JPH0762271B2 - 部分めつき装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、リボン状に連続したリードフレーム等の被め
っき物に対してその一部分にのみ高品位のめっき処理を
施すための部分めっき装置に関する。

〔従来の技術〕

従来においては、例えばリードフレーム等の被めっき物
は銅系・鉄系合金を母材として成形されるため、集積回
路との電気結線部分の信頼性を向上するように、所定の
部分のみにめっき処理を施す部分めっき装置が使用され
ている。例えば第10図に示す様に、フープ状で巻かれた
一連のリボン状のリードフレーム１を連続的にめっき処
理する、いわゆる「リール・トウ・リール（Reel to Re
el）」方式の自動部分めっき装置がある。この装置は、
リードフレーム１を送り出すロード２、それを巻き取る
アンロード3,めっき前に連続的に洗浄等をする前処理装
置4,部分的にめっきを施す部分めっき装置5,めっき後に
連続的に洗浄等をする後処理装置６等から構成されてい
る。この部分めっき装置５では、リードフレーム１の所
定部分にのみにめっきを施すため、リードフレーム１の
送り移動を一旦停止して位置決めし、、押さえ機構７を
用いてマスクを位置合せし、ノズル８からめっき液を噴
射する。このため、部分めっき装置５はリードフレーム
１を連続的に送ることができず間欠的に送ることになる
ため、生産性向上を阻害し、更に前処理装置４と後処理
装置５の間にはリードフレーム１をたるませたダウンス
ロープ部分９を設けることになるため、この部分でのフ
レーム変形も問題となる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は上記の点に鑑みてなされるものであって、被め
っき物に対してその一部分のみに、連続的に、高品位の
めっき処理を施す生産性の高い部分めっき装置の提供を
目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

そこで本発明は、被めっき物の一部にめっきを施すめっ
き装置において、被めっき物のめっき処理形状に対応し
て所定形状の開口穴が形成され、かつ連続送りされる環
状の第１マスク帯と、この第１マスク帯と同期して連続
送りされ、かつ前記第１マスク帯とともに前記被めっき
物を挟み込む環状の第２マスク帯と、複数の小径のパイ
プの集合体よりなり、前記パイプの出口より直接に、前
記第１マスク帯の前記開口穴を介して前記被めっき物に
めっき液を接触させるめっき液噴射用ノズルとを具備し
た部分めっき装置を提供するものである。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本発明の部分めっき装置の要部構成図、第２図
は第１図におけるＡ−Ａ線に沿う断面図とめっき液タン
クを示す構成図である。

この部分めっき装置は、リードフレーム１の送り方向に
送って連続的に送られる環状の第１マスク帯10及び第２
マスク帯11,ケース17内でめっき液を噴射するノズル12
等から主に構成されている。第１マスク帯10は、リード
フレーム１のめっき必要部分に対応して所定形状のスポ
ット穴13が等間隔に設けられ、ローラ14群の回転によっ
てエンドレスに回転駆動される。

また押さえマスクとしての第１マスク帯11は、ローラ14
を同期して回転するローラ15群によってエンドレスに回
転駆動される。第１マスク帯10,第２マスク帯11はリー
ドフレーム１の送り方向に沿って、その上側，下側に各
々２本づつ設けられるガイドプレート16によって（第２
図参照）ガイドされて、リードフレーム１を確実に挟み
込み、スポット穴13以外にはめっき液が付着しないよう
にシールする。尚、第１マスク帯10及び第２マスク帯11
は、その幅がリードフレーム１よりも広くなっていると
ともに、シリコンゴム，ネオプレンゴム等のシール性の
高い材質から構成されている。またマスク帯10,11は、
リードフレーム１を挟み込む側のみのシール性を高める
ために、環状のベルトを基材としてその片側に前記シー
ル性の高い材料を付着するものであってもよい。この
時、基材としてポリアミド繊維，ナイロン繊維等、その
延びを少なくすることができる材料を用いればよい。

ケース17内には、第２マスク帯10の下側に沿って複数の
ノズル12が相互に隣接するように、連続的に密に配置さ
れている。

各ノズル12は、めっき液の満たされるタンク50からポン
プ51によってめっき液が供給される。またノズル12より
噴出されるめっき液のうち、リードフレーム１に付着し
なかっためっき液は、回収液としてタンク50に回収され
る。ここでタンク50には、真空ポンプ52と連通する減圧
槽50aが設けられている。この減圧槽50aを用いることに
よって、めっき回収液とともに混入しためっき液中の気
泡を減少することができるので、ピンポールのない均一
なめっき処理が可能となる。尚、従来は減圧槽50aがな
いタンクを用いているため、回収液とともに混入しため
っき液中の多数の気泡が、めっき液とともにノズル12か
ら噴出されるため、リードフレームにはピンポールの多
いめっきが施されるという問題を有していた。

次に、上述の構成に基づいてその作動を説明する。

リードフレーム１のめっき必要部分に第１マスク帯10の
スポット穴13を対応させながら、第１マスク帯10と第２
マスク帯11によってリードフレーム１を連続的に挟み込
み、めっきケース17内に連続的に移動させる。このとき
リードフレーム１の搬送スピードと、第１マスク帯10及
び第２マスク帯11の回転スピードは一致している。そし
てガイドプレート16とマスク帯10,11によって上下方向
から確実にシールされたリードフレーム１はノズル12の
上方を連続的に通過して、第２マスク帯11のスポット穴
13を介して必要部分のみにめっき液が吹き付けられる。
ここで複数のノズル12は、いずれも連続的に、かつ高速
度でめっき液を噴射し、ノズル12の近傍に設けられたア
ノード18とリードフレーム１との間に電流を流すことに
より、リードフレーム１の必要部分のみにめっきが析出
する。尚、めっき厚さは、この電流値とリードフレーム
１のケース17内滞留時間（＝搬送方向に並んだ複数のめ
っきノズル12の全長l/搬送スピード）によって決定され
る。

以上述べた様に、リードフレームの部分めっきを施すに
際して、マスクを環状の帯としてエンドレスに移動する
ことによって、連続的に送りながら部分めっきが可能と
なる。従って、従来の様な間欠送りのものと比較する
と、その生産性が向上する、またダウンスロープを設け
る必要がないので、ダウンスロープでのフレーム変形を
防止することができる。また、リードフレームの搬送ス
ピードを調整することによって容易にめっき厚さを調整
することもできる。

また、上述実施例において、リードフレーム１に第３図
に示す様な等間隔のガイドホール1aを形成するととも
に、第４図に示す様に第１マスク帯10にそのホール1aと
対応したセットピン19を等間隔に設けることによって、
第１マスク帯10とリードフレーム１との搬送中の位置ず
れが防止され、高精度の位置決め可能となる。尚、この
とき第２マスク帯11にも、上記セットピン19と対応した
セットホールが設けられている。またセットピン19は円
錐形状のピンが好ましい。

また、多種類のリードフレーム１の形状、又は多種類の
めっき必要部分の形状に対応するため、第５図に示す様
に、種々の形状のスポット穴13,13′,13″が設けられる
第１マスク帯10,10′,10″を各々ローラ14で駆動しても
よい。第５図のローラ14は、ローラ15より幅が広く、複
数の第１マスク帯10,10′,10″を同時に回転駆動し、そ
の軸方向に移動可能に支持されている。そしてリードフ
レーム１の種類を変更する時、ローラ14等をその軸方向
へ移動し、リードフレーム１のめっき必要部分形状に対
応した第１マスク帯を選択して容易にセットすることが
できる。よって多品種への対応が迅速となる。尚、同一
形状のスポット穴13を持つ第１マスク帯10を第２マスク
帯11とともに複数本同時に駆動すると、１つのケース17
内で同一形状のリードフレーム１を同時に複数本めっき
処理することも可能である。

またノズル12としては、第６図に示した様な従来から一
般に利用されている円筒状ノズルを用いてもよいが、第
６図に示すノズル12は、めっき液の噴射流速が均一に分
布していないため、めっき厚みの均一なものが得られに
くい形状であった。

つまり、円筒状ノズル12の内周壁付近の流速は、内壁と
の流体摩擦損失によって 小さいのに対して、円筒状ノ
ズル12の中央部分の流速は大きいので、第６図の矢印に
示す様な不均一の流速分布となる。また第７図に示す様
に、リードフレーム（１）で最もめっき処理が必要とさ
れるインナーリード部1aの付近でめっき液の流速が低
く、集積回路を搭載するアイランド部1bでめっき液の流
速が高くなってしまう。

そこで第８図に示す様に、小径の円筒パイプ22を多数集
めて束にして円柱状の外形に構成すると均一な流速分布
が得られる。一本一本のパイプ22は、前記ノズル12と同
様な不均一な流速分布をもつが、多数集めることによっ
て全体として均一な流速分布が得られることとなり、め
っき厚みが均一となり、薄膜化が達成できる。ここで小
径のパイプ22の直径は、ノズル12として必要なノズル開
口の直径の約５分の１〜20分の１に設定されている。

更に、第７図に示したインナーリード部1aの先端を囲む
範囲（abcdによって囲まれる領域）内を均一にめっき処
理し、しかもインナーリード部1aへめっき液を選択的に
安定供給するために、リードフレーム（１）のインナー
リード部1aを囲む形状と同様な形状、すなわち第９図に
示す様に四角柱の母線に沿うように小径の円筒パイプ22
を配置するとよい。尚、第９図中１点鎖線に囲まれた領
域は、めっき液が噴射される領域を示す。

本発明は上記実施例のようにリードフレームとしてリボ
ン状の形状に限定されず、周知の短冊状等種々の形状が
考えられることは言うまでもない。また、被めっき物と
してもリードフレームに限定されないことは勿論であ
る。

〔発明の効果〕

以上述べた様に、リボン状の被めっき物に部分めっきを
施すに際して、マスクを環状の帯としてエンドレスに回
転移動することによって、被めっき物を連続的に搬送し
ながら、部分めっきをすることが可能となる。従って、
従来の様な間欠送りの部分めっき装置と比較すると、そ
の生産性が向上するし、ダウンスローブを設ける必要が
ないので、ダウンスロープでの被めっき物の変形を防止
することもできるという優れた効果を発揮する。さら
に、本願発明においては、複数の小径のパイプの集合体
よりなり、前記パイプの出口より直接、第１マスク帯の
前記開口穴を介して被めっき物にめっき液を接触させる
めっき液噴射用ノズルとしたので、流速分布の均一なめ
っき液を被めっき液に接触させることができる。そのた
め、被めっき物に均一な厚さのめっきという高品位を有
するめっきを施すことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の部分めっき装置の一実施例を示す要部
構成図、第２図は、第１図におけるＡ−Ａ線に沿う部分
断面とめっき液タンクを示す構成図、第３図はリードフ
レームを示す正面図、第４図は本発明の他の実施例を示
す要部構成図、第５図は本発明の他の実施例を示す部分
斜視図、第６図は一般に用いられるノズルを示す斜視
図、第７図はリードフレームの一部を示す部分正面図、
第８図，第９図は各々改良されたノズルの斜視図、第10
図は従来の部分めっき装置全体を示す構成図である。 １……リードフレーム,10……第１マスク帯,11……第２
マスク帯,12……ノズル,13……スポット穴,14,15……ロ
ーラ,16……ガイドレール,22……パイプ,50……タンク,
50a……減圧槽。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被めっき物の一部にめっきを施すめっき装
   置において、 被めっき物のめっき処理形状に対応して所定形状の開口
   穴が形成され、かつ連続送りされる環状の第１マスク帯
   と、この第１マスク帯と同期して連続送りされ、かつ前
   記第１マスク帯とともに前記被めっき物を挟み込む環状
   の第２マスク帯と、複数の小径のパイプの集合体よりな
   り、前記パイプの出口より直接、前記第１マスク帯の前
   記開口穴を介して前記被めっき物にめっき液を接触させ
   るめっき液噴射用ノズルとを具備したことを特徴とする
   部分めっき装置。
2. 【請求項２】前記小径のパイプの直径は、前記ノズルの
   直径の約５分の１〜20分の１であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の部分めっき装置。
3. 【請求項３】前記ノズルは、複数の小径のパイプが円柱
   状の集合体に構成されていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の部分めっき装置。
4. 【請求項４】前記被めっき物はリードフレームであり、
   前記ノズルは多数の小径のパイプが前記開口穴に対応す
   るように配置されていることを特徴とする特許請求の範
   囲１項に記載の部分めっき装置。
5. 【請求項５】前記被めっき物はリードフレームであり、
   前記ノズルは、前記リードフレームの送り方向に沿って
   各々が隣接するように連続的に配列されていることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の部分めっき装置。
6. 【請求項６】前記めっき噴射用ノズルには、めっき液を
   供給するタンクと、該タンク内の気泡を抜くための気泡
   抜き用減圧手段とが設けられていることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の部分めっき装置。