JPH0755336A - 乾燥装置 - Google Patents

乾燥装置

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JPH0755336A
JPH0755336A JP22215393A JP22215393A JPH0755336A JP H0755336 A JPH0755336 A JP H0755336A JP 22215393 A JP22215393 A JP 22215393A JP 22215393 A JP22215393 A JP 22215393A JP H0755336 A JPH0755336 A JP H0755336A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸気乾燥に使用される溶剤のランニングコス
トの低減を図ると共に、溶剤の希釈化防止及び溶剤の再
利用を図れるようにした乾燥装置を提供する。 【構成】 被乾燥体Aを収容する乾燥室1の下部に、溶
剤槽5と、この溶剤槽5内の溶剤を加熱するヒーター6
とからなる蒸気発生部2を設ける。乾燥室1と蒸気発生
部2との連通部に冷却管7を配設し、この冷却管7に切
換バルブ9a,9bを介して冷却水供給源10と空気供
給源11を接続して、冷却管7内に冷却水又は空気を選
択的に供給可能にする。これにより、冷却管7内に冷却
水を供給することによって溶剤蒸気を凝結して蒸気発生
部2に戻すことができ、また、冷却管7内に空気を供給
することによって蒸気発生部2から生成される溶剤蒸気
を乾燥室1内に供給することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、被乾燥体の付着水を
気化潜熱の少ない有機溶剤の蒸気と置換し、付着水を除
去する蒸気乾燥装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体の製造工程においては、
ウエハ等の被処理体は勿論、ウエハに適宜処理を施す処
理装置や搬送装置等への塵埃や薬品等の付着を除去する
ことが最大の要因となっている。そのため、クリーンル
ーム内に清浄化された装置や機器類を設置してウエハの
処理を行っている。そこで、クリーンルーム内に設置さ
れる装置等の部品を薬品や純水によって洗浄した後、乾
燥によって部品に付着した水を含む残留化学薬品を除去
する必要がある。
【0003】従来の乾燥装置の1つとして、被乾燥体を
収容する乾燥室の下方に配置される蒸気発生部にて有機
溶剤例えばイソプロピルアルコール(IPA)を加熱し
て溶剤蒸気を生成し、その蒸気を乾燥室内に供給するこ
とにより、被乾燥体の付着水を気化潜熱の少ない有機溶
剤と置換した後、IPAの蒸気で加熱して乾燥する乾燥
装置が知られている。この乾燥装置によれば、IPAは
水との溶解性に優れているため、短時間に乾燥処理する
ことができるという利点がある。しかし、IPAは沸点
82.4℃に対して引火点が10〜21℃と極めて低い
ため、引火による火災の発生の危険性がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、蒸気乾燥装置
において引火性のない化学薬品の代替として過フッ素化
した引火反応抑制物質であるパーフロロカーボン(PF
C)と水溶性のアルコールであるトリフルオロエタノー
ル(TFE)とからなる混合溶剤が使用されている。こ
の混合溶剤によれば、PFCとTFEの混合液の沸点4
5〜69℃に対してTFEの引火点が75℃とたかいた
めに安全性に優れている。
【0005】また、IPAに比較して沸点が低いために
スループットが高くなる他、乾燥能力も優れているとい
う性能報告が提出されている。
【0006】しかしながら、この種の蒸気乾燥装置にお
いては、蒸気発生部がPFCとTFEを混合した溶剤を
収容する皿の下部にヒーターを取付けて、ヒーターの加
熱により溶剤を蒸気にして乾燥室内に供給する構造であ
るため、必要以上に溶剤蒸気が乾燥室内に流れ込んでし
まい、高価な溶剤を無駄にするという問題があった。ま
た、乾燥処理前に洗浄処理される被乾燥体に付着する水
や薬液等が被乾燥体から滴となって蒸気発生部内に落下
して溶剤内に混入するため、溶剤の濃度が希釈されてし
まい、蒸気乾燥効果の低下を招くという問題があった。
【0007】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、溶剤蒸気を必要に応じて乾燥室内に供給可能にして
ランニングコストの低減を図り、かつ溶剤の希釈化を防
止し、更に置換処理後の希釈溶液の再利用を図れるよう
にした乾燥装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にこの発明の第1の乾燥装置は、被乾燥体を収容する乾
燥室と、蒸気発生部とを具備し、上記被乾燥体の付着水
を気化潜熱の少ない有機溶剤の蒸気と置換し、付着水を
除去する蒸気乾燥装置を前提とし、上記乾燥室と蒸気発
生部との連通部に冷却管を配設し、上記冷却管に切換手
段を介して冷却媒体供給源と気体供給源を接続して、冷
却管内に冷却媒体又は気体を選択的に供給可能にするこ
とを特徴とするものである。
【0009】この発明において、上記冷却媒体は冷却管
内に供給されて冷却管を冷却すると共に、蒸気発生部か
ら生成される蒸気を凝結するものであれば液体あるいは
気体のいずれであってもよく、例えば冷却水を使用する
ことができる。
【0010】上記冷却管内に冷却媒体と選択的に供給さ
れる気体は、冷却管内に残存する冷却媒体を除去するも
のであれば、任意のものでよく、例えば高圧空気を使用
することができる。
【0011】また、この発明の第2の乾燥装置は、被乾
燥体を収容する乾燥室と、この乾燥室の下方に位置する
蒸気発生部とを具備し、上記被乾燥体の付着水を気化潜
熱の少ない有機溶剤の蒸気と置換し、付着水を除去する
蒸気乾燥装置を前提とし、上記乾燥室の下部に、傾斜案
内加納能な受皿を配設すると共に、この受皿を傾斜切換
手段により傾斜向きを選択可能に形成し、上記受皿の傾
斜側の一端部に回収タンクを配管接続することにより受
皿で受けた置換処理後の希釈溶液を回収タンクに流すこ
とを特徴とするものである。
【0012】この発明において、上記回収タンクに、溶
剤と水とを分離する再生手段の入力口に配管接続すると
共に、再生手段と蒸気発生部とを循環ポンプを介して配
管接続することを特徴とするものである。
【0013】
【作用】上記のように構成されるこの発明の乾燥装置に
よれば、乾燥室と蒸気発生部との連通部に配設される冷
却管に、切換手段を介して冷却媒体供給源と気体供給源
を接続して、冷却管内に冷却媒体又は気体を選択的に供
給可能に形成することにより、冷却管内に冷却媒体を導
入して冷却管を冷却すると共に、蒸気発生部から生成さ
れる溶剤蒸気を凝結することができ、凝結された溶剤を
蒸気発生部内に戻すことができる。また、冷却管内に気
体を強制導入することにより、冷却管内に残存する冷却
媒体を除去して、蒸気発生部から生成された溶剤蒸気を
乾燥室内に供給するため、適時有効に乾燥室内に収容さ
れた被乾燥体の付着水を除去することができる。
【0014】また、乾燥室の下部に、傾斜変位可能な受
皿を配設すると共に、この受皿を傾斜切換手段により傾
斜向きを選択可能に形成すると共に、受皿の傾斜方向の
一端部を回収タンクに配管接続することにより、傾斜切
換手段によって受皿の回収タンク接続側を下方側に傾斜
させることができ、この状態において、被乾燥体に付着
する水や薬液等により希釈された溶剤を受皿にて受け止
めた後、回収タンク内に回収することができる。したが
って、被乾燥体に付着する水等によって蒸気発生部内の
溶剤が希釈されるのを防止することができる。また、傾
斜切換手段によって受皿の傾斜向きを変えることにより
乾燥に供された溶剤を受皿にて受け止めた後、蒸気発生
部内に戻すことができる。
【0015】更に、回収タンクに、溶剤と水とを分離す
る再生手段の入力口に配管接続すると共に、再生手段の
出力口と蒸気発生部とを循環ポンプを介して接続するこ
とにより、回収タンク内に回収された溶剤と水の混合液
から溶剤と水とを分離した後、溶剤を再度蒸気発生部内
に循環供給することができる。
【0016】
【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、乾燥装置を、例えば半導体製造
装置のケーシングや部品等の比較的大型の被乾燥体の乾
燥装置に適用した場合について説明する。
【0017】この発明の乾燥装置は、図1に示すよう
に、被乾燥体Aを収容する上端が開口する乾燥室1と、
この乾燥室1の下方に位置する蒸気発生部2とで主要部
が構成されている。この場合、乾燥室1の上端開口部に
は、乾燥室1内の溶剤蒸気の上方への発散を防止する発
散防止用冷却管3が蛇行状に配設されており、この発散
防止用冷却管4の上部側には被乾燥体Aに向って乾燥空
気を噴射する噴射ノズル4が取付けられている。また、
蒸気発生部2は、過フッ素化した引火反応抑制物質であ
るパーフロロカーボン(PFC)と水溶性のアルコール
であるトリフルオロエタノール(TFE)とからなる混
合溶剤を収容する溶剤槽5と、この溶剤槽5の下面に配
置されるヒーター6とで構成されている。
【0018】上記のように構成される乾燥室1と蒸気発
生部2との連通部には、冷却管7が蛇行状に配設されて
おり、この冷却管7には三方ソレノイドバルブ8及び切
換手段である切換バルブ9a,9bを介して冷却水供給
源10と空気供給源11が接続されている。このように
構成することによって、三方ソレノイドバルブ8を開放
した状態で、切換バルブ9aを接続側へ切り換えると、
冷却水供給源10から冷却管7内に冷却水が導入され、
また、切換バルブ9aを閉鎖位置に切り換えて切換バル
ブ9bを接続側に切り換えると、空気供給源11から冷
却管7内に空気が導入される。
【0019】また、冷却管7の上方位置には受皿12が
垂直方向に傾斜変位可能に配設されている。この受皿1
2は、図3に示すように、矩形板12aの3辺に起立壁
12bを設けた形状となっており、対向する起立壁12
bの中間部に突設される枢支軸13を支点として傾斜変
位可能に形成され、傾斜側の一端部に連通口14が設け
られ、この連通口14にフレキシブルチューブ15を介
して回収タンク16が接続されている。そして、枢支軸
13に連結される案内ロッド17を介して傾斜切換用の
シリンダ18のピストンロッド19が連接されて、ピス
トン20によって区画される室21,22内に連通する
給・排気口23,24を介して給気又は排気を行うこと
によってピストンロッド19が伸縮移動することによ
り、受皿12が図1において左右方向に傾斜することが
できるようになっている。なお、シリンダ18の給・排
気口23,24への空気の給排は図示しない切換バルブ
の操作によって行うことができ、切換バルブの切換操作
は例えばタイマーによって行うことができる。
【0020】一方、上記回収タンク16にはポンプ25
を介して再生装置26が接続されている。この再生装置
26は、回収された混合液から溶剤と水とを分離するも
ので、回収タンク16から送られる混合液を収容するタ
ンク27と、混合液中から水を分離排出するボイラー2
8と、分離された溶媒すなわちPFCとTFEをそれぞ
れ収容するPFC槽29及びTFE槽30とで構成され
ている。そして、再生装置26のPFC槽29とTFE
槽30には循環ポンプ31を介設する循環管路32を介
して蒸気発生部2の溶剤槽5が接続されている。この場
合、循環ポンプ31は溶剤槽5に取付けられた例えば液
面センサー33からの信号によって駆動し得るようにな
っている。
【0021】上記のように構成されるこの発明の乾燥装
置において、シリンダ18の駆動によって受皿12の連
通口側が下方に位置するように傾斜された状態で、乾燥
室1内に被乾燥体Aが搬入されると、被乾燥体Aに付着
する水や薬液が滴となって受皿12上に落下した後、連
通口14、フレキシブルチューブ15を介して回収タン
ク16内に回収される。なおこの際、冷却管7内に冷却
水が供給されて蒸気発生部2から生成された溶剤蒸気は
凝結されて蒸気発生部2の溶剤槽5内に戻される。そし
て、所定時間が経過した後、タイマーによってシリンダ
18が駆動して受皿12が反対方向に傾斜すると同時
に、冷却管7内に空気が供給されると、蒸気発生部2か
ら生成された溶剤蒸気が乾燥室1内に供給されて被乾燥
体Aの付着水と置換した後、蒸発して被乾燥体Aを乾燥
する。
【0022】一方、回収タンク16内に回収された混合
液は再生装置26のタンク27内に一旦移された後、ボ
イラー28によって溶媒すなわちPFC及びTFEと水
とに分離されて溶媒はPFC槽29とTFE槽30内に
貯留される。そして、蒸気発生部2の溶剤槽5内の溶剤
量が所定量より低下すると、液面センサー33が作動し
て循環ポンプ31が駆動し、PFC槽29及びTFE槽
30内のPFC及びTFEは蒸気発生部2の溶剤槽5に
供給されて再利用される。
【0023】次に、この発明の乾燥装置を組込んだ洗浄
・乾燥処理装置について、図2、図4ないし図6を参照
して説明する。
【0024】洗浄・乾燥処理装置は、未処理のワークを
搬入して待機するローダ部40と、ローダ部40から搬
入されたワークを薬液にて洗浄する第1洗浄槽41と、
第1洗浄槽41にて洗浄されたワークに付着した薬液を
純水にて除去する第2洗浄槽42と、第2洗浄槽42で
洗浄されたワークを純水にてすすぎ洗浄する第3洗浄槽
43と、第3洗浄槽43にて洗浄されたワーク(被乾燥
体)を乾燥するこの発明の乾燥装置44と、乾燥装置4
4にて乾燥されたワークを搬出するアンローダ部45
と、ワークをローダ部40から順次第1ないし第3洗浄
槽43及び乾燥装置44を介してアンローダ部45へ搬
送する搬送手段46とで構成されている。
【0025】この場合、第1洗浄槽41には、例えばF
RS−2,3,4等のアルカリ性溶剤が収容されてお
り、この溶剤が底部に配置された超音波振動子47によ
る微細振動によって生成される微細気泡を伴ってワーク
に付着した塵埃や汚れ等を除去する。また、第1洗浄槽
41の上部と下部に接続される循環路48に、サブタン
ク49、循環ポンプ50、フィルタ51、油分離器52
及びバルブ53が介設されて、第1洗浄槽41内の溶剤
を循環供給し得るようになっている。第2洗浄槽42に
は第3洗浄槽43からオーバーフローした純水が収容さ
れ、この純水を底部に配置された超音波振動子54によ
って生成された微細気泡を伴って第1洗浄槽41で洗浄
されたワークに付着した溶剤を除去する。第2洗浄槽4
2で洗浄されたワークは、搬送手段46によって第2洗
浄槽42から引上げられた後、第3洗浄槽43内に挿入
されて、純水装置55から第3洗浄槽43内に供給され
る純水によってすすぎ洗浄され、第2洗浄槽42で洗浄
されたワークの洗浄むらが完全に除去される。なお、第
2洗浄槽42と第3洗浄槽43には循環路56が接続さ
れており、この循環路56に、サブタンク57、循環ポ
ンプ58、フィルタ59、油分離器60、バルブ61及
び純水装置55が介設されている。
【0026】一方、搬送手段46は、直列に配列された
上記ローダ部40、第1ないし第3洗浄槽41〜43、
乾燥装置44及びアンローダ部45の上方位置に配設さ
れる一対のガイドレール62と、このガイドレール62
上を走行可能な走行タイヤ63を駆動してガイドレール
62に沿う方向(X方向)に走行させる走行モータ64
を搭載する走行台65と、この走行台65に取付けられ
る昇降モータ66と、昇降モータ66の駆動軸に装着さ
れるプーリ(図示せず)に巻回されるチェーン67の先
端に繋着されて上下方向(Z方向)に移動するワーク係
止用フック68を有する吊持部材69と、この吊持部材
69と走行台65との間に介在される複数の矩形筒状体
70にて形成される伸縮可能な防塵用のスライドカバー
71とで構成されている(図5及び図6参照)。このよ
うに構成される搬送手段46は、走行モータ64の駆動
によって例えば第1洗浄槽41上に移動して停止した状
態で、昇降モータ66の駆動によってチェーン67が巻
き取り、巻き戻しされることによってび吊持部材69が
昇降してワークを第1洗浄槽41内へ搬入するか、第1
洗浄槽41からワークを搬出することができるようにな
っている。
【0027】次に、洗浄・乾燥処理装置の動作態様につ
いて説明する。まず、ローダ部40に搬入された未処理
のワークは、ローダ部40上に位置する搬送手段46の
走行台65から下降する吊持部材69のフック68にて
吊持された状態で第1洗浄槽41に搬入される。そし
て、第1洗浄槽41において超音波振動子47による微
細気泡を伴う薬剤によって洗浄された後、搬送手段46
の昇降モータ66が駆動してチェーン67を巻き上げ
て、ワークを第1洗浄槽41上に引き上げた後、走行モ
ータ64の駆動によってワークを第2洗浄槽42上に搬
送し、上述と同様にワークを下降して第2洗浄槽42内
にワークを位置した状態で、純水によってワークに付着
した薬剤を除去する。以下同様に搬送手段46によって
ワークは搬送及び昇降されて第3洗浄槽43に搬送され
て、第3洗浄槽43にて純水装置55から供給される純
水によってすすぎ洗浄された後、乾燥装置44の乾燥室
1内に搬入される。乾燥装置44にワーク(被乾燥体)
が搬入されると、上述したように、シリンダ18が作動
して受皿12の連通口側が下方に位置するように傾斜す
るので、被乾燥体Aに付着する水が滴となって受皿12
上に落下した後、連通口14、フレキシブルチューブ1
5を介して回収タンク16内に回収される。そして、所
定時間が経過した後、タイマーによってシリンダ18が
駆動して受皿12が反対方向に傾斜すると同時に、冷却
管7内に空気が供給されると、蒸気発生部2から生成さ
れた溶剤蒸気が乾燥室1内に供給されて被乾燥体Aの付
着水と置換した後、蒸発して被乾燥体Aの乾燥が行われ
る。乾燥が終了したワークはアンローダ部45に搬送さ
れた後、搬出される。
【0028】なお、上記実施例では、搬送手段46が第
1ないし第3洗浄槽41〜43及び乾燥装置44の上方
に配列された一対のガイドレール62上を走行する走行
台65に取付けられる吊持部材69によって吊持する門
型形式の場合について説明したが、被乾燥体が重量物で
ない場合には、図7に示すような片持ち形式の搬送手段
46を使用することができる。すなわち、ローダ部4
0、第1ないし第3洗浄槽41〜43、乾燥装置44及
びアンローダ部45の側方に配列されるガイドレール6
2に沿って走行可能な走行ブロック72に垂直方向に延
びる垂直ガイド73を設けると共に、この垂直ガイド7
3に沿って垂直移動可能な水平吊持板74を図示しない
垂直移動用モータにて移動可能に形成し、水平吊持板7
4の下面に装着されたフック68によって被乾燥体を吊
持するようにしてもよい。このように搬送手段46を片
持ち形式にすることにより、乾燥装置44等へ不用意に
ごみ等が落下するのを防止することができる。また、上
記実施例では、洗浄槽が3つの場合について説明した
が、薬液による洗浄槽と純水による洗浄槽の2つの洗浄
槽と乾燥装置とを組み合わせた洗浄・乾燥処理装置にも
適用できる。
【0029】また、上記実施例では、被乾燥体が半導体
製造装置のケーシングや部品である場合について説明し
たが、被乾燥体は必ずしもこれらのものに限定されるも
のではなく、例えば半導体ウエハやLCD基板等につい
ても同様に乾燥処理することができる。
【0030】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明の乾燥
装置によれば、上記のように構成されているので、以下
のような効果が得られる。
【0031】1)請求項1記載の乾燥装置によれば、必
要に応じて溶剤蒸気を凝結して蒸気発生部に溶剤を戻す
ことができると共に、乾燥室内に溶剤蒸気を供給するこ
とができるので、溶剤の消費量の無駄を防止することが
できると共に、ランニングコストの低減化を図ることが
できる。
【0032】2)請求項2記載の乾燥装置によれば、被
乾燥体に付着する水を溶剤蒸気により置換後の希釈溶液
を受皿にて受け止めた後、回収タンク内に回収すること
ができると共に、付着水が比較的少なくなった後は比較
的純水な溶剤を蒸気発生部内に戻すことができるので、
溶剤の希釈化による乾燥能率の低下を防止することがで
きると共に、溶剤の有効利用を図ることができる。
【0033】3)請求項3記載の乾燥装置によれば、回
収タンク内に回収された溶剤と水の混合液から溶剤と水
とを分離した後、溶剤を再度蒸気発生部内に循環供給す
ることができるので、溶剤を更に有効に活用することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の乾燥装置の要部を示す断面図であ
る。
【図2】この発明の乾燥装置を組込んだ洗浄・乾燥処理
装置の概略構成図である。
【図3】この発明の乾燥装置における受皿と傾斜切換手
段、蒸気発生部真上の冷却管と冷却媒体切換手段の要部
を示す分解斜視図である。
【図4】この発明の乾燥装置を組込んだ洗浄・乾燥処理
装置の概略斜視図である。
【図5】洗浄・乾燥処理装置の搬送手段の概略斜視図で
ある。
【図6】搬送手段の概略断面図である。
【図7】搬送手段の別の実施例を示す斜視図である。
【符号の説明】
A 被乾燥体 1 乾燥室 2 蒸気発生部 5 溶剤槽 6 ヒーター 7 冷却管 9a,9b 切換バルブ(切換手段) 10 冷却水供給源 11 空気供給源 12 受皿 16 回収タンク 18 シリンダ(傾斜切換手段) 26 再生装置 31 循環ポンプ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被乾燥体を収容する乾燥室と、蒸気発生
    部とを具備し、上記被乾燥体の付着水を気化潜熱の少な
    い有機溶剤の蒸気と置換し、付着水を除去する蒸気乾燥
    装置において、 上記乾燥室と蒸気発生部との連通部に冷却管を配設し、 上記冷却管に切換手段を介して冷却媒体供給源と気体供
    給源を接続して、冷却管内に冷却媒体又は気体を選択的
    に供給可能にすることを特徴とする乾燥装置。
  2. 【請求項2】 被乾燥体を収容する乾燥室と、この乾燥
    室の下方に位置する蒸気発生部とを具備し、上記被乾燥
    体の付着水を気化潜熱の少ない有機溶剤の蒸気と置換
    し、付着水を除去する蒸気乾燥装置において、 上記乾燥室の下部に、傾斜変位可能な受皿を配設すると
    共に、この受皿を傾斜切換手段により傾斜向きを選択可
    能に形成し、 上記受皿の傾斜側の一端部と回収タンクとを配管接続し
    てなることを特徴とする乾燥装置。
  3. 【請求項3】 回収タンクに、溶剤と水とを分離する再
    生手段の入力口に配管接続すると共に、再生手段と蒸気
    発生部とを循環ポンプを介して配管接続してなることを
    特徴とする請求項2記載の乾燥装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9467654B2 (en) 2012-05-18 2016-10-11 Ricoh Company, Limited Video-conference terminal device, video-conference system, image distortion correction method, and image distortion correction processing program product

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JP2009164214A (ja) * 2007-12-28 2009-07-23 Toshiba Corp 微細構造体の処理方法、微細構造体の処理システムおよび電子デバイスの製造方法
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