JPH0752777B2 - 高速ダイオード - Google Patents
高速ダイオードInfo
- Publication number
- JPH0752777B2 JPH0752777B2 JP32433588A JP32433588A JPH0752777B2 JP H0752777 B2 JPH0752777 B2 JP H0752777B2 JP 32433588 A JP32433588 A JP 32433588A JP 32433588 A JP32433588 A JP 32433588A JP H0752777 B2 JPH0752777 B2 JP H0752777B2
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- JP
- Japan
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- diode
- layer
- diodes
- characteristic
- present
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高周波整流等に用いるために半導体素体内に
ライフタイムキラーを導入して逆回復時間を短くした高
速ダイオードに関する。
ライフタイムキラーを導入して逆回復時間を短くした高
速ダイオードに関する。
半導体素体内でのキャリアの消滅が急速に行われるよう
に素体内に導入されるライフタイムキラーとしては金あ
るいは白金などが用いられていた。
に素体内に導入されるライフタイムキラーとしては金あ
るいは白金などが用いられていた。
従来の高速ダイオードにおいて、ライフタイムキラーと
してAuを用いた素子は、高周波で使用した場合、過渡順
電圧によるスイッチング損失が増大し、かつ高温の逆電
流が大きいため、過大な損失をまねく問題があった。一
方、ライフタイムキラーとしてPtを用いた素子は、定常
順電圧が大きいため、損失が大きいという問題があっ
た。
してAuを用いた素子は、高周波で使用した場合、過渡順
電圧によるスイッチング損失が増大し、かつ高温の逆電
流が大きいため、過大な損失をまねく問題があった。一
方、ライフタイムキラーとしてPtを用いた素子は、定常
順電圧が大きいため、損失が大きいという問題があっ
た。
本発明の課題は、上述の問題を解決してライフタイムキ
ラーの導入によって生ずる欠点の緩和された高速ダイオ
ードを提供することにある。
ラーの導入によって生ずる欠点の緩和された高速ダイオ
ードを提供することにある。
上記の課題の解決のために、本発明の高速ダイオード
は、PN接合を有し、P層表面に第1の電極,N層表面に第
2の電極がそれぞれ設けられたダイオードにおいて、P
層,N層のうちの少なくとも一方の層がそれぞれ異なるラ
イフタイムキラーの導入された複数の領域に分割され、
かつ分割された領域が互いに絶縁されていると共に分割
された領域上の電極同士が接続されるものとする。
は、PN接合を有し、P層表面に第1の電極,N層表面に第
2の電極がそれぞれ設けられたダイオードにおいて、P
層,N層のうちの少なくとも一方の層がそれぞれ異なるラ
イフタイムキラーの導入された複数の領域に分割され、
かつ分割された領域が互いに絶縁されていると共に分割
された領域上の電極同士が接続されるものとする。
それぞれ異なるライフタイムキラーの導入された複数の
領域を、それぞれに設けられた電極を用いて並列接続す
ることにより、ライフタイムキラーの導入によって生ず
る欠点が相殺され、その悪影響が緩和される。
領域を、それぞれに設けられた電極を用いて並列接続す
ることにより、ライフタイムキラーの導入によって生ず
る欠点が相殺され、その悪影響が緩和される。
第1図(a),(b)は本発明の一実施例の高速ダイオ
ードを縦断面図,平面図で示す。0.5〜4mm角あるいは1
〜7mm直径のシリコン基板にはN層1と隣接するP層に
よりPN接合面3が存在するが、基板の表面よりPN接合面
3を超える深さの溝4がエッチングあるいはサンドカッ
トで形成され、その溝4にはガラス等の絶縁物5が充填
されている。なおメサエッチングはそのあとで行う。こ
の結果、P層は二つの領域21,22に分割される。そし
て、領域21にはAuが、領域22にはPtが拡散導入されてい
る。N層1にはカソード電極6が、P層領域21には第一
アノード電極71が、P層領域22には第二アノード電極72
がそれぞれ表面に被着している。二つのアノード電極7
1,72を接続すれば、N層1とP層21からなるダイオード
と、N層1とP層22からなるダイオードが並列接続され
る。前者のダイオード11,後者のダイオードを12とする
と、過渡順電圧の時間特性は、第2図(a)において前
者は実線で示した特性,後者は点線で示した特性とな
る。二つのダイオードを並列接続して高周波で使用する
と、第2図(b)に示すように順電流の約2μs以下の
過渡時間を過渡順電圧の低いPt導入ダイオード12で対処
し、約2μs以上の定常時間を定常順電圧の低いAu導入
ダイオード11で対処する。第3図(a)は逆回復電流時
間特性を示し、実線はダイオード11の特性を、点線はダ
イオード12の2種類の特性を示す。二つのダイオードを
並列接続した場合、ダイオード11の逆回復時間trrがダ
イオード12のtrr以上のときには第3図(b)に示すよ
うに逆回復動作特性はダイオード11に支配され、ダイオ
ード11のtrrがダイオード12のtrrより小さいときは第3
図(c)に示すように両者の合成特性となる。なお、用
いるシリコン単結晶は共通なので同じ比抵抗を有し、両
ダイオードの逆耐圧特性は同様になって、不平衡は生じ
ない。以上のように、この素子を、例えば逆電圧のかか
らない回路で高周波で使用した場合、順電流の過渡時間
では過渡順電圧の低いPt導入ダイオードで対処し、定常
時間に入ると順電圧の低いAu導入ダイオードで対処する
ので、主に順方向損失が減少し、さらに逆方向特性は高
温逆電流の低いPt導入ダイオードで対処するので綜合的
損失が低減する。
ードを縦断面図,平面図で示す。0.5〜4mm角あるいは1
〜7mm直径のシリコン基板にはN層1と隣接するP層に
よりPN接合面3が存在するが、基板の表面よりPN接合面
3を超える深さの溝4がエッチングあるいはサンドカッ
トで形成され、その溝4にはガラス等の絶縁物5が充填
されている。なおメサエッチングはそのあとで行う。こ
の結果、P層は二つの領域21,22に分割される。そし
て、領域21にはAuが、領域22にはPtが拡散導入されてい
る。N層1にはカソード電極6が、P層領域21には第一
アノード電極71が、P層領域22には第二アノード電極72
がそれぞれ表面に被着している。二つのアノード電極7
1,72を接続すれば、N層1とP層21からなるダイオード
と、N層1とP層22からなるダイオードが並列接続され
る。前者のダイオード11,後者のダイオードを12とする
と、過渡順電圧の時間特性は、第2図(a)において前
者は実線で示した特性,後者は点線で示した特性とな
る。二つのダイオードを並列接続して高周波で使用する
と、第2図(b)に示すように順電流の約2μs以下の
過渡時間を過渡順電圧の低いPt導入ダイオード12で対処
し、約2μs以上の定常時間を定常順電圧の低いAu導入
ダイオード11で対処する。第3図(a)は逆回復電流時
間特性を示し、実線はダイオード11の特性を、点線はダ
イオード12の2種類の特性を示す。二つのダイオードを
並列接続した場合、ダイオード11の逆回復時間trrがダ
イオード12のtrr以上のときには第3図(b)に示すよ
うに逆回復動作特性はダイオード11に支配され、ダイオ
ード11のtrrがダイオード12のtrrより小さいときは第3
図(c)に示すように両者の合成特性となる。なお、用
いるシリコン単結晶は共通なので同じ比抵抗を有し、両
ダイオードの逆耐圧特性は同様になって、不平衡は生じ
ない。以上のように、この素子を、例えば逆電圧のかか
らない回路で高周波で使用した場合、順電流の過渡時間
では過渡順電圧の低いPt導入ダイオードで対処し、定常
時間に入ると順電圧の低いAu導入ダイオードで対処する
ので、主に順方向損失が減少し、さらに逆方向特性は高
温逆電流の低いPt導入ダイオードで対処するので綜合的
損失が低減する。
第4図は本発明の別の実施例を平面図で示し、二つのP
層領域21,22を絶縁物5で充填された環状の溝によって
分割したものである。P層領域21,22はそれぞれ異なる
ライフタイムキラーが導入される。なお、この図では電
極の図示は省いた。
層領域21,22を絶縁物5で充填された環状の溝によって
分割したものである。P層領域21,22はそれぞれ異なる
ライフタイムキラーが導入される。なお、この図では電
極の図示は省いた。
本発明によれば、一つの半導体内にそれぞれ異なるライ
フタイムキラーを導入した高速ダイオードを互いに絶縁
して複数形成し、並列接続できるようにすることによ
り、例えばAuとPtのように導入がダイオードに及ぼす特
性の異なるライフタイムキラーをそれぞれに用いれば、
いずれかのダイオードでの特性の欠点が緩和された高速
ダイオードが一つの半導体基板内に形成される。さらに
他のライフタイムキラーの組合わせにより新規な特性の
高速ダイオードを得ることも期待できる。
フタイムキラーを導入した高速ダイオードを互いに絶縁
して複数形成し、並列接続できるようにすることによ
り、例えばAuとPtのように導入がダイオードに及ぼす特
性の異なるライフタイムキラーをそれぞれに用いれば、
いずれかのダイオードでの特性の欠点が緩和された高速
ダイオードが一つの半導体基板内に形成される。さらに
他のライフタイムキラーの組合わせにより新規な特性の
高速ダイオードを得ることも期待できる。
第1図(a),(b)は本発明の一実施例を示し、
(a)が縦断面図,(b)が平面図、第2図(a),
(b)はAu導入高速ダイオードとPt導入高速ダイオード
の順方向動作特性を示す線図で、(a)は個々の場合、
(b)は本発明の実施例の場合、第3図は同じく両ダイ
オードの逆回復動作特性を示す線図で、(a)は個々の
場合,(b),(c)は本発明の実施例の場合、第4図
は本発明の別の実施例を示す平面図である。 1:N層、21,22:P層領域、3:PN接合、4:溝、5:絶縁物、6:
カソード電極、71,72:アノード電極。
(a)が縦断面図,(b)が平面図、第2図(a),
(b)はAu導入高速ダイオードとPt導入高速ダイオード
の順方向動作特性を示す線図で、(a)は個々の場合、
(b)は本発明の実施例の場合、第3図は同じく両ダイ
オードの逆回復動作特性を示す線図で、(a)は個々の
場合,(b),(c)は本発明の実施例の場合、第4図
は本発明の別の実施例を示す平面図である。 1:N層、21,22:P層領域、3:PN接合、4:溝、5:絶縁物、6:
カソード電極、71,72:アノード電極。
Claims (1)
- 【請求項1】PN接合を有し、P層表面に第1の電極,N層
表面に第2の電極がそれぞれ設けられたダイオードにお
いて、P層,N層のうちの少なくとも一方の層がそれぞれ
異なるライフタイムキラーの導入された複数の領域に分
割され、かつ分割された領域が互いに絶縁されていると
共に分割された領域上の電極同士が接続されることを特
徴とする高速ダイオード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32433588A JPH0752777B2 (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 高速ダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32433588A JPH0752777B2 (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 高速ダイオード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02170471A JPH02170471A (ja) | 1990-07-02 |
JPH0752777B2 true JPH0752777B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=18164632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32433588A Expired - Lifetime JPH0752777B2 (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 高速ダイオード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0752777B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4135259C1 (ja) * | 1991-10-25 | 1993-01-07 | Semikron Elektronik Gmbh, 8500 Nuernberg, De | |
FR2864344B1 (fr) | 2003-12-18 | 2006-08-11 | St Microelectronics Sa | Composant semiconducteur comprenant des zones a concentration de platine elevee |
-
1988
- 1988-12-22 JP JP32433588A patent/JPH0752777B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02170471A (ja) | 1990-07-02 |
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