JPH0768177A - 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒及びその製造方法Info
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- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000746 purification Methods 0.000 title description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims description 5
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 13
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 6
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract description 3
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 abstract 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 16
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021638 Iridium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021634 Rhenium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- LOIHSHVELSAXQN-UHFFFAOYSA-K trirhenium nonachloride Chemical compound Cl[Re](Cl)Cl LOIHSHVELSAXQN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ゼオライト等の母材に担持させた貴金属等の活
性種の高温でのシンタリングを防止する。 【構成】上記母材に上記活性種と共にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ
及びＲｅのうちから選ばれる１種以上の金属の硫化物を
分散担持させる。 【効果】上記金属の硫化物が活性種の移動に対する立体
障害となって該活性種のシンタリングが防止される。
性種の高温でのシンタリングを防止する。 【構成】上記母材に上記活性種と共にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ
及びＲｅのうちから選ばれる１種以上の金属の硫化物を
分散担持させる。 【効果】上記金属の硫化物が活性種の移動に対する立体
障害となって該活性種のシンタリングが防止される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は排気ガス浄化用触媒及び
その製造方法に関する。
その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】自動車用エンジンの三元触媒、酸化触
媒、酸素過剰雰囲気でのＮＯｘ浄化を図るＮＯｘ浄化用
触媒等の排気ガス浄化用触媒は、無機多孔質の母材に活
性種（触媒金属）を担持させて構成されている。
媒、酸素過剰雰囲気でのＮＯｘ浄化を図るＮＯｘ浄化用
触媒等の排気ガス浄化用触媒は、無機多孔質の母材に活
性種（触媒金属）を担持させて構成されている。
【０００３】上記母材への活性種の担持にあたっては、
母材に活性種の溶液を含浸させて乾燥させる含浸法、活
性種の溶液に粉末状の母材を分散させてなるスラリーを
蒸発乾固する蒸発乾固法、活性種をゼオライト等の金属
含有シリケート（多数の細孔を有する結晶質の多孔質
体）の陽イオンと交換させるイオン交換法など種々の方
法が採用されている。例えば、特開平４−２４３５４５
号公報には、ゼオライト母材に活性種としてのＰｔやＲ
ｈをイオン交換法によって担持させる方法が記載されて
いる。
母材に活性種の溶液を含浸させて乾燥させる含浸法、活
性種の溶液に粉末状の母材を分散させてなるスラリーを
蒸発乾固する蒸発乾固法、活性種をゼオライト等の金属
含有シリケート（多数の細孔を有する結晶質の多孔質
体）の陽イオンと交換させるイオン交換法など種々の方
法が採用されている。例えば、特開平４−２４３５４５
号公報には、ゼオライト母材に活性種としてのＰｔやＲ
ｈをイオン交換法によって担持させる方法が記載されて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の如き触
媒を高温雰囲気下において長時間使用すると、母材に担
持されている活性種のシンタリングを生じる。その結
果、触媒活性が大きく低下し、以後は所期の浄化率を期
待することができなくなる。すなわち、本発明の課題は
上記活性種のシンタリングを防止することにある。
媒を高温雰囲気下において長時間使用すると、母材に担
持されている活性種のシンタリングを生じる。その結
果、触媒活性が大きく低下し、以後は所期の浄化率を期
待することができなくなる。すなわち、本発明の課題は
上記活性種のシンタリングを防止することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明者
は、このような課題に対して、母材に活性種と共に金属
の硫化物もしくはリン化物を担持させると、該硫化物な
いしはリン化物が立体障害となって活性種のシンタリン
グを阻止することを見出だし、本発明を完成するに至っ
たものである。
は、このような課題に対して、母材に活性種と共に金属
の硫化物もしくはリン化物を担持させると、該硫化物な
いしはリン化物が立体障害となって活性種のシンタリン
グを阻止することを見出だし、本発明を完成するに至っ
たものである。
【０００６】すなわち、上記課題を解決する第１の手段
（請求項１乃至請求項６の各発明）は、無機多孔質の母
材に、活性種と金属硫化物若しくは金属リン化物とが分
散担持されていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒
である。
（請求項１乃至請求項６の各発明）は、無機多孔質の母
材に、活性種と金属硫化物若しくは金属リン化物とが分
散担持されていることを特徴とする排気ガス浄化用触媒
である。
【０００７】上記触媒においては、活性種のシンタリン
グが抑えられるが、これは活性種の間に介在する金属硫
化物もしくはリン化物が立体障害となって高温時におけ
る当該活性種の移動を阻止するためと考えられる。
グが抑えられるが、これは活性種の間に介在する金属硫
化物もしくはリン化物が立体障害となって高温時におけ
る当該活性種の移動を阻止するためと考えられる。
【０００８】上記母材としては、請求項３に係る発明の
ように、ミクロの細孔有する結晶質の金属含有シリケー
トを用いることが排気ガス中のＮＯｘの浄化率を高める
上で好適であるが、γ−アルミナなど他の無機多孔質材
を用いることもできる。上記金属含有シリケートとして
は、結晶の骨格をＡｌが構成するアルミノシリケート
（所謂ゼオライト）の他、結晶骨格構成金属としてＧ
ａ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｔｂなど他の金属を単独でもしくはＡ
ｌと共に用いたものであってもよい。アルミノシリケー
トとしては、Ａ型、Ｘ型、Ｙ型、モルデナイト、ＺＳＭ
−５などいずれでも採用することができる。
ように、ミクロの細孔有する結晶質の金属含有シリケー
トを用いることが排気ガス中のＮＯｘの浄化率を高める
上で好適であるが、γ−アルミナなど他の無機多孔質材
を用いることもできる。上記金属含有シリケートとして
は、結晶の骨格をＡｌが構成するアルミノシリケート
（所謂ゼオライト）の他、結晶骨格構成金属としてＧ
ａ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｔｂなど他の金属を単独でもしくはＡ
ｌと共に用いたものであってもよい。アルミノシリケー
トとしては、Ａ型、Ｘ型、Ｙ型、モルデナイト、ＺＳＭ
−５などいずれでも採用することができる。
【０００９】また、上記活性種の種類についても特に限
定されるものではないが、請求項４乃至請求項６の各発
明のようにＰｔ、Ｉｒ、Ｒｈのような貴金属が耐熱性を
確保しながら所期のＮＯｘ浄化を行なう上で好適であ
る。もちろん、ＣｕやＣｏのような貴金属以外の遷移金
属、あるいはアルカリ土類金属のような典型元素であっ
てもよい。
定されるものではないが、請求項４乃至請求項６の各発
明のようにＰｔ、Ｉｒ、Ｒｈのような貴金属が耐熱性を
確保しながら所期のＮＯｘ浄化を行なう上で好適であ
る。もちろん、ＣｕやＣｏのような貴金属以外の遷移金
属、あるいはアルカリ土類金属のような典型元素であっ
てもよい。
【００１０】また、上記金属硫化物もしくは金属リン化
物を構成する金属としては、請求項５，６に係る発明の
ように活性種となる金属を採用することができ、また、
請求項２乃至請求項４に係る各発明のように当該活性種
以外の金属を採用することもできる。
物を構成する金属としては、請求項５，６に係る発明の
ように活性種となる金属を採用することができ、また、
請求項２乃至請求項４に係る各発明のように当該活性種
以外の金属を採用することもできる。
【００１１】上記活性種が貴金属である場合、請求項４
に係る発明のように、貴金属活性種に、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇ
ｅ及びＲｅのうちから選ばれる１種以上の金属の硫化物
を組み合わせることが好適である。これらの金属は上記
貴金属よりも硫黄との親和力が強く、硫化物として貴金
属粒子間に介在してそのシンタリングを有効に阻止する
からである。もちろん、上記Ｉｎ等の金属のリン化物で
あっても上記シンタリングの阻止に有効である。
に係る発明のように、貴金属活性種に、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇ
ｅ及びＲｅのうちから選ばれる１種以上の金属の硫化物
を組み合わせることが好適である。これらの金属は上記
貴金属よりも硫黄との親和力が強く、硫化物として貴金
属粒子間に介在してそのシンタリングを有効に阻止する
からである。もちろん、上記Ｉｎ等の金属のリン化物で
あっても上記シンタリングの阻止に有効である。
【００１２】上記課題を解決する第２の手段（請求項７
及び請求項８に係る発明）は、活性種として貴金属を採
用し、これに硫化物を組み合わせてなる排気ガス浄化用
触媒の製造方法であって、無機多孔質の母材に活性種を
担持させた後にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅのうちから選
ばれる１種以上の金属を担持させ、しかる後に当該金属
の硫化処理を行なうことを特徴とする。
及び請求項８に係る発明）は、活性種として貴金属を採
用し、これに硫化物を組み合わせてなる排気ガス浄化用
触媒の製造方法であって、無機多孔質の母材に活性種を
担持させた後にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅのうちから選
ばれる１種以上の金属を担持させ、しかる後に当該金属
の硫化処理を行なうことを特徴とする。
【００１３】このような製造方法においては、母材に対
してＩｎ等の金属よりも先に活性種を担持させるから、
該活性種の母材に対する担持性が他の金属により阻害さ
れることがなく、所期の量の貴金属を担持させることが
容易になる。そして、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅは貴金
属よりも硫黄との親和力が強いから、硫化処理によって
貴金属のシンタリング防止に有効な上記Ｉｎ等の硫化物
が生成することになる。
してＩｎ等の金属よりも先に活性種を担持させるから、
該活性種の母材に対する担持性が他の金属により阻害さ
れることがなく、所期の量の貴金属を担持させることが
容易になる。そして、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅは貴金
属よりも硫黄との親和力が強いから、硫化処理によって
貴金属のシンタリング防止に有効な上記Ｉｎ等の硫化物
が生成することになる。
【００１４】上記硫化処理としては、請求項８に係る発
明のように、上記貴金属活性種及びＩｎ等の金属が担持
された母材をＳＯ2 濃度５０〜２００ｐｐｍの雰囲気中
で温度４００〜６００℃に加熱することによって行なう
ことが好適である。ＳＯ2 濃度５０ｐｐｍ未満では上記
Ｉｎ等の硫化が円滑に行なわれず、また、２００ｐｐｍ
を越えるＳＯ2 濃度では貴金属が余分に被毒される懸念
があるからである。一方、上記温度４００℃未満では上
記Ｉｎ等の硫化が円滑に行なわれず、また、６００℃を
越える温度は母材の酸特性が変化し好ましくない。
明のように、上記貴金属活性種及びＩｎ等の金属が担持
された母材をＳＯ2 濃度５０〜２００ｐｐｍの雰囲気中
で温度４００〜６００℃に加熱することによって行なう
ことが好適である。ＳＯ2 濃度５０ｐｐｍ未満では上記
Ｉｎ等の硫化が円滑に行なわれず、また、２００ｐｐｍ
を越えるＳＯ2 濃度では貴金属が余分に被毒される懸念
があるからである。一方、上記温度４００℃未満では上
記Ｉｎ等の硫化が円滑に行なわれず、また、６００℃を
越える温度は母材の酸特性が変化し好ましくない。
【００１５】上記課題を解決する第３の手段（請求項９
に係る発明）は、請求項５及び請求項６に係る各排気ガ
ス浄化用触媒の製造方法であって、無機多孔質の母材に
貴金属活性種を担持させた後に、この貴金属活性種が担
持された母材をＳＯ2 雰囲気で加熱することによって当
該貴金属活性種の一部を貴金属硫化物に変えることを特
徴とする。
に係る発明）は、請求項５及び請求項６に係る各排気ガ
ス浄化用触媒の製造方法であって、無機多孔質の母材に
貴金属活性種を担持させた後に、この貴金属活性種が担
持された母材をＳＯ2 雰囲気で加熱することによって当
該貴金属活性種の一部を貴金属硫化物に変えることを特
徴とする。
【００１６】このような製造方法であれば、母材に対し
て、金属硫化物を構成する金属のみを単独で担持させる
必要がなく製造工程の簡素化が図れる。
て、金属硫化物を構成する金属のみを単独で担持させる
必要がなく製造工程の簡素化が図れる。
【００１７】当該方法における硫化処理としては、ＳＯ
2 濃度を５０〜１００００ｐｐｍ程度として、４００〜
８００℃の加熱を行なうことが適当である。
2 濃度を５０〜１００００ｐｐｍ程度として、４００〜
８００℃の加熱を行なうことが適当である。
【００１８】
【発明の効果】従って、上記第１の手段（請求項１乃至
請求項６の各発明）によれば、無機多孔質の母材に活性
種と該活性種以外の金属の硫化物もしくはリン化物とが
分散担持されているから、活性種の間に介在する金属硫
化物もしくは金属リン化物が活性種の移動に対する立体
障害となり、当該活性種のシンタリングを防止すること
ができる。
請求項６の各発明）によれば、無機多孔質の母材に活性
種と該活性種以外の金属の硫化物もしくはリン化物とが
分散担持されているから、活性種の間に介在する金属硫
化物もしくは金属リン化物が活性種の移動に対する立体
障害となり、当該活性種のシンタリングを防止すること
ができる。
【００１９】また、上記第２の手段（請求項７または請
求項８に記載の発明）によれば、無機多孔質の母材に活
性種を担持させた後にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅのうち
から選ばれる１種以上の金属を担持させ、しかる後に当
該金属の硫化処理を行なうようにしたから、活性種の母
材への担持性を阻害することなく、該活性種のシンタリ
ングに有効な硫化物を母材に分散担持させることができ
る。
求項８に記載の発明）によれば、無機多孔質の母材に活
性種を担持させた後にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅのうち
から選ばれる１種以上の金属を担持させ、しかる後に当
該金属の硫化処理を行なうようにしたから、活性種の母
材への担持性を阻害することなく、該活性種のシンタリ
ングに有効な硫化物を母材に分散担持させることができ
る。
【００２０】また、上記第３の手段（請求項９に係る発
明）によれば、無機多孔質の母材に貴金属活性種を担持
させた後に、この貴金属活性種が担持された母材をＳＯ
2 雰囲気で加熱することによって当該貴金属活性種の一
部を貴金属硫化物に変えるようにしたから、母材への金
属硫化物の分散担持が容易になる。
明）によれば、無機多孔質の母材に貴金属活性種を担持
させた後に、この貴金属活性種が担持された母材をＳＯ
2 雰囲気で加熱することによって当該貴金属活性種の一
部を貴金属硫化物に変えるようにしたから、母材への金
属硫化物の分散担持が容易になる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００２２】（実施例１） −触媒材料の調製− Ｐｔ、Ｉｒ及びＲｈが重量比で３０：１０：１となるよ
うに且つそれらの総量が触媒１リットル当たり６ｇとな
るように、２価白金アンミン結晶と三塩化イリジウムと
硝酸ロジウムとを秤量した。２価白金アンミン結晶と硝
酸ロジウムとについては水（イオン交換水）に溶解し、
三塩化イリジウムについてはエタノールに分散させ、し
かる後に両者を混合し、さらにその中にケイバン比７０
のＨ型ＺＳＭ−５粉末を加えた。そして、室温で２時間
撹拌した後、８０℃で３時間程加熱して液体分を蒸発さ
せ、さらに、１５０℃の恒温器で約６時間乾燥してＰ
ｔ、Ｉｒ及びＲｈがＺＳＭ−５に担持されてなる触媒粉
末を得た。
うに且つそれらの総量が触媒１リットル当たり６ｇとな
るように、２価白金アンミン結晶と三塩化イリジウムと
硝酸ロジウムとを秤量した。２価白金アンミン結晶と硝
酸ロジウムとについては水（イオン交換水）に溶解し、
三塩化イリジウムについてはエタノールに分散させ、し
かる後に両者を混合し、さらにその中にケイバン比７０
のＨ型ＺＳＭ−５粉末を加えた。そして、室温で２時間
撹拌した後、８０℃で３時間程加熱して液体分を蒸発さ
せ、さらに、１５０℃の恒温器で約６時間乾燥してＰ
ｔ、Ｉｒ及びＲｈがＺＳＭ−５に担持されてなる触媒粉
末を得た。
【００２３】−ウォッシュコート− 上記触媒粉末をバインダ（水和アルミナ）と共に４００
セル／inch2 のコーディエライト製ハニカム担体にウォ
ッシュコートした。
セル／inch2 のコーディエライト製ハニカム担体にウォ
ッシュコートした。
【００２４】−硫化物の担持− 上記触媒粉末が担持されたハニカムをＩｎが触媒１リッ
トル当たり３ｇとなるように調製した硝酸インジウムＩ
ｎ（ＮＯ3 ）3 ・Ｈ2 Ｏ溶液に浸漬した後、引上げて大
気中で５００℃×２時間の焼成を行なった。そして、当
該ハニカムをＳＯ2 濃度１００ｐｐｍ（Ｎ2 バランス）
雰囲気中で５００℃に２時間加熱することによってＩｎ
Ｓを生成させた。
トル当たり３ｇとなるように調製した硝酸インジウムＩ
ｎ（ＮＯ3 ）3 ・Ｈ2 Ｏ溶液に浸漬した後、引上げて大
気中で５００℃×２時間の焼成を行なった。そして、当
該ハニカムをＳＯ2 濃度１００ｐｐｍ（Ｎ2 バランス）
雰囲気中で５００℃に２時間加熱することによってＩｎ
Ｓを生成させた。
【００２５】（実施例２〜１５）実施例２〜４の各々
は、実施例１におけるＩｎに代えてＳｎ、Ｇｅ、Ｒｅを
採用したものであり、他は実施例１と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。Ｓｎについては酢酸第１スズＳｎ
（ＣＨ3 ＣＯＯ）2 溶液を用い、Ｇｅについては四塩化
ゲルマニウムＧｅＣｌ4 溶液を用い、また、Ｒｅについ
ては三塩化レニウムＲｅＣｌ3 溶液を用いた。この場
合、実施例２ではＳｎＳ2 が生成し、実施例３ではＧｅ
Ｓ2 が生成し、実施例４ではＲｅＳ2 が生成する。
は、実施例１におけるＩｎに代えてＳｎ、Ｇｅ、Ｒｅを
採用したものであり、他は実施例１と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。Ｓｎについては酢酸第１スズＳｎ
（ＣＨ3 ＣＯＯ）2 溶液を用い、Ｇｅについては四塩化
ゲルマニウムＧｅＣｌ4 溶液を用い、また、Ｒｅについ
ては三塩化レニウムＲｅＣｌ3 溶液を用いた。この場
合、実施例２ではＳｎＳ2 が生成し、実施例３ではＧｅ
Ｓ2 が生成し、実施例４ではＲｅＳ2 が生成する。
【００２６】実施例５〜７の各々は、実施例１における
Ｉｎ量を３ｇ／ｌに代えてそれぞれ６ｇ／ｌ、９ｇ／
ｌ、１ｇ／ｌとしたものであり、他は実施例１と同様に
して排気ガス浄化用触媒を得た。
Ｉｎ量を３ｇ／ｌに代えてそれぞれ６ｇ／ｌ、９ｇ／
ｌ、１ｇ／ｌとしたものであり、他は実施例１と同様に
して排気ガス浄化用触媒を得た。
【００２７】実施例８〜１０の各々は、実施例２におけ
るＳｎ量を３ｇ／ｌに代えてそれぞれ６ｇ／ｌ、９ｇ／
ｌ、１ｇ／ｌとしたものであり、他は実施例１と同様に
して排気ガス浄化用触媒を得た。
るＳｎ量を３ｇ／ｌに代えてそれぞれ６ｇ／ｌ、９ｇ／
ｌ、１ｇ／ｌとしたものであり、他は実施例１と同様に
して排気ガス浄化用触媒を得た。
【００２８】実施例１１〜１３の各々は、実施例１にお
ける硫化処理温度条件を５００℃×２時間に代えてそれ
ぞれ６００℃×２時間、７００℃×２時間、４００℃×
２時間としたものであり、他は実施例１と同様にして排
気ガス浄化用触媒を得た。
ける硫化処理温度条件を５００℃×２時間に代えてそれ
ぞれ６００℃×２時間、７００℃×２時間、４００℃×
２時間としたものであり、他は実施例１と同様にして排
気ガス浄化用触媒を得た。
【００２９】実施例１４，１５の各々は、実施例１にお
ける硫化処理のＳＯ2 濃度を１００ｐｐｍに代えてそれ
ぞれ５０ｐｐｍ、２００ｐｐｍとしたものであり、他は
実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
ける硫化処理のＳＯ2 濃度を１００ｐｐｍに代えてそれ
ぞれ５０ｐｐｍ、２００ｐｐｍとしたものであり、他は
実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【００３０】（実施例１６）実施例１における硫化処理
に代えてリン蒸気によるリン化処理を行なったこと以外
は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
に代えてリン蒸気によるリン化処理を行なったこと以外
は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【００３１】（比較例１）硫化物の担持を行なわないこ
と以外は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た（但し、触媒粉末ウォッシュコート後の焼成は行なっ
た）。
と以外は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た（但し、触媒粉末ウォッシュコート後の焼成は行なっ
た）。
【００３２】（比較例２）硫化処理を行なわないこと以
外は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
すなわち、触媒粉末をウォッシュコートしてなるハニカ
ムをＩｎ溶液に浸漬し、引上げてそのまま焼成処理を行
なった。
外は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
すなわち、触媒粉末をウォッシュコートしてなるハニカ
ムをＩｎ溶液に浸漬し、引上げてそのまま焼成処理を行
なった。
【００３３】（浄化テスト）上記実施例１〜１６及び比
較例１，２の各排気ガス浄化用触媒を常圧固定床流通式
反応装置に装着し、Ａ／Ｆ＝２２相当のモデルガスを用
いて、各々のフレッシュ状態（触媒として未使用であり
且つエージング処理なし）及びエージング（触媒として
未使用のものに８００℃×８時間の熱処理を施した）後
の各最高ＮＯｘ浄化率を測定した。結果は表１乃至表３
に示されている。
較例１，２の各排気ガス浄化用触媒を常圧固定床流通式
反応装置に装着し、Ａ／Ｆ＝２２相当のモデルガスを用
いて、各々のフレッシュ状態（触媒として未使用であり
且つエージング処理なし）及びエージング（触媒として
未使用のものに８００℃×８時間の熱処理を施した）後
の各最高ＮＯｘ浄化率を測定した。結果は表１乃至表３
に示されている。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【表２】
【００３６】
【表３】
【００３７】（評価）表１乃至表３によれば、実施例１
〜１６はいずれも比較例１よりもエージング後のＮＯｘ
浄化率が高く、且つエージングによるＮＯｘ浄化率の低
下率が低い。この結果から、上述の硫化物やリン化物の
担持が活性種のシンタリング防止に有効であることがわ
かる。また、Ｉｎの含浸担持後に硫化処理及びリン化処
理を行なわなかった比較例２の場合、フレッシュ時のＮ
Ｏｘ浄化率は高いものの、エージング後のＮＯｘ浄化率
が大きく低下しており、このことから、硫化処理もしく
はリン化処理の効果が裏付けられる。
〜１６はいずれも比較例１よりもエージング後のＮＯｘ
浄化率が高く、且つエージングによるＮＯｘ浄化率の低
下率が低い。この結果から、上述の硫化物やリン化物の
担持が活性種のシンタリング防止に有効であることがわ
かる。また、Ｉｎの含浸担持後に硫化処理及びリン化処
理を行なわなかった比較例２の場合、フレッシュ時のＮ
Ｏｘ浄化率は高いものの、エージング後のＮＯｘ浄化率
が大きく低下しており、このことから、硫化処理もしく
はリン化処理の効果が裏付けられる。
【００３８】そうして、表１の実施例１〜４をみると、
これらは硫化物の種類が互いに異なる例であるが、Ｉｎ
の硫化物を担持させた実施例１がフレッシュ状態及びエ
ージング後のいずれにおいて最も高いＮＯｘ浄化率を示
している。しかし、エージング後のＮＯｘ浄化率が最も
低い実施例４（Ｒｅの硫化物を担持）でも、そのＮＯｘ
浄化率の低下率は１７．９％であり、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇ
ｅ、Ｒｅのいずれの硫化物でも上記シンタリング防止に
高い効果があることがわかる。
これらは硫化物の種類が互いに異なる例であるが、Ｉｎ
の硫化物を担持させた実施例１がフレッシュ状態及びエ
ージング後のいずれにおいて最も高いＮＯｘ浄化率を示
している。しかし、エージング後のＮＯｘ浄化率が最も
低い実施例４（Ｒｅの硫化物を担持）でも、そのＮＯｘ
浄化率の低下率は１７．９％であり、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇ
ｅ、Ｒｅのいずれの硫化物でも上記シンタリング防止に
高い効果があることがわかる。
【００３９】次に表２の実施例１，５〜７をみると、こ
れらはＩｎ量が互いに異なる例であるが、Ｉｎ量３ｇ／
ｌの実施例１及び６ｇ／ｌの実施例５が最も良い結果を
示しており、これにＩｎ量が最も少ない実施例７（１ｇ
／ｌ）、Ｉｎ量が最も多い実施例６（９ｇ／ｌ）が続い
ている。Ｓｎ量が互いに異なる実施例２，８〜１０でも
同様の傾向を示している。この結果から、硫化物とする
金属の量は１〜６ｇ／ｌとすることが好ましく、より好
ましいのは３〜６ｇ／ｌないしは６ｇ／ｌ前後であるこ
とがわかる。
れらはＩｎ量が互いに異なる例であるが、Ｉｎ量３ｇ／
ｌの実施例１及び６ｇ／ｌの実施例５が最も良い結果を
示しており、これにＩｎ量が最も少ない実施例７（１ｇ
／ｌ）、Ｉｎ量が最も多い実施例６（９ｇ／ｌ）が続い
ている。Ｓｎ量が互いに異なる実施例２，８〜１０でも
同様の傾向を示している。この結果から、硫化物とする
金属の量は１〜６ｇ／ｌとすることが好ましく、より好
ましいのは３〜６ｇ／ｌないしは６ｇ／ｌ前後であるこ
とがわかる。
【００４０】次に表３の実施例１，１１〜１３をみる
と、これらは硫化処理の温度条件が互いに異なる例であ
るが、同温度５００℃の実施例１が最も良い結果を示し
ており、これに６００℃の実施例１１、４００℃の実施
例１３、７００℃の実施例１２が続いている。この結果
から、当該温度は４００〜６００℃が好ましく、より好
ましいのは５００℃前後ないしは５００〜６００℃であ
ることがわかる。
と、これらは硫化処理の温度条件が互いに異なる例であ
るが、同温度５００℃の実施例１が最も良い結果を示し
ており、これに６００℃の実施例１１、４００℃の実施
例１３、７００℃の実施例１２が続いている。この結果
から、当該温度は４００〜６００℃が好ましく、より好
ましいのは５００℃前後ないしは５００〜６００℃であ
ることがわかる。
【００４１】また、実施例１，１４，１５をみると、こ
れらはＳＯ2 濃度が互いに異なる例であるが、同濃度が
１００ｐｐｍの実施例１が最も良い結果を示しており、
これに同濃度が５０ｐｐｍの実施例１４、２００ｐｐｍ
の実施例１５が続いている。この結果から、ＳＯ2 濃度
は５０〜１００ｐｐｍないしは１００ｐｐｍ前後が好ま
しいことがわかる。
れらはＳＯ2 濃度が互いに異なる例であるが、同濃度が
１００ｐｐｍの実施例１が最も良い結果を示しており、
これに同濃度が５０ｐｐｍの実施例１４、２００ｐｐｍ
の実施例１５が続いている。この結果から、ＳＯ2 濃度
は５０〜１００ｐｐｍないしは１００ｐｐｍ前後が好ま
しいことがわかる。
【００４２】さらに、実施例１６をみると、これはＩｎ
のリン化物を担持させた例であるが、そのフレッシュ時
及びエージング後の各ＮＯｘ浄化率は、硫化物を担持さ
せた実施例１と略同程度であり、このことから、リン化
物の担持が硫化物の担持と同様に活性種のシンタリング
防止に効を奏することがわかる。
のリン化物を担持させた例であるが、そのフレッシュ時
及びエージング後の各ＮＯｘ浄化率は、硫化物を担持さ
せた実施例１と略同程度であり、このことから、リン化
物の担持が硫化物の担持と同様に活性種のシンタリング
防止に効を奏することがわかる。
【００４３】（実施例１７〜３０）実施例１と同様の方
法によってＰｔ、Ｉｒ及びＲｈがＺＳＭ−５に担持され
ている触媒粉末を調製した。但し、Ｐｔ：Ｉｒ：Ｒｈ＝
３０：６：１であり、各貴金属活性種の担持量はＰｔ＝
２．８３ｗｔ％、Ｉｒ＝０．５６ｗｔ％、Ｒｈ＝０．１
０ｗｔ％である。そして、これを表４に示すようにＳＯ
2 濃度５０ｐｐｍの雰囲気において３００〜８５０℃の
温度に加熱することによって各量の硫黄を担持させた後
に実施例１と同様のハニカム担体にウォッシュコートす
ることによって実施例１７〜２３の各ハニカム触媒を得
た。また、ＳＯ2 濃度を１００００ｐｐｍとして実施例
１７〜２３と同様の処理を行なうことにより、実施例２
４〜３０の各ハニカム触媒を得た。
法によってＰｔ、Ｉｒ及びＲｈがＺＳＭ−５に担持され
ている触媒粉末を調製した。但し、Ｐｔ：Ｉｒ：Ｒｈ＝
３０：６：１であり、各貴金属活性種の担持量はＰｔ＝
２．８３ｗｔ％、Ｉｒ＝０．５６ｗｔ％、Ｒｈ＝０．１
０ｗｔ％である。そして、これを表４に示すようにＳＯ
2 濃度５０ｐｐｍの雰囲気において３００〜８５０℃の
温度に加熱することによって各量の硫黄を担持させた後
に実施例１と同様のハニカム担体にウォッシュコートす
ることによって実施例１７〜２３の各ハニカム触媒を得
た。また、ＳＯ2 濃度を１００００ｐｐｍとして実施例
１７〜２３と同様の処理を行なうことにより、実施例２
４〜３０の各ハニカム触媒を得た。
【００４４】そうして、各実施例のハニカム触媒に８０
０℃×８時間の大気中熱処理を施した後に、Ａ／Ｆ＝２
２相当のモデルガスを用いて最高ＮＯｘ浄化率を測定し
た。また、同時に比較例（ＳＯ2 濃度零の雰囲気で５０
０℃に加熱）についても同様にして最高ＮＯｘ浄化率を
測定した。これらの結果は表４に示されている。
０℃×８時間の大気中熱処理を施した後に、Ａ／Ｆ＝２
２相当のモデルガスを用いて最高ＮＯｘ浄化率を測定し
た。また、同時に比較例（ＳＯ2 濃度零の雰囲気で５０
０℃に加熱）についても同様にして最高ＮＯｘ浄化率を
測定した。これらの結果は表４に示されている。
【００４５】
【表４】
【００４６】同表によれば、ＳＯ2 濃度５０ｐｐｍ、１
００００ｐｐｍのいずれにおいても比較例よりも最高Ｎ
Ｏｘ浄化率が高くなっており、特に加熱温度４００〜８
００℃のときに、また硫黄量０．２〜０．４ｗｔ％のと
きにその効果が顕著になることがわかる。
００００ｐｐｍのいずれにおいても比較例よりも最高Ｎ
Ｏｘ浄化率が高くなっており、特に加熱温度４００〜８
００℃のときに、また硫黄量０．２〜０．４ｗｔ％のと
きにその効果が顕著になることがわかる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 27/04 ＺＡＢ Ａ 9342−4Ｇ 29/068 ＺＡＢ Ａ 9343−4Ｇ (72)発明者 高見 明秀 広島県安芸郡府中町新地３番１号 マツダ 株式会社内 (72)発明者 京極 誠 広島県安芸郡府中町新地３番１号 マツダ 株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 無機多孔質の母材に、活性種と金属硫化
物若しくは金属リン化物とが分散担持されていることを
特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項２】 請求項１に記載の排気ガス浄化用触媒に
おいて、 上記母材には活性種と金属硫化物とが担持されていて、
該金属硫化物が当該活性種以外の金属の硫化物であるこ
とを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、 上記母材がミクロの細孔を有する結晶質の金属含有シリ
ケートであることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項４】 請求項２または請求項３に記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、 上記活性種が貴金属であり、上記金属硫化物がＩｎ、Ｓ
ｎ、Ｇｅ及びＲｅのうちから選ばれる１種以上の金属の
硫化物であることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項５】 請求項３に記載の排気ガス浄化用触媒に
おいて、 上記活性種が貴金属であり、上記金属硫化物が当該貴金
属の硫化物であることを特徴とする排気ガス浄化用触
媒。 - 【請求項６】 請求項４または請求項５に記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、 上記貴金属がＰｔとＩｒとＲｈとよりなる排気ガス浄化
用触媒。 - 【請求項７】 無機多孔質の母材に活性種を担持させた
後にＩｎ、Ｓｎ、Ｇｅ及びＲｅのうちから選ばれる１種
以上の金属を担持させ、しかる後に当該金属の硫化処理
を行なうことを特徴とする排気ガス浄化用触媒の製造方
法。 - 【請求項８】 請求項７に記載の排気ガス浄化用触媒の
製造方法において、 上記硫化処理が、上記活性種及び金属が担持された母材
をＳＯ2 濃度５０〜２００ｐｐｍの雰囲気中で温度４０
０〜６００℃に加熱することによって行なわれることを
特徴とする排気ガス浄化用触媒の製造方法。 - 【請求項９】 無機多孔質の母材に貴金属活性種を担持
させた後に、この貴金属活性種が担持された母材をＳＯ
2 雰囲気で加熱することによって当該貴金属活性種の一
部を貴金属硫化物に変えることを特徴とする排気ガス浄
化用触媒の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27176293A JP3508180B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-10-29 | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-168817 | 1993-07-08 | ||
| JP16881793 | 1993-07-08 | ||
| JP27176293A JP3508180B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-10-29 | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0768177A true JPH0768177A (ja) | 1995-03-14 |
| JP3508180B2 JP3508180B2 (ja) | 2004-03-22 |
Family
ID=26492364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27176293A Expired - Fee Related JP3508180B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-10-29 | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3508180B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055194A1 (fr) * | 2001-01-11 | 2002-07-18 | Ict Co., Ltd. | Catalyseur destine a la clarification d'oxydes d'azote |
-
1993
- 1993-10-29 JP JP27176293A patent/JP3508180B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055194A1 (fr) * | 2001-01-11 | 2002-07-18 | Ict Co., Ltd. | Catalyseur destine a la clarification d'oxydes d'azote |
| US7160839B2 (en) | 2001-01-11 | 2007-01-09 | Ict Co., Ltd. | Catalyst for purifying nitrogen oxides |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3508180B2 (ja) | 2004-03-22 |
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