JPS62127475A - 帯状処理物の部分めつき装置 - Google Patents

帯状処理物の部分めつき装置

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JPS62127475A
JPS62127475A JP26562585A JP26562585A JPS62127475A JP S62127475 A JPS62127475 A JP S62127475A JP 26562585 A JP26562585 A JP 26562585A JP 26562585 A JP26562585 A JP 26562585A JP S62127475 A JPS62127475 A JP S62127475A
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JP
Japan
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plating
masking member
shaped
treating material
nozzles
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Application number
JP26562585A
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English (en)
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JPH0535226B2 (ja
Inventor
Atsuhiko Sato
敦彦 佐藤
Satoshi Miki
敏 三木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
Original Assignee
Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
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Publication date
Application filed by Uemera Kogyo Co Ltd, C Uyemura and Co Ltd filed Critical Uemera Kogyo Co Ltd
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Publication of JPS62127475A publication Critical patent/JPS62127475A/ja
Publication of JPH0535226B2 publication Critical patent/JPH0535226B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/022Electroplating of selected surface areas using masking means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明のムT IIな説明 (産業上の利用分野) 本発明は帯状板(フープ月)に部分的にめっきを施寸た
めのめつき装置に関する。
(従来の技術) 従来、帯状枚用の部分めっき装置では、処理物(??)
抗板)をある一定の長さにわたって挾持するマスキング
部材が設けてあり、該部材で挟持した状態でめっきを施
1ようになっている。従ってめっき装置の内部及びその
近傍では、めっき処理中(マスキング部材による挟持動
作中)、処理物は停止しており、処理が完了すると、装
置から処理物が引出され、V&続の処理物(新たな部分
)がめっ、ぎ装置に送込まれるようになっている。すな
わち、めっき処理装置を設置した区間では処理物が間欠
的に搬送される。
一方、めっき装置よりも上手側及び下手側においては、
処理物を連続的に搬送するようになっている。そのため
にめっき装置のrti侵両側には、複数のローラーを有
するアキュムレータが設置してあり、各アキュムレータ
においてローラーの間隔(処理物の取込み猷)を代える
ことにより、処理物にたるみや異常な引張りが生じない
ようになっている。
(発明が解決しようとする問題点) ところが上述の如く、従来の装′t1−cは、処理物を
間欠的に搬送しながらめっき処理を行うので、処理能率
が低いという問題や、めっき品質を充分に高めることが
できないという問題がある。又アキュムレータが必要で
あるので、装置全体の構造が複雑になり、価格も高くな
るという問題もある。
(問題点を解決するための手段) 上記問題を解決するために、本発明は、めっき液が通過
する多数の開口部と98理物に密着する密着部とを有す
るループ状のマスキング部材と、マスキング部材を駆動
して処理物と共にめっき処理区間を通過させる駆動機構
と、概ねマスキング部材に沿って設けられるループ状の
ノズル保持機構と、ノズル保持機構をマスキング部材と
共に移動させる駆動機構と、ノズル保持機構に保持され
た状態で上記開口部に向かって開口する多数のめっき液
噴射ノズルとを設けたことを特徴としている。
(作用) 上記構成によると、処理物と共にマスキング部材やノズ
ルはめっき装置内を連続的に移動し、その移動の間に、
マスキング部材が処理物に密着した状態で、ノズルから
処理物にめっき液が噴射される。従って処理物が停止す
ること番よなく、連続的にめっき処理が行われる。
(実施例) 一部切欠き側面略図である第1図において、帯板状の処
理物Mは、そのめっき処理能mを水平かつ下向きにした
姿勢で、めっき[1内を水平方向かつ連続的に通過する
ようになっている。図示されていないが、めっき装置1
の上手側及び下手側にはローラー等から成る処理物搬送
機構が設けである。
めっき装置1は、処理物Mの下側にマスキング機構2と
ノズル保持機構3を備え、上側に押え機構4を備えてい
る。マスキング機構2は駆動プーリー機構5とマスキン
グ部材6を備えている。プーリー機構5は前後方向く処
理物Mの搬送方向)に間隔を隔てた1対のプーリーを備
えている。マスキング部材6は帯状かつループ状(無端
ベルト状)の部材で、上記プーリーに掛渡されており、
上側の水平な部分は処理物Mの処理能mに接触している
。プーリー機構5はマスキング部材6を処理物Mと同一
速度で駆動するようになっている。
ノズル保持機lll3は駆動プーリー機構10とホルダ
ー11を備えている。プーリー機構10は上記プーリー
機構5の近傍に位!1iする1対のプーリーを備えてい
る。ホルダー11はループ状の部材で、マスキング部4
46の内側においてプーリー機構10のプーリーに掛渡
されている。プーリー機m 10はプーリー12をマス
キング部材6と概ねIr’ilじ速度で駆動するように
なっている。
ホルダー11には多数のノズル15が保持されている。
各ノズル15は良い柔軟なホース16(一部のみ図示)
を介してめっき液供給機構17に接続している。めっき
液供給機構17はホース16が接Gする環状の回転ドラ
ム18と、ドラム18の内周が嵌合する円筒状の静止ド
ラム19とを備えている。ドラム19は内部に概ね水平
な隔壁20を備え、ドラム19の内部には隔壁20を境
にして上側にめっき液室21が形成され、下側に洗浄氷
室22が形成されている。めっき液室21と洗浄水室2
2にはそれぞれ外部からめっき液供給通路23及び洗浄
水供給24が接続している。
ドラム18には各ホース16と室21.22をつなぐ接
続通路が例えば放射状に設けてあり、隔壁20よりも上
側に位ILIjるノズル15にはめつき液室21から上
記接続通路、ホース16を経てめっき液が供給され、隔
壁20よりも下側に位置するノズル15には洗浄氷室2
2から上記接続通路、ホース16を経て洗浄水が供給さ
れるようになっている。すなわちホルダー11の移動に
ともなってノズル15が処理物M側に移動してくると、
ノズル15からめっき液が噴出し、処理物Mから離れた
位置をノズル15が移動する間に、ノズル15から洗浄
水が噴出する。
押えIitM4は処理物Mの送り方向に間隔を隔てて配
置した1対のプーリー30と、プーリー30にI)渡さ
れるループ状の押え部材に31とを備えている。押え部
材31は、マスキング部材6が51!lTg!物Mに接
触η゛る区間くめつき処理区間)において、処理物Mの
上1□、jに接触して処理物Mをマスキング部材6に押
f=Jけている。又その処理区間において、押え部材3
1は処理物Mやマスキング部材6と共に移動するように
なっている。史に押え機構4には、上記区間において、
押え部材31の上面を活動自在に支える根状の押えガイ
ド32が静止状態て゛取付けである。
第1図の拡大部分図である第2図において、前記マスキ
ング部材6は多数の開口部35を備えており、マスキン
グ部材6外面の開口部35以外の部分には、処理面m1
.:密査ザるシール36が設けである。従ってノズル1
5から噴出しためっき液iま開口部3bを通って処理面
mに付着し、51!1即向mの開口FJ535に而した
部分だけにめっきが施される。又めつき処理中に開口部
35の縁等に付着しためつぎ液は、マスキング部材6が
そのループ状軌跡の下、!1″部を移vJyる間に、前
述の如くノズル15から噴出する洗浄水により除去され
る。
(発明の効果) 以上説明したように本発明によると、マスキング部材(
5を処理1カMと共に移動さuながら処理面mに接触さ
せ、ぞの間にノズル15)からのめつき液ににつめっき
ffi J’llを11うようにしたので・、めっき処
理を連続的に行うことができる。従っ−(処理効率を高
めることができるとともに、各めっき部分の処理条件を
均一にし、めっき品質を高めることができる。又従来の
ように間欠的に処理を11つ場合のアキュムレータが不
要となるので、全体構造の筒中化及びコスト低減を図る
ことができる。
史に図示の実施例の如く、Llす転及び静止ドラム1B
、19を利用してノズル1bを洗浄水ノズルにも利用す
るように構成すると、洗浄効率を高めるとともに、洗浄
装置の構造をb命中化できる。
【図面の簡単な説明】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. めっき液が通過する多数の開口部と処理物に密着する密
    着部とを有するループ状のマスキング部材と、マスキン
    グ部材を駆動して処理物と共にめっき処理区間を通過さ
    せる駆動機構と、概ねマスキング部材に沿って設けられ
    るループ状のノズル保持機構と、ノズル保持機構をマス
    キング部材と共に移動させる駆動機構と、ノズル保持機
    構に保持された状態で上記開口部に向かって開口する多
    数のめっき液噴射ノズルとを設けたことを特徴とする帯
    状処理物の部分めっき装置。
JP26562585A 1985-11-26 1985-11-26 帯状処理物の部分めつき装置 Granted JPS62127475A (ja)

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JP26562585A JPS62127475A (ja) 1985-11-26 1985-11-26 帯状処理物の部分めつき装置

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JPS62127475A true JPS62127475A (ja) 1987-06-09
JPH0535226B2 JPH0535226B2 (ja) 1993-05-26

Family

ID=17419729

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012087367A (ja) * 2010-10-20 2012-05-10 Mitomo Semicon Engineering Kk 連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49108816U (ja) * 1973-01-05 1974-09-18
JPS527820U (ja) * 1975-07-02 1977-01-20

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS527820B2 (ja) * 1972-09-12 1977-03-04

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JP2012087367A (ja) * 2010-10-20 2012-05-10 Mitomo Semicon Engineering Kk 連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法

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