JPH0751212B2 - 高温ガスから粒子を分離する装置及び方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高温ガスから粒子を分離
する装置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】高温ガ
スから粒子を分離するプロセスのための装置を効果的に
運転することが要求される多くの環境がある。例えば、
循環流動床燃焼またはガス化工程においては大量のダス
ト（むく床材料、灰、燃えなかった燃料、反応性吸収材
などを含む）が燃焼室からの高温の排ガスに連続的に同
伴される。場合によっては、ダストは粒子の分離後に燃
焼室内に戻るように再循環される。この、及び多くのそ
の他の実施例においては、ガス透過性高温フィルタが使
用される。そのようなフィルタは典型的には多孔性超合
金またはセラミックスまたはそれらを組合せたものから
成る複数の細長い平行する管であって高温状態に耐えそ
して表面を冷却することによってまたは耐火性ライニン
グによって保護されることを要しないものである。しか
しそのようなフィルタが使用されるときは、ダストが多
孔性材料の表面に漸次蓄積し従ってフィルタは定期的に
浄化されなくてはならない。

【０００３】そのようなフィルタの清掃は、フィルタが
極めて脆弱であり従って荒っぽい処置によって容易に損
傷される可能性があるから、振り回し、振動付与、また
はブラシがけまたは掻き落としによってすら達成され得
ない。従って、典型的にそのような多孔性フィルタ管は
浄化気体の高圧逆洗浄即ちバックフラッシング（ｂａｃ
ｋｆｌｕｓｈｉｎｇ）パルスによって清掃される。例え
ば、米国特許第４，１６１，３８９号及び併願中の米国
特許出願０７／３７８，６２８号（１９８９年７月１２
日出願）は細長い多孔性フィルタ要素を清掃するため浄
化気体のバックフラッシングパルスを使用することを開
示する。

【０００４】フィルタ要素に対し浄化気体のパルスを供
給するための典型的システムにおいては急動弁が高圧下
の浄化気体給源とフィルタの清浄側と間に配置され、ソ
レノイドなどによる前記弁の作動によって浄化気体のパ
ルスが高圧給源から多孔性のフィルタ要素を透過させら
れる。浄化気体のパルスのみが提供されるから、典型的
に、高温の脆弱フィルタ要素に対し不利な熱衝撃は生起
せず（浄化気体は粒子が分離されつつあるガスよりも必
然的に相当低い温度である）そしてフィルタ要素と効果
的に連係する“よごれた”ガスの正常な通過を妨害せ
ず、そしてバックフラッシング動作に費やされる時間は
極めて短い。しかし、残念なことに、急動弁は繊細な構
造を有し、従って多くの異なる理由によって不正に機能
するおそれがある。もしそれらが不正に機能するなら
ば、熱衝撃を生じることなしにフィルタ要素の壁に蓄積
した粒子を単に強制的に移転するのに十分な浄化気体の
意図された“パルス”ではなくて大量の浄化気体が給源
から放出されてフィルタ要素と接触する。もしそのよう
な大量の気体が高圧であるが低温の浄化気体給源からフ
ィルタ要素を透過するならば、それはフィルタ要素の熱
衝撃そしてそれによる破損または漏れを生じさせ、そし
てこれに加えて、濾過過程を妨害し、そしてフィルタ要
素と連係する循環流動層反応器を含むプロセス全体の運
転を停止させる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明に従って、以上説
明された課題はフィルタ要素に供給される気体の量を積
極制御することによって解決された。積極制御はフィル
タ要素から粒子を強制移転させるには十分であるが熱衝
撃または濾過過程の大規模な妨害を生じさせるには不十
分な容積を有する浄化気体のリザーバを設け、そして前
記給源と前記リザーバとの間に流量絞りを配置すること
によって達成される。前記絞りは小さい流量の気体のみ
がそれを通ることを許し、従ってリザーバの容積は急動
弁の定期的作動の間に一杯に満たされるが、従って前記
流量はフィルタ要素に熱衝撃を生じさせるには不十分で
ある。言うまでもなく、前記絞り開口の正確な寸法は浄
化気体の温度と流量、フィルタ要素の特定材料、リザー
バの容積などに依存する。絞りは典型的にはミリメート
ル単位で最も効率的に測定されるような直径を有するオ
リフィスまたはノズルを有するが、この場合も、寸法は
特定の運転及び装備に関するパラメータに依存して広い
範囲で異なる。

【０００６】本発明の一観点に従って、（ａ）よごれた
ガスの入口、分離された粒子の出口及び清浄ガスの出口
を有する容器；（ｂ）高温ガスの通過を許すがガス中に
含まれた粒子の大部分を濾過によって排除するフィルタ
細孔を有する複数のフィルタ要素であってその片側に前
記よごれたガスの入口を設けられそしてその反対側に前
記清浄ガスの出口を設けられたもの；及び（ｃ）前記フ
ィルタ要素に蓄積する粒子を除去するため、積極制御さ
れた体積の高速浄化気体のパルスを前記フィルタ要素に
対し供給する手段を有する装置が設けられる。

【０００７】前記手段（ｃ）は好ましくは次記諸要素を
有する：高圧浄化気体の給源；気体流量絞り手段によっ
て前記給源に作動的に結合された高圧浄化気体のリザー
バ；前記リザーバと前記フィルタ要素の清浄側との間に
結合された導管；及び前記導管に配置された急動弁。

【０００８】既に説明されたように、前記フィルタ要素
は好ましくは細長い管状要素であり、それはその中間部
分全体に亙ってよごれたガス流に対して開放状態にされ
得、または一端を閉鎖されそしてよごれたガス流に対し
その閉鎖された一端と反対の端において外部に対し開放
状態にされ得る。もし希望されるならば、フィルタ管の
清浄側は複数の異なる室に分割され得、そして各室が１
個のリザーバ及び絞り手段と結合される。また、多数の
異なるリザーバ及び絞り手段が同じ室またはフィルタ管
の全清浄側と結合され得、そして適切なリザーバが温度
及び流れ条件などに依存して選択される。

【０００９】本発明に基づく装置は、その典型的な特に
価値のある利用において、循環式流動層反応器であって
互いに背中合わせに配列された下流フィルタハウジング
と反応器室と有するもの、例えば米国特許第４，８６
９，２０７号（その開示事項はここに引用によって加入
される）に開示されるもの、において実施される。

【００１０】本発明の他の一観点に従って、高温ガスか
ら粒子を除去する一方法が提供される。この方法は次記
諸過程を有する：（ａ）フィルタ要素のよごれた側と接
触するようによごれたガスを送る過程；（ｂ）フィルタ
要素の清浄側から清浄ガスを回収する過程；（ｃ）フィ
ルタ要素のよごれた側に付着した粒子を強制移転するた
めにフィルタ要素の清浄側に、粒子を分離されつつある
高温ガスより低い温度を有する浄化気体の高圧パルスを
定期的に供給する過程；及び（ｄ）フィルタ要素に対す
る熱衝撃を最小限にするため及び前によごれたガスがフ
ィルタ要素を透過するとき生じる濾過作用の妨害を最小
限にするため、過程（ｃ）において浄化気体パルスの体
積を積極制御する過程。前記過程（ｄ）は好ましくは、
浄化気体の高圧給源を設けることと、浄化気体のための
制御された容積のリザーバを設けることと、浄化気体の
流量が熱衝撃を生じさせるには不十分であるように前記
給源と前記リザーバとの間で浄化気体の通過を絞ること
とによって達成される。

【００１１】過程（ｃ）及び（ｄ）は好ましくは浄化作
用を達成するために前記リザーバをフィルタ要素の清浄
側と作動的に連通されることによって実行される。ま
た、過程（ｃ）は好ましくは概ね音速で浄化気体を供給
することによって実行される。

【００１２】本発明の主たる目的は高温ガスからの粒子
の分離間フィルタ要素の効果的で破壊を生じさせない浄
化を実現することである。このそして他の諸目的は本発
明の詳細な説明の検討からそして特許請求の範囲から明
らかになるであろう。

【００１３】

【実施例】図１には本発明に基く構成要素を含むことを
除けば米国特許第４８６９２０７号（その開示はここに
引用によって加入される）に示されるそれと同様の反応
器が全体として参照番号１０によって図解される。反応
器１０は循環式流動層反応器１１とフィルタハウジング
１２とを有し、これらは互いに背中合せの関係に配列さ
れている。フィルタハウジング１２は粒子を同伴する高
温のよごれたガス、即ち流動層反応器１１からの排気ガ
ス、のための入口１３を有する。フィルタハウジング１
２からの粒子出口１４は分離された粒子をダクト１５を
介して流動層反応器１１の底へ戻す。フィルタハウジン
グ１２のフィルタは好ましくは複数の垂直平行中空管状
フィルタ要素１７であって多孔性でありその両端におい
て開いているものから構成される。それからフィルタ要
素１７が形成される材料は、セラミック材または超合金
またはそれらを組合せたもであり得る。フィルタ要素即
ちフィルタ管１７はそれ自体良く知られている。清浄ガ
ス出口１８がフィルタハウジング１２から設けられる。
フィルタ管１７の内部はフィルタ要素のダーティ即ち
“よごれた”側であり、一方、清浄ガス出口１８はフィ
ルタ要素１７のクリーン即ち“きれいな”外部と協働す
る。

【００１４】図１に図解される特定実施例においては、
フィルタ管１７の長い長さの故に、フィルタ管１７のき
れいな側を分割壁２０，２１，２２によって分割するこ
とが望まれる。分割壁２０，２１，２２は、（粒子出口
１４の頂における）フィルタ管１７のための底支持体と
共同して、複数の水平の清浄ガス室２３，２４，２５で
あっておのおのそれから清浄ガス出口１８へ延びる導管
を有するものを画成する。

【００１５】或る時間に亙る反応器１０の運転後、粒子
はフィルタ管１７の内よごれ面上に蓄積してフィルタの
効率と予想処理量とを妨害する傾向を有する。フィルタ
のよごれた側からこれら粒子を清掃するために、給源２
８，２８’，２８”からの清浄空気の高圧パルスが清浄
ガス室２３，２４，２５のおのおのへ供給される。空気
はフィルタ管１７の多孔性の壁を後方向に貫通するとと
もにフィルタ管１７のよごれた側から粒子を強制的に移
動させる。言うまでもなく、逆洗浄気体はフィルタハウ
ジング１２によって濾過されつつある高温ガスより相当
低い温度を有し、従ってもし使用される逆洗浄気体の量
が過度に大きいならば、熱衝撃、及びそれに伴うフィル
タ管１７の亀裂およびその他損傷、が起きる可能性があ
る。

【００１６】従来と同様に、高圧浄化気体の給源２８は
導管２９と結合され、導管２９は急動弁（典型的にはソ
レノイドによって動作させられる弁）３０を有する。浄
化パルスは弁３０を急速に開きそして閉じることによっ
て提供され、それにより、高圧浄化気体の流れが（典型
的には音速で）フィルタ管１７を後方向に貫通すること
を可能にする。本発明に従って、前記浄化気体の量はそ
れがフィルタ管１７を損傷しそして／またはフィルタハ
ウジング１２の作用を妨害するほど大きくないことを保
証するように積極制御される。

【００１７】急動弁３０が不適切に動作する、開放位置
から離れようとしない、または単に閉鎖動作が遅すぎる
などの事態に対応するため、リザーバ３２が設けられ
る。リザーバ３２はフィルタ管１７及び水平の清浄ガス
室２３の所望のパルス浄化を提供するのに十分な浄化気
体量を有する。しかし、リザーバ３２内の気体量はフィ
ルタ管１７の熱衝撃または機械的損傷を生じさせる、ま
たは、濾過作用を著しく妨害するには不十分である。こ
の積極制御は給源２８とリザーバ３２との間に絞り手段
３３を設けることによって行われる。極めて小さな直径
を有する在来のナイフエッジオリフィスまたはノズルの
ごとき任意の好適な絞りから構成され得る前記絞り手段
３３は、リザーバ３２が前記急動弁３０が定常的に閉鎖
されている時間に給源２８から高圧浄化気体を満たされ
るのを許すのに十分なほど大きいが、十分に大きい流量
の浄化気体がフィルタ管１７に熱衝撃または機械的損傷
を生じさせそして／または濾通すべきフィルタの作用を
著しく妨害するのを許すには寸法において不十分であ
る。言うまでもなく、図１に図解されるように、給源２
８’，２８”もそれぞれリザーバ３２’，３２”及びそ
れらとそれぞれ連係する絞り手段３３’，３３”を有す
る。

【００１８】図２は本発明に基づく装置であって循環式
流動層反応器、または高圧気体の他の給源から分離され
ているが、反応器を収容する圧力容器の外部に配置され
得るものの図解である。この実施例においては、直立、
垂直の処理容器４０であって連続する側壁４１、頂４２
及び底４３を有するものが設けられる。高温の“よごれ
た”ガスであって分離さるべき粒子を同伴するものが、
よごれたガスの入口４４を介して頂４２の近くで側壁４
１を通って処理容器４０内に送られる。分離された粒子
は粒子排出導管４５を介して底４３を通って撤収され
る。清浄ガスは、処理容器４０のフィルタ要素の“清
浄”側から、清浄ガス出口４６を介して側壁４１をその
一位置において通過して移転される。この特定の実施例
においては、水平方向に延びる取付板４７は、複数の細
長中空管状開端フィルタ要素４８であって多孔性材料例
えばセラミックまたは超合金またはそれらの組合わされ
たものから成るものを取付けられる。

【００１９】フィルタ要素４８の定期浄化を行うため
に、高圧浄化気体の給源５０が設置され、さらに、急動
弁５２を設けられた導管５１が設置される。弁５２は典
型的にはソレノイド５３によって作動される。導管５１
を通じて浄化のために供給される気体は高速例えば概ね
音速である。処理容器４０に関して以上説明されたすべ
ては既知である。しかし、本発明に従って、フィルタ要
素４８に対し供給される高速浄化気体の量を積極制御し
そして制限する手段が使用される。そのような手段は図
１の実施例のリザーバ３２及び絞り手段３３に相当する
リザーバ５５及び絞り手段５６を含む。

【００２０】図３の実施例においては、図２の実施例に
おける構成要素に相当する構成要素は単に“１”によっ
て先行される同じ参照番号によって示される。この実施
例と図２のそれとの間の主要な差異は、フィルタ要素１
４８の清浄ガス側を３個の異なる水平の室に区分する水
平の壁６０が存在しそしてこれら室のおのおのからの清
浄ガス出口１４６，６１，６１が設けられていることで
ある。導管６２，６３、急動弁６８，６９、リザーバ６
４，６５、及び絞り手段６６，６７が、上リザーバ１５
５の場合と同じように、それぞれ、２個の下ガス浄化ユ
ニットのおのおのを構成するように組合わされている。
高圧高速浄化気体の共通の給源１５０が設けられる。

【００２１】図４の実施例においては、図２の実施例に
おけるそれらに相当する諸構成要素が、単に“２”によ
って先行される同じ参照番号によって表示される。この
実施例において、図２の実施例のそれとの主たる差異
は、フィルタ要素２４８の共通清浄側と結合された２個
の異なる容積のリザーバ２５５，７２が存在することで
ある。高圧気体は大きい容積のリザーバ７２（絞り７３
によって給源２５０から分離されている）から急速に動
作する弁即ち急動弁７５によって制御される導管７４を
通じて供給されるか、または、小さい容積のリザーバ２
５５から供給され得る。急動弁２５２，７５のどちらが
特定浄化作用のために作動さるべきかを決定する制御手
段７６が設けられる。選択は容器２４０の特定運転条件
（例えば、よごれたガスの入口２４４を通る高温ガスの
特性）またはその他のパラメータによって左右される。

【００２２】また、図４において点線７７によって示さ
れるように、特定の条件下においては、リザーバ７２，
２５５にそれぞれ供給する２個の異なる給源が設けられ
得る。点線即ち壁７７の片側の一給源は、壁７７の反対
側の第２の給源とは異なる圧力を有し得、そしてどちら
のリザーバ７２，２５５が特定の浄化作用に使用される
かは、清掃間の時間間隔、よごれたガスの特性などに依
存する。

【００２３】図５の実施例においては、図２の実施例の
それらと機能において同等である構成要素は単に“３”
によって先行される同じ参照番号によって表示される。
この実施例の主要な差異は、よごれたガスは管状のフィ
ルタ要素３４８内を通って流れず、単にその外部に沿っ
て流れるに過ぎない。これはフィルタ要素３４８はそれ
らの底をソリッドまた多孔性の端壁７８によって閉鎖さ
れている事実による。しかし、それらは頂においては、
開口７９によって示されるように、依然として開いてい
る。この実施例においては、よごれたガスの入口３４４
は容器３４０の底に近接して側壁に設けられ、一方清浄
空気出口は、３４６によって示されるごとく、頂に近接
して側壁に設けられる。かくして、清浄ガスはフィルタ
要素３４８の内部に位置しそしてよごれたガスはそれら
の外部に位置する。また、高圧給源３５０からの浄化気
体はハウジング３４１の頂３４２を通過し、そしてかく
して最初はフィルタ要素３４８の内部をそれらの伸長方
向に沿って流れ通ったあと、それによる浄化作用間に多
孔性の壁を通って半径方向外方へ流れる。

【００２４】図６及び図７に図解される実施例において
は、図２の実施例におけるそれらに相当する構成要素
は、単に“４”によって先行される同じ参照番号によっ
て表示される。この実施例において、容器４４０の構造
及び浄化気体のための吸込導管４５１は１９８９年７月
１２日併願された特許願一連番号０７／３７８／６２８
（その開示はここに引用により加入される）に示される
それらと同じである。図２の実施例に対する本実施例の
主要な差異は、２個以上の分離粒子出口４４５の採用、
中央清浄ガス出口４４６の設置及び清浄ガス吐出導管４
４８におけるベンチュリ８３内における吸込導管４５１
の終端８３の配置であることが注目さるべきである。

【００２５】本発明に従う構造体を使用するとき、下記
方法が（図２の実施例に関して）実行される：（ａ）フ
ィルタ要素４８のよごれた側と接触するように（入口４
４を通じて）よごれたガスを送る過程；（ｂ）フィルタ
要素４８のきれいな側から（清浄ガス出口を通じて）清
浄ガスを回収する過程；（ｃ）前記フィルタ要素４８の
よごれた側に付着した粒子を強制的に移転させるため前
記フィルタ要素のきれいな側へ（給源５０から）粒子を
分離されつつある高温ガスより低い温度を有する浄化気
体の高圧パルスを定期的に供給する過程；及び（ｄ）フ
ィルタ要素に対する熱衝撃または機械的損傷を最小限に
するためそしてよごれたガスが前にフィルタ要素を通過
するとき生じさせられる濾過作用の妨害を最小限にする
ため、過程（ｃ）における浄化気体パルスの体積及び流
量を（リザーバ５５及び絞り手段５６を通じて）積極制
御する過程。過程（ｄ）は、浄化気体の高圧給源５０を
設けることと、浄化気体のための制御された容積のリザ
ーバ５５を設けることと、給源とリザーバとの間で浄化
気体の（絞り手段５６またはノズルを介する）通路を絞
ることとによって実行されることが好ましい。過程
（ｃ）及び（ｄ）が浄化作用を生じさせるためフィルタ
要素４８のきれいな側に対しリザーバ５５を作動的連通
状態にすることによって実行される。供給される浄化気
体の速度は典型的には概ね音速である。

【００２６】本発明に基づく装置及び方法を使用するな
らば、万一、急動弁５２が余りにも遅く動作しても、ま
たは開位置から執拗に離れなくても、フィルタ要素４８
に対する熱衝撃は生起せず、そして／または定常濾過作
用に対する妨害は最小限に止どまるであろう。このこと
は、浄化空気の被制御体積の高圧高速パルスのみがリザ
ーバ５５によって提供されるにすぎない事実に基づく。
絞り手段５６は浄化気体の流量を、たとえ弁が開位置に
止どまり続けても、フィルタ要素４に衝突する浄化気体
の体積と流量は熱衝撃を生起するには十分でないように
制御する。いったん弁が定常作用において閉鎖するなら
ば、給源５０からの浄化気体は絞り手段５６を通じてリ
ザーバ５５内に漏入し、最終的にはリザーバ５５を満た
し、従ってそれは再び一杯になって次ぎの動作のために
待機する。パルス化された高圧流れは、リザーバ内の圧
力が清浄ガス側の圧力の概ね２倍になったときにのみ有
効である。

【００２７】以上において本発明はその最も実用的であ
り且つ好ましい実施例であると現在考えられるものに関
して図示されそして説明されたが、その多くの修正が本
発明の範囲内で為され得、該範囲はすべての同等システ
ム及び手順を包含するように冒頭諸請求項に関し最も広
い解釈を付与さるべきである。

【図面の簡単な説明】

【図１】フィルタ要素に対し浄化気体の被制御体積流れ
を使用する本発明に従って構成された循環式流動層反応
器の概略縦断面図。

【図２】流動層反応器から分離された本発明に従う装置
の典型的実施例の概略縦断面図。

【図３】単に第２の実施例のための図２のそれに似た概
略縦断面図。

【図４】単に第３の実施例のための図２のそれに似た概
略縦断面図。

【図５】単に第４の実施例のための図２のそれに似た概
略縦断面図。

【図６】単に第５の実施例のための図２のそれに似た概
略縦断面図。

【図７】図６の装置の線７−７に沿って取られた図６の
装置の概略上水平横断面図。

【符号の説明】

１０ 反応器 １１ 流動層反応器 １２ フィルタハウジング １３ 入口 １４ 粒子出口 １７ フィルタ要素 １８ 清浄ガス出口 ２０ 分割壁 ２３ 清浄ガス室 ２８ 給源 ２９ 導管 ３０ 急動弁 ３２ リザーバ ３３ 絞り手段 ５２ 急動弁 ５５ リザーバ ５６ 絞り手段

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粒子を同伴する高温ガスから粒子を分離
   する装置であって、 （ａ） 汚れたガスの入口（１３）、分離された粒子の
   出口（１４）、及び清浄ガスの出口（１８）を有する容
   器（１２）、 （ｂ） 高温ガスの通過を許すが高温ガスに同伴された
   粒子の大部分を濾過によって排除する多孔壁を有する複
   数のフィルタ要素（１７）であって、その片側に前記汚
   れたガスの入口がその反対側に前記清浄ガスの出口が設
   けられたもの、並びに （ｃ） 前記フィルタ要素の清浄側に浄化気体パルスを
   供給する手段であって、高圧浄化気体給源（２８）、前
   記フィルタ要素の清浄側に高圧浄化気体を送る導管（２
   ９）、該導管に配置された急動弁（３０）を有するもの を備えたものにおいて、 更に、 （ｄ） 前記フィルタ要素の前記清浄側への浄化気体の
   量を積極的に制御するための手段であって、前記導管
   （２９）の上流側に配設され流量絞り手段（３３）を介
   して前記気体給源に結合された高圧浄化気体のリザーバ
   （３２）を有するもの を備えていることを特徴とする高温ガスから粒子を分離
   する装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の装置において、前記フ
   ィルタ要素（１７）が複数の多孔性中空管状要素であっ
   て、前記容器内で概ね垂直方向に配置され、そしてその
   第１の端において前記汚れたガスの入口（１３）に対し
   て開いており、そしてその第２の端において前記分離さ
   れた粒子の出口（１４）に対して開いており、その外縁
   が前記清浄ガスの出口（１８）と作動的に関連するもの
   からなることを特徴とする高温ガスから粒子を分離する
   装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の装置において、前記フ
   ィルター要素が複数の平行な細長い中空管状の要素（３
   ４８）であって、その一端において前記清浄ガスの出口
   （３４６）に対し開放されそしてその他端において閉鎖
   され、前記汚れたガスの入口（３４４）及び粒子の出口
   （３４５）が前記閉鎖された端に隣接しているものから
   なることを特徴とする高温ガスから粒子を分離する装
   置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の装置において、前記容
   器が垂直に向き、頂（３４２）、底（３４３）、及び側
   壁（３４１）を有することと、前記粒子の出口（３４
   ５）が前記容器の前記底に位置し、前記汚れたガスの入
   口（３４４）が前記容器の前記側壁において前記底の上
   方で且つ該底に隣接して位置し、前記導管（３５１）が
   前記容器の前記頂に貫入し、そして前記清浄ガスの出口
   （３４６）が前記導管に隣接したところで前記容器の前
   記側壁から出ていることを特徴とする高温ガスから粒子
   を分離する装置。
5. 【請求項５】 請求項２に記載の装置において、前記容
   器が垂直に向き、頂（４２）、底（４３）、及び側壁
   （４１）を有することと、前記粒子の出口（４５）が前
   記容器の前記底に位置し、前記汚れたガスの入口（４
   ４）が前記容器の前記頂の近くに位置し、前記清浄ガス
   の出口（４６）が前記汚れたガスの入口と前記粒子の出
   口との間に位置することと、前記中空管状要素が垂直に
   細長く配置されていることと、そして前記導管（５１）
   が前記汚れたガスの入口と前記粒子の出口との間におい
   て前記容器の前記側壁に貫入していることとを特徴とす
   る高温ガスから粒子を分離する装置。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の装置において、前記細
   長中空管状要素の清浄側が複数の水平な室（２３，２
   ４，２５）に分割され、前記手段（ｃ）の一つが前記水
   平室のおのおのと作動的に関連することを特徴とする高
   温ガスから粒子を分離する装置。
7. 【請求項７】 複数のフィルタ要素を、その片側が粒子
   を同伴し汚れた高温ガスと接触しその反対側が清浄ガス
   を与えるように用いて、高温ガスから粒子を効果的に分
   離する方法であって （ａ） 前記フィルタ要素の汚れた側と接触するように
   前記の汚れたガスを送る過程、 （ｂ） 前記フィルタ要素の清浄側から清浄ガスを回収
   する過程、及び （ｃ〉 前記フィルタ要素の汚れた側に付着した粒子を
   強制移転すべく、前記フィルタ要素の清浄側に、粒子が
   分離されつつある高温ガスより低い温度で高圧浄 化気体
   給源からの清浄気体の高圧パルスを周期的に供給する過
   程 を有するものにおいて、 （ｄ） 浄化気体用の制御された容積のリザーバを設
   け、前記浄化気体給源と前記リザーバとの間で浄化気体
   の通路を絞り、且つ浄化作用を行なわせるように前記リ
   ザーバを前記フイルタ要素の清浄側と連通させることに
   よって、前記フィルタ要素に対する熱衝撃を最小限にす
   ると共に既に汚れているガスがフィルタ要素を通過する
   とき生じる濾過作用の妨害を最小限にすべく、前記過程
   （ｃ）において浄化気体パルスの体積を積極制御する過
   程 を有することを特徴とする高温ガスから粒子を効果的に
   分離する方法。