JPH0778456B2 - 光の偏光状態を測定するための光検知器の配置 - Google Patents

光の偏光状態を測定するための光検知器の配置

Info

Publication number
JPH0778456B2
JPH0778456B2 JP61503602A JP50360286A JPH0778456B2 JP H0778456 B2 JPH0778456 B2 JP H0778456B2 JP 61503602 A JP61503602 A JP 61503602A JP 50360286 A JP50360286 A JP 50360286A JP H0778456 B2 JPH0778456 B2 JP H0778456B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photodetector
light beam
measuring
polarization state
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61503602A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63500056A (ja
Inventor
エム エイ アザム,ラシード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RISAACHI CORP TEKUNOROJIIZU Inc
Original Assignee
RISAACHI CORP TEKUNOROJIIZU Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RISAACHI CORP TEKUNOROJIIZU Inc filed Critical RISAACHI CORP TEKUNOROJIIZU Inc
Publication of JPS63500056A publication Critical patent/JPS63500056A/ja
Publication of JPH0778456B2 publication Critical patent/JPH0778456B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J4/00Measuring polarisation of light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J4/00Measuring polarisation of light
    • G01J4/04Polarimeters using electric detection means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • G01N21/211Ellipsometry

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、一般に、比較的簡単な光偏光計および光線の
偏光状態の測定方法に関し、さらに詳しくは、独創的か
つ単純な光偏光計、ならびに何ら通常の従来技術に基づ
く偏光素子例えば波動遅延器および偏光器を必要としな
い光線の偏光状態を決定する4つのストークスパラメー
タ全ての同時測定方法に関する。
背景技術 最も一般的な光線の部分的な偏光状態は、4つのストー
クスパラメータでうまく表現される(例えば、M.Born a
nd E.Worf,Principle of Optics(Pergamon,New York,1
975),554頁参照)。ストークスパラメータの測定のた
めに数多くの光偏光計が提唱され、それについての優れ
たレビューが、P.S.HaugeによりSurface Sci.96,108(1
980)に、またK.SerkowskiによりPlanet,Stars and Neb
ulae Studied with Photopolarimetry(University of
Arizona Press,Tucson,1977) 135−174頁に紹介されている。光線は、通常、一連の光
学素子例えば直線遅延器、回転器および偏光計からなる
光学分析計を通過させ、通過光束は直線光検知器により
測定される。光束は、光学分析計の種々の(少なくとも
4つの)設定に対し繰り返されるか、あるいは連続的か
つ周期的な変調が一以上の光学素子に印加され、検出さ
れる信号がフーリエ解析され4つのストークスパラメー
タが決定される(R.M.A.Azzam,Optik,52,253(197
9))。4つのストークスパラメータ全てを同時測定す
るためのその他の従来技術は、波面の分割(E.Collett,
Surface Sci.96,156(1980))および振幅の分割(R.M.
A.Azzam,Optica Acta 29,685(1982))を用いることで
ある。前述した光偏光計は全て偏光光学素子例えば波動
遅延器および偏光計を必要とする。
発明の開示 本発明は、本明細書中での教示に従い、第1の入射面に
対して傾いた角度の光線を部分的に正反射する表面を有
する第1の光検知器に光線が入射し、その面で部分的に
光線が反射される光偏光計および光偏光測定方法を提供
することである。第1の光検知器は、そこで吸収された
電磁線に比例する大きさを有する第1の電気的出力信号
を生ずる。
第1の光検知器から部分的に反射された光線は、光線を
部分的に正反射する表面を有する第2の光検知器上で反
射される。第2の光検知器は、光線が第1の入射面とは
異なる第2の入射面に対して傾いた角度でそれに入射す
るように位置し、これから部分的に光線を反射する。第
2の光検知器もまたそれにより吸収される電磁波に比例
する大きさの第2の電気的出力信号を生ずる。
第2の光検知器から部分的に反射された光線は、部分的
に光線を正反射する表面を有する第3の光検知器上で反
射される。第3の光検知器は、光線が第2の入射面とは
異なる第3の入射面に対して傾いた角度でそれに入射す
るように位置し、これから部分的に光線を反射する。第
3の光検知器もまたそれにより吸収される電磁波に比例
する第3の電気的出力信号を生ずる。
第3の光検知器から部分的に反射された光線は、実質的
に全ての光を吸収する表面を有する第4の光検知器上で
反射される。第4の光検知器は、それにより吸収される
電磁波に比例する大きさの第4の電気的出力信号を生ず
る。
極めて特徴的なことには、第1、第2、第3および第4
の出力信号は、光線の偏光状態を決定する4つのストー
クスパラメータ全てを同時測定するために使用される。
このことは、まず4行4列の光偏光計行列を決定し、
第1、第2、第3および第4の出力信号の各々を対応す
るデジタル信号に変換し、=-1(式中、は4行
4列の光偏光計行列であり、は前記第1、第2、第3
および第4の出力信号からなる4行1列の単一信号ベク
トルである。)に従い、4つのストークスパラメータの
個々を計算する。計算=-1を実施するためには、
好ましくは、マイクロコンピユータを使用し、または
-1をマイクロコンピユータのメモリーに記憶させる。
は、好ましくは4つの光検知器の配置を較正し、の
決定のそれぞれの入力状態に対応する信号ベクトルを記
録することにより決定され、この較正工程には、光偏光
計を、4つの線形独立な公知のストークスベクトルで表
される4つの異なる線形独立な状態に順次偏光される入
力光で照射する工程が含まれる。はまた、ミューラー
の行列と回転行列とを使用して計算することにより
決定することもできる。本発明の偏光計および方法は、
従来技術の偏光計に比べて以下の長所を有する。
(1)本発明は、4つのストークスパラメータ全て、し
たがって、(部分的に長円形な)偏光の最も一般的な状
態を決定する完全な偏光計である。
(2)4つのストークスパラメータ全ては逐次的ではな
く、同時に決定される。
(3)別個の偏光光学素子例えばシートもしくは結晶偏
光子または四分の一波長板を必要とせず、実際には、光
検知器の部分的な反射表面(第1図におけるD0,D1およ
びD2)がこれらの機能を行う。
(4)本装置は、同期式の回転光学素子を使用する従来
技術の偏光計と比べて可動部品を有しない(D.E.Aspnes
and P.S.Hauge,J.Opt.Soc.Am.66,949(1976))。
(5)変調器例えばしばしば使用される光弾性装置(例
えばR.J.Perry,A,H.Hunt and D.R.Huffman,Appl.Opt.1
7,2700(1978))も必要としない。
(6)本発明は4つのソリッドステートな光検知器から
なる堅固な設計を提供する。
(7)本発明は4つの光検知器により分割される入力光
束を偏光決定に対し十分かつ完全に使用する。
(8)4つの検知器の幾何学的配置(入射角、連続する
入射面間の角度)、誘電体薄膜被覆により非常に改善す
ることのできる個々の検知器の表面反射パラメータ(r,
ψ,δ)および光電応答因子、さらには、後検知利得
(k0,k1,k2およびk3)等最適性能を達成できるように
複数の固有の自由度を付与できる。
(9)本機器はオンラインマイクロコンピュータに容易
に介在させることができ、このマイクロコンピュータは
その入力としてデジタル化された出力電気信号i0,i1
i2およびi3を受信する。マイクロコンピュータは機器行
列を記憶し、その逆数を決定し、4つのストークスパ
ラメータを計算する。その結果は適当な出力装置に表示
することができる。
光の偏光状態を測定するための光検知器に対する本発明
の前述した長所は、添付の図面を参照して、以下の好ま
しい実施態様を参照すれば、当業者には容易に理解され
るであろう。尚、図面において、同一の要素は同一の参
照符号で表す。
図面の簡単な説明 第1図は本発明の教示に従う構造の光偏光計の代表的な
実施態様の概略的なダイアグラム、第2図は第1図の4
つの光検知器の出力信号を処理するための信号処理配置
の代表的なブロックダイアグラムである。
発明を実施するための最良の形態 図面を詳細に参照した場合、第1図は4つの光検知器
D0,D1,D2およびD3の配置である本提案の概略的なダイ
アグラムを図示するものである。D0,D1およびD2の表面
は部分的に正反射するように傾いていて、D3の表面は、
通常そこに入射する光に対して、例えば反射防止被覆に
より、実質的に光を全て吸収する。個々の光検知器Dm
は、それが吸収する光束に比例する出力電気信号im(m
=0,1,2,3)を発生する。
当業者であれば十分に理解されるであろうが、入力光線
に対する入射面は表面平面(すなわち検知器の部分的に
正反射する表面)に対して垂直な線と入射光線の伝達方
向により定義される。同じく当業者には理解されるであ
ろうが、光が非被覆研磨表面から反射される場合にはか
ならず、反射光の大部分は入射面ではなく入射面に直角
に振動している。研磨表面からの反射により生じた偏光
の量は表面に入射する光の角度にもまた直接関係する。
したがって、検知器D0(およびD1,D2)により吸収およ
び検知される光は入射光線の偏光状態および検知器D0
表面に関するその入射角に直接関係する。
測定される入射(または入力)光のストークスベクトル
により表せば、光検知器D0,D1およびD2の表面から反射
される光のストークスベクトルは、それぞれ、00 11 1(α10 (2)22 2(α21 1(α10 により与えられる。ミューラー行列の計算法の議論につ
いては、例えばW.A.ShurcliffのPolarized Light(Harv
ard University Press,Cambridge,1962)第8章参照。
n(n=0,1,2)は、n番目の検知器からの反射に対
して、入射面に平行な方向(pn)と直交する方向(sn
の相互に直交する方向に対して定義されている。(Sは
直交軸p0,s0に対して定義される。)反射により偏光状
態が受ける影響はpn,snの座標系を基準とするミューラ
ー行列nにより説明される。第2式において、4×4
のミューラー回転行列1(α1)および2(α2)は1
つの反射面から次の反射面に向かう入射面の回転を説明
する。第1図に図示したように、α1は方向p1とp0との
間の角度であり、同様に、α2は方向p2とp1との間の角
度である。
その分割された経路に沿っての光の光束は、それぞれ、
ストークスベクトル,0 1および2の第1の要
素であるS0,S0 0,S1 0およびS2 0により与えられる。n
番目の検知器の電気出力信号はその吸収する光束に比例
し、したがって、 である。
比例定数knは検知器Dnの特性であり、あらゆる後検知増
幅因子を含む。式(1)−(3)から4つの出力信号
i0,i1,i2およびi3は、入力光の4つのストークスパラ
メータS0,S1,S2およびS3の線形結合である。したがっ
て、 または、さらにコンパクトに、 = (5) と書くことができる。
すなわち、は式(4)の左辺を表す4×1の単一信号
ベクトルであり、は右辺を表す実数の4×4の機器行
列である。逆行列は式(5)から =-1 (6) を生ずる。式(6)は入力光の未知のストークスベクト
ルが信号ベクトルおよび機器行列からいかにして
得ることができるかを示す。もちろんは正則でなけれ
ばならず、光線が一平面に残存しないという条件を要す
る(すなわち、所定の反射のための入射面は先行する入
射面に関して回転する必要がある。
機器行列は4つの光検知器の配置および特性から計算
される。pおよびsの線形偏光(入射面に対して平行お
よび垂直)が反射の固有偏光であれば、ミューラーの行
列は、(R.M.A.Azzam and N.M.Bashara,Ellipsometry
and Polarized Light(North Holland,Amsterdam,197
7),pp.491−2)により、 (式中、rは非偏光または円偏光入射光に対する強度反
射率であり、tanψexp(jδ)は複合pおよびs反射相
関係数の比である。)で与えられる。回転行列は、(R.
M.A.Azzam and N.M.Bashara,Ellipsometry and Polar
ized Light(North Holland,Amsterdam,1977)pp.491−
2)により、 で与えられる。
式(7)および(8)を式(1)−(3)と合わせる
と、行列の個々の要素amnの明確な提示が可能とな
る。r,ψ,δが任意で個々の検知器で異なり、回転
α1,α2が等しくない一般の場合に対する結果は本明細
書中で取り扱うには余りに複雑すぎる。そこで、説明の
ため、最初の3つの検知器の全ての反射パラメータが同
一である場合を考え、さらにδ=90°(入射角を主角に
等しく選択することにより、これは可能である。)と仮
定する(R.M.A.Azzam and A.R.M.Zaghloul,J.Opt.Soc.A
m.67,1058(1977);R.M.A.Azzam,J.Opt.Soc.Am 71,1523
(1981)参照。)式(7)においてδ=90°を設定する
ことにより、単純なミューラーの行列が得られる。α
1=α2=45°に選択すると、式(8)の回転行列
(α)も単純化される。式(1)−(3)においてこれ
らの整理された行列の置換は以下の機器行列 (式中、t=1−r,a=sin2ψ,b=−cos2ψ=−(1−a
205……(10))で与えられる。式(9)のが正則
であることが必須である。の行列式は、 det=(k0k1k2k3)r6a3b3 (ψ≠0,π/4,またはπ/2であれば、0ではない。)で
与えられる。
機器行列は、既に前述したように、計算することがで
きるが、さらに実際的なアプローチは4つの検知器の所
定の配置についての計算によりを測定することであ
る。この工程においては、機器は、続いて、4つの異な
る線形独立な状態、すなわち、4つの線形独立なストー
クベクトルで表される状態に偏光する入力光で照射さ
れ、対応する信号ベクトルは各入力状態に対して記録さ
れる。このデータは、式(4)によりを完全に特定す
るのに十分であり、然る後、偏光計は未知の入力偏光状
態を決定するために使用することができる。は光の波
長の関数であることに注意するべきで、目的とするスペ
クトル領域全体にわたって測定するべきである。単色偏
光計は、さらに一般的な型のレーザ例えば632.8nmのHe
−Neレーザまたは10.6μmのCO2レーザの1つにより光
が発生させられる場合の用途に適当である。
本明細書中に記載された偏光計および方法は、従来の偏
光計に比べて、以下のような長所を有する。
(1)本発明は、4つのストークスパラメータ全て、し
たがって、(部分的に長円形な)偏光の最も一般的な状
態を決定する完全な偏光計である。
(2)4つのストークスパラメータ全ては逐次的ではな
く、同時に決定される。
(3)別個の偏光光学素子例えばシートもしくは結晶偏
光子または四分の一波長板を必要とせず、実際には、光
検知器の部分的な反射表面(第1図におけるD0,D1およ
びD2)がこれらの機能を行う。
(4)本装置は、同期式の回転光学素子を使用する従来
技術の偏光計と比べて可動部品を有しない(D.E.Aspnes
and P.S.Hauge,J.Opt.Soc.Am.66,949(1976))。
(5)変調器例えばしばしば使用される光弾性装置(例
えばR.J.Perry,A,H.Hunt and D.R.Huffman,Appl.Opt.1
7,2700(1978))も必要としない。
(6)本発明は4つのソリッドステートな光検知器から
なる堅固な設計を提供する。
(7)本発明は4つの光検知器により分割される入力光
束を偏光決定に対し十分かつ完全に使用する。
(8)4つの検知器の幾何学的配置(入射角、連続する
入射面間の角度)、誘電体薄膜被覆により非常に改善す
ることのできる個々の検知器の表面反射パラメータ(r,
ψ,δ)および光電応答因子、さらには、後検知利得
(k0,k1,k2およびk3)等最適性能達成できるように複数
の固有の自由度を付与できる。
(9)本機器はオンラインマイクロコンピュータに容易
に介在させることができ、このマイクロコンピュータは
その入力としてデジタル化された出力電気信号i0,i1
i2およびi3を受信する。マイクロコンピュータは機器行
列を記憶し、その逆数を決定し、4つのストークスパ
ラメータを計算する。その結果は適当な出力装置に表示
することができる。
要約すれば、第1図の4検知器光偏光計においては、光
検知器D0,D1およびD2の表面は部分的に正反射し、D3
表面は全て吸収する。4つの出力電気信号は入力ストー
クスベクトルを決定するために用いられる。α1はD0
およびD1からの連続反射に対する入射面間の角度であ
り、α2はD1およびD2からの反射に対する対応する角度
であり、pnはn番目の入射面に対して平行な反射偏光方
向である。
第2図は、光検知器D0,D1,D2およびD3の入力信号が、
まず符号20で増幅され、この信号が前述したように比例
定数knに影響を及ぼし、次いで、プロセッサー、好まし
くは、マイクロプロセッサー24に入力するためのアナロ
グーデジタルコンバータ22により等価なデジタルに変換
し、プロセッサー24において計算=-1を行う典型
的な信号処理配置のブロックダイアグラムである。
これとは異なる実施態様においては、プロセッサー24は
A/D変換を処理するように設けることもできる。
第2図に示したように、第1図の機器は、その入力とし
てデジタル化した出力電気信号i0,i1,i2およびi3を受
信するオンーラインマイクロコンピュータ24に容易に介
在させることができる。マイクロコンピュータは、機器
行列をメモリーに記憶させ、その逆数を決定し、式
(6)を用いて4つのストークスパラメータを計算す
る。この結果は適当な出力装置26に表示することができ
る。これとは別に、-1を直接コンピュータメモリーに
記憶させることもできる。
4つのストークスパラメータは、光の偏光状態を記載す
るための好ましくかつ従来知られた様式ではあるが、第
1図の機器は、その他の状態の光の偏光状態を測定する
ためにも使用することができる。さらに、一旦ストーク
スパラメータが決定されると、更にその他の光特性につ
いて決定することも可能である。
光の偏光状態を測定するための光検知器の配置について
の本発明に従う幾つかの実施態様および変形例について
本明細書において記載したが、本発明の開示および教示
は、当業者にとって多くの変形設計を示唆するであろう
ことは容易に理解されるであろう。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)第1の入射面において斜めに入射す
    る光線を部分的に反射する部分正反射面を有し、吸収し
    た電磁線に比例した大きさの第1の電気出力信号を生ず
    る第1の光検知器(D0)と、 (b)前記第1の光検知器から部分的に反射されて前記
    第1の入射面とは異なる第2の入射面において斜めに入
    射する光線を部分的に反射する部分的正反射面を有し、
    吸収した電磁線に比例した大きさの第2の電気出力信号
    を生ずる第2の光検知器(D1)と、 (c)前記第2の光検知器から部分的に反射されて前記
    第2の入射面とは異なる第3の入射面において斜めに入
    射する光線を部分的に反射する部分的正反射面を有し、
    吸収した電磁線に比例した大きさの第3の電気出力信号
    を生ずる第3の光検知器(D2)と、 (d)前記第3の光検知器から部分的に反射された光線
    を実質的に全て吸収する表面を有し、吸収した電磁線に
    比例した大きさの第4の電気出力信号を生ずる第4の光
    検知器(D3)と、 からなる光線の偏光状態の測定に好適な装置。
  2. 【請求項2】前記第1、第2、第3および第4の出力信
    号を受けて、光線の偏光状態を決定する4つのストーク
    スパラメータ全てを同時測定する手段を有する請求の範
    囲第1項記載の光線の偏光状態の測定に好適な装置。
  3. 【請求項3】さらに、前記第1、第2、第3および第4
    の出力信号の個々を対応するデジタル信号に変換するた
    めの手段と、対応する前記デジタル信号を受信するよう
    に接続され、式=-1(式中、は4行4列の光偏
    光計行列であり、は前記第1、第2、第3および第4
    の出力信号からなる4行1列の信号ベクトルである。)
    に従い4つのストークスパラメータの個々を測定する手
    段とからなる請求の範囲第2項記載の光線の偏光状態の
    測定に好適な装置。
  4. 【請求項4】前記計算するための手段が、その内部に記
    憶された行列または-1を有するマイクロコンピュー
    タからなる請求の範囲第3項記載の光線の偏光状態の測
    定に好適な装置。
  5. 【請求項5】(a)光線を部分正反射面を有する第1の
    光検知器に向け、第1の入射面において斜めに入射させ
    て部分的に反射させ、上記第1の光検知器によってそれ
    に吸収された電磁線に比例した大きさの第1の電気出力
    信号を発生させる工程と、 (b)前記第1の光検知器から部分的に反射された光線
    を、部分的正反射面を有する第2の光検知器に向け、前
    記第1の入射面とは異なる第2の入射面において斜めに
    入射させて部分的に反射させ、上記第2の光検知器によ
    ってそれに吸収された電磁線に比例した大きさの第2の
    電気出力信号を発生させる工程と、 (c)前記第2の光検知器から部分的に反射された光線
    を、部分的正反射面を有する第3の光検知器に向け、前
    記第2の入射面とは異なる第3の入射面において斜めに
    入射させて部分的に反射させ、上記第3の光検知器によ
    ってそれに吸収された電磁線に比例した大きさの第3の
    電気出力信号を発生させる工程と、 (d)前記第3の光検知器から部分的に反射された光線
    を、実質的に全吸収型の表面を有する第4の光検知器に
    向け、吸収した電磁線に比例した大きさの第4の電気出
    力信号を発生させる工程と からなる光線の偏光状態を測定する方法。
  6. 【請求項6】前記第1、第2、第3および第4の出力信
    号を用いて光線の偏光状態を決定する4つのストークス
    パラメータ全てを同時測定する工程を含む請求の範囲第
    5項記載の光線の偏光状態を測定するための方法。
  7. 【請求項7】さらに、前記第1、第2、第3および第4
    の出力信号の各々を対応するデジタル信号に変換する4
    行4列の光偏光行列を決定し、=-1(式中、
    は4行4列の光偏光計行列であり、は前記第1、第
    2、第3および第4の出力信号からなる4行1列のベク
    トルである。)に従い4つのストークスパラメータの各
    々を計算する工程を有する請求の範囲第6項記載の光線
    の偏光状態を測定するための方法。
  8. 【請求項8】前記計算工程が、マイクロコンピュータを
    使用して計算=-1を行い、前記マイクロコンピュ
    ータのメモリーにまたは-1を収容する工程を含む請
    求の範囲第7項記載の光線の偏光状態を測定するための
    方法。
  9. 【請求項9】前記4行4列の光偏光計行列を決定する
    工程には、4つの光検知器の配置を較正することにより
    を決定する工程と、の決定のそれぞれの入力状態に
    対応する信号ベクトルを記録する工程が含まれ、この較
    正工程には、光偏光計を4つの線形独立な公知のストー
    クスベクトルで表される4つの異なる線形独立な状態に
    順次偏光される入力光で照射する工程が含まれている請
    求の範囲第7項記載の光線の偏光状態を測定するための
    方法。
  10. 【請求項10】前記4行4列の光偏光計行列を決定す
    る工程が、ミューラーの行列と回転行列とを用いて
    計算され、前記ミューラーの行列が、 (式中、rは非偏光または円偏光入射光に対する強度反
    射率であり、tanφexp(jδ)は複合pおよびs反射相
    関係数の比である。)で与えられ、前記回転行列が、 で与えられ、行列の個々の要素amnを決定する請求の
    範囲第7項記載の光線の偏光状態を測定するための方
    法。
JP61503602A 1985-06-21 1986-06-18 光の偏光状態を測定するための光検知器の配置 Expired - Lifetime JPH0778456B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US747611 1985-06-21
US06/747,611 US4681450A (en) 1985-06-21 1985-06-21 Photodetector arrangement for measuring the state of polarization of light
PCT/US1986/001316 WO1986007631A1 (en) 1985-06-21 1986-06-18 Photodetector arrangement for measuring the state of polarization of light

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63500056A JPS63500056A (ja) 1988-01-07
JPH0778456B2 true JPH0778456B2 (ja) 1995-08-23

Family

ID=25005864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61503602A Expired - Lifetime JPH0778456B2 (ja) 1985-06-21 1986-06-18 光の偏光状態を測定するための光検知器の配置

Country Status (6)

Country Link
US (2) US4681450A (ja)
EP (1) EP0233215B1 (ja)
JP (1) JPH0778456B2 (ja)
CA (1) CA1272042C (ja)
DE (1) DE3650059T2 (ja)
WO (1) WO1986007631A1 (ja)

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4908508A (en) * 1987-02-12 1990-03-13 Akzo N.V. Process and apparatus for determining thicknesses of layers
JP2542653B2 (ja) * 1987-12-10 1996-10-09 ファナック株式会社 非接触倣い方法
US4842404A (en) * 1988-01-13 1989-06-27 Ilc Technology, Inc. Dual detector laser beam power monitor
GB8817382D0 (en) * 1988-07-21 1988-08-24 Univ Essex Optical polarimeter
US4983823A (en) * 1989-01-20 1991-01-08 Ricoh Company Ltd. Method for determining incident angle in measurement of refractive index and thickness
US5042951A (en) * 1989-09-19 1991-08-27 Therma-Wave, Inc. High resolution ellipsometric apparatus
US5166752A (en) * 1990-01-11 1992-11-24 Rudolph Research Corporation Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method
US5298972A (en) * 1990-01-22 1994-03-29 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for measuring polarization sensitivity of optical devices
JPH04218735A (ja) * 1990-01-22 1992-08-10 Hewlett Packard Co <Hp> 偏光測定装置及び方法
NL9100205A (nl) * 1991-02-06 1992-09-01 Philips Nv Inrichting voor het optisch meten van de hoogte van een oppervlak.
DE59209144D1 (de) * 1991-04-08 1998-02-26 Hahn Meitner Inst Berlin Gmbh Apparat für ellipsometrische Untersuchungen von Materialien
US5247176A (en) * 1991-07-22 1993-09-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Infrared laser polarimeter
US5235177A (en) * 1991-10-29 1993-08-10 Maximum, Inc. Angular position sensor using a polarized disc with coded tracks
US5227623A (en) * 1992-01-31 1993-07-13 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for measuring polarization mode dispersion in optical devices
US5337146A (en) * 1992-03-30 1994-08-09 University Of New Orleans Diffraction-grating photopolarimeters and spectrophotopolarimeters
JPH0618332A (ja) * 1992-07-01 1994-01-25 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> ストークス・パラメータ測定方法及び装置
US5243185A (en) * 1992-07-31 1993-09-07 Loral Aerospace Corp. Apparatus and method for ice detection
US5805285A (en) * 1992-09-18 1998-09-08 J.A. Woollam Co. Inc. Multiple order dispersive optics system and method of use
US5666201A (en) * 1992-09-18 1997-09-09 J.A. Woollam Co. Inc. Multiple order dispersive optics system and method of use
US5517309A (en) * 1993-05-03 1996-05-14 Barker; David D. Tool for analyzing a polarization state of a light beam
US5400306A (en) * 1993-06-02 1995-03-21 Hewlett-Packard Company Differential detection assembly for data retrieval from a data storage disk
IL107549A (en) 1993-11-09 1996-01-31 Nova Measuring Instr Ltd Device for measuring the thickness of thin films
US5764365A (en) 1993-11-09 1998-06-09 Nova Measuring Instruments, Ltd. Two-dimensional beam deflector
USRE38153E1 (en) * 1993-11-09 2003-06-24 Nova Measuring Instruments, Ltd. Two-dimensional beam deflector
US5650610A (en) * 1995-03-15 1997-07-22 National Research Council Of Canada Apparatus and method for remote detection of ice or other birefringent material on a surface
US5625455A (en) * 1995-06-06 1997-04-29 Board Of Regents, The University Of Texas System Rotating analyzer ellipsometer and ellipsometry technique
US5969818A (en) * 1998-03-03 1999-10-19 J. A. Woollam Co. Inc. Beam folding optics system and method of use with application in ellipsometry and polarimetry
US5963327A (en) * 1998-03-03 1999-10-05 J.A. Woollam Co. Inc. Total internal reflection electromagnetic radiation beam entry to, and exit from, ellipsometer, polarimeter, reflectometer and the like systems
JP3023443B2 (ja) * 1996-11-25 2000-03-21 佐藤 進 液晶セルパラメータ検出方法
US6055391A (en) * 1997-02-10 2000-04-25 Xerox Corporation Vibration detection and control system for printers
US5734473A (en) * 1997-02-27 1998-03-31 United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of determining polarization profiles for polychromatic sources
US6108091A (en) * 1997-05-28 2000-08-22 Lam Research Corporation Method and apparatus for in-situ monitoring of thickness during chemical-mechanical polishing
US6146248A (en) 1997-05-28 2000-11-14 Lam Research Corporation Method and apparatus for in-situ end-point detection and optimization of a chemical-mechanical polishing process using a linear polisher
US6111634A (en) * 1997-05-28 2000-08-29 Lam Research Corporation Method and apparatus for in-situ monitoring of thickness using a multi-wavelength spectrometer during chemical-mechanical polishing
WO1999005488A1 (en) 1997-07-28 1999-02-04 Hinds Instruments, Inc. Measurement of waveplate retardation using a photoelastic modulator
US5815270A (en) * 1997-07-29 1998-09-29 Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechnical College In-line fiber-optic polarimeter using a fused 1x5 star coupler
US6300954B1 (en) 1997-09-12 2001-10-09 Meiryo Tekunika Kabushiki Kaisha Methods and apparatus for detecting liquid crystal display parameters using stokes parameters
US6134011A (en) 1997-09-22 2000-10-17 Hdi Instrumentation Optical measurement system using polarized light
US6473179B1 (en) 1998-02-20 2002-10-29 Hinds Instruments, Inc. Birefringence measurement system
IL123575A (en) * 1998-03-05 2001-08-26 Nova Measuring Instr Ltd Method and apparatus for alignment of a wafer
US6068539A (en) 1998-03-10 2000-05-30 Lam Research Corporation Wafer polishing device with movable window
EP0973069A3 (en) * 1998-07-14 2006-10-04 Nova Measuring Instruments Limited Monitoring apparatus and method particularly useful in photolithographically processing substrates
DE19842364C1 (de) 1998-09-16 2000-04-06 Nanophotonics Ag Mikropolarimeter und Ellipsometer
US6212961B1 (en) 1999-02-11 2001-04-10 Nova Measuring Instruments Ltd. Buffer system for a wafer handling system
US6697157B2 (en) * 1999-05-24 2004-02-24 Hinds Instruments Birefringence measurement
WO2001007881A1 (en) 1999-07-27 2001-02-01 Colorado School Of Mines Parallel detecting, spectroscopic ellipsometers/polarimeters
US6157448A (en) * 1999-10-08 2000-12-05 Uniopt Co., Ltd. Birefringence measurement optical system and high spatial resolution polarimetric apparatus
DE19953527B4 (de) * 1999-11-05 2006-02-02 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Messung der Spannungsdoppelbrechung mit rotierendem Analysator
DE19953528B4 (de) * 1999-11-05 2010-10-07 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zur automatischen Messung der Spannungsdoppelbrechung mit feststehendem Analysator
US6268914B1 (en) 2000-01-14 2001-07-31 Hinds Instruments, Inc. Calibration Process For Birefringence Measurement System
US6618145B1 (en) 2000-01-19 2003-09-09 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Spectroplarimetric reflectometer
US6621067B2 (en) * 2000-03-03 2003-09-16 Exfo Electro-Optical Engineering Inc. Polarization independent photodetector device and method of making same
US6717706B2 (en) * 2000-08-31 2004-04-06 Cambridge Research And Instrumentation, Inc. State of polarization detector
US6373614B1 (en) 2000-08-31 2002-04-16 Cambridge Research Instrumentation Inc. High performance polarization controller and polarization sensor
US6795184B1 (en) * 2001-04-06 2004-09-21 J.A. Woollam Co., Inc Odd bounce image rotation system in ellipsometer systems
WO2002093237A1 (en) * 2001-05-15 2002-11-21 Optellios, Inc. Polarization analysis unit, calibration method and optimization therefor
JP4249608B2 (ja) * 2001-06-18 2009-04-02 ハインズ インスツルメンツ インコーポレイテッド 深紫外波長での複屈折測定
US20030075676A1 (en) * 2001-10-24 2003-04-24 Bernard Ruchet Apparatus for measuring state of polarization of a lightwave
US6674532B2 (en) 2001-11-02 2004-01-06 Vandelden Jay S. Interferometric polarization interrogating filter assembly and method
JP2003294531A (ja) * 2002-03-28 2003-10-15 Anritsu Corp 偏波解析器
US7116419B1 (en) 2002-11-15 2006-10-03 Purdue Research Foundation Wavelength-parallel polarization measurement systems and methods
JP4455024B2 (ja) 2002-12-13 2010-04-21 キヤノン株式会社 複屈折測定装置
US6930782B1 (en) 2003-03-28 2005-08-16 Lam Research Corporation End point detection with imaging matching in semiconductor processing
DE10347978B4 (de) * 2003-10-15 2006-03-02 Raylase Ag Polarisationsmeßeinrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Polarisation eines Laserstrahls
US7206066B2 (en) * 2004-03-19 2007-04-17 Kla-Tencor Technologies Corporation Reflectance surface analyzer
US7206069B2 (en) * 2004-03-29 2007-04-17 Lucent Technologies Inc. Optical analyzers of polarization properties
US7738105B1 (en) 2004-04-23 2010-06-15 Liphardt Martin M System and method of applying horizontally oriented arc-lamps in ellipsometer or the like systems
US8189193B1 (en) 2004-04-23 2012-05-29 J.A. Woollam Co., Inc. System and method of applying horizontally oriented arc-lamps in ellipsometer or the like systems
US20060028962A1 (en) * 2004-08-05 2006-02-09 Oron Zachar Method and system for encoding and detecting optical information
US20070064572A1 (en) * 2005-07-27 2007-03-22 Polarizonics Corporation Optical data encoding and detection
US7370525B1 (en) 2006-10-31 2008-05-13 Swan International Sensors Pty. Ltd. Inflight ice detection system
FI125849B (fi) * 2007-05-31 2016-03-15 Teknillinen Korkeakoulu Absoluuttinen säteilytehon mittaus
US7800755B1 (en) 2007-07-02 2010-09-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy High-speed polarimeter having a multi-wavelength source
US20120010842A1 (en) 2010-07-08 2012-01-12 Ofs Fitel, Llc Self-Calibration Procedure For Optical Polarimeters
DE102013200394A1 (de) 2013-01-14 2014-07-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarisationsmessvorrichtung, Lithographieanlage, Messanordnung, und Verfahren zur Polarisationsmessung
US9354118B2 (en) 2014-02-06 2016-05-31 Film Sense, LLC Multiple wavelength ellipsometer system and related method
IL253739B (en) 2017-07-31 2021-01-31 Israel Aerospace Ind Ltd Baldness detector

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2412074A (en) * 1944-03-06 1946-12-03 Bausch & Lomb Device for testing light polarizing elements
US2583186A (en) * 1949-11-19 1952-01-22 Research Corp Method of determining the polarization of a light beam
US3001439A (en) * 1957-10-15 1961-09-26 Daystrom Inc Apparatus and method for polarimetric analysis
US2986066A (en) * 1957-10-15 1961-05-30 Daystrom Inc Polarimetric apparatus
US3283645A (en) * 1962-04-26 1966-11-08 Wada Akiyoshi Laminar flow dichroism polarimeter
US3506835A (en) * 1967-08-01 1970-04-14 Zenith Radio Corp Photo-detector signal-translating device
US3623814A (en) * 1969-04-01 1971-11-30 Gen Telephone & Elect Light beam deflection sensor
US3642375A (en) * 1969-10-02 1972-02-15 Sperry Rand Corp Optical combiner
US3631254A (en) * 1969-12-31 1971-12-28 Texas Instruments Inc Object identification by emission polarization
US3728030A (en) * 1970-06-22 1973-04-17 Cary Instruments Polarization interferometer
US4333008A (en) * 1975-04-21 1982-06-01 Sanders Associates, Inc. Polarization coded doublet laser detection system
GB1570067A (en) * 1975-12-11 1980-06-25 Optical Activity Ltd Polarimeter
US4203670A (en) * 1977-04-21 1980-05-20 Bromberg Nathan S System and method of fluorescence polarimetry
US4158506A (en) * 1977-11-15 1979-06-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Automatic determination of the polarization state of nanosecond laser pulses
US4309110A (en) * 1978-04-23 1982-01-05 Leo Tumerman Method and apparatus for measuring the quantities which characterize the optical properties of substances
US4306809A (en) * 1979-03-26 1981-12-22 The Board Of Regents Of The University Of Nebraska Polarimeter
DE3013498A1 (de) * 1979-04-09 1980-10-30 Crosfield Business Mach Optischer modulator sowie laser-graviervorrichtung mit einem derartigen modulator
SE416681B (sv) * 1979-04-17 1981-01-26 Johan Emanuel Stenberg Sett att jemfora tva ytors reflexionsegenskaper
JPS6118481Y2 (ja) * 1980-05-09 1986-06-05
US4323899A (en) * 1980-06-23 1982-04-06 Sperry Corporation Polarization detector

Also Published As

Publication number Publication date
CA1272042A (en) 1990-07-31
EP0233215B1 (en) 1994-09-07
EP0233215A1 (en) 1987-08-26
US4681450A (en) 1987-07-21
EP0233215A4 (en) 1990-01-08
CA1272042C (en) 1990-07-31
US4725145A (en) 1988-02-16
DE3650059D1 (de) 1994-10-13
WO1986007631A1 (en) 1986-12-31
DE3650059T2 (de) 1995-04-27
JPS63500056A (ja) 1988-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0778456B2 (ja) 光の偏光状態を測定するための光検知器の配置
US5337146A (en) Diffraction-grating photopolarimeters and spectrophotopolarimeters
Azzam Division-of-amplitude photopolarimeter (DOAP) for the simultaneous measurement of all four Stokes parameters of light
EP0974042B1 (fr) Polarimetre et procede de mesure correspondant
US5596411A (en) Integrated spectroscopic ellipsometer
US6836328B2 (en) Detector configurations for optical metrology
US5973787A (en) Broadband spectroscopic rotating compensator ellipsometer
US5042951A (en) High resolution ellipsometric apparatus
US7542144B2 (en) Spatial and spectral wavefront analysis and measurement
US4176951A (en) Rotating birefringent ellipsometer and its application to photoelasticimetry
US7286226B2 (en) Method and apparatus for measuring birefringence
JPH06103252B2 (ja) 高分解能エリプソメータ装置と方法
JP3360822B2 (ja) 同時多数角度/多数波長の楕円偏光器および方法
JP2001349872A (ja) 磁気センサ
US7440108B2 (en) Imaging spectrometer including a plurality of polarizing beam splitters
EP0075689A1 (en) Optical instruments for viewing a sample surface
Azzam Multichannel polarization state detectors for time-resolved ellipsometry
WO2007127760A2 (en) Spectroscopic ellipsometers
JPH11101739A (ja) エリプソメトリ装置
Azzam Ellipsometric Methods of Characterization of Optical Thin Films
JPH04138339A (ja) 薄膜測定装置
JPS63186130A (ja) エリプソメ−タ
Azzam Two‐detector ellipsometer
Azzam Integrated photopolarimeters
Azzam An arrangement of two reflective photodetectors for measuring all four Stokes parameters of light

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term