JPH0780795B2 - 低級パラフイン系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法 - Google Patents

低級パラフイン系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法

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JPH0780795B2
JPH0780795B2 JP60218103A JP21810385A JPH0780795B2 JP H0780795 B2 JPH0780795 B2 JP H0780795B2 JP 60218103 A JP60218103 A JP 60218103A JP 21810385 A JP21810385 A JP 21810385A JP H0780795 B2 JPH0780795 B2 JP H0780795B2
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文郎 岡住
義典 牧野
洋和 松田
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、低級パラフィン系炭化水素からの芳香族炭化
水素の製法に関するものである。
更に詳細には、本発明は炭素数5以下の低級パラフィン
系炭化水素例えばエタン、プロパン、ブタン、ペンタン
およびこれらの混合物を芳香族炭化水素へ変換する方法
に関するものである。
従来の技術 形状選択性機能をもつZSM−5触媒(モービルオイル
社)に脱水素機能をもつ白金を担持させた触媒を用いて
低級パラフィン系炭化水素から高選択率で芳香族炭化水
素を得る方法が報告されている。
また、本発明者は、先にガリウムシリケート触媒を用い
て低級パラフィン系炭化水素から芳香族炭化水素を製造
する方法を開発した(特願昭59−169367)。
発明が解決しようとする課題 C2−C5低級パラフィン系炭化水素から芳香族炭化水素へ
の変換反応は最初低級パラフィン系炭化水素(例えばプ
ロパン)が脱水素触媒(例えば白金)の作用でオレフィ
ン系炭化水素(例えばプロペン)に脱水素し、次にガリ
ウムシリケート触媒の酸性点においてプロペン分子が重
合して高分子オレフィンになり、次いで芳香族炭化水素
が生成する。この際、主なる反応生成物はメタン、エタ
ンおよび芳香族炭化水素に限定されるが炭素数1および
2の炭化水素の生成を抑制することが必要である。
課題を解決するための手段 本発明は、低シリカ含量の白金担持ガリウムシリケート
触媒(Si/Ga=15−25)を用いてC2−C5低級パラフィン
系炭化水素から芳香族炭化水素を高収率かつ高選択率で
製造できることを発見したことにもとづくものである。
本発明は、C2−C5低級パラフィン系炭化水素を次の原料
組成(モル比) Si/Ga 15−25、 OH-/SiO2 0.3−1.0、 H2O/SiO2 30−100、 R/R+アルカリ金属 0.05−0.15、 NaCl/H2O 0.01−0.06、 (式中Rは第4級アルキルアンモニウムカチオン、アル
カリ金属はナトリウムまたはカリウムイオンである) で表わされるガリウムシリケート触媒に0.25ないし1.5
重量%の白金を担持させて構成した触媒の存在下で反応
温度400℃ないし650℃で処理することを特徴とする低級
パラフィン系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法に関
するものである。
触媒の製法 本発明方法で使用する白金担持ガリウムシリケート触媒
は次の如くして製造した。
(1)ガリウムシリケート触媒 本発明方法で使用する白金担持ガリウムシリケート触媒
の製造の前工程として、 次の組成(モル比) Si/Ga 15−25、 OH-/SiO2 0.3−1.0、 H2O/SiO2 30−100、 R/R+アルカリ金属 0.05−0.15、 NaCl/H2O 0.01−0.06、 (式中Rは第4級アルキルアンモニウムカチオン、好ま
しくは第4級プロピルアンモニウムカチオンであり、ア
ルカリ金属はナトリウムまたはカリウムイオンである) で表わされるゲル生成物が得られるように、金属塩〔Ga
2(SO4)3・8H2O〕、含窒素有機カチオン(テトラプロピ
ルアンモニウムブロミド)および無機酸(H2SO4)を含
む水溶液をA液とし、ケイ酸塩水溶液(水ガラス3号:
SiO228.9%、Na2O9.3%)をB液とし、イオン調整剤(N
aCl)水溶液をC液とし、A液およびB液をそれぞれ一
定速度でC液に添加するに際し、A液にはイオン調整剤
(NaCl)を添加し、C液には含窒素有機カチオン、無機
酸および水酸化アルカリを添加して各液組成の濃度変化
を少なくするようにA液およびB液のC液への添加速度
を調整し、pH10になるようにする。ゲル生成後母液を遠
心分離し、ゲル混合物は擂潰細分化後、ゲルと母液とを
合わせて次の条件で水熱合成を行った。
水熱合成はオートクレーブ中で撹拌しながら最初90分で
160℃まで昇温し、次いで210℃まで250分で直線的に昇
温した。次に得られたゲル混合物を蒸留水にて数回水洗
後乾燥し、540℃にて空気気流中で焼成した。焼成後、N
H4NO31モル/Lの濃度の水溶液中に撹拌しながら80℃、
1時間浸漬操作を数回行いイオン交換処理を行った。さ
らに蒸留水にて数回水洗後520−540℃にて空気気流中で
焼成して触媒として使用した。
(2)白金担持ガリウムシリケート触媒 上記の方法で調製したガリウムシリケート触媒(Si/Ga
=15〜25)を担体とし、これに所定濃度のテトラアミン
白金塩〔Pt(NH3)4Cl2〕水溶液を用いてイオン交換法に
より白金を担持した。
白金担持ガリウムシリケート触媒(Si/Ga=15−25)に
ついて白金担持量が0.25重量%以下ではプロパン転化率
が小さく、一方、白金担持量が1.5重量%以上では分解
反応が主反応となり、芳香族炭化水素の選択率が小さく
なる。好ましい範囲は0.5ないし1.0%(重量)である。
実施例 次に実施例を掲げて本発明を説明するがこれに限定され
るものではない。
(参考例) 上記(1)のようにして調製された触媒を打錠成型後、
10−20メッシュに破砕した後触媒0.5gを内径8mmの反応
管に充填し、原料ガスとしてプロパン20Vol%、窒素80V
ol%を用いて常圧でSV=2000hr-1、反応温度600℃で反
応させた。反応生成物はガスクロマトグラフで分析し
た。使用カラムはVS−5A、シリコンOVおよびVZ−10であ
った。その結果は第1表に示した。
第1表より、ガリウムシリケート触媒においてガリウム
含量がSi/Ga=40からSi/Ga=20へと増加するに従ってプ
ロパン変換率および芳香族炭化水素の生成率が著しく増
加することがわかった。
また、比較のためガリウム担持H−ZSM−5触媒(イオ
ン交換法)を用いて反応をおこなった。
その結果、ガリウムシリケート触媒(Si/Ga=20−25)
がガリウム担持H−ZSM−5触媒よりプロパン転化率お
よび芳香族炭化水素生成率が共にすぐれていることがわ
かった。
また、ガリウムシリケート触媒(Si/Ga=20−25)はガ
リウムシリケート触媒(Si/Ga=40)よりプロパン転化
率および芳香族炭化水素生成率は共にすぐれていること
がわかった。
ガリウムシリケート触媒(Si/Ga=40)とガリウム担持
H−ZSM−5触媒とでは芳香族炭化水素生成率はほゞ同
程度であった。
(実施例) 触媒として白金担持ガリウムシリケート触媒(Si/Ga=1
5−25)を用いる他は参考例と同様にして実施した。
触媒として0.5wt%白金担持ガリウムシリケート触媒(S
i/Ga=21)を使用した。その結果を第1図に示した。
第1図よりプロパンの転化率は低温側にシフトしてお
り、白金の担持効果が認められた。
この触媒による生成ガス中の炭化水素分布を第2図に示
した。
最適反応温度550℃における芳香族炭化水素の選択率は5
9.1%、収率は40.4%であった。
一方0.5wt%Pt/ZSM−5触媒を使用した場合には最適反
応温度500℃における芳香族炭化水素の選択率は24.5
%、収率は22.5%であった(乾、岡住、牧野、第14回石
油化学討論会C−25 p255)。
発明の効果 (1)本発明によれば、Si/Gaモル比15−25という低シ
リカ含量のガリウムシリケート触媒において低級パラフ
ィン系炭化水素の転化率および芳香族炭化水素の選択率
が著しく増加することが見い出され、しかも、脱水素機
能を有する担持金属の白金が高分散状態でガリウムシリ
ケート触媒のミクロ構造中に分散しているので、低級パ
ラフィン系炭化水素から芳香族炭化水素への変換反応に
おいて高活性のため低温で反応が行われ、芳香族炭化水
素の分解による選択性の低下が防止でき、芳香族炭化水
素の収率が増大する。
(2)本発明の白金担持ガリウムシリケート触媒(Si/G
a=15〜25)は、白金担持ZSM−5触媒を使用する場合に
比較して低級パラフィン系炭化水素の転化率および芳香
族炭化水素の選択率は共に倍増した。
【図面の簡単な説明】
第1図はガリウムシリケート触媒(Si/Ga=21)による
プロパン転化反応における白金担持の影響を示すグラ
フ、 第2図は0.5wt%白金担持ガリウムシリケート触媒(Si/
Ga=21)による生成ガス中の炭化水素分布を示すグラフ
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 洋和 大阪府大阪市東成区今里西3−12−3 (56)参考文献 特開 昭60−16812(JP,A) 特開 昭60−32719(JP,A) 特開 昭59−98022(JP,A) 特開 昭59−98020(JP,A)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】低級パラフィン系炭化水素を、ガリウムシ
    リケート(Si/Gaモル比15−25)に0.25ないし1.5重量%
    の白金を担持させてなる触媒の存在下、反応温度400な
    いし650℃で処理することを特徴とする低級パラフィン
    系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法。
  2. 【請求項2】ガリウムシリケートが、以下の組成(モル
    比) Si/Ga 15−25、 OH-/SiO2 0.3−1.0、 H2O/SiO2 30−100、 R/R+アルカリ金属 0.05−0.15、 NaCl/H2O 0.01−0.06、 (式中Rは第4級アルキルアンモニウムカチオン、アル
    カリ金属はナトリウムまたはカリウムイオンである) を有するゲル生成物を水熱合成後、焼成して得られたも
    のである特許請求の範囲第1項に記載の製法。
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