返し、最終的に圧搾す
る。水洗に使用する水は溶液の導電率の測定に用い得る
程度に精製された水を使用するのが望ましい。好ましく
は、比抵抗が１MΩ・cm以上の純水を使用する。原料粉
体あるいは濾過ケーキのスラリー濃度としては、スラリ
ー化を行う機器容量にもよるが、100g/l〜3000g/lが望
ましく、好ましくは500〜2000g/lである。濾過の方法と
しては、重力濾過、加圧濾過、真空濾過があり、また、
圧搾の方法としては、開放型圧搾機、密閉型圧搾機及び
フィルタープレス等があるので、それぞれ、処理量によ
り適宜選定すれば良い。
前処理方法として水洗について説明する。図１に水洗方
法を示す。まず、原料粉体に水を加えスラリー化しそれ
を濾過して濾過ケ−キとし、さらにその濾過ケーキを再
びスラリー化するという工程を繰返し、最終的に圧搾す
る。水洗に使用する水は溶液の導電率の測定に用い得る
程度に精製された水を使用するのが望ましい。好ましく
は、比抵抗が１MΩ・cm以上の純水を使用する。原料粉
体あるいは濾過ケーキのスラリー濃度としては、スラリ
ー化を行う機器容量にもよるが、100g/l〜3000g/lが望
ましく、好ましくは500〜2000g/lである。濾過の方法と
しては、重力濾過、加圧濾過、真空濾過があり、また、
圧搾の方法としては、開放型圧搾機、密閉型圧搾機及び
フィルタープレス等があるので、それぞれ、処理量によ
り適宜選定すれば良い。
【００１２】濾過ケーキを繰返しスラリー化する回数は
濾過ケーキ中の残留塩素濃度により適宜決定する。
濾過ケーキ中の残留塩素濃度により適宜決定する。
【００１３】以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例】酸化コバルトおよび酸化ニッケルを原料にCo
O/NiO（モル比）＝35/65組成となるように調整し、磁気
ヘッド用非磁性基板を製造した。市販原料を購入し、原
料粉体中の塩素濃度を調査したところ、酸化ニッケルは
3ppmであったが、酸化コバルトは80ppmであった。そこ
で酸化コバルト粉体についてスラリー濃度を500g/lとし
た濾過の予備試験を行い、１回のスラリ−化・濾過では
ケ−キ中の塩素濃度が24ppmに、また２回のスラリ−化
・濾過ではケーキ中の塩素濃度が6ppmになるまで低下す
ることを見出した。この結果に従い、スラリ−化・濾過
を２回行うこととした。なお、スラリー化には比抵抗16
MΩ・cmの純水を使用した。
O/NiO（モル比）＝35/65組成となるように調整し、磁気
ヘッド用非磁性基板を製造した。市販原料を購入し、原
料粉体中の塩素濃度を調査したところ、酸化ニッケルは
3ppmであったが、酸化コバルトは80ppmであった。そこ
で酸化コバルト粉体についてスラリー濃度を500g/lとし
た濾過の予備試験を行い、１回のスラリ−化・濾過では
ケ−キ中の塩素濃度が24ppmに、また２回のスラリ−化
・濾過ではケーキ中の塩素濃度が6ppmになるまで低下す
ることを見出した。この結果に従い、スラリ−化・濾過
を２回行うこととした。なお、スラリー化には比抵抗16
MΩ・cmの純水を使用した。
【００１４】この水洗した原料を使用し、混合、成形、
焼成の一般的な工程を経て磁気ヘッド用非磁性基板を製
造した。比較例として、スラリ−化・濾過を１回だけ行
った酸化コバルトを使用して同じ工程で磁気ヘッド用非
磁性基板を製造した。ともにＨＩＰ処理を行い、焼結体
の相対密度は99％を越える値であった。これらを機械的
加工し、26mm角、0.7mm厚さの基板を作製した。さらに4
mm幅の試験片を６枚ずつ作製し、３点曲げで抗折力を測
定した。両者の結果を表１に示す。
焼成の一般的な工程を経て磁気ヘッド用非磁性基板を製
造した。比較例として、スラリ−化・濾過を１回だけ行
った酸化コバルトを使用して同じ工程で磁気ヘッド用非
磁性基板を製造した。ともにＨＩＰ処理を行い、焼結体
の相対密度は99％を越える値であった。これらを機械的
加工し、26mm角、0.7mm厚さの基板を作製した。さらに4
mm幅の試験片を６枚ずつ作製し、３点曲げで抗折力を測
定した。両者の結果を表１に示す。
【表１】
【００１５】表より、水洗により酸化コバルト原料粉体
塩素濃度を6ppmとした実施例が塩素濃度24ppmの原料を
使用した比較例より、抗折力の平均値、最大値、最小値
とも高いことがわかる。また、比較例で最小値を示した
基板の破面をＳＥＭ観察したところ、不純物の偏析が観
察され、さらに、ＥＤＸで分析したところ、偏析不純物
が塩化物であることが確認された。なお、上記実施例で
はCoO/NiO（モル比）＝35/65としたが、20/80〜80/20の
範囲で同様の効果があることが確認された。
塩素濃度を6ppmとした実施例が塩素濃度24ppmの原料を
使用した比較例より、抗折力の平均値、最大値、最小値
とも高いことがわかる。また、比較例で最小値を示した
基板の破面をＳＥＭ観察したところ、不純物の偏析が観
察され、さらに、ＥＤＸで分析したところ、偏析不純物
が塩化物であることが確認された。なお、上記実施例で
はCoO/NiO（モル比）＝35/65としたが、20/80〜80/20の
範囲で同様の効果があることが確認された。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により、焼
成した非磁性基板の抗折力の低下を防止できた。
成した非磁性基板の抗折力の低下を防止できた。
【図１】 本発明の前処理方法の一例である水洗方法を
示す工程図である。
示す工程図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 原料を混合、成形、焼成することにより
非磁性基板を製造する方法において、該原料の塩素濃度
が20ppm以下となるように前処理した後、混合、成形、
焼成することを特徴とする非磁性基板の製造方法。 - 【請求項２】 上記前処理方法が水洗であることを特徴
とする請求項１に記載の非磁性基板の製造方法。 - 【請求項３】 上記非磁性基板が非磁性酸化物基板であ
ることを特徴とする請求項１または２に記載の非磁性基
板の製造方法。 - 【請求項４】 上記非磁性酸化物基板が酸化コバルトを
含有する非磁性酸化物基板であることを特徴とする請求
項３記載の非磁性基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5246046A JPH0781999A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 非磁性基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5246046A JPH0781999A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 非磁性基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0781999A true JPH0781999A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=17142666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5246046A Pending JPH0781999A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 非磁性基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0781999A (ja) |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP5246046A patent/JPH0781999A/ja active Pending
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