JPH07500354A - １−アザビシクロ〔３．２．０〕ヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体およびそれらの製造法 - Google Patents

１−アザビシクロ〔３．２．０〕ヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体およびそれらの製造法

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JPH07500354A JP5520047A JP52004793A JPH07500354A JP H07500354 A JPH07500354 A JP H07500354A JP 5520047 A JP5520047 A JP 5520047A JP 52004793 A JP52004793 A JP 52004793A JP H07500354 A JPH07500354 A JP H07500354A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体およ びそれらの製造法 技術分野 本発明は新規な１−アザビシクロ［３，２，ＯＦヘプト−２−エン−２−カルボ ン酸誘導体および医薬として許容されるその塩に関する。
より詳しくは、本発明は、抗菌活性を有する新規な３−アゼチジニルチオ−１− アザビシクロ［３，’２．　Ｏ１ｌヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体お よび医薬として許容されるその塩、それらの製造方法、それらを含有する医薬組 成物、それらの医薬としての用途、ならびにヒトまたは動物の伝染病の治療方法 に関する。
産業上の利用分野 従って、本発明の一つの目的は、新規な３−アゼチジニルチオ−１−アザビシク ロ［３，２，０コヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体および医薬として許 容されるその塩を提供することであって、これらは多数の病原性微生物に対して 非常に有効であり、抗菌剤として有用である。
本発明の他の目的は、新規な３−アゼチジニルチオ−１−アザビシクロ［３，２ ，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体およびその塩の製造方法を提供 することである。　本発明のさらなる目的は、前記の３−アゼチジニルチオ−１ −アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体および 医薬として許容されるその塩を有効成分として含有する医薬組成物を提供するこ とである。
本発明のいま一つの目的は、前記の３−アゼチジニルチオ−１−アザビシクロ［ ３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸誘導体および医薬として許容さ れるその塩の医薬としての用途を提供する、またはヒトまたは動物の病原性微生 物による伝染病の治療方法を提供することである。
目的３−アゼチジニルチオ−１−アザビシクロ［３，２，Ｏｒヘプト−２−エン −２−カルボン酸誘導体は新規であり、下記の一般式Ｒ１ ［式中、Ｒ’はカルボキシ基、ＣＯＯ−または保護されたカルボキシ基、Ｒ２は ヒドロキシ（低級）アルキル基または保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基 、 Ｒ３は水素または低級アルキル基、 Ｒ４は置換された低級アルキル基または置換された低級アルケニル基、Ｒ６は水 素、または Ｒ４は水素、Ｒ６は複素環基または低級アルキル基、またはＲ４は水素、式　− Ｎ−Ｒ’はＮ、　Ｎ−ジ（低級）アルキルイミノ基、またはＲ″とＲ８は共に結 合され、置換されていてもよいイミノを含む複素環基を形成する、 をそれぞれ意味する。］ で表わされる化合物または医薬として許容されるその塩。
目的化合物（１）の医薬として許容される好適な塩は、慣用の無毒性の塩であっ て、塩基との塩、すなわち無機塩基との塩、たとえばアルカリ金属塩（たとえば ナトリウム塩、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとばカルシウム塩、 マグネシウム塩）、アンモニウム塩、有機塩基との塩、たとえば、有機アミン塩 （たとえばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩 、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’　−ジベンジ ルエチレンジアミン塩など）、酸付加塩、すなわち無機酸付加塩（たとば塩酸塩 、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など）；有機酸付加塩（たとえば蟻酸塩、酢酸 塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベン ゼンスルホン酸塩など）、塩基性または酸性アミノ（たとえばアルギニン、アス パラギン酸、グルタミン酸など）との塩；分子間または分子内にある第４級塩な どを挙げることができる。
前記の分子間の第４級塩は、たとえば、Ｒ４がＮ−（低級）アルキル−Ｎ−カル バモイル（低級）アルキルアミノ（たとえばＮ−メチル−Ｎ−カルバモイルメチ ルアミノなど）、またはジ（低級）アルキルアミノ（たとえばＮ、　Ｎ−ジメチ ルアミノなど）であり、前記のアミノが、適当なな低級アルキル基のような置換 基（たとえばメチルなど）、カルバモイル（低級）アルキル基（たとえばカルバ モイルメチルなど）などによって置換される場合に形成可能である。
好適な分子間の第４級塩は、Ｎ、　Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−カルバモイル アンモニオハロゲン化物（たとえばＮ、　Ｎ−ジメチル−Ｎ＝カルバモイルアン モニオヨウ化物、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルバモイルアミノ塩化物など）など を挙げることができる。
前記の分子内にある第４級塩は、Ｒ１と、Ｒ４および／またはＲ６内の陽イオン との間で形成可能であり、それは、たとえば、Ｒ１がＣＯＯ−であり　Ｒ４が水 素であり、式　＝Ｎ−Ｒ’がジ（低級）アルキルイミニオ（たとえばジメチルイ ミニオなど）であり、またはＲ４とＲ６が共に結合されて、任意に置換されたイ ミノを含む複素環基を形成する場合であって、この場合に、前記のイミノ部分は 、低級アルキル基（たとえばメチルなど）のような好適な置換基によってさらに 置換される。
これに関して、前記の分子間の第４級塩が分子内にある第４級塩の対応する酸付 加塩として表現され得る場合には、前記の分子間の第４級塩および分子内にある 第４級塩が実質的に同じものとみなされることがあることに注意が必要である。
したがって、この明細書において、そのような第４級塩は、単に便宜上のため、 これらの二つの第４級塩の一つによって表現される。
なお、目的化合物（Ｉ）ならびに後述の中間体には、不斉炭素原子に基づく光学 異性体などの立体異性体が１対以上存在することがあるが、これらの異性体もま た本発明の範囲に包含される。
本発明に従って、目的化合物（１）またはそれらの医薬として許容される塩は下 記の反応式で示す諸方法によって製造することができる。
製造法Ｉ Ｒ１またはその塩 製造法２ またはその塩 製造法３ Ｒ’　またはその塩 製造法４ Ｒ゛　また１よ８．）塩 （上記各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６は、それぞれ前記定義の通り であり、 Ｒ１は保護されたカルボキシ基、 Ｒ；は保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、ＲＨはヒドロキシ（低級）ア ルキル基、Ｒ；は保護されたアミンおよび／または保護されたヒドロキシ部分を 含む置換された低級アルキル基または置換された低級アルケニル基、Ｒ６は水素 、Ｒ８はアミノおよび／またはヒドロキシ部分を含む置換された低級アルキル基 または置換された低級アルケニル基　Ｒ６は水素、Ｒ６は低級アルキル基、 をそれぞれ意味する。） 製造法（Ｉ）で用いる化合物（Ｉ　Ｉ）は、日本公開公報Ｎｏ、２５５２８０／ ８８に開示されている。
製造法１で用いる化合物（ＩＩＩ）は、たとえば以下の方法あるいは慣用の方法 で製造することができる。
製造法Ａ （上記式中、Ｒ４、Ｒ６およびＲ６は前記定義の通りである）本明細書の以上お よび以下の記述において、本発明の範囲に包含される種々の定義の好適な例およ び実例を次に詳細に説明する。
「低級」とは、特記ない限り、アルキル基用炭素原子数１ないし６、好ましくは １ないし４、さらには、アルケニル基用炭素原子数２ないし４を意味する。
好適な「保護されたカルボキシ」としては、エステル化されたカルボキシを挙げ ることができる。この「エステル化されたカルボキシ」の例としては下記に示す ものと同じものを挙げることができる。
エステル化されたカルボキンのエステル部分の好適な例は、低級アルキルエステ ル（たとえばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピ ルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペ ンチルエステル、ヘキシルエステルなど）、該低級アルキルエステルは適当な置 換基を少なくとも１個有していてもよ（、その例としてはたとえば低級アルカノ イルオキシ（低級）アルキルエステル［たとえばアセトキシメチルエステル、プ ロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオ キシメチルエステル、ビバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメ チルエステル、１−（または２−）アセトキシエチルエステル、１−（または２ −１または３−）アセトキシプロピルエステル、１−（または２−１または３− １または４−）アセトキシブチルエステル、１−（または２−）プロピオニルオ キシエチルエステル、１−（または２−１または３−）プロピオニルオキシプロ ビルエステル、ｌ−（または２−）ブチリルオキシエチルエステル、１−（また は２−）イソブチリルオキシエチルエステル、ｌ−（または２−）ピバロイルオ キシエチルエステル、１−（または２−）ヘキサノイルオキシエチルエステル、 イソブチリルオキシメチルエステル、２−エチルブチリルオキシメチルエステル 、３．３−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、１−（または２−）ペンタ ノイルオキシエチルエステルなど］、低級アルカンスルホニル（低級）アルキル エステル（たとえば２−メシルエチルエステルなど）、モノ（またはジまたはト リ）ハロ（低級）アルキルエステル（たとえば２−ヨードエチルエステル、２、 　２．　２−トリクロロエチルエステル、など）；低級アルコキシカルボニルオ キシ（低級）アルキルエステル［たとえばメトキシカルボニルオキシメチルエス テル、エトキシカルボニルオキシエチルエステル、プロポキシカルボニルオキシ メチルエステル、第三級ブトキシカルボニルオキシメチルエステル、１−（また は２−）メトキシカルボニルオキシエチルエステル、１−（または２−）エトキ シカルボニルオキシエチルエステル、ｌ−（または２−）イソプロボキシカルポ ニルオキシエチルエステルなど］、フタリジリデン（低級）アルキルエステル、 または（５−低級アルキルー２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）（ 低級）アルキルエステル［たとえば（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキ ソ−ルー４−イル）メチルエステル、（５−エチル２−オキソ−１，３ジオキソ −ルー４−イル）メチルエステル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオ キソ−ルー４−イル）エチルエステルなど］　、低級アルケニルエステル（たと えばビニルエステル、アリルエステルなど）：低級アルキニルエステル（たとえ ばエチニルエステル、プロピニルエステルなど）；ハロゲンまたは低級アルコキ ンを有してもよいモノ−、ジーまたはトリフェニル（低級）アルキルエステルな どの適当な置換基を少なくとも１個有してもよいアル（低級）アルキルエステル （たとえばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステル、４−ニトロベン ジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステ ル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキシベンジルエ ステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三級ブチルベンジルエステルなど）；適 当な置換基を少なくとも１個有してもよいアリールエステル（たとえばフェニル エステル、４−クロロフェニルエステル、トリルエステル、第三級ブチルフェニ ルエステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステルなど）； フタリジルエステル：などを挙げることができる。
このように定義された保護されたカルボキシのより好ましい例としては、Ｃ２− 〇、アルケニルオキシカルポニルおよびフェニル（またはニトロフェニル）（Ｃ ，−Ｃ，）アルコキシカルボニルを挙げることができる。
好適な「ヒドロキシ（低級）アルキル基」としては、ヒドロキシメチル、ヒドロ キシエチル、ヒドロキシプロピル、１−（ヒドロキシメチル）エチル、１−ヒド ロキシ−１−メチルエチル キシヘキシルなどの、ヒドロキシ基を有する直鎖または分岐低級アルキルをを挙 げることができ、なかでもより好ましい例としては、ヒドロキシ（Ｃ．−Ｃ４） アルキルを、最も好ましい例としては、ｌ−ヒドロキシエチルを挙げることがで きる。
好適な「保護されたヒドロキシ（低級）アルキル」とは、前記のようなヒドロキ シ（低級）アルキル基を意味し、ヒドロキシ基は、下記のイミノ保護基の説明に おいて述べられるような慣用のヒドロキシ保護基によって保護されており、モノ −またはジーまたはトリフェニル（低級）アルキルなどのアル（低級）アルキル （たとえばヘンシル、ベンズヒドリル、トリチルなど）など、トリ（低級）アル キルシリルなどのトリ置換シリル（たとえばトリメチルシリル、トリチルエスル 、イソプロピルエステルシリル、第三級ブチルジメチルシリル、ジイソプロピル メチルンリルなど）、トリアリールンリル（たとえばトリベンジルシリルなど） 、トリアル（低級）アルキルシリル（たとえばトリベンジルシリルなど）などを 挙げることができる。
このように定義された「保護されたヒドロキシ（低級）アルキル」のより好まし い例としては、［フェニル（またはニトロフェニル’）　（Ｃ，−Ｃ４）アルコ キシコ力ルポニルオキシ（Ｃ．−Ｃ．）アルキル、（Ｃ，−Ｃ．）アルケニルオ キシ力ルポニルオキシ（Ｃ，−Ｃ．）アルキルおよび［トリ（Ｃ，−Ｃ．）アル キルスルホオキシ（Ｃ，−Ｃ４）アルキルを挙げることができる。
好適な「低級アルキル」としては、直鎖または分岐状のもの、たとえばメチル、 エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル などを挙げることができ、なかでもより好ましい例としてはＣ，−Ｃ．アルキル を、最も好ましい例としては、　Ｒ３に対してメチルを、Ｒ６に対してエチルを 挙げることができる。
置換された低級アルキルまたは置換された低級アルケニル」の好ましい置換基と しては、 カルバモイル、Ｎ−（またはＮ，　Ｎ−ジ）（低級）アルキルカルバモイル、Ｎ −　［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級） アルキル］カルバモイル、Ｎ−Ｎ　［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ，　 Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキルカルバモイル、Ｎ−［アミ ノ（または保護されたアミノ）（低級）アルキル］カルバモイル、任意に置換さ れた複素環チオ、低級アルキルチオ、ジ（低級）アルキルスルホニオ、ハロ（低 級）アルキルチオ、低級アルコキシ、カルバモイルオキシ、アシルアミノ、アミ ン、保護されたアミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ−保護−Ｎ’−（低級）アルキ ルアミノ、カルバモイル（低級）アルキルアミノ、Ｎ−保護−Ｎ−［カルバモイ ル（低級）アルキルコアミノ、Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ−（低級 ）アルキルアミノ、Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ，　Ｎ−ジー（低級 ）アルキルアンモニオ、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル− Ｎ−（低級）アルキルアミノ、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アル キル−Ｎ，　Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ、任意に置換された複素環カル ボニル、任意に置換された複素環基、［ヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ、 Ｎ−保護−Ｎ−［保護されたヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ、Ｎ−（低級 ）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ、Ｎ，　Ｎ−ジ（低級 ）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルアンモニオＮ−（低級）アルキ ル−Ｎ−　［Ｎ−　［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アル キル］アミノ、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級） アルキル］カルバモイル（低級）アルキル］アンモニオ、Ｎ−（低級）アルキル −Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキルコアミノ、およびＮ、　Ｎ−ジ（ 低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキル］アンモニオを挙 げることができる。
好適な「Ｎ−（またはＮ、　Ｎ−ジ）（低級）アルキルカルバモイル」とは、前 記の低級アルキルによってモノまたは二基置換されたカルバモイル基を意味し、 たとえばメチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジ エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、プロピルカルバモ イル、ジプロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、ブチルカルバモイ ル、ペンチルカルバモイル、ヘキシルカルバモイルなどを挙げることができ、な かでもより好ましい例としてはジ（Ｃ，−Ｃ，）アルキルカルバモイルを、最も 好ましい例としてはジメチルカルバモイルを挙げることができる。
好適なｒＮ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ （低級）アルキルコカルバモイル」とは、前に述べられたＮ−（低級）アルキル カルバモイル基を意味し、前記の低級アルキル基はＮ−（低級）アルキル−Ｎ− ヒドロキシ（低級）アルキルアミノ基によってさらに置換される。前記の低級ア ルキルおよびヒドロキシ（低級）アルキル部分は、上に述べられたものと同じで ある。
このように定義されたｒＮ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）−アルキル−Ｎ−（低級 ）アルキルアミノ（低級）アルキル］カルバモイル」のより好ましい例としては 、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（Ｃ，−Ｃ，）アルキル−Ｎ−（ＣＩ−Ｃ４）−アルキ ルアミノ（Ｃ，−Ｃ，）アルキル］カルバモイルを挙げることができ、最も好ま しい例としては、Ｎ−［２−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミ ノ］エチルコーカルバモイルを挙げることができる。
好適なｒＮ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（低級）アルキ ルアンモニオ（低級）アルキル］カルバモイル」とは、前記のＮ−［Ｎ−ヒドロ キシ（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル］カルバ モイル基を意味し、前記のアミノ基は低級アルキルによってさらに置換される。
このように定義されたｒＮ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ （低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル］カルバモイル」のより好ましい 例としては、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（Ｃ，−Ｃ，）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（Ｃ １−Ｃ，）アルキルアンモニオ（Ｃ，−Ｃ４）アルキル］カルバモイルを、最も 好ましい例としては、Ｎ−［２−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）　−Ｎ、　Ｎ −ジメチルアンモニオ］エチル］カルバモイルを挙げることができる。
好適な［Ｎ−［アミノ（低級）アルキル］カルバモイル」とは、前記のカルバモ イル（低級）アルキル基を意味し、前記の低級アルキル基はアミノによってさら に置換されており、そのより好ましい例としては、Ｎ−［アミノ（Ｃ，−Ｃ，） アルキルコカルバモイルを、最も好ましい例としては、４−アミノブチルカルバ モイルを挙げることができる。
好適なｒＮ−［保護されたアミノ（低級）アルキル］カルバモイル」とは、Ｎ− ［アミノ（低級）アルキル］カルバモイル基を意味し、前記のアミノ基は、後で 述べるようなアシルなどの適当なアミノ保護基によってさらに置換されており、 そのより好ましい例としては、Ｎ−［低級アルケニルオキシカルボニルアミノ（ 低級）アルキル］カルバモイルを、最も好ましい例としては、４−（アリルオキ シカルボニルアミノ）ブチルカルバモイルを挙げることができる。
「任意に置換された複素環チオ」の好適な任意に置換された複素環部分としては 、後で述べるような複素環基を挙げることができ、前記の複素環基のより好まし い例としては、窒素原子１ないし４個を有し、低級アルキルによって任意に置換 された３ないし８員、好ましくは５または６員の不飽和複素単環基を挙げること ができる。
このように定義された「任意に置換された複素環チオ」の好ましい例としては、 低級アルキルテトラゾリルチオを、最も好ましい例としては、１−メチルテトラ ゾール−５−イルチオを挙げることができる。
好適な「低級アルキルチオ」とは、前に述べられた低級アルキルによって置換さ れたチオ基を意味し、そのより好ましい例としては、（Ｃ，−Ｃ４）アルキルチ オを、最も好ましい例としては、メチルチオを挙げることができる。
好適な「ジ（低級）アルキルスルホニオ」とは、前に述べられた低級アルキルチ オ基を意味し、前記のチオ基は、前に述べられた低級アルキルによってさらに置 換されており、そのより好ましい例としては、ジ（Ｃ，−Ｃ，）アルキルスルホ ニオを、最も好ましい例としては、ジメチルスルホニオを挙げることができる。
好適な「ハロ（低級）アルキルチオ」とは、前に述べられた低級アルキルチオを 意味し、前記の低級アルキルは、クロロ、フルオロ、ブロモおよびヨードなどの ハロゲンによってさらに置換されており、より好ましい例としては、ジノ１０（ ＣＩ−Ｃ，）アルキルチオを、最も好ましい例としては、ジフルオロメチルチオ を挙げることができる。
好適な「低級アルコキシ」としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ ロポキシ、ブトキン、イソブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘ キシルオキシなどの直鎖または分岐したものを挙げることができ、なかでもより 好ましい例としては、　（Ｃ，−Ｃ４）アルコキシを、最も好ましい例としては 、メトキシを挙げることができる。
好適な「アシルアミノｊとは、後で述べられるようなアシル基によって置換され たアミノを意味し、より好ましい例としては、低級アルカノイルアミノ、７１０ （低級）アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルコキ シ（低級）アルカノイルアミノ、低級アルキルスルホニルアミノ、カルバモイル アミノおよびＣ６Ｃ１ｏアル（低級）アルコキシカルボニルアミノを、最も好ま しい例としては、アセチルアミノ、トリフルオロアセチルアミノ、メトキシカル ボニルアミノ、メトキシアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、カルノくモ イルアミノおよびベンジルオキシカルボニルアミノを挙げることができる。
好適な「保護されたアミノ」としては、前に述べられたアシルアミノを挙げるこ とができ、前記のアシル基は慣用の方法によって脱離可能であり、より好ましい 例としては、低級アルケニルオキシカルボニルアミノおよびニトロ（Ｃ６−０１ ０）アル（低級）アルコキシカルボニルアミノを、最も好ましい例としては、ア リルオキシカルボニルアミノおよびｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ を挙げることができる。
好適な［低級アルキルアミノ」とは、直鎖または分岐低級アルキルアミノを意味 し、より好ましい例としては、Ｃ，−Ｃ４アルキルアミノを、最も好ましい例と しては、メチルアミノを挙げることができる。
好適な「Ｎ−保護−Ｎ−（低級）アルキルアミノ」としては、Ｎ−アシル−Ｎ− （低級）アルキルアミノを挙げることができ、前記のアシル基は保護されたアミ ノにおいて述べられたものと同じであり、より好ましい例としては、Ｎ−（低級 アルケニルオキシカルボニル）−Ｎ−（低級）アルキルアミノを、最も好ましい 例としては、Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノを挙げることがで きる。
好適な「カルバモイル（低級）アルキルアミノ」とは、前に述べられた低級アル キルアミノ基を意味し、前記の低級アルキルはカルバモイルによってさらに置換 されており、より好ましい例としては、カルバモイル（Ｃ，−Ｃ，）アルキルア ミノを、最も好ましい例としては、カルバモイルメチルアミノを挙げることがで きる。　好適な「Ｎ−保護−Ｎ−［カルバモイル（低級）アルキルコアミノ」と は、前記のカルバモイル（低級）アルキルアミノ基を意味し、前に述べられたア ミノ基は、下記のアシルなどのアミノ保護基によってさらに置換される。
このように定義された「Ｎ−保護−Ｎ−［カルバモイル（低級）アルキルコアミ ノ」の好ましい例としては、Ｎ−（低級アルケニルオキシカルボニル）−Ｎ−［ カルバモイル（低級）アルキルコアミノを、最も好ましい例としては、Ｎ−アリ ルオキシカルボニル−Ｎ−（カルバモイルメチル）アミノを挙げることができる 。
好適な「Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ−（低級）−アルキルアミノ」 とは、前に述べられたカルバモイル（低級）アルキルアミノ基を意味し、前記の アミノ基は低級アルキルによってさらに置換されており、最も好ましい例として は、Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−メチルアミノを挙げることができる。
好適な「Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（低級）アルキルア ンモニオ」とは、前に述べられたＮ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ−（低 級）−アルキルアミノ基を意味し、前記のアミノ基は、低級アルキルによってさ らに置換されており、最も好ましい例としては、Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ。
Ｎ−ジメチルアンモニオを挙げることができる。
好適な「Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ−（低級）ア ルキルアミノ」とは、前に述べられたＮ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ− （低級）−アルキルアミノ基を意味し、前記のカルバモイル基は前に述べられた 低級アルキルによってさらに置換されており、より好ましい例としては、Ｎ−［ （Ｃ，−Ｃ，）アルキルカルバモイル（Ｃ，−Ｃ，）アルキル−Ｎ−（Ｃ，−Ｃ ４）アルキルアミノを、最も好ましい例としては、Ｎ−（メチルカルバモイル） メチル−Ｎ−メチルアミノを挙げることができる。
好適な［Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（ 低級）アルキルアンモニオ」とは、前に述べられたＮ−（低級アルキルカルバモ イル）（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ基を意味し、前記のアミ ノ基は、前に述べた低級アルキルによってさらに置換されており、より好ましい 例としては、Ｎ−［（Ｃ，−Ｃ，）アルキルカルバモイル（Ｃ，−Ｃ，）アルキ ル−Ｎ、　Ｎ−ジ（Ｃ，−Ｃ４）アルキルアンモニオを、最も好ましい例として は、Ｎ−（メチルカルバモイル）メチル−Ｎ、　Ｎ−ジメチルアンモニオを挙げ ることができる。　゛ 「任意に置換された複素環カルボニル」の好適な任意に置換された複素環部分と しては、後に述べる複素環基を挙げることができ、好ましい複素環基としては、 窒素原子１ないし４個を有する３ないし８員、好ましくは５または６員の飽和ま たは不飽和の（好ましくは飽和の）複素単環基を挙げることができ、それは、ヒ ドロキシ、アミン（低級）アルカノイルおよび保護されたアミノ（低級）アルカ ノイルから成る基によって任意に置換される。
このように定義された［任意に置換された複素環カルボニル」の好ましい例とし ては、ヒドロキシアゼチンニル−カルボニル、およびアミン（低級）アルカノイ ルによって置換されたピペラジニル−カルボニル、または低級アルケニルオキシ カルボニルアミノ（低級）アルカノイルを挙げることができ、最も好ましい例と しては、４−ヒドロキシアゼチジン−１−イル−カルボニル、４−（５−アミノ ペンタノイル）ピペラジン−１−イルおよび４−（５−アリルオキシカルボニル アミノペンタノイル）ピペラジン−１−イルを挙げることができる。
好適な「任意に置換された複素環基」としては、後に述べるような複素環基を挙 げることができ、より好ましい例としては、窒素原子ｌないし４個を有する３な いし８員、好ましくは５または６員の飽和または不飽和の複素単環基を挙げるこ とができ、さらに１ないし２個の硫黄原子と１ないし３個の窒素原子を有する３ ないし８員、好ましくは５または６員の飽和または不飽和の（好ましくは不飽和 の）複素単環基を挙げることができ、前に述べられた低級アルキル、前に述べら れたヒドロキシ（低級）アルキルおよび前に述べられたカルバモイル（低級）ア ルキルからなる基によって任意に置換される。
このように定義された「任意に置換された複素環基」の好ましい例としては、窒 素原子１ないし４個を有する５または６員の飽和または不飽和の複素単環基を挙 げることができ、低級アルキル、ヒドロキシ（低級）アルキルおよびカルバモイ ル（低級）アルキルからなる基によって任意に置換されており、さらに、１ない し２個の硫黄原子と１ないし３個の窒素原子を有する５または６員の不飽和の複 素単環基を挙げることができ、より好ましい例としては、ピリジル、イミダゾリ ル、ピラゾリル、ピロリジニルを挙げることができ、これらのそれぞれは、（Ｃ ，−Ｃ，）アルキル、ヒドロキシ（Ｃ，−Ｃ，）アルキルおよびカルバモイル（ Ｃ，−Ｃ，）アルキルによって任意に置換されており、さらにはチアゾリルを挙 げることができ、最も好ましい例としては、３−ピリジル、ｌ−メチル−３−ピ リジニオ、ｌ−カルバモイルメチル−３−ピリジニオ、１−ピリジニオ、１（ま たは４）−イミダゾリル、２−メチル−１−イミダゾリル、３−メチル−１−イ ミダゾリオ、１．　３−ジメチル−２（または４）−イミダゾリオ、４−ヒドロ キシメチル−１−メチル−３−イミダゾリオ、１．２−ジメチル−４−ピラゾリ オ、１−メチル−１−ピロリジニオおよび３−チアゾリオを挙げることができる 。
好適な「［ヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ」とは、前に述べられたヒドロ キシ（低級）アルキルによって置換されたアミノ基を意味し、より好ましい例と しては、ヒドロキシ（Ｃ，−Ｃ，）−アルキルを、最も好ましい例としては、２ −ヒドロキシエチルアミノを挙げることができる。
好適な「Ｎ−保護−Ｎ−［保護されたヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ」と は、前に述べられたヒドロキシ（低級）アルキルを意味し、前記のヒドロキシお よびアミノ基は、後に述べるアシルなどの適当な保護基によって保護されており 、好ましい例としては、Ｎ−（低級アルケニルオキシカルボニル）−Ｎ−［低級 アルケニルオキシカルボニルオキシ（低級）アルキルコアミノを、最も好ましい 例としては、Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−［２−（アリルオキシカルボニ ルオキシ）エチルコアミノを挙げることができる。
好適な［Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ」 とは、前に述べられた［ヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ基を意味し、前記 のアミノ基は低級アルキルによってさらに置換されており、より好ましい例とし ては、Ｎ−（Ｃ，−Ｃ４）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（Ｃ，−Ｃ，）アルキル コアミノを、最も好ましい例としては、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチ ル）アミノを挙げることができる。
好適なｒＮ、Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］ア ンモニオ」とは、前に述べられたＮ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低 級）アルキルコアミノ基を意味し、前記のアミン基は、低級アルキルによってさ らに置換されており、より好ましい例としては、Ｎ、　Ｎ−ジ（Ｃ，−Ｃ，）ア ルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（ＣＩ−Ｃ，）アルキルアンモニオを、最も好ましい 例としては、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アンモニオを挙 げる二とができる。
好適な「Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルカル バモイル（低級）アルキルコアミノ」とは、前に述べられたＮ−カル／＜モイル （低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ基を意味し、前記のカルバモイ ル基は、前に述べられたヒドロキシ（低級）アルキルによってさらに置換されて おり、最も好ましい例としては、Ｎ−メチル−Ｎ−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチ ル）カルバモイルメチルコアミノを挙げることができる。
好適なｒＮ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキ ル］−Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ」とは、前に述べられたＮ−（低 級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルカルバモイル（低級） アルキルコアミノ基を意味し、前記のアミノ基は、低級アルキルによってさらに 置換されており、最も好ましい例としては、Ｎ−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル ）カルバモイルメチル］−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニオを挙げることができる。
好適な［Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキルコ アミノ］とは、前に述べられた「Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低 級）アルキルコアミノ基を意味し、前記のヒドロキシ基はカルバモイルによって さらに置換されており、より好ましい例としては、Ｎ−（Ｃ，−Ｃ，）アルキル −Ｎ−［カルバモイルオキシ（Ｃ，−Ｃ，）アルキルコアミノを、最も好ましい 例としては、Ｎ−メチル−Ｎ−［２−（カルバモイルオキシ）エチルコアミノを 挙げることができる。
好適なＩＮ、Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アル キル］アンモニオ」とは、前に述べられた［Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［カル バモイルオキシ（低級）アルキルコアミノ基を意味し、前記のアミノ基は、低級 アルキルによってさらに置換されており、より好ましい例としては、Ｎ、　Ｎ− ジ（Ｃ，−Ｃ，）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（Ｃ、−Ｃ、）アルキル ］アンモニオを、最も好ましい例としては、Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（カ ルバモイルオキシ）エチルスルホニルを挙げることができる。
好適な「アリール」としては、フェニル、トリル、キシリル、クメニル、メシチ ル、ナフチルなどのＣ，−Ｃ，、了り−ルを、最も好ましい例としては、フェニ ルを挙げることができる。
好適な「アシル」としては、脂肪族アシル、芳香族アシル、複素環アシル、さら にはカルボン酸、炭酸、スルホン酸、カルバミン酸から導き出された芳香族また は複素環基で置換された脂肪族アシルを挙げることができる。
脂肪族アシルとしては、飽和または不飽和の非環状または環状のものを挙げるこ とができ、例としては、低級アルカノイルなどのアルカノイル（たとえばホルミ ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ ル、ピバロイル、ヘキサノイルなど）、低級アルキルスルホニルなどのアルキル スルホニル（たとえばメンル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプ ロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ペンチルス。
ルホニル、ヘキシルスルホニルなど）、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイ ル（たとえばメチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど）、低級アルコオキ シカルボニルなどのアルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボニル、エト キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシ カルボニルなど）、低級アルケニルオキシカルボニルなどのアルケニルオキシカ ルボニル（たとえばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルなど）、 低級アルケノイルなどのアルケノイル（たとえばアクリロイル、メタアクリロイ ル、クロトノイルなど）、シクロ（低級）アルカンカルボニルのようなシクロア ルカンカルボニル（たとえばンクロプロパンカルボニル、シクロペンタンカルボ ニル、シクロヘキサンカルボニルなど）などを挙げることができる。
芳香族基で置換された脂肪族アシルとしては、フェニル（低級）アルコキシカル ボニルなどアル（低級）アルコキシカルボニル（たとえばベンジルオキシカルボ ニル、フェネチルオキシカルボニルなど）などを挙げることができる。
これらのアシル基は、ニトロなどの一つ以上の適当な置換基でさらに置換されて いてもよく、そのような置換基を持つより好ましいアシルとしては、ニトロアル （低級）アルコキシカルボニル（たとえばニトロベンジルオキシカルボニルなど ）などを挙げることができる。
好適な［任意に置換されたイミノ含有複素環基ｊは、後に述べられる複素環基で あり、前記の複素環基は、イミノ部分を含んでおり、好ましい例としては、イミ ノ部分を有し、低級アルキルによって任意に置換されている３ないし８員、好ま しくは５または６員の不飽和複素単環基を挙げることができ、より好ましい例と しては、２Ｈ−ピロリル、１−　ピロリニル、　イミダゾリル、ピラゾリル、ピ リジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、テトラゾリル 、ジヒドロトリアジニルを挙げることができ、それぞれは低級アルキルによって 置換されており、最も好ましい例としては、１−メチル−２−ピロリニオを挙げ ることができる。
好適な「低級アルキレン」としては、直鎖または分岐されたもの、たとえば、メ チレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメ チレン、メチルメチレン、エチルエチレン、プロピレンなどを挙げらることがで き、より好ましい例としては、Ｃ，−Ｃ４アルキレンを、最も好ましい例とじて は、トリメチレンを挙げることができる。
好適な「カルバモイル（低級）アルキル」とは、カルバモイルによって置換され た前に述べられた低級アルキルを意味し、最も好ましい例としては、カルバモイ ルメチルを挙げることができる。
好適な「複素環基」とは、飽和または不飽和の単環または多環複素環基を意味し 、酸素、硫黄、窒素の原子などの少なくとも１個の複素原子を含んでいる。
より好ましい複素環基としては、下記の複素環基、たとえば、−窒素原子１ない し４個を有する３ないし８員、好ましくは５または６員の不飽和複素単環基、た とえば、ピロリル、２Ｈ−ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、 ピリジル、そのＮ−酸化物、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾ リル（たとえば４Ｈ−１，２，４−）−リアゾリル、ＩＨ−１，２，３−トリア ゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリルなど）、テトラゾリル（たとえばＩＨ −テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリルなど）、ジヒドロトリアジニル（たとえば ４．５−ジヒドロ−１，２，４−）リアジニル、２．５−ジヒドロ−１，２，４ −トリアジニルなど）など；−窒素原子工ないし４個を有する３ないし８員、好 ましくは５または６員の飽和複素単環基、たとえば、アゼチジニル、ピロリジニ ル、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピラゾリジニル、ピペラジニルなど；− 窒素原子１ないし５個を有する７ないし１２員の不飽和縮合複素単環基、たとえ ば、インドリル、イソインドリル、イントリジニル、ペンジミダゾリル、キノリ ル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシロピリジル、 テトラシロピリダジニル（たとえばテトラシロ［１，５−ｂ］　ピリダジニルな ど）、ジヒドロトリアゾロピリダジニルなどニー・　酸素原子工ないし２個およ び窒素原子工ないし３個を有する３ないし８員、好ましくは５または６員の不飽 和複素単環基、たとえば、オキサシリル、イソオキサシリル、オキサジアゾリル 　（たとえば１．　２．　４−オキサジアゾリル、１、　３．　４−オキサジア ゾリル、１．　２．　５−オキサジアゾリルなど）など；−酸素原子１ないし２ 個および窒素原子１ないし３個を有する３ないし８員、好ましくは５または６員 の飽和複素単環基、たとえばモルホリニルなど；−　酸素原子１ないし２個およ び窒素原子１ないし３個を有する７ないし１２員の不飽和縮合複素環基、たとえ ばベンゾオキサシリル、ベンゾオキサジアゾリルなど。
−硫黄原子１ないし２個および窒素原子１ないし３個を有する３ないし８員、好 ましくは５または６員の不飽和複素単環基、たとえば１．３−チアゾリル、１． ２−チアゾリル、チアゾリニル、チアジアゾリル（たとえば、１．　２．　４− チアジアゾリル、１．　３．　４−チアジアゾリル、１．　２．　５−チアジア ゾリル、１、　２．　３−チアジアゾリル）など；−硫黄原子１ないし２個およ び窒素原子１ないし３個を有する３ないし８員、好ましくは５または６員の飽和 複素単環基、たとえば、チアゾリジニルなどニー　硫黄原子１個を有する３ない し８員、好ましくは５または６員の不飽和複素単環基、たとえばチェニルなど； −硫黄原子１個を有する３ないし８員、好ましくは５または６員の飽和複素単環 基、たとえば、テトラヒドロチェニルなどニー　硫黄原子ｌないし２個および窒 素原子１ないし３個を有するフないし１２員の不飽和複素環基、たとえば、ベン ゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリルなど；などを挙げることができ、 前記の複素環基は、下記の如き１個またはそれ以上、好ましくは１個または２個 の適当な置換基によって置換されていてもよいニー　ヒドロキシ、 −保護されたヒドロキシであって、そのヒドロキシ基が、保護されたヒドロキシ （低級）アルキルの説明に述べられているような慣用のヒドロキシ保護基によっ て保護されているもので、より好ましくは、トリ（ＣＩ−Ｃ，）アルキルシリル オキシ： −ヒドロキシ（低級）アルキルまたは前に述べられたような保護されたヒドロキ シ（低級）アルキル、より好ましくはヒドロキシ（Ｃ，−Ｃ，）アルキル（たと えばヒドロキシメチルなど）、またはトリ（ＣＩ−Ｃ，）アルキルシリルオキシ （Ｃ，−Ｃ４）アルキル（たとえばヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチルな ど）ニ ー　ハロゲン、 −低級アルコキシ、これは直鎖または分岐アルコキシであって、たとえばメトキ シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ シルオキシなど、より好ましくは、Ｃ，−Ｃ４アルコキシ：、−前に述べられた ような低級アルキル、より好ましくはＣ，−Ｃ４アルキル（たとえばメチルなど ）； −低級アルコキシ（低級）アルキルであって、前に述べられたように、その低級 アルコキシおよび低級アルキル部分が、それぞれ低級アルコキシおよび低級アル キル用の部分と同じもので、より好ましくはＣ，−Ｃ，アルコキシ（ＣＩ−Ｃ４ ）アルキル； −低級アルキルアミノ（低級）アルキルであって、前に述べられたように、その 低級アルキル部分が低級アルキル用の部分と同じもので、より好ましくはＣ１− Ｃ４アルキルアミノ（Ｃ，−Ｃ４）アルキル；−保護された低級アルキルアミノ （低級）アルキルであって、これは、前に述べられたように、低級アルキルアミ ノ（低級）アルキルであり、そのアミノ基は、前に述べられたように、アシルの ような慣用のアミン保護基によって保護されており、より好ましくはＮ−（Ｃ， −Ｃ，）アルキル−Ｎ−（Ｃ，−Ｃ４）　アルケニルオキシカルボニルアミノ（ Ｃ，−Ｃ，）アルキルニー　イミノニ ー　保護されたイミノであって、前に述べられたように、そのイミノ基は、慣用 のイミノ保護基によって保護されており、より好ましくは、Ｃ，−Ｃ４アルケニ ルオキシカルボニルイミノ。
−低級アルキルアミノであって、前に述べられたように、その低級アルキル部分 が低級アルキル用の部分と同じもので、より好ましくはＣ，−Ｃ，アルキルアミ ノ； −保護された低級アルキルアミノであって、前に述べられたように、低級アルキ ルアミノ基であり、そのアミノ基は、前に述べられたアシルのような慣用のアミ ノ保護基によって保護されており、より好ましくはＣ，−Ｃ，アルキルアミノ； −モノ（またはジ）（低級）アルキルカルバモイルオキシであって、前に述べら れたように、低級アルキル部分が低級アルキル用の部分と同じもので、より好ま しくはモノ（またはジ）（Ｃ，−Ｃ，）アルキルカルバモイルオキシ；−前に述 べられたようなカルバモイル（低級）アルキル（たとえばカルバモイルメチルな ど）、 −アミノ（低級）アルカノイルであって、たとえばアミノアセチル、アミノプロ ピオニル、アミノブチリル、アミノイソブチリル、アミノバレリル、アミノイソ バレリル、アミノヘキサノイルなど（たとえば５−アミノバレリルなど）；−保 護されたアミノ（低級）アルカノイルであって、前に述べられたように、前記の アミノ（低級）アルカノイル基がアミノ保護基と同じものであり、好ましい例と しては、低級アルケニルオキシカルボニルアミノ（低級）アルカノイル［たとえ ば５−（アリルオキシカルボニルアミノ）バレリルなどコなどを挙げることがで きる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６の好ましい例としては、以下のものを挙げる ことができる。
Ｒ１はカルボキシまたはエステル化されたカルボキシ、Ｒ２はヒドロキシ（低級 ）アルキル、アシルオキシ（低級）アルキル、モノ（またはジまたはトリ）フェ ニル（低級）アルコキシ（低級）アルキル、トリ（低級）アルキルシリルオキシ （低級）アルキル、トリフェニルシリルオキシ（低級）アルキル、またはトリベ ンジルシリルオキシ（低級）アルキル、Ｒ３は水素または低級アルキル、 Ｒ４はカルバモイル（低級）アルキル、低級アルキルチオ（低級）アルキル；ア ミノ（低級）アルキル：モノ（またはジ）（低級）アルキルアミノ（低級）アル キル；低級アルコキシ（低級）アルキル；アンルアミノ（低級）アルキル：モノ （またはジ）（低級）アルキルカルバモイル（低級）アルキル；Ｎ−（低級）ア ルキル−Ｎ−カルバモイル（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、ピロリル チオ（低級）アルキル、ピロリニルチオ（低級）アルキル、イミダゾリルチオ（ 低級）アルキル、ビラゾリルチオ（低級）アルキル、ピリジルチオ（低級）アル キル、そのＮ−酸化物、ピリミジルチオ（低級）アルキル、ピラジニルチオ（低 級）アルキル、ピリダジニルチオ（低級）アルキル、トリアゾリルチオ（低級） アルキル、テトラゾリルチオ（低級）アルキル、ジヒドロトリアジニルチオ（低 級）アルキル、前記の複素環基のそれぞれは低級アルキルによって任意に置換さ れており；アゼチジニルカルボニル（低級）アルキル、ピロリジニルカルボニル （低級）アルキル、イミダゾリジニルカルボニル（低級）アルキル、ピペリジニ ルカルボニル（低級）アルキル、ピラゾリジニルカルボニル（低級）アルキル、 ピペラジニルカルボニル（低級）アルキル、前記の複素環基のそれぞれはヒドロ キシによって任意に置換されており；さらに、Ｒ８は水素、または、 Ｒ１はカルボキシ、ＣＯＯ−またはエステル化されたカルボキシ、Ｒ２はヒドロ キシ（低級）アルキル、アリルオキシ（低級）アルキル、モノ（またはジまたは トリアジニル（低級）アルコキシ（低級）アルキル、トリ（低級）アルキルシリ ルオキシ（低級）アルキル、トリフェニルシリルオキシ（低級）アルキル、また はトリベンジルシリルオキシ（低級）アルキル、Ｒ３は水素または低級アルキル 、 Ｒ４はカルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−（またはＮ、　Ｎ−ジ）（低級）ア ルキルカルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル −Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキ ル、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（低級）アルキルア ンモニオ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−［アミノ（ま たは保護されたアミノ）（低級）アルキル、カルバモイル（低級）アルキル、低 級アルキルによって任意に置換された複素環チオ（低級）アルキノ区低級アルキ ルチオ（低級）アルキル、ジ（低級）アルキルスルホニオ（低級）アルキル、ハ ロ（低級）アルキルチオ（低級）アルキル、低級アルコキシ（低級）アルキル、 カルバモイルオキシ（低級）アルキル、アシルアミノ（低級）アルキル、アミノ （または保護されたアミノ）（低級）アルキル、低級アルキルアミノ（低級）ア ルキル、Ｎ−保１−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、［カルバモ イル（低級）アルキルアミノ］　（低級）アルキル、Ｎ−保護−Ｎ−［カルバモ イル（低級）アルキルコアミノ（低級）アルキル、Ｎ−カルバモイル（低級）ア ルキル］　−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、Ｎ−カルバモイル （低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル 、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキル アミノ（低級）アルキル、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル −Ｎ。
Ｎ−ジ（低級）　アルキルアンモニオ（低級）アルキル、ヒドロキシおよびアミ ノ（または保護されたアミノ）（低級）アルカノイルからなる基によって任意に 置換された複素環カルボニル（低級）アルキル、低級アルキルおよびヒドロキシ （低級）アルキルからなる基によって任意に置換された複素環（低級）アルキル 、（低級）アルキルおよびカルバモイル（低級）アルキルからなる基によって任 意に置換された複素環（低級）アルケニル、［ヒドロキシ（低級）アルキルコア ミノ（低級）アルキル、Ｎ−保護−Ｎ−［保護されたヒドロキシ（低級）アルキ ルコアミノ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級 ）アルキルコアミノ（低級）アルキル、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［ヒ ドロキシ（低級）アルキル］アンモニオ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキ ル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル コアミノ（低級）アルキル、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロ キシ（低級）アルキルコカルバモイル（低級）アルキル］アンモニオ（低級）ア ルキル、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキルコ アミノ（低級）アルキル、またはＮ、　Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［カルバ モイルオキシ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル、Ｒ６は水素、また は、 Ｒ４は水素、Ｒ５は複素環基または低級アルキル、または、Ｒ４は水素、式−Ｎ −Ｒ’はＮ、Ｎ−ジ（低級）アルキルイミニオであり、または、 Ｒ４とＲ’は共に結合され、任意に置換されたＮを含む複素環基を形成する。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ″およびＲ５のより好ましい例としては、以下のものを挙 げることができる。
Ｒ１はカルホキ／、 Ｒ２はヒドロキシ（低級）アルキル、 Ｒ３は低級アルキル、 Ｒ″はカルバモイル（低級）アルキル、（低級）アルキルチオ（低級）アルキル 、ジ（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、低級アルコキシ（低級）アルキ ル、低級アルカノイルアミノ（低級）アルキル、ジ（低級）アルキルカルバモイ ル（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−カルバモイル（低級）アルキ ルアミノ（低級）アルキル、低級アルキルによって任意に置換されたテトラゾリ ルチオ（低級）アルキル、ヒドロキシによって任意に置換されたアゼチジニルカ ルボニル（低級）アルキル、 Ｒ５は水素、または、 Ｒ１はカルボキシまたはＣＯＯ−１ Ｒ２はヒドロキシ（低級）アルキル（たとえば１−ヒドロキシエチルなど）、 Ｒ３は低級アルキル（たとえばメチルなど）、Ｒ４はカルバモイル（低級）アル キル（たとえばカルバモイルメチルなど）、Ｎ−（またはＮ、　Ｎ−ジ）（低級 ）アルキルカルバモイル（低級）アルキル（たとえばＮ、　Ｎ−ジメチルカルバ モイルメチルなど）、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ−（低級）ア ルキルアミノ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル［たとえば、［ Ｎ−［２−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ］エチル］カル バモイルコメチルなど］　、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ −ン（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アル キル［たとえば［Ｎ−［２−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）　−Ｎ、　Ｎ−ジ メチルアンモニオ］エチルコカルバモイル］メチルなど］、Ｎ−［アミン（また は低級アルケニルオキシ力ルポニルアミノ）（低級）アルキルコカルバモイル（ 低級）アルキル［たとえばＮ−（４−アミノブチル）カルバモイルメチル、Ｎ− （４−アリルオキシカルボニルアミノブチル）カルバモイルメチルなど］、低級 アルキルテトラゾリルチオ（低級）アルキル［たとえば（１−メチルテトラゾー ル−５−イルチオ）メチルなど］、低級アルキルチオ（低級）アルキル（たとえ ばメチルチオメチルなど）、ジ（低級）アルキルスルホニオ（低級）アルキル（ たとえばジメチルスルホニオメチルなど）、ハロ（低級）アルキルチオ（低級） アルキル（たとえばジフルオロメチルチオメチルなど）、低級アルコキシ（低級 ）アルキル　（たとえばメトキシメチルなど）、カルバモイルオキシ（低級）ア ルキル（たとえばカルバモイルオキシメチルなど）、低級アルカノイルアミノ（ 低級）アルキル　（たとえばアセチルアミノメチルなど）、ハロ（低級）アルカ ノイルアミノ（低級）アルキル（たとえばトリフルオロアセチルアミノメチルな ど）、低級アルコキシカルボニルアミノ（低級）アルキル（たとえばメトキシカ ルボニルアミノメチルなど）、低級アルコキシ（低級）アルカノイルアミノ（低 級）アルキル（たとえばメトキシアセチルアミノメチルなど）、低級アルキルス ルホニルアミノ（低級）アルキル　（たとえばメチルスルホニルアミノメチルな ど）、カルバモイルアミノ（低級）アルキル（たとえばカルバモイルアミノメチ ルなど）、フェニル（低級）アルコキシカルボニルアミノ（低級）アルキル［た とえば２−（ベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルなど］、アミノ［または 低級アルケニルオキシカルボニルアミノまたハニトロ（Ｃ６−Ｃ，Ｏ）アル（低 級）アルコキシカルボニルアミノ］　（低級）アルキルしたとえばアミノメチル 、２−アミノエチル、アリルオキシカルボニルアミノメチル、２−　（ｐ−ニト ロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルなど］、低級アルキルアミノ（低級 ）アルキルまたはＮ−（低級）アルケニルオキシカルボニル−Ｎ−（低級）アル キルアミノ（低級）アルキル［たとえばメチルアミノメチル、（Ｎ−アリルオキ シカルポニルーＮ−メチルアミノ）メチルなどコ、［カルバモイル（低級）アル キルアミノ］　（低級）アルキルまたはＮ−（低級）アルケニルオキシカルボニ ル−Ｎ−［カルバモイル（低級）アルキルコアミノ（低級）アルキル［たとえば （カルバモイルメチルアミノ）メチル、２−（カルバモイルメチルアミノ）エチ ル、［Ｎ−アリルオキシカルボニルーＮ−（カルバモイルメチル）アミノコメチ ル、２−［Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−（カルバモイルメチル）アミ列エ チルなど］、Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ （低級）アルキルしたとえば２−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−メチルアミノ ）エチルなど］、Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ−ジ（低級）ア ルキルアンモニオ（低級）アルキル［たとえば３−（Ｎ−カルバモイルメチル− Ｎ、　Ｎ−ジメチルアンモニオ）プロピルなど］、Ｎ−（低級）アルキルカルバ モイル）（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル［た とえば３−　［Ｎ−（メチルカルバモイル）メチル−Ｎ−メチルアミノコプロピ ルなど］、Ｎ−（低級）アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ、　Ｎ− ジ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル［たとえば３−　［Ｎ−（メチ ルカルバモイル）メチル−Ｎ、　Ｎ−ジメチルアンモニオ］プロピルなど］、ヒ ドロキシアゼチジニルカルボニル（低級）アルキル（たとえば４−ヒドロキシア ゼチジン−１−イルカルボニルメチルなど）、アミノ（または低級アルケニルオ キシカルボニルアミノ）　（低級）アルカノイルピペラジニルカルボニル（低級 ）アルキル［たとえば［４−（５−アミノペンタノイル）ピペラジン−１−イル ］カルボニルメチル、［４−（５−アリルオキシカルボニルアミノペンタノイル ）ピペラジン−１−イル］カルボニルメチルなど］、ピリジル（低級）アルキル ［たとえば３−ピリジルメチル、２−（３−ピリジル）エチル、３−（１−ピリ ジニオ）プロピルなど］、低級アルキルピリジル（低級）アルキル［たとえば（ ｌ−メチル−３−ピリジニオ）メチル、２−（１−メチル−３−ピリジニオ）エ チルなど］、イミダゾリル（低級）アルキル［たとえば３−（１−イミダゾリル ）プロピル、４−イミダゾリルメチル、２−（４−イミダゾリル）エチルなど］ 、（低級）アルキルイミダゾリル（低級）アルキル［たとえば３−（２−メチル イミダゾルーｌ−イル）プロピル、（３−メチル−１−イミダゾリオ）メチル、 ３−（３−メチル−１−イミダゾリオ）プロピル、５−　（３−メチル−１−イ ミダゾリオ）ペンチル、１，３−ジメチル−２（または４）−イミダゾリオメチ ルなど］、ヒドロキシ（低級）アルキルイミダゾリル（低級）アルキル［たとえ ば３−　［３−（２−ヒドロキシエチル）−１−イミダゾリオ］プロピルなど］ 、低級アルキルによって置換されたヒドロキシ（低級）アルキルイミダゾリル（ 低級）アルキル［たとえば３−（４−ヒドロキシメチル−１−メチル−３−イミ ダゾリオ）プロピルなど］、チアゾリル（低級）アルキル［たとえば３−（３− チアゾリオ）プロピルなど］、ピラゾリル（低級）アルキル［たとえば（１，２ −ジメチル−４−ピラゾリオ）メチルなど］、ピロリジニル（低級）アルキルし たとえば３−（］−ピロリジニル）プロピルなど］、低級アルキルピロリジニル （低級）アルキル［たとえば３−（１−メチル−１−ピロリンニオ）プロピルな ど］、ピリジル（低級）アルケニル［たとえば２−（３−ピリジル）エチニルな どコ、低級アルキルピリジル（低級）アルキル［たとえば２−（ｌ−メチル−３ −ピリジニオ）エチニルなどコ、カルバモイル（低級）アルキルピリジル（低級 ）アルキル［たとえば２−（１−カルバモイルメチル−３−ピリジニオ）エチニ ルなど］、低級アルケニルイミダゾリル（低級）アルキルしたとえば２−（１， ３−ジメチル−２−イミダゾリオ）エチニルなど］、　［ヒドロキシ（低級）ア ルキルコアミノ（低級）アルキル［たとえば（２−ヒドロキシエチルアミノ）メ チル、２−　（２−ヒドロキシエチルアミノ）エチルなど］、Ｎ−（低級）アル ケニルオキシカルボニルーＮ−［低級アルケニルオキシカルボニルオキシ（低級 ）アルキルコアミノ（低級）アルキル［たとえば〔Ｎ−アリルオキシカルボニル −Ｎ−［２−（（アリルオキシカルボニルオキシ〕エチル］アミノ］メチルなど ］、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルコアミノ（低級 ）アルキル［たとえば２−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ コエチル、３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミムプロピルな ど］、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキルアンモ ニオ（低級）アルキル［たとえば３−［Ｎ、　Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロ キシエチル）アンモニオ］プロピルなど］、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ− ［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキルコアミノ（低級 ）アルキル〔たとえば３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル〕 カルバモイルメチルコアミノ］プロピルなど］、Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級 ）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル］−Ｎ、Ｎ−ノ（低級）アルキルア ンモニオ（低級）アルキル［たとえば３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［Ｎ−（２−ヒド ロキシエチル）カルバモイルメチル］アンモニオコプロピルなど］、Ｎ−（低級 ）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキルコアミノ（低級）アル キル［たとえば３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［２−（カルバモイルオキシ）エチルコ アミノコプロビルなど］、またはＮ。
Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキルアンモニ オ（低級）アルキル〔たとえば３−　［Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（カルバ モイルオキシ）エチル］アンモニオ］プロピルなど］、Ｒ６は水素、または Ｒ４は水素　Ｒ１１はチアジアゾリル（たとえば１．　３．　４−チアジアゾル −５−イルなど）または低級アルキル（たとえばメチルなど）、またはＲ４は水 素、式　＝Ｎ−Ｒ’はＮ、　Ｎ−ジ（低級）アルキルイミニオ（たとえばＮ、　 Ｎ−ジメチルイミニオなど）、またはＲ４とＲ８は共に結合され、低級アルキル によって任意に置換された１−ピロリニル環（たとえば１−メチル−２−ピロリ ニオ環など）を形成する。
本発明の目的化合物（Ｉ）の製造法を次に詳細に説明する。
（１）　製造法　１ 化合物（１）またはその塩は、化合物（Ｉ　Ｉ）またはその塩を化合物（Ｉ　Ｉ 　Ｉ）またはその塩と反応させることによって製造可能である。
化合物（Ｉ　Ｉ）の好適な塩としては、化合物（１）で示したのと同じものを挙 げることができる。
化合物（Ｉ　Ｉ　［）の好適な塩としては、化合物（１）に対して例示された酸 付加塩および／または分子間第４級塩と同じものを挙げることができる。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえばテトラヒドロ フラン、ジオキサン、水、メタノール、エタノール、緩衝液（たとえば燐酸塩緩 衝液など）など、またはそれらの混合物などの溶媒中で行われる。
本反応は、製造法２の説明において述べられているような有機または無機の塩基 の存在のもとて実施可能である。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温下で行われる。
（２）　製造法　２ 化合物（Ｉ−ｂ）またはその塩は、化合物（１−ａ）またはその塩をＲ４のカル ボキシ保護基脱離反応に付すことによって製造することができる。
化合物（１−ａ）および（Ｉ−ｂ）の好適な塩としては、化合物（１）で示した のと同じものを挙げることができる。
本反応は、通常、加水分解、還元などの慣用の方法によって行われる。
（ｉ）　加水分解 加水分解は、塩基または酸の存在下で行うのが好ましい。好適な塩基としては、 アルカリ金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、ア ルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、な ど）、アルカリ金属水素化物（たとえば水素化ナトリウム、水素化カリウムなど ）、アルカリ土類金属水素化物（たとえば水素化カルシウムなど）、アルカリ金 属アルコキシド（たとえばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリ ウムｔ−ブトキシドなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、炭 酸カリウムなど）およびアルカリ土類金属炭酸塩（たとえば炭酸マグネシウム、 炭酸カルシウムなど）、アルカリ金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウム、重 炭酸カリウムなど）などを挙げることができる。
好適な酸としては、有機酸（たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ 酢酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）および無機酸（たと えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸など）を挙げることができる。トリフルオロ 酢酸を用いる酸性加水分解は、通常、カチオン捕捉剤（たとえばフェノール、ア ニソールなど）を加えることによって促進される。
ヒドロキシ保護基がトリ（低級）アルキルシリルである場合、加水分解は、トリ （低級）アルキルアンモニウムハロゲン化物（たとえばトリブチルアンモニウム 弗化物など）の存在下で実施可能である。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえば水、ジクロロ メタン、アルコール（たとえばメタノール、エタノールなど）、テトラヒドロフ ラン、ジオキサン、アセトンなど、またはその混合物などの溶媒中で行われる。
液体の塩基または酸は溶媒として使用することもできる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で行われる。
（１１）　還元 本脱離反応に適用できる還元方法としては、金属（たとえば亜鉛、亜鉛アマルガ ムなど）、またはクロム化合物の塩（たとえば塩化第一クロム、酢酸第一クロム など）と有機または無機の酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、塩酸、硫酸など） との組合せを用いる還元：および慣用の金属触媒、たとえばパラジウム触媒（た とえばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム−炭素、コ ロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム、水 酸化パラジウム−炭素など）、ニッケル触媒（たとえば還元ニッケル、酸化ニッ ケル、ラネーニッケルなど）、白金触媒（たとえば白金板、白金海綿、白金黒、 コロイド白金、酸化白金、白金線など）などの存在下で行う慣用の触媒性還元な どを挙げることができる。触媒性還元が適用される場合、本反応は、おおよその 中性の状態で実施されることが好ましい。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえば水、アルコー ル（たとえばメタノール、エタノール、プロパツールなど）、ジオキサン、テト ラヒドロフラン、酢酸、緩衝溶液（たとえば燐酸緩衝液、酢酸緩衝液など）など 、またはそれらの混合物などの溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱下で行われる。
カルボキシ保護基がアリル基である場合、パラジウム化合物を用いる水素化分解 によって保護基を脱離することができる。
本反応に用いる好適なパラジウム化合物としては、パラジウム−炭素、水酸化ハ ラジウムー炭素、塩化パラジウム、パラジウム−配位子錯体、たとえばテトラキ ス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（ジベンジルイデンアセ トン）パラジウム（０）、ジ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ パラジウム（０）、テトラキス（トリフェニルフォスファイト）パラジウム（０ ）、テトラキス（トリエチルフォスファイト）パラジウム（０）などを挙げるこ とができる。
望ましい態様として、本反応は、反応系内で生成するアリル基を捕捉する物質、 たとえばアミン（たとえばモルホリン、Ｎ−メチルアニリンなど）、活性メチレ ン化合物（たとえばジメドン、ベンゾイルアセテート、２−メチル−３−オキソ 吉草酸なと）、シアノヒドリン化合物（たとえばシアン化α−テトラヒドロピラ ニルオキシベンジルなど）、アルカン酸またはその塩とたとえば蟻酸、酢酸、蟻 酸アンモニウム、酢酸ナトリウム、ナトリウム２−エチルヘキサン酸塩など）、 Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドなどの存在下で実施することができる。
本反応は、低級アルキルアミン（たとえばブチルアミン、トリエチルアミンなど ）、ピリジンなどの塩基の存在下で行うことができる。
本反応にパラジウム−配位子錯体を用いる場合、反応はその対応するリガンド（ たとえばトリフェニルホスフィン、トリフェニルフォスファイト、トリエチルフ ォスファイトなど）の存在下で行うのが好ましい。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえば水、メタノー ル、エタノール、プロパツール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニト リル、クロロフォルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、酢酸エチルなど、ま たはその混合物などの溶媒中で行われる。本脱離反応は、脱離するカルボキシ保 護基の種類に応じてその方法を選択すればよい。
（３）　製造法　３ 化合物（１−ｄ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｃ）またはその塩を、Ｒ；のヒ ドロキシ保護基脱離反応に付すことによって製造することができる。
化合物（１−ｃ）および（１−ｄ）の好適な塩としては、化合物（１）で示した のと同じものを挙げることができる。
本反応は、通常、加水分解、還元などの慣用の方法によって実施することができ る。
この加水分解および還元の方法、ならびに反応条件（たとえば反応温度、溶媒な ど）は、製造法２において化合物（１−ａ）のカルボキシ保護基の脱離反応で説 明したものと実質的に同じであるので、前記の記載を参照すればよい。
ヒドロキシ保護基がトリ（低級）アルキルシリルである場合、この保護基の脱離 も、テトラ（低級）アルキルアンモニウム弗化物（たとえばテトラブチルアンモ ニウム弗化物など）の存在下で行える。
（４）　製造法　４ 化合物（１−ｆ）またはその塩は、化合物（１−ｅ）またはその塩を、Ｒ＝のア ミノおよび／またはヒドロキシ保護基脱離反応に付すことによって製造すること ができる。
化合物（Ｉ−ｅ）および（１−ｆ）の好適な塩としては、化合物（１）で示した のと同じものを挙げることができる。
本反応は、通常、加水分解、還元などの慣用の方法によって実施することができ る。
この加水分解および還元の方法、ならびに反応条件（たとえば反応温度、溶媒な ど）は、製造法２において化合物（Ｉ−ａ）のカルボキシ保護基の脱離反応で説 明したものと実質的に同じであるので、前記の記載を参照すればよい。
ヒドロキシ保護基がトリ（低級）アルキルシリルである場合、この保護基の脱離 も、テトラ（低級）アルキルアンモニウム弗化物（たとえばテトラブチルアンモ ニウム弗化物など）の存在下で行える。
これらの製造法にしたがって得られた目的化合物は、抽出、沈殿、分別晶出、再 結晶、クロマトグラフィーなどの慣用の方法で分離、精製することができる。
化合物（ＩＩＩ）またはその塩の製造方法Ａを次に詳細に説明する。
（Ａ）　製造法　Ａ 化合物（Ｉ　Ｉ　Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）を化合物（Ｖ）と反応さ せることによって製造することができる。
化合物（ＩＶ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ　Ｉ　Ｉ）で示したのと同じも のを挙げることができる。
原料化合物（ＩＶ）は慣用の製造法によって製造することができる。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえば水、アルコー ル（たとえばメタノール、エタノール、プロパツール、アリルアルコールなど） 、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなど、またはそれらの混合物などの 溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし前温度下で行われる。
本発明の目的化合物（１）および医薬として許容されるその塩は新規であり、強 力な抗菌活性を示し、ダラム陽性およびグラム陰性の微生物などの多種の病原性 微生物の成長を抑制し、抗菌剤として有用である。
本発明では、より強力な抗菌活性を有する目的化合物（１）は次の式で表わすこ とができる。
ＯＯＨ ［式中、　刈、Ｒ４およびＲＲは、それぞれ前記定義の通りであり、　Ｒ”　ａ は低級アルキル基である。コ　および医薬として許容されるその塩である。
特に、最も強力な抗菌活性を有する化合物（１）は次の式で表わすことができる 。
Ｃ■Ｈ ［式中、　Ｒ３ａ、Ｒ’およびＲ６は、それぞれ前記定義の通りである。コおよ び医薬として許容されるその塩である。
さらに、Ｒ″としてジ（低級）アルキルアミノまたはＮ−（低級）アルキル−Ｎ −カルバモイル（低級）アルキルアミノを有する化合物（１）の第４級塩は、か なり低い毒性を示す。
ここで、目的化合物（１）の有用性を示すために、本発明の化合物（１）の代表 的化合物の抗菌活性に関する試験データを以下に示す。
試験管内の抗菌活性 試験方法 試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法により測定した。
各試験菌株をトリプトケース−ソイ−プロス中−夜培養してその１白金耳（生菌 数１０８　個／ｍｌ）を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むノ・−トインフ ージョン寒天（Ｈｌ−寒天）に接種し、３７℃、２０時間インキュベートした後 、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）をμｇ／ｍｌで表した。
試験化合物 実施例３の生成物 試験結果 治療のための投与には、本発明の目的化合物（りおよびその医薬として許容され る塩を、珈占ヒ合物を活性有効成分として、経口および非経口ならびに外用に適 した有機または無機固体または液体賦形剤などの医薬として許容される担体と共 に含有する慣用の医薬製剤の形で用いる。
前記医薬製剤は、錠剤、顆粒、粉末、カプセル剤などの固形状であってもよく、 溶液、懸濁液、シロップ、乳剤、レモネードなどの液状であってもよい。
必要ならば、上記製剤に、補助剤、安定化剤、湿潤剤、その他の常用添加剤、た とえば乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、白土、蔗糖、トウモロ コシ澱粉、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカオ 脂、エチレングリコール、酒石酸、クエン酸、フマール酸などを配合してもよい 。
化合物（Ｉ）の用量は、患者の年齢および症状または病気の種類、適用せんとす る化合物（１）の種類などによっても変動するが、一般的には、１日当たり約１ 　ｍｇないし約４，０００　ｍｇの範囲の量を、あるいはさらに多い量を患者− 人当たりに投与すればよい。本発明の目的化合物（１）の平均１回量を、約１　 ｍｇ、１０　ｍｇ、５０　ｍｇ、１００　ｍｇ、２５０　ｍｇ、５００ｍｇ、１ ０００　ｍｇ、２０００　ｍｇとして、病原性の微生物によって感染させられた 病気を治療するために用いればよい。
以下の製造例および実施例は、本発明を更に説明するために示したものである。
製造例１ エタノール（２８０ｍｌ）を、０℃で乾いた窒素雰囲気中において、アセチルク ロリド（１４８ｍｌ）に加える。０℃でＩＯ分間攪はん後、混合物をシアノアセ トアミド（５０ｇ）に加える。その混合物を０℃で５時間撹はんし、０℃で１８ 時間放置する。次に混合物をイソプロピルエーテル（４２０ｍｌ）に加える。生 じた結晶を濾過し、イソプロピルエーテルとエタノールの混合物（３：２）で洗 浄する。結晶を減圧下に５時間乾燥し、エチルカルバモイルアセトイミダート・ 塩酸塩（８１，８ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３６　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．０Ｈｚ ）。
３．７１　（３Ｈ，ｓ）、　４．４７　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）製造例 ２−１） ジクロロメタン（３０ｍｌ）中のクロロアセトニトリル（３ｍｌ）と１−メチル −５−メルカプトテトラゾール（５，５０ｇ）の撹はんされた溶液に、０℃でト リエチルアミン（１３ｍｌ）を加える。０℃で１時間撹はん後、反応混合物を酢 酸エチル（１００ｍｌ）で希釈し、生じた沈澱物を濾去する。濾液を、食塩水、 塩酸（６Ｎ）、炭酸カリウム水溶液（３０％）、さらに食塩水で順次洗浄し、硫 酸マグネシウムで乾燥する。溶媒の蒸発により、５−シアノメチルチオ−１−メ チルテトラゾール（５，６６ｇ）を得る。
ＮＩＩＲ（ＣＤＣＬ、δ）　＋　４．０１　（３Ｈ，ｓ）、　４．１７　（２Ｈ ，ｓ）製造例２−２） エチル（ｌ−メチルテトラゾール−５−イルチオ）アセトイミダート・塩酸塩を 製造例Ｉと実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２８　（３Ｂ、　ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　４．００　（３）１．　ｓ）。
４．４６　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．４７　（２１１，ｓ）製造例３ エチルメチルチオアセトイミダート・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得 る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）：１．４１　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　２ ．２６　（３Ｈ，ｓ）。
３．７３　（２Ｈ，ｓ）、　４．５２　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）製造例４ エチルメトキシアセトイミダート・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る 。
ＩＲ（スノヨール）　＋　１６６０ｃｍ’製造例５−１） 水（２００ｍｌ）とテトラヒドロフラン（３００ｍｌ）の混合物中のアミノアセ トニトリル・塩酸塩（２５，０ｇ）の撹はんされた溶液に、水酸化ナトリウム水 溶液（４Ｎ）でｐＨを約９゜５に調整しながら、０℃でアセチルクロリド（３９ ｍｌ）を加える。溶媒の蒸発後、残留物を酢酸エチル（１１ｘ　２）で抽出する 。抽出液を合わせ減圧下で溶媒を蒸発させ、（アセチルアミノ）アセトニトリル （２５，７８ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．８８　（３Ｈ，ｓ）、　４．ｌＱ　（ ２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝５．２Ｈｚ）、　８．５７　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）製造例５−２） エチル（２−カルバモイルオキシエチルチオ）アセトイミダート・塩酸塩を製造 例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３９　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．８９　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝６１（ｚ）、　３．７８　（２１，ｓ）、　４．０６　（２）１゜ｔ、　Ｊ ＝６Ｈｚ）、　４．４８　（２■、Ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）製造例６−１） メタノール（１００ｍｌ）中のジメチルアミン・塩酸塩（２７ｇ）とトリエチル アミン（４６ｍｌ）の溶液に、シアン酢酸メチル（２６，５ｍｌ）を加える。３ 日後、溶媒を除去し、残留物を酢酸エチル中で溶解する。沈澱物を濾去し、濾液 を減圧下で濃縮する。残留油をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサン と酢酸エチルの混合物（ｌ：２ないし０　：　Ｉ　、Ｖ、’Ｖ）を溶離し、ジメ チルカルバモイルアセトニトリル（２１，９ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．８４　（３Ｈ，ｓ）、　２．９２　（ ３Ｈ，ｓ）。
３．９９　（２Ｈ，ｓ） 製造例６−２） エタノール（７，８５１１１１）とクロロフォルム（１０ｍｌ）の混合物中のジ メチルカルバモイルアセトニトリル（１５，０ｇ）の溶液に、塩化水素（４，８ ８ｇ）を０℃で入れる。生じた混合物を０℃で２４時間放置する。沈澱物を濾取 し、ジエチルエーテルで洗浄し、減圧下で乾燥し、エチルジメチルカルバモイル アセトイミダート・塩酸塩（２７，１０ｇ）を得る。
ＮＮＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３６　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．８６　（３Ｈ。
ｓ）、　３．００　（３Ｈ，ｓ）、　４．０１　（２Ｈ，ｓ）、　４．５０　（ ２Ｈ，Ｑ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　１２．０　（１１，ｂｒ　ｓ）製造例７−１） メタノール（８８０ｍｌ）中の１−（ジフェニルメチル）−３−ヒドロキシアゼ チジン・塩酸塩（４３，７ｇ＞と炭素上の１０％パラジウム（５０％湿潤、８． ７４ｇ）の混合物を水素雰囲気中において１０時間撹はんする。触媒を濾去し、 濾液を濃縮し。残留物を水に溶解し、酢酸エチルで洗浄する。溶媒の蒸発により 、３−ヒドロキシアゼチジン・塩酸塩（１７，９ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．７１−３．８０　（２Ｈ，ｍ）、　３ ．９８−４．０７　（２１（。
ｍ）、　４．４７−４．６１　（ＩＨ，ｌ１１）製造例７−２） メタノール（６５ｍｌ）中の３−ヒドロキシアゼチジン・塩酸塩（１７，３ｇ） とトリエチルアミン（２６ｍｌ）の溶液に、シアン酢酸メチル（１２，７ｍｌ） を加える。７日後、溶媒を除去し、残留物を酢酸エチル中で溶解する。生じた沈 澱物を濾去し、濾液を減圧下で濃縮し、３−（３−ヒドロキシアゼチジン−１− イル）−３−オキソプロピオノニトリル（１８，２ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．５７−３．６４　（ＩＨ，ｍ）、　３ ．８４−３．９１　（ＬＨ。
ｍ）、　４．０２−４．１１　（１８，ｍ）、　４．２４−４．３２　（１１（ 、ｍ）。
４．３８−４．４７　（ＩＨ，ｍ）、　５．５０　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ） 製造例７−３） エタノール（６，９ｍｌ）とクロロフォルム（４５ｍｌ）の混合物中の２−（３ −ヒドロキシアゼチジン−１−イル）−２−オキソプロピオノニトリル（１５ｇ ）の溶液に、０℃で攪はんしながら塩化水素ガスを加える。生じた白い沈澱物を 濾去し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、減圧下で乾燥し、エチル３−（３− ヒドロキシアゼチジン−１−イル）−３−オキソプロピオンイミダート・塩酸塩 （１３，７ｇ）を得る。。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．４１　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。
３．５６−４．５５　（９Ｈ，ｍ） 製造例８−１） ２−ブタノン（１０ｍｌ）中のＮ、Ｎ−ジメチルグリシンアミド（２，２０ｇ） の懸濁液に、４−ブロモブチロニトリル（２，１５ｍｌ）を加え、生じた混合物 を８０℃で４時間加熱する。
生じた沈澱物を濾取し、２−ブタノンで洗浄し、減圧下で乾燥し、Ｎ−カルバモ イルメチル−Ｎ−（３−シアノプロピル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニウムプロ ミド（３，５５ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＩＩＳＯ−ｄ、、６）：　１．９７−２．１４　（２）１．　ｍ）、 　２．６５　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　３．２２　（６Ｈ，ｓ）、３．５３−３．６３　（２Ｈ， ｍ）、　４．１２（２Ｈ，ｓ）、　７．２７　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）、７．９８　 （１８，ｂｒ　ｓ）製造例８−２） エチル４−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニオ）プチルイ ミダートブロミド・塩酸塩を、Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−（３−シアノプロ ピル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニウムプロミド（３，５４ｇ）から、製造例１ と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　＋　１．３８　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ ）、　１．９０−２．２２（２Ｈ，ｍ）、　２．６８　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７． ０Ｈｚ）、　３．２１　（６Ｈ，ｓ）。
３．３５−３．６２　（２Ｈ，ｍ）、　４．１０　（２１（、ｓ）、　４．４０ 　（２Ｈ，ｑ。
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　７．７３　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）、　８．０５　（ＩＨ，ｂ ｒ　ｓ）製造例９−■） テトラヒドロフラン（２００ｍｌ）中の水素化ナトリウム（６，８ｇ、　６２％ 油）の懸濁液を窒素雰囲気中において４０℃に加熱し、その後、この溶液にアリ ルオキシカルボニルアミノアセトニトリル（２２，３ｇ）を滴下して加える。２ ０分後、反応混合物にブロモ酢酸エチル（１８，５ｍｌ）を滴下して加える。４ 時間後、反応混合物を室温にまで冷却し、それに水（５ｍｌ）を加える。その溶 液を酢酸エチル（ＩＩりと水の混合物に注ぎ、分離された有機層を食塩水でミロ 洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒の蒸発により油状物を得て、それを シリカゲル（４００ｍｌ）クロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン、ｎ−へキ サン中の１０％酢酸エチル、酢酸エチル中の３３％ｎ−へキサンで順次溶離する 。所望の化合物を含む両分を減圧下で濃縮し、２−［Ｎ−（アリルオキシカルボ ニル）−Ｎ−（シアノメチル）アミノコ酢酸エチル（３０，９６ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　＋　１．３０　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１６Ｈｚ） 、　４．１５　（２Ｈ。
ｄ、　Ｊ＝６．７８Ｈｚ）、　４．２３　（２）１．　ｑ、　Ｊ＝７．１４Ｈｚ ）、　４．３６　（２■。
ｄ、　Ｊ＝１１．０７Ｈｚ）、　４．６０−４．７０　（２Ｈ，ｍ）、　５．２ ０−５．４１　（２Ｈ。
ｍ）、　５．７５−６．０２　（１０，ｍ）製造例９−２） エタノール（８０ｍｌ）中の２−［Ｎ−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ−（シ アノメチル）アミノコ酢酸エチル（１５ｇ）の溶液に、アンモニア溶液（水内に ２８％）（６０ｍｌ）を室温で加え、その混合物を圧装置する。溶媒を減圧下で 除去し、残留物を得て、それをシリカゲル（２００ｍｌ）クロマトグラフィーに 付し、酢酸エチル中の３３％ｎ−ヘキサンと酢！エチルで順次溶離し、Ｎ−（ア リルオキシカルボニル）−Ｎ−（カルバモイルメチル）アミノアセトニトリル（ １０，８５ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　＋　４．０８　（２Ｈ，ｓ）、　４．３７　（２Ｈ ，ｓ）。
４．６０−４．７０　（２Ｈ，ｍ）、　５．２０−５．４０　（２）１．　ｍ） 、　５．９２　（Ｉｌｌ。
ｂｒ　ｓ）、　６．２０　（２８，ｂｒ　ｓ）製造例９−３） エチル２−［Ｎ−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ−（カルバモイルメチル）ア ミノ］アセトイミダート・塩酸塩を、９２％の収率で、製造例１と実質的に同じ 方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　ＩＪ７　（３Ｈ１ｔ、　Ｊ＝６．５６Ｈｚ ）、　４．００−４．１５（２Ｈ，ｍ）、　４．４０−４．６０　（４Ｈ，ｍ） 、　５．１５−５．３５　（２Ｈ，ｍ）。
５．５８　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　５．８０−５．９２　（ＩＨ，ｍ）製造例１ Ｏ−１） テトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）中の水素化ナトリウムの懸濁液（３，５４ｇ 、　６２％油中）を窒素雰囲気中において４０℃に加熱し、この溶液に、Ｎ−（ アリルオキシカルボニル）アミノアセトニトリル（１１，７ｇ）を滴下して加え る。２０分後、反応混合物に、２−ｔ−ブチルジメチルノリルオキシ−１−ヨー ドエタン（２５ｇ）を滴下して加え、その後、その混合物をさらに６時間還流す る。反応混合物を室温にまで冷却し、酢酸エチル（５００ｍｌ）と水（１００ｍ ｌ）の混合物に注ぐ。有機層を分離し、水と食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシ ウムで乾燥する。溶媒の蒸発により油状物を得て、それをシリカゲル（３００ｍ ｌ）クロマトグラフィーに付し、ヘキサン中の１０％、２５％、３３％酢酸エチ ルで順次溶離し、Ｎ−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ−（２−ｔ〜ブチルジメ チルシリルオキシエチル）アミノアセトニトリル（１０，４ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　：　０．０８　（６Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９Ｈ ，ｓ）、　３．５１（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝５．０）１ｚ）、　３．７９　（２Ｈ，ｍ ）、　４．２８−４．３４　（２Ｈ。
ｍ）、　４．５０−４．６０　（２Ｈ，ｍ）、　５．１０−５．４０　（２Ｈ， ｍ）。
５．７０−６．０５　（ＩＨ，ｍ） 製造例１Ｏ−２） 酢酸エチル（５０ｍｌ）中のＮ−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ−（２−ｔ− ブチルジメチルシリルオキシエチル）アミノアセトニトリル（１０，２ｇ）と６ Ｎ−塩酸（６，８３ｍｌ）の混合物を室温で１．５時間撹はんする。生じた沈澱 物を濾去し、濾液に酢酸エチル（１００ｍｌ）を加える。生じた溶液を、水、（ ５０ｍｌ　ｘ　３）、食塩水（５０ｍｌ）、水中の飽和炭酸水素ナトリウム塩（ ５０１１１１Ｘ　２）、さらに食塩水（５０ｍｌ）で順次洗浄し、硫酸マグネシ ウムで乾燥する。溶媒の蒸発により、油状物を得て、それをシリカゲルクロマト グラフィーに付し、ｎ−へキサン中の５０％酢酸エチルと酢酸エチルで順次溶離 し、Ｎ−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノア セトニトリル（５゜７１ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　：　２．０　（Ｉｌｌ、　ｂｒ　ｓ）、　３．５８ 　（２■、ｔ。
Ｊ＝５．２Ｈｚ）、　３．８７　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．２Ｈｚ）、　４．２５ 　（２１，ｓ）。
４．４０−４．５０　（２Ｈ，ｍ）、　５．００−５．２０　（２Ｈ，ｍ）、　 ５．６０−６．００（ＩＨ，ｍ） 製造例１Ｏ−３） テトラヒドロフラン（６０ｍｌ）中のＮ−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ−（ ２−ヒドロキシエチル）アミノアセトニトリル（５，６５ｇ）とピリジン（３ｍ ｌ）の溶液に、クロロギ酸アリル（３，６ｍｌ、）を０℃で滴下する。反応混合 物を室温まで暖め、１２時間放置する。反応混合物を酢酸エチル（３００ｍｌ） に注ぎ、水、１Ｎ−塩酸、食塩水、水中の飽和炭酸水素ナトリウム塩、さらに食 塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒の蒸発により、油状物を 得て、それをシリカゲル（２５０ｍｌ）クロマトグラフィーに付し、ｎ−へキサ ン中の２０％酢酸エチル、さらにｎ−ヘキサン中の５０％酢酸エチルで順次溶離 し、Ｎ−（２−アリルオキシ力ルポニルオキシエチル）−Ｎ−（アリルオキシカ ルボニル）アミノアセトニトリル（４，５２ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）：３．７０（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝５．２Ｈｚ）、４．２０ −４．４０（４Ｈ，ｍ）、　４．６０−４．７０　（４Ｈ，ｍ）、　５．２０− ５．４５　（４Ｈ，ｍ）。
５．８０−６．００　（２Ｈ，ｍ） 製造例１Ｏ−４） エチル２−［Ｎ−（２−アリルオキシカルボニルオキシエチル）−Ｎ−（アリル オキシカルボニル）アミノコアセトイミダート・塩酸塩を、９８．５％の収率で 、製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−煽δ）　：　１．３３　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ） 、　３．５０−３．７０（２Ｈ，ｍ）、　４．２０−４．３０　（２■、　ｍ） 、　４．４０−４．６５　（６８，ａ＋）。
５、１０−５．４０　（４■、　ｍ）、　５．８０−６．００　（２Ｈ，ｍ）製 造例１１ ジクロロメタン（１００ｍｌ）中の２−ヨードエタノール（７，８ｍ１）とイミ ダゾール（１５゜８３ｇ）の溶液に、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（１５ ，８３ｇ）をＯ”Ｃで少量ずつ加える。２時間後、沈澱物を濾去し、濾液を、Ｉ Ｎ−塩酸、食塩水、水中の飽和炭酸水素ナトリウム塩、さらに食塩水で順次洗浄 する。溶媒の蒸発により油状物を得て、それをシリカゲル（３００ｍｌ）クロマ トグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルの混合物（９：ｌないし４：ＬＶ／ Ｖ）で溶離し、２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ＋ヨードエタン（２６，９ ３ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＬ、δ）　＋　０．０８　（６Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９■、 　ｓ）、　３．２０（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６．７５Ｈｚ）、　ａ、ａａ　（２１１， ｔ、Ｊ＝６．７４Ｈｚ）製造例１２−１） メタノール（６０ｍｌ）中のシアノ酢酸メチル（１２，９ｍｌ）とＮ−（４−（ ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ブチル）アミン（２１，１ｇ）とトリエチノげ ミノ（２３ｍｌ）の混合物を室温で１５時間放置する。混合物中の溶媒の蒸発に より、残留物を得て、それをシリカゲル（８００ｍｌ）クロマトグラフィーに付 し、ｎ−へキサンと酢酸エチルの混合物（７：３）で溶離し、Ｎ−（４−（ｔ− ブトキシカルボニルアミノ）ブチル）−２−シアノアセトアミド（１７，３ｇ） を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　：　１．４５　（９Ｈ，ｓ）、　１．４８−１．６ ２　（４Ｈ，ｍ）。
３．１５　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ４．５Ｈｚ）、　３．３３　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝６ ．５Ｈｚ）。
３．３８　（２Ｈ，ｓ）、　４．６Ｂ、　６．７４　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａ ｃｈ　ｂｒ　ｓ）製造例１２−２） ジクロロメタンの混合物中のＮ−（４−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ブチ ル）−２−シアノアセトアミド（１６，１９ｇ）の溶液に、アニソール（１６＋ ｏｌ）とトリフルオロ酢酸（３０ｍｌ）を０℃で加える。生じた混合物を室温で １．５時間撹はんする。溶媒の蒸発後、残留物を引き上げ、冷水（２００ｍｌ） と酢酸エチル（２００ｍｌ）の混合物に入れる。
分離された水性層に、テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）を加え、その混合物に 、クロロギ酸アリル（７，４ｍ１）を加える。このとき、０℃で３Ｎ水酸化カリ ウム水溶液により、ｐＨを約９に調整する。わずかな溶媒の蒸発により残留物水 溶液を得て、それを酢酸エチルで数回抽出し、有機層を合わせ硫酸マグネシウム で乾燥する。溶媒の蒸発により、残留物を得て、それをシリカゲル（３００ｍｌ ）クロマトグラフィーに付′し、ｎ−へキサンと酢酸エチルの混合物（１：１． Ｖ／Ｖ）で溶離し、Ｎ−（４−（アリルオキシカルボニルアミノ）ブチル）−２ −シアノアセトアミド（８，３７ｇ）を得る。
ＩＲ（ヌノＪ−ル）　：　３２７０．　２２６０．　１６５０　ｃｍ−’ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄａ、δ）　：　１．３−１．５　（４Ｈ，ｍ）、　２．８−３． １５　（４Ｈ。
ｍ）、　３．６１　（２Ｈ，ｓ）、　４．４−４．５　（２Ｈ，ｍ）、　５．１ −５．３　（２Ｈ。
ｍ）、　５．７−６．０５　（ＩＨ，ｍ）、　７．２１　（ＩＨ，ｂｒ　ｔ）、 　８．３３　（ＩＨ。
ｂｒ　ｔ） 製造例１２−３） エチル２−［Ｎ−（４−（アリルオキシカルボニルアミノ）ブチル）カルバモイ ル］アセトイミダート・塩酸塩を製造例Ｉと実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２５−１．５　（７Ｈ，ｍ）、　２． ９−３．２　（４１゜ｌ１１）、　３．６９　（２Ｈ，ｓ）、　４．３−４．５ 　（４Ｈ，ｍ）、　５．０５−５．３５（２Ｈ，ｍ）、　５．８−６．０　（Ｉ Ｈ，ｍ）製造例１３−１） ジクロロメタン（２５０ｍｌ）中の５−（アリルオキシカルボニルアミノ）ペン タン酸（２５，５ｇ）とＮ−（ｔ−ブトキシカルボニル）ピペラジン（２３，６ １ｇ）の混合物に、ｌ−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジ イミド（Ｉｓｃ）・塩酸塩（２４，３ｇ）を０℃で加え、その混合物を室温で１ 時間撹はんする。溶媒の蒸発により、残留物を得て、それを引き上げ、水（２０ ０ｍｌ）と酢酸エチル（２００ｍｌ）の混合物に入れる。分離された有機層を、 塩酸（ＩＮ、　５０ｍ１）、水、ナトリウム重炭酸水溶液（５０ｍｌ）、さらに 食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒の蒸発により、１−（ ５−（アリルオキシカルボニルアミノ）ペンタノイル）−４−ｔ−ブトキシカル ボニルピペラジン（４６，２ｇ）を得る。
この化合物を次の段階のための原料化合物として直ちに使用する。
製造例１３−２） １−（５−（アリルオキシカルボニルアミノ）ペンタノイル）−４−ｔ−ブトキ シカルボニルピペラジン（４４，６２ｇ）のアセトニトリル（４００ｍｌ）溶液 に、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物（６９，０ｇ）を加え、生じた混合物を室 温で４時間撹はんする。溶媒の蒸発により、残留物を得て、それを引き上げ、メ タノール（１００ｍｌ）に入れ、その溶液に、トリエチルアミン（６０ｍｌ）と シアノ酢酸メチル（４０ｍｌ）を加える。生じた混合物を、４０℃で３日間、室 温でＩＯ日日間その後、７０’Ｃで２日間撹はんし、溶媒を蒸発させる。残留物 をシリカゲル（６１）クロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルと エタノールの混合物（８：２：０ないし０：８５：１５、Ｖ／Ｖ）　テ溶離し、 １−（５−７１Ｊルオキシカルポニルアミノ）ペンタノイル）−４−（シアノア セチル）ピペラジン（１９゜８７ｇ）を得る。
ＩＲ（スジＪ−ル）　：　３３００．　２２５０．　１６１０　ｃｍ−’ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ＋、δ）　：　１．３−１．６　（４Ｈ，ｍ）、　２．２−２． ４　（２Ｈ１ｍ）。
２．８５−３．０５　（２Ｈ，ｍ）、　３．２−３．６　（８Ｈ，ｍ）、　４． ０７　（２１１゜ｓ）、　４．４−４．５　（２Ｈ，ｍ）、　５．１−５．３５ 　（２Ｈ，ｍ）、　５．７−６．０５（Ｉ）Ｉ、　Ｉｌ＋）、　７．１９　（Ｉ Ｉ、　ｂｒ　ｔ）製造例１３−３） エチル２−［４−（５−（アリルオキシカルボニルアミノ）ペンタノイル）ピペ ラジン−■−イルカルボニル〕アセトイミダート・塩酸塩を製造例１と実質的に 同じ方法で得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３−１．６　（７１（、の）、　２ ．２−２．４５　（２Ｈ。
ｍ）、　２．９−３．１　（２Ｈ，ｍ）、　３．３−３．７　（８Ｈ，ｍ）、　 ４．０−４．２（２Ｈ，ｍ）、　４．４−４．６　（５Ｈ，ｍ）、　５．１−５ ．３５　（２Ｈ，ｍ）。
５．９−６．０５　（ＩＨ，ｍ） 製造例１４ エチル３−（ベンジルオキシカルボ二）げミノ）プロパンイミダート・塩酸塩を 製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３２　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．７６　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝６．４）１ｚ）、　３．２５−３．４５（２■、　ｍ）、　４．４２　（２ Ｈ，Ｑ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　５．０３　（２８，ｓ）、　７．３５　（５Ｈ，ｓ）、　７． ６２　（ＩＨ，ｔ。
Ｊ＝５．６Ｈｚ） 製造例１５ エチル３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）プロパンイミダート ・塩酸塩（１８，２９ｇ）を製造例Ｉと実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）、■。３３　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 　２．７７　（２Ｈ。
ｔ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．１−３．５　（２Ｈ，ｍ）、　４．３８　（２ １，ｑ。
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　５．１９　（２Ｈ，ｓ）、　７．６０　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ ＝８．７１１ｚ）。
７．８０　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝５．８Ｈｚ）、　８．２５　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝ ８．７Ｈｚ）製造例１６−１） Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（６０ｍｌ）中の水素化ナトリウム（油中の分散 、６２％、２゜３１ｇ）の撹はんされた懸濁液に、少量ずつ、３−（ｔ−ブトキ シカルボ二）げミノ）プロパンニトリル（９，９８ｇ＞を室温で加える。室温で の激しい４時間の撹はんの後、生じた溶液を０℃に冷却し、その溶液に、■＋ブ チルジメチルシリルオキシー２−ヨードエタン（１７，６ｇ）を加え、その混合 物を３時間室温に暖める。反応混合物を引き上げ、冷水（３００ｍｌ）と酢酸エ チル（３００ｍｌ）の混合物に入れる。有機層を分離し、水と食塩水でよく順次 洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒の蒸発により、残留物を得て、それ をシリカゲル（３００ｍｌ）クロマトグラフィーに付し、ｎ−へキサンと酢酸エ チルの混合物（９５：５ないし８０：２０）で溶離し、３−［Ｎ＋ブトキシカル ボニル−Ｎ−（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル）アミノコプロ パンニトリル（１０，５ｇ）を得る。
ＮＩＩＲ（ＣＤＣ１，、δ）　：　０．０５　（６Ｈ，ｓ）、　０．９０　（９ Ｈ，ｓ）、　１．４５゜１．４７　（ｔｏｔａｌ　９Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ）、　２ ．５−２．６　（２Ｈ，ｍ）、　３．３７（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　 ３．５７　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．０）１ｚ）。
３．５５−３．７５　（２Ｈ，ｍ） 製造例１６−２） テトラヒドロフラン（７０ｍｌ）中の３−［Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ− （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル）アミノプロパンニトリル（ １０，０ｇ）の撹はんされた溶液に、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリ ド水溶液（７０％、１２．５ｇ）を室温で加える。室温で３０分間攪はん後、反 応混合物を引き上げ、水（２００ｍｌ）と酢酸エチル（１００ｍｌ）とへキサン （１００ｍｌ）の混合物に入れる。有機層を分離し、食塩水で洗浄し、硫酸マグ ネシウムで乾燥する。溶媒の蒸発により、残留物を得て、それをシリカゲル（２ ００ｍｌ）クロマトグラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルの混合物（９：ｌ ナイシ０：１０、Ｖ／Ｖ）　テ溶離し、３−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ −（２−ｔ：　トｏキシエチル）アミノ）プロパンニトリル（５，０７ｇ）を得 る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ、δ）　＋　１．４８　（９Ｈ，ｓ）、　２．０９　（ＩＨ ，ｂｒ　ｓ）、　２．６５（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　３．４５　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ ＝５．０Ｈｚ）、　３．５７　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝６．８Ｈｚ）、　３．７７　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）製造例１６− ３） ３−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ）プ ロパンニトリル（５，０５ｇ）を室温でトリフルオロ酢酸（２５ｍｌ）に溶解す る。２時間の放置の後、溶媒を減圧下で除去する。残留物を引き上げ、エタノー ル（１，５ｍ１）とクロロフォルム（４０ｍｌ）の混合物に入れる。その混合物 に、０℃で塩化水素（１，７ｇ）を入れ、生じた混合物を５℃で１０時間放置す る。溶媒の蒸発により、エチル３−（（２−ヒドロキシエチル）アミノ）プロパ ンイミダートリ・塩酸塩を得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　＋　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｉ Ｉｚ）。
４．４２　（２１１，Ｑ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）製造例１７−１） メチルエチルケトン（８０ｍｌ）中の３−アミノプロパンニトリル（２０ｍｌ） の溶液に、ヨードアセトアミド（２５，０ｇ）を室温で加える。１５時間攪はん 後、生じた粘性の油状物をデカンテーションによって収集し、引き上げ、冷水（ １００ｍｌ）とテトラヒドロフランに（２００ｍｌ）の混合物に入れる。その混 合物に、少量ずつ、ベンジルオキシカルボニルクロリド（３８，８ｍｌ）を加え る。このとき、０℃で水酸化カリウム水溶液（３Ｎ）により、ｐＨを約９に調整 する。溶媒の蒸発により、残留物を得て、それをシリカゲル（８００ｍｌ）クロ マトグラフィーに付し、酢酸エチルとメタノールの混合物（１０：０ないし８： ２、Ｖ／Ｖ）で溶離し、３−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−ベンジルオキシカ ルボニルアミノ）プロパンニトリル（１６，６ｇ）を得る。
ＮＩＩＲ（ＣＤＣＩ、δ）　：　２．７０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　３．６６　 （２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝６．５Ｈｚ）、　４．０２　（２Ｈ，ｓ）、　５．１７　（２Ｈ，ｓ）、　 ５．６１．６．０（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ　ｓ）、　７．３６　（ ５Ｈ，ｓ）製造例１７−２） テトラヒドロフラン（２５０ｍｌ）とメタノール（６０ａ＋１）の混合物中の３ −（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）プロパン ニトリル（１６，６ｇ）の溶液に、酢酸（７，２ｍｌ）と炭素上のパラジウム（ ２０％、５０％湿潤、３．３ｇ）を窒素雰囲気中において加える。生じた混合物 を室温で２時間水素雰囲気中において撹はんする。
濾過により触媒を除去し、溶媒を蒸発させ、３−（カルバモイルメチルアミノ） プロパンニトリルアセタートを得る。それを、それ以上に浄化することなく次の 段階で使用する。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．５５−２．６５　（２Ｈ，ｍ）、　２ ．６５−２．８０　（２１゜ｍ）、　３．０８　（２Ｈ，ｓ） 製造例１７−３） エチル３−（カルバモイルメチルアミノ）プロパンイミダート・ジ塩酸塩（１３ ，５５ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
Ｎｉ１Ｒ（開５Ｏ−ｄ、、δ）　＋　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ ）。
４．４５　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）製造例１８−１） ３−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−アリルオキシカルボニルアミノ）プロパン ニトリル（１９，５ｇ）を、３−アミノプロパンニトリル（２０ｍｌ）、ヨード アセトアミド（２５ｇ）とアリルオキシカルボニルクロリド（３３ｍｌ）から、 製造例１４−１）と実質的に同じ方法で得る。
ＩＲ（ヌノ葺−ル）　：　３３７０．　３１５０．　１６５０　ｃｍ′ＮＭＲ（ ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　＋　２．６５−２．８　（２Ｈ，ｍ）、　３．４−３． ６　（２Ｈ。
ｍ）、　３．８８．３．８４　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ）、　４．４ −４．６　（２８゜ｍ）、　５．１−５．４　（２Ｈ，ｍ）、　５．７−６．１ 　（ＩＩ（、ｍ）、　７．０５．７．４１（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ 　ｓ）製造例１８−２） エチル３−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−カルバモイルメチルアミノ）プ ロパンイミダート・塩酸塩（１１，３６ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法で得 る。
ＮＭＲ’ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３８　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ ）、　２．７−２．９（２Ｈ，ｍ）、　３．５−３．８　（２Ｈ，ｍ）、　３． ８−４．１　（２Ｈ，ｍ）、　’４．３９（２■、　ｑ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）、 　４．４５−４．６　（２８，ｍ）、　５．０−５．４　（２Ｈ。
ｍ）、　５．７−６．１　（ＩＨ，ｍ）製造例１９−１） メチルエチルケトン（５０ｍｌ）中の３−（メチルアミノ）プロパンニトリル（ １２，６ｍｌ）とヨードアセトアミド（２５ｇ）と炭酸カリウム（１１，２ｇ） の混合物を室温で２．５時間撹はんする。その混合物に、トリエチノげミノ（９ ，５ｍｌ）とアリルオキシカルボニルクロリド（８，３ｍｌ）を加える。混合物 の溶媒の蒸発により、残留物を得て、それをシリカゲル（８００ｍｌ）クロマト グラフィーに付し、クロロフォルム、メタノールと水酸化アンモニウム水溶液（ １８％）の混合物（９：ｌ：Ｏ，ＬＶ／Ｖ）で溶離し、目的の画分を収集し、溶 媒を蒸発させ、残留物を得て、それを引き上げ、酢酸エチル（１１）に入れ、食 塩水（１０ｍｌ　ｘ　２）で洗浄する。溶媒を蒸発させ、ジイソプロピルエーテ ルで粉砕して、３−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−メチルアミノ）プロ、（ン ニトリル（９゜８４ｇ）を得る。
ＩＲ（スノＪ−ル）　：　３３８０．　３１５０．　２２４０．　１６００　ｃ ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　＋　２．４０　（３８，ｓ）、　２．５５　 （２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。
２．７８　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１０　（２１，ｓ）、　５．７ ６、７．０８（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｂｒ　ｓ）製造例１９−２） エチル３−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−メチノげミノ）プロパンイミダート ・ジ塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＩＩＳＯ−ｄ、、δ）　＋　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　２．８７　（３Ｈ。
ｓ）、　３．０−３．７　（４Ｈ，ｍ）、　３．９５　（２）１．　ｓ）、　４ ．４７　（２Ｈ，Ｑ。
Ｊ＝７Ｈ２） 製造例２Ｏ−１） ３−（Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ ）プロパンニトリル（２３，２５ｇ）を製造例１９−１）と実質的に同じ方法で 得る。
この化合物を次の段階のための原料化合物として直ちに使用する。
製造例２Ｏ−２） ３−（Ｎ−（２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ ）プロパンニトリル（１１，６ｇ）を、約１０％（Ｖ／Ｗ）の塩化水素を含むエ タノール（２０ｍｌ）に、室温で溶解する。室温で２時間放置の後、溶媒を蒸発 によって除去し、残留する酸性媒体をトルエンで共沸によって除去し、３−（Ｎ −（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ）プロパンニトリル・塩酸塩（ ６，８３ｇ）を得る。
ＩＲ（スジ３−ル）　：　３２５０．　２６００．　２２５０　ｃｍ−’ＮＭＲ （ＤｔＯ，δ＞　：　２．８１　（３Ｈ，ｓ）、　３．１−３．３　（４Ｈ，ｍ ）。
３．３５−３．６　（２Ｈ，ｍ）、　３．７７　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．２Ｈｚ ）製造例２Ｏ−３） エチル３−（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ）プロパンイミ ダート・ジ塩酸塩（１２，１ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．８０　（３Ｈ。
ｓ）、　３．０−３．８　（８Ｈ，ｍ）、　４．４６　（２８，ｑ、　Ｊ＝７Ｈ ｚ）製造例２ｌ−１） Ｎ−（３−シアノプロピル）−Ｎ−（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイ ルメチル）−Ｎ、　Ｎ−ジメチルアンモニウムプロミド（５，７４ｇ）を製造例 ８−１）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（Ｄ捌−ｄ、、δ）　：　１．９８−２．１７　（２■、　ｍ）、　２． ６５　（２■、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．２３　（６Ｈ，ｓ）、　３．１０−３ ．３０　（２Ｈ，ｍ）。
３．３９−３．８６　（４Ｈ，ｍ）、　４．１４　（２Ｈ，ｓ）、　４．７８　 （ＩＨ，ｔ。
Ｊ＝５Ｈｚ）、　８．６７　（ＩＨ，ｂｒ　ｔ、　Ｊ＝６■２）製造例２ｌ−２ ） エチル４−［Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバモ イルメチル）アンモニオコブチルイミダートブロミド・塩酸塩（７，９ｇ）を製 造例８−２）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、δ）　：　１．４１　（３■、　ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　１．８−２．２　（２■。
ｍ）、　２．６５−２．９５　（２Ｈ，ｍ）、　３．０５−３．８０　（１２Ｈ ，ｍ）。
４、１−４．８　（４Ｈ，ｍ）、　８．８９　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）製造例２２− １） Ｎ−（２−ヒドロキシメチル）−Ｎ−（３−シアノプロピル）−Ｎ、Ｎ−ジメチ ルアンモニウムプロミド（６，８６ｇ）を製造例８−１）と実質的に同じ方法で 得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、δ）　：　１．９６−２．１５　（２Ｈ，ｍ）、　２． ６３　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．１３　（６Ｈ，ｓ）、　３．３７−３．５０　（４Ｈ，ａ ＋）。
３、７０−３．９５　（２■、　ｍ）、　５．３１　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝５Ｈｚ ）製造例２２−２） エチル４−（Ｎ、　Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アンモニオ） プチルイミダートブロミド・塩酸塩（７，７７ｇ）を製造例８−２）と実質的に 同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．４２　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．０−２．２　（２Ｈ。
ｍ）、　２．７７　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．７Ｈｚ）、　３．１６　（６８，ｓ ）。
３．３−３．６５　（４Ｈ，ｍ）、　３．７−３．９５　（２Ｈ，ｍ）、　４． ４８　（２Ｈ，ｑ。
Ｊ＝７Ｈｚ） 製造例２３−１） ジクロロメタン（５０ｍｌ）中の２−（Ｎ、　Ｎ−ジメチルアミノ）エタノール （５ｍｌ）の撹はんされた溶液に、トリクロロアセチルイソシアネート（６，２ ｍｌ）を０℃で滴下して加える。０℃で３０分間攪はんの後、生じた沈澱物を濾 取し、それを引き上げ、メタノール（１００ｍｌ）に入れ、その溶液を１０時間 放置する。溶媒の蒸発により、Ｎ−（２−カルバモイルオキシエチル）−Ｎ、Ｎ −ジメチルアミンを得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．１４　（６Ｈ，ｓ）、　２．４０　（ ２８，ｔ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．９６　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　６．４６　（２Ｈ ，ｂｒ　ｓ）製造例２３−２） Ｎ−（２−カルバモイルオキシエチル）−Ｎ−（３−シアノプロピル）−Ｎ、Ｎ −ジメチルアンモニウムプロミドを製造例８−■）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．９５−２．１５　（２Ｈ，ｍ）、　６ ．１４　（２■、ｔ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．１３　（６Ｈ，ｓ）、　３．３０−３．５０　（２■９ｍ ）。
３．５０−３．７５　、（２Ｈ，ｍ）、　４．２０−４．４０　（２Ｈ，ｌ１１ ）、　６．７７　（２Ｈ。
ｂｒ　ｓ） 製造例２３〜３） エチル４−（Ｎ−（２−カルバモイルオキシエチル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモ ニオ）プチルイミダートブロミド・塩酸塩（９，９ｇ）を製造例８−２）と実質 的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３８　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．０−２．２５（２Ｍ、　ｍ）、　２゜８０　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　３．１６　（６Ｈ，ｓ）。
３．３４−３．５５　（２Ｈ，ｍ）、　３．５５−３．７５　（２Ｈ，ｍ）、　 ４．３４　（２１１゜ｍ）、　４．４８　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　４． ６８　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）製造例２４−１） メタノール（３０ｍｌ）中のシアノ酢酸メチル（５，４ｍｌ）の撹はんされた溶 液に、Ｎ、Ｎ−ジメチルエチレンジアミン（６，４２ｇ）を室温で加える。１時 間後、混合物の溶媒をを蒸発させ、残留物をシリカゲル（１５０ｍｌ）クロマト グラフィーに付し、メタノールで溶離し、Ｎ−シアノアセチル−Ｎ’、　Ｎ’− ジメチルエチレンジアミン（７，０ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　：　２．２４　（６Ｈ，ｓ）、　２．４４　（２Ｈ ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。
３．３０−３．４９　（４Ｈ，ｍ）、　６．７３　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）製造例２ ４−２） Ｎ−（２−シアノアセトアミドエチル）−Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロ キシエチル）アンモニウムヨーシト（２，１５ｇ）を、Ｎ−シアノアセチル−Ｎ ’、Ｎ’−ジメチルエチル二ネジアミン（２，０ｇ）とヨードエタノール（１， ３ｍ１）から、製造例８−■）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．１３　（６Ｈ，ｓ）、　３．３６　（ ２Ｈ，ｓ）。
３．４０−３．８０　（６Ｈ，ｍ）、　３．７５−３．９５　（２Ｈ，ｍ）、　 ５．２９　（ＩＨ。
ｔ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　８．５０　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）製造例２４−３） エチル２−　［Ｎ−［２−（Ｎ、　Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル ）アンモニオ）エチル］カルバモイル］アセトイミダ−トヨ−シト・塩酸塩（２ ，９６ｇ）を製造例８−２）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　３．０８−３．２０（８Ｈ，ｍ）、　３．２０−３．８０　（６Ｈ，ｍ）、 　３．８０−４．０５　（２Ｈ，ｍ）。
４．４５　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）製造例２５ エチル３−（３−ピリジル）プロペンイミダートリ・塩酸塩を、３−（２−シア ノエチニル）ピリジン（４，０ｇ）から、製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ、δ）　：　１．４７　（３８，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　３．４４　（２Ｈ，ｑ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．４８　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６．３Ｈｚ）、　８．１−８ ．２５　（２１１゜ｍ）、　８．８−９．３　（３Ｈ，ｍ）製造例２６−１） アセトン（５０ｍｌ）中の３−（２−シアノエチニル）ピリジン（６，０ｇ）の 溶液にヨードメタン（１４ｍｌ）を加える。室温で１５５時間後ん後、生じた沈 澱物を濾取し、アセトンで洗浄し、３−（２−シアノエチニル）−１−メチルピ リジニウムヨーシト（１２，３ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　４．３７　（３Ｈ，ｓ）、６．８９　（Ｉ Ｈ，ｄ。
ｌ４６．７Ｈｚ）、　７．８３　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６．７Ｈｚ）、　８．２ ２　（ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ、８Ｈｚ）、８．８０　（ＩＩ、　ｄ、Ｊ＝８）１ｚ）、９．０３　 （ＩＨ，ｄ。
Ｊ４Ｈｚ）、９．３２　（ＩＨ，ｓ） 製造例２６−２） エチル３−（ｌ−メチル−３−ピリジニオ）プロペンイミダートヨージド・塩酸 塩を製造例Ｉと実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．４６　（３）１．　ｔ、　Ｊ＝７）１ ｚ）、　４．４０　（３Ｈ。
ｓ）、　４．５９　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．３４　（ＩＨ，ｄ、　 Ｊ−１６，２Ｈｚ）。
８．０６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、　８．２５　（ＩＨ，ｄｄ、　 Ｊ＝６Ｈｚ。
８）１ｚ）、　８．８３　（Ｉ）Ｉ、　ｄ、　Ｊ＝８）１ｚ）、　９．０９　（ ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６■Ｚ）。
９．５０　（１）１．　ｓ） 製造例２７−１） アセトン（３０ｍｌ）中の３−（２−シアノエチニル）ピリジン（２，０ｇ）と ヨードアセトアミド（５，７ｇ）の混合物を室温で２日間撹はんする。生じた沈 澱物を濾取し、アセトンで洗浄し、乾燥し、１−カルバモイルメチル−３−（２ −シアノエチニル）ピリジニウムヨーシト（４，２３ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　５．４１　（２Ｈ，ｓ）、　６．８６　（ ＩＬ　ｄ。
Ｊ＝１６．７Ｈｚ）、　？、８２　（ｌ）Ｉ、　ｄ、　Ｊ＝＋６．７Ｈｚ）、　 ７．７８　（ＩＨ，ｂｒｓ）、　８．０８　（ＩＨ，ｂｒ　ｓ）、　８．２７　 （ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ、　８Ｈｚ）。
８．８９　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）、　９．０１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ ｚ）、　９．２９（ｌ■、　ｓ） 製造例２７−２） エチル３−（１−カルバモイルメチル−３−ピリジニオ）プロペンイミダートヨ ージド・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　＋　１．４７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　５．５０　（２■。
ｓ）、　７．２８　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、　８．０７　（ＩＨ， ｄ。
Ｊ＝１６．２Ｈｚ）、　８．１−８．４　（１■、　ｍ）、　８．８−９．６　 （３Ｈ，ｍ）製造例２８−１） ３−（２−シアノエチル）−１−メチルピリジニウムヨーシト（２２，８１ｇ） を、３−（２−シアノエチル）ピリジン（１１，９８ｇ）とヨードメタン（２０ ｍｌ）から、製造例２６−１）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．９−３．１　（２Ｈ，ｍ）、　３．１ −３．２５　（２Ｈ。
ｍ）、　４．３５　（３Ｈ，ｓ）、　８．１４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ、 　８Ｈｚ）。
８．５６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．９３　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈ ｚ）、　９．０７（ＩＨ，ｓ） 製造例２８−２） エチル３−（ｌ−メチル−３−ピリジニオ）プ０／ぐンイミダートヨージド・塩 酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３２　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　３．１−３．３　（４Ｈ。
ｍ）、　４．３３　（３Ｈ，ｓ）、　４．３７　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　８．１０　（ＬＨ。
ｄｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ、　８■ｚ）、　８．５５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）、 　８．９３　（ＩＨ。
ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　９．２１　（ＩＨ，ｓ）製造例２９−１） アセトン（３０ｍｌ）中のクロロアセトニトリル（４ｍｌ）と１−メチルイミダ ゾール（５゜０３　ｍｌ）の溶液を６０℃で３時間加熱する。生じた沈澱物を濾 取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、さらに乾燥し、ｌ−シアノメチル−３ −メチルイミダゾリウムクロリド（２，８３ｇ）を得る。この生成物を次の段階 のための原料化合物として直ちに使用する。
製造例２９−２） エチル２−［３−メチル−１−イミダゾリオ］アセトイミダートクロリド・塩酸 塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２５　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　３．９３　（３Ｈ。
ｓ）、　４．２０　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７１１ｚ）、　５．３２　（２８，ｓ） 、　７．７−７．８（２Ｈ，ｍ）、　９．２８　（ＩＨ，ｓ）製造例３Ｏ−１） トルエン（２０ｍｌ）中の４−ブロモブタンニトリル（５，６ｍｌ）とチアゾー ル（４ｍｌ）の溶液を１２０℃に１０時間加熱する。生じた沈澱物を濾取し、ジ エチルエーテルで洗浄し、さらに乾燥し、３−（３−シアノプロピル）チアゾリ ウムプロミド（６，２５ｇ）を得る。
ＩＲ（ヌノ３−ル）　＋　２２５０　ｃｍ′ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　： 　２．１−２．４　（２＋１．　ｍ）、２．６７　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝７１１ｚ）、　４．６８　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　８．３９−８． ４４　（ＩＨ，ｍ）。
８．６５−８．７０　（ＩＨ，ｍ）、　１０．３０−１０．３６　（ｌＨ，ｍ） 製造例３Ｏ−２） エチル４−（３−チアゾリオ）ブタンイミダートブロミド・塩酸塩を製造例１と 実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３６　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　４．４３　（２Ｈ，ｑ。
Ｊ４Ｈｚ）、　８．３８−８．４３　（Ｉｌｌ、　ｍ）、　８．６０−８．７２ 　（ＩＨ，ｍ）。
１０．４２−１０．４４　（ＬＨ，ｍ）製造例３ｌ−１） ４−ブロモブタンニトリル（４，４７ｇ）とイミダゾール（４，１１ｇ）の混合 物を１００℃に３時間加熱する。冷却後、混合物をシリカゲル（５００ｍｌ）ク ロマトグラフィーに付し、クロロフォルムとメタノールの混合物（１０：０ない し７：３、Ｖ／Ｖ）で溶離し、４−（イミダゾール−１−イル）ブタンニトリル （２，８６ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩＳ、δ）　：　１．９５−２．１１　（２Ｈ，ｍ）、　２．３ ３　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ４．５Ｈｚ）、　４．１３　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ）、　６．９５　 （１８，ｓ）。
７．０９　（ＩＨ，ｓ）、　７．７１　（ＩＨ，ｓ）製造例３ｌ−２） エチル４−（イミダゾール−１−イル）ブタンイミダートジ・塩酸塩を製造例１ と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３５　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．１８−２．２３（２Ｈ，ｍ）、　２．７２　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．５Ｈ ｚ）、　４．１−４．６　（４Ｈ，ｍ）。
７．６９　（ＩＨ，ｓ）、　７．８９　（ＩＨ，ｓ）、　９．３５　（ＬＨ，ｓ ）製造例３ｌ−３） メチルエチルケトン（１０ｍｌ）中の４−（イミダゾール−１−イル）ブタンニ トリル（３，５ｇ）と２−ヨードエタノール（３，１ｍｌ）の混合物を１００℃ に４時間加熱する。生じた油状物をデカンテーションによって分離し、メチルエ チルケトンとジイソプロピルエーテルで洗浄し、ｌ−ヒドロキシエチル−３−（ ３−シアノプロピル）イミダゾリウムヨーシト（７，４ｇ、　９３％）を得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．０−２．２５　（２Ｈ，ｍ）、　２ ．５８　（２＋１．　ｔ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．７３　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　４．１５−４．３ ５　（４Ｈ，ｍ）。
７．７７−７．７９　（ｌ）ｌ、　ｍ）、　７．８２−７．８４　（ＬＨ，ｍ） 、　９．２１　（１■１Ｓ） 製造例３ｌ−４） エチル４−（３−（２−ヒドロキシエチル）−１−イミダゾリオ）ブタンイミダ −トヨ−シト・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．０−２．３　（２Ｈ。
ｍ）、　２．７１　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．７３　（２Ｈ，ｔ、　 Ｊ＝５Ｈｚ）。
４．０−４．６　（６Ｈ，ｍ）、　７．５４−７．８６　（２Ｈ，ｍ）、　９． ２７　（１８，ｓ）製造例３２−１） １−（３−シアノプロピル）−２−メチルイミダゾール（４，３５ｇ）を、４− ブロモブタンニトリル（５，９ｇ）と２−メチルイミダゾール（６，５７ｇ）か ら、製造例３ｌ−１）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＩＩＲ（ＣＤＣＩ＋、δ）　＋　２．０−２．１６　（２Ｈ，ｍ）、　２．３ ５　（２Ｈ，ｔ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　２．３９　（３Ｈ，ｓ）、　４．０３　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７ Ｈｚ）、　６．８４（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．４Ｈｚ）、　６．９４　（１８，ｄ 、　Ｊ＝１．４Ｈｚ）製造例３２−２） エチル４−（２−メチルイミダゾール−１−イル）ブタンイミダートジ・塩酸塩 を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＩＩＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３６　（Ｉｔ（、ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ ）、　２．０−２．３　（２Ｈ。
ｍ）、　２．６９　（３８，ｓ）、　２．７９　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ ）、　４．２２（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．４６　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝ ７Ｈｚ）、　７．６０　（１■。
ｄｄ、　Ｊ＝１）１ｚ、　４Ｈｚ）、　７．９０　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝ｌＨｚ 、　４Ｈｚ）製造例３３−１） トルエン（１５ｍｌ）中の１−メチル−４−（ヒドロキシメチル）イミダゾール （２，５ｇ）と４−ブロモブタンニトリル（２，２ｍｌ）の混合物を８０℃に４ 時間加熱する。生じた油状物をデカンテーションによって分離し、トルエンで洗 浄し、３−（３−シアノプロピル）−４−ヒドロキシメチル−１−メチルイミダ ゾリウムプロミド（２，９８ｇ＞を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．０−２．１５　（２Ｈ，ｍ）、　２． ６５　（３Ｈ，ｔ。
Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　３．８３　（３Ｈ，ｓ）、　４．２６　（２ｔｌ、　ｔ、 　Ｊ＝７．２Ｈｚ）。
４．５６　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．２Ｈｚ）、　５．６９　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝ ５．２＋１ｚ）。
７．６６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．４Ｈｚ）、　９．２１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ １．４Ｈｚ）製造例３３−２） エチル４−（４−ヒドロキシメチル−■−メチルー３−イミダゾリオ）ブタンイ ミダートブロミド・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３７　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　２．１−２．３　（２Ｈ。
ｍ）、　２．７８　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　３．８５　（３Ｈ，ｓ ）、　４．２−４．６（６Ｈ，ｍ）、　７．６６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．４Ｈ ｚ）、　９．３０　（ＩＨ，ｄ。
Ｊ−１，４Ｈｚ） 製造例３４−１） トルエン（５ｍｌ）中の６−ブロモヘキサンニトリル（５，０ｇ）とｌ−メチル イミダゾール（３，４ｍｌ）の溶液を６５℃に２時間加熱する。生じた油状物を デカンテーションによって分離し、トルエンでよく洗浄し、３−メチル−１−（ ５−シアンペンチル）イミダゾリウムプロミド（７，３５ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２−１．４　（２８，ｍ）、１．５− １．７　（２１（、Ｉｌｌ）。
１．７−１．９　（２Ｈ，ｍ）、　２．５１　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　 ３．８７　（３１゜ｓ）、　４．２０　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．７ ４−７．７７　（ＩＨ，ｍ）。
７．８１−７．８４　（ＩＨ，ｍ）、　９．２５　（ＩＨ，ｓ）製造例３４−２ ） エチル６−（３−メチル−１−イミダゾリオ）ヘキサンイミダートブロミド・塩 酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．１−１．４５　（５Ｈ，ｍ）、　１． ５−２．０　（４Ｈ。
ｍ）、　２．６８　（２８，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．８９　（３Ｈ，ｓ）、 　４．２２　（２Ｈ。
ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．４５　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．７６　 （ＩＩ（、ｓ）。
７．８５　（ＩＨ，ｓ）、　９．４０　（ＩＨ，ｓ）製造例３５−１） ジクロロメタン（７８ｍｌ）中の５−ヒドロキシメチル−１−メチルイミダゾー ル（１５，５６ｇ）の撹はんされた溶液に、チオニルクロリド（１０，２ｍｌ） と５滴のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを一３０℃ないし一２０℃で加える。反 応混合物を室温に暖め、溶媒を蒸発させる。残留物をシリカゲル（６００ｍｌ） クロマトグラフィーに付し、クロロフォルムとメタノールの混合物（１００：Ｏ ないし９４：６、Ｖ／Ｖ）で溶離し、５−クロロメチル−１−メチルイミダゾー ル・塩酸塩（５，６５ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！、δ）　：　４．００　（３Ｈ，ｓ）、　４．９２　（２Ｈ ，ｓ）、　７．６９（ＬＨ，ｓ）、　８．９９　（１■、　ｓ）製造例３５−２ ） ５−シアノメチル−１−メチルイミダゾール（５，７ｇ）を製造例４ｌ−２）と 実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、δ）　：　３．６９　（３Ｈ，ｓ）、　３．７２　（２８ ，ｓ）。
７．０２　（ＩＨ，ｓ）、　？、４８　（ＩＨ，ｓ）製造例３５−３） アセトン（４５ｍｌ）中の５−シアノメチル−１−メチルイミダゾール（５，６ １ｇ）の溶液に、ヨードメタン（１０ｍｌ）を室温で加える。室温で１０時間攪 はん後、生じた沈澱物を濾取し、アセトンで洗浄し、さらに乾燥し、４−シアノ メチル−１，３−ジメチルイミダゾリウムヨーシト（９，４１ｇ）を得る。
ＮＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．８２　（３■、　ｓ）、　３．８５ 　（３Ｈ，ｓ）、　４．３８（２Ｈ，ｓ）、　７．７６　（ＩＨ，ｓ）、　９． １２　（ＬＨ，ｓ）製造例３５−４） エチル２−（１，３−ジメチル−４−イミダゾリオ）アセトイミダ−トヨ−シト ・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｌ、６ｉ）　：　１．３４　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 。
４．４８　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）製造例３６−１） ２−クロロメチル−１−メチルイミダゾール・塩酸塩（１１，８５ｇ）を製造例 ３５−１）と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（１１ｅＯＤ、δ）　＋　３．９７　（３Ｈ，ｓ）、　５．０８　（２８ ，ｓ）、　７．５９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ）、　７．６５　（ＩＨ，ｄ、　 Ｊ＝２Ｈｚ）製造例３６−２） ２−シアンメチル−１−メチルイミダゾール（２０６ｍｇ）を製造例４ｌ−２） と実質的に同じ方法で得る。
ＩＲ（ヌノｊ−ル）　：　２２００　ｃｍｌＮＭＲ（ＣＤＣＩ＋、δ）　＋　３ ．７１　（３Ｈ，ｓ）、　３．８９　（２Ｈ，ｓ）、　６．９１（ＩＨ，ｄ、　 Ｊ＝ｌＨｚ）、　６．９７　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ＩＨｚ）製造例３６−３） ２−シアンメチル−１，３−ジメチルイミダゾリウムヨーシト（８，１５ｇ）を 製造例３５−３）と実質的に同じ方法で得る。
ＩＲ（ヌノ葺−ル）　：　２２５０　ｃｍｌＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　： 　３．８８　（６Ｈ，ｓ）、　４．８０　（２Ｈ，ｓ）。
７．７７（２■、　ｓ） 製造例３６−４） エチル２−（１，３−ジメチル−２−イミダゾリオ）アセトイミダ−トヨ−シト ・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２３　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　３．８０　（６■。
ｓ）、　４．１７　（２１，ｑ、　Ｊ＝７）１ｚ）、　４．４９　（２Ｈ，ｓ） 、　８．３７　（２Ｈ。
Ｓ） 製造例３７−１） Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１８０ｍｌ）中の水素化ナトリウム（池内に６ ２％分散、２゜１１　ｇ）の懸濁液に、シアノメチル燐酸ジエチル（８，６ｍ１ ）と１−（トリフェニルメチル）イミダゾール−４−カルブアルデヒド（１４， ９ｇ）を０℃で順次加える。混合物を加熱し、３時間還流し、引き上げ、冷水（ １５０Ｑｌｌ）と酢酸エチル（１００ｍｌ）の混合物に入れる。生じた沈澱物を 濾去し、濾液は濃縮し、残留物を得て、それをシリカゲル（４００ｍｌ）クロマ トグラフィーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルの混合物（７：３、Ｖ／Ｖ）で 溶離し、４−（２−シアノエチニル）−１−（）リフェニルメチル）イミダゾー ル（９，７ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、　δ）　：　６．０４　（１■、　ｄ、　Ｊ＝１６Ｈ ｚ）。
７、０−７．６　（１８８） 製造例３７−２） メタノール（８０ｍｌ）と酢酸（２０ｍｌ）の混合物中の４−（２−シアノエチ ニル）−１−（トリフェニルメチル）イミダゾール（９，６４ｇ）の溶液を８０ ℃に８時間加熱する。溶媒を蒸発によって除去し、残留物をｎ−ヘキサンでよく 洗浄し、４−（２−シアノエチニル）イミダゾールアセタートを得て、それを次 の段階のために、浄化することなく使用する。
ＮＭＲ（Ｄ）ＩｓＯ−ｄａ、δ）　：　６．００　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ ）、　７．４８　（ＩＨ。
ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）、　７．４９　（ＩＨ，ｓ）、　７．７８　（ＩＨ，ｓ） 製造例３７−３） メタノール（１３０ｍｌ）中の４−（２−シアノエチニル）イミダゾール（１３ ，６ｇ、未精製）の撹はんされた溶液に、炭素上のパラジウム（１０％、５０％ 湿潤、２．５ｇ）を加える。混合物を室温で５時間、水素の大気圧の下で撹はん する。触媒を濾過し、濾過液の溶媒を蒸発させ、４−（２−シアノエチル）イミ ダゾールアセター）　（４，４７ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　＋　２．３５−２．６５　（４Ｈ，ｍ）、　６ ．６８　（ＩＨ，ｓ）。
７．４９　（ＩＨ，ｓ） 製造例３７−４） エチル３−（イミダゾール−４−イル）プロパンイミダートジ・塩酸塩を製造例 １と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｌ、δ）　：　１．３０　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。
４．４４　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）製造例３８−１） ２−（２−シアノエチニル）−１−メチルイミダゾール（１，１４ｇ）を、シア ノメチル燐酸ジエチル（１７，５４ｍｌ）と１−メチルイミダゾール−２−カル ブアルデヒド（１６，８ｇ１未精製）から、製造例７３−１）と実質的に同じ方 法で得る。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　：　３．７４　（３Ｈ，ｓ）、　６．３２　（ＩＨ ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）。
７．０１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝０．７Ｈｚ）、　７．１５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ ０．７Ｈｚ）、−７，２０（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）製造例３８−２） アセトン（５ｍｌ）中の２−（２−シアノエテニル）−１−メチルイミダゾール （２，３ｇ）の撹はんされた溶液に、ヨードメタン（５ｍｌ）を室温で加える。
室温で３日間攪はん後、生じた沈澱物を濾取し、アセトンで洗浄し、さらに乾燥 し、２−（２−シアノエチニル）−１，３−ジメチルイミダゾリウムヨーシト（ ３，３ｇ）を得る。
ＮＩＩＩＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　＋　３．９３　（６Ｌ　ｓ）、　６．７５ 　（ＩＩ、　ｄ。
Ｊ＝１６．８）１ｚ）、　７．８７　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、　７ ．８９　（２Ｈ，ｓ）製造例３８−３） エチル３−（１，３−ジメチル−２−イミダゾリオ）プロペンイミダートヨージ ド・塩酸塩を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．４６　（３Ｌ　ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　３．９７　（６Ｈ。
ｓ）、　４．５８　（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．３９　（ＩＨ，ｄ、　 Ｊ＝１６．５Ｈｚ）。
７．８２　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝１６．５Ｈｚ）、　７．９５　（２Ｈ，ｓ）製造 例３９−１） ジクロロメタン（５，０ｍ１）中の１−メチル−４−（ヒドロキシメチル）ピラ ゾール（０，４７ｇ）の溶液に、チオニルクロリド（０，３１ｍｌ）を−３０ｘ ないし一２０℃で滴下して加える。
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドの１滴を加え、混合物を室温に２時間暖める。混 合物の溶媒の蒸発により、４−クロロメチル＋メチルピラゾール・塩酸塩（０， ６５ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．８２　（３８，ｓ）、　４．６９　（ ２Ｈ，ｓ）。
７．５１　（ＩＨ，ｓ）、　７．８２　（１Ｍ、　ｓ）製造例３９−２） 水中のシアン化ナトリウム（６，８８ｇ）の溶液に、製造例３９−１）で得られ た４−クロロメチル−トメチルピラゾール（１１，７ｇ）を０℃で少量ずつ加え る。０℃で２０分間攪はん後、反応混合物の溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲ ル（３００ｍｌ）でクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタンとメタノールの 混合物（９９，ｓ：ｏ、　５ないし９：１．Ｖ／Ｖ）で溶離し、４−シアノメチ ル＋メチルピラゾール（３，３１ｇ）を得る。
ＩＲ（ヌノ３−ル）　：　２２５０　ｃｍｌＮＭＲ（ＣＤＣＩ、、δ）　：　３ ．５８　（２Ｈ，ｓ）、　３．８９　（３Ｈ，ｓ）。
７Ｊ９　（ＩＨ，ｓ）、　７．４２　（ＩＨ，ｓ）製造例３９−３） ジクロロメタン（１５ｍｌ）中の４−シアノメチル＋メチルピラゾール（３，２ ７ｇ）の溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸メチル（トリフレートＸ３．２ 　ｍｌ）を０℃で加える。混合物を室温に暖める。室温で４時間撹はん後、生じ た油状物をデカンテーションによって分離し、ペンタンで洗浄し、さらに減圧下 で乾燥し、４−シアンメチル−１，２−ジメチルピラゾリウムトリフルオロメタ ンスルホネートを得る。
それを、さらに浄化することなく、次の段階に使用する。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　４．０４　（２Ｈ，ｓ）、　４．０８　（ ６Ｈ，ｓ）。
８．５０　（２Ｈ，ｓ） 製造例３９−４） エチル２−（１，２−ジメチル−４−ピラゾリオ）アセトイミダ−トドリフルオ ロメタンスルホネート・塩酸塩（１０，１６ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法 で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、δ）　：　１．２１　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　 ３．７１　（２Ｈ。
ｓ）、　４．１０　（６Ｈ，ｓ）、　４．１４　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　８．３９　（２Ｈ。
Ｓ） 製造例４Ｏ−１） ジクロロメタン（２５ｍｌ）中のメチルチオアセトニトリル（２，５ｍ１）の撹 はんされた溶液に、メチルトリフレート（３，４ｍ１）を０℃で加え、混合物を 室温で７日間放置する。混合物の溶媒の蒸発により、ジメチルスルホニオアセト ニドリルトリフルオロメタンスルホネート（７，５３ｇ）を得る。それを、さら に浄化することなく、次の段階に使用する。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．９９　（６Ｈ，ｓ）、　４．７５　（ ２Ｈ，ｓ）製造例４Ｏ−２） エチル２−（ジメチルスルホニオ）アセトイミダ−トドリフルオロメタンスルホ ネート・塩酸塩（８，４５ｇ＞を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＩＩＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２６　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　２．９８　（６Ｂ。
ｓ）、　４．２４　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．６２　（２Ｈ，ｓ）製 造例４１ エチル２−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ）アセトイミドイ ル・塩酸塩（３９，５ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤｌｉＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３３　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ−６，８Ｈ ｚ）、　２．８−３．１（３Ｈ，ｍ）、　４．３５−４．６　（４Ｈ，ｍ）、　 ５．１−５．４　（２Ｈ，ｍ）。
５．８−６．１　（ＩＨ，ｍ） 製造例４２ ベンゼン（５０ｍｌ）中のＮ、　Ｎ、−ジメチルホルムアミド（７，７４ｍ１） の撹はんされた溶液に、ジメチル硫酸塩（９，０３ｍｌ）を室温で加える。生じ た混合物を４０℃に１０時間暖める。混合物の溶媒の蒸発により、メチルＮ、Ｎ −ジメチル−Ｎ−（メトキシメチレン）イミニウムメタンスルホネートを得る。
Ｎ菖Ｒ（ＤＩＩＳＯ−ｄ、、δ）：、３□１２　（３Ｈ，ｓ）、　３．３１　（ ３Ｈ，ｓ）、　３．４０（３Ｈ，ｓ）、　４．２９　（３Ｈ，ｓ）製造例４３ エチル２−（Ｎ−アリルオキシカルボニルアミノ）アセトイミダート塩酸塩（４ ９７ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．３４　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．８Ｈｚ ）、　４．１５（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．７Ｈｚ）、　４．４−４．６　（４■、 　ｍ）、　５．１−５．４　（２Ｈ。
ｍ）、　５．８−６．１　（１８，ｍ）、　８．０！　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝５． ７Ｈｚ）製造例４４−１） ベンゼン（５ｍｌ）中の４−ブロモブタンニトリル（１，４９ｇ）とＮ−メチル ピロリジン（１，２５ｍｌ）の混合物を７０℃に５時間加熱する。冷却後、生じ た沈澱物を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄し、さらに乾燥し、４−（Ｎ−メチ ル−１−ピロリジニオ）ブタンニトリル（１１，８３ｇ）を得る。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．８−２．４　（６Ｈ，の）、　２．５ ６（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．０５　（３Ｈ，ｓ）、３．３５−３．７ 　（６Ｈ，ｍ）製造例４４−２） エチル４−（Ｎ−メチル−１−ピロリジニオ）ブタンイミダートブロミド・塩酸 塩（１７，２８ｇ）を製造例１と実質的に同じ方法で得る。
ＮＭＲ（Ｄ）ｌｓｏ−ｄａ、δ）：　１，３８　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．８Ｈｚ ）、　１．９−２．２（６Ｈ，ｍ）、　３．０５　（３Ｈ，ｓ）、　３．３−３ ．７　（６Ｈ，ｍ）、　４．４８（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝６．８Ｈｚ） 実施例１ 水（２０ｍｌ）中の（４Ｒ，５３，６Ｓ）−３−（アゼチジン−３−イル）チオ −６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−ア ザビシクロ［３，２，０］−ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（３００ｍｇ） とアセトニトリル（２０ｍｌ）の溶液を０℃で冷却し、ｐＨを１０％水酸化ナト リウム水溶液で約８．５に調整する。その溶液に、エチルカルバモイルアセトイ ミダート・塩酸塩（６７０ｍｇ）を０℃で加え、このとき、ｐｔ＋を１０％水酸 化ナトリウムアセタートで約８．０に調整する。０℃で３０分間攬はん後、ＩＮ 塩酸水溶液で、ｐＨが約７゜０になるように混合物を調整する。混合物を酢酸エ チルとジクロロメタンで洗浄し、油状物（約１０　ｍｌ）に濃縮する。得られた 油状物を、ダイアイオンＩＰ−２０（商標、三菱化成工業製）　（５０ｍｌ）で クロマトグラフィーに付し、水（１００ｍｌ）および水とアセトニトリルの混合 物（９５：５）で順次溶離し、油状物を得る。その油状物を濃縮し、シリカゲル （４０ｍｌ）で再びクロマトグラフィーに付す。水とアセトニトリルの混合物（ １：３）で溶離し、溶離物を濃縮し、凍結乾燥することにより、（４Ｒ，５Ｓ、 　６Ｓ）−３−［１−（２−カルバモイルアセトイミドイル）アゼチジン−３− イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー４−メチル−７−オキ ソ−１−アザビシクロ［３，２，０１ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（１５ ３ｍｇ）を得る。
ＩＲ（ヌノラール）　＋　１７５０　ｃｍ′ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、　Ｄ、０． 　δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　１．２９（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　３．１−３．５　（２Ｈ，ｍ）、　４．０−４．２ 　（８８゜ｍ） 以下の化合物を実施例１と実質的に同じ方法で得る。
実施例２ （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−（２−（１−メチル−ＩＩＩ−テトラゾー ル−５−イルチオ）−アセトイミドイル）アゼチジン−３−イルコチオ−６−［ （ＩＲ）−１−ｈドロキシエチル］＋メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［ ３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌジラール）　：　１７ ４０　ｃｒｎ’ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、　Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．２０　（３Ｈ ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）。
１．３０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ） 、　３．４６（１）１．　ｄｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ、　Ｊ＝６．２＋１ｚ）、　 ４．０７　（３Ｈ，ｓ）。
４．０−４．４　（５Ｈ，ｍ） 実施例３ （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−＋２−（メチルチオ）アセトイミドイル） アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１化ドロキンエチル］−４−メ チル−７−オキソ＋アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボ ン酸 ＩＲ（ヌノＪ−ル）　＋　１７５０　ｃｍ−’ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、　Ｄ、Ｏ ，δ）　＋　１．２０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．１４Ｈｚ）、１．３０（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝６．２１！ｚ）、　２．１９　（３Ｈ，ｓ）、　３．２−３．３　（ ＩＨ，ｍ）。
３．４５　（４Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　４．２−４．４　（５Ｈ，ｍ）実施例４ （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−０−（２−メトキンアセトイミドイル）アゼチジ ン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル− ７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘプトー２−エン−２−カルボン 酸 ＩＲ（ヌジタール）　：　１７４０　ｃｍ″１ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、　Ｄ＋０ ．　δ）　：　１．１９　（３８，ｄ、Ｊ＝７．１２Ｈｚ）。
１．３０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ） 、　３．４７（４Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　３．８−４．４　（６Ｈ，ｍ）実施例５ （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−（２−（アセチルアミノ）アセトイミドイ ル）アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］− ４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン− ２−カルボン酸 ＩＲ（ヌノラール）　＋　１７５０　ｃｍ−’ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、　Ｄ、Ｏ ，δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．３０（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　２．０９　（３Ｈ，ｓ）、　３．２−３．５　（２ Ｈ，ｍ）。
４．０−４．４　（９Ｈ，ｍ） 実施例６ （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−＋２−（Ｎ、　Ｎ−ジメチルカルバモイル ）アセトイミドイル）アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒド ロキシエチルコー４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘ プト−２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌジｒル）　：　１７５０　ｃｍ’ＮＭ Ｒ（２００ＭＨｚ、　Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．＋９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．１ １１ｚ）、　１．３０（３１１，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　２．９８　（３Ｈ ，ｓ）、　３．０７　（３１，ｓ）。
３．０−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４−３．５　（ＩＨ，ｍ）、　４．０− ４．４　（６）１゜ｌ１１） 実施例７ （４Ｒ，５３，６Ｓ）−３−［１−（２−（３−ヒドロキシアゼチジン−１−イ ルカルボニル）アセトイミドイル）アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ ）−１−ヒドロキシエチルコー４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３ ，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌノＪ−ル）　：　１７４０ 　ｃｍ’ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、　Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ 、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　１．３０（３）１．　ｄ、　Ｊ＝４．５Ｈｚ）、　３ ．１−３．５　（２Ｂ、　ｍ）、　３．８−４．６　（６１１゜＋１１） 実施例８ 燐酸塩緩衝液（ｐＨ６，８６，６０ｍｌ）とテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）と 水（６０ａｌｌ）の混合物中の（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−（アゼチジン−３ −イル）チオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチルー７＝オ キソ−１−アザビシクロ［３，２，ＯＦ−ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（ １，６ｇ）の溶液に、少量ずつエチル４−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ、Ｎ− ジメチルアンモニオ）プチルイミダートブロミド・塩酸塩（１，８ｇ）を加え、 このとき、ｐＨを０℃で３０％炭酸カリウム水溶液により約８．５に調整する。
ｐｌ（８，５で、さらに３０分間攪はん後、ｐＨを０℃で塩酸（６Ｎ）により７ ．０に調整する。反応混合物をテトラヒドロフランと酢酸エチルの混合物（３ニ ア　Ｙ／Ｖ、合計８００　ｍｌ）で四回洗浄し、減圧下で溶媒を蒸発させ、残留 水溶液を得て、それをダイアイオンＨＰ−２０（１５０ｍｌ）でクロマトグラフ ィーに付し、水とアセトニトリルの混合物（１００：０ないし９２：８．　Ｖ／ Ｖ）で溶離する。目的の画分を収集し、凍結乾燥し、無定形物を得て、さらにγ −アルミナでクロマトグラフィーに付し、水で溶離する。目的の両分を収集し、 アンバーリスト＾−２６（Ｃ１’形、商標、ローム＆ハース社製）　（３０ｍｌ ）を通過させる。溶離物の凍結乾燥により、（４Ｒ，５３，６３）−３−０−＋ ４−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニオ）ブチルイミドイ ルｌアゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー ４−メチル−７−オキソ−■−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン− ２−カルボン酸クロリド（４９５ＩＩ１ｇ）を得る。
ＩＲ（ヌゾＪ−ル）　：　３２５０．　１７４０．　１６８０．　１６３０．　 １５８０　ｃｍ”Ｎ）ＩＲ（Ｄｐ、δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７ ．２Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　２．０１−２．２５　（２ｔ（、ｍ）、　２．４０−２． ６１　（２１（、ｍ）。
３、１０−３．３０　（ＩＨ，ｍ）、　３．３１　（６Ｈ，ｓ）、　３．４６　 （ＩＨ，ｄｄ。
Ｊ＝２．５Ｈｚ、Ｊ＝６．１Ｈｚ）、３．６０−３．８０　（２■、ｍ）、４． １０−４．４０（７Ｈ，ｍ）、　４．６２−５．００　（２Ｈ，ｍ）以下の化合 物を実施例１５−１）と実質的に同じ方法で得る。
実施例９−１） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−（アリルオキシカルボニルアミノ） アセトイミドイル］アゼチジン−３−イルチオコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロ キシエチル］−４−メチル−７−オキソ−■−アザビシクロ［３，２，０１ヘプ ト−２−エン−２−カルボン酸ＮＭＲ（ＤｔＯ，δ）　：　１．１８　（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３■、ｄ。
Ｊ４Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４５　（ＩＨ，ｄｄ、　 Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　４．０９　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．１５−４．５５　 （５１１，！＋）。
４．５５−５．０　（４Ｈ，ｍ）、　５．２−５．４５　（２Ｈ，ｍ）、　５． ８−６．１　（ＩＭ。
ｍ） 実施例９−２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ −メチルアミノ）アセトイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（Ｉ Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−■−アザビシクロ［ ３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸ＮＭＲ（ＤｔＯ，δ）　＋　１ ．１９　（３Ｂ、　ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．９８．３．２０　（ｔｏｔａｌ　３Ｌ　ｅａｃｈ　ｓ）、 　３．１−３．４（ｌ）Ｉ、　ｍ）、　３．４４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ 、　６Ｈｚ）、　４．１−４．５　（７Ｈ。
ｍ）、　４．６３．４．６６　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ）、　４．６ ８−５．０　（２Ｈ。
ｍ）、　５．２−５．４５　（２Ｂ１ｍ）、　５．８−６．１　（ＩＨ，ｌ１１ ）実施例９−３） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ −カルバモイルメチル）アミノコアセトイミドイル］アゼチジン−３−イルコチ オ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１− アザビシクロ［３，２，ＯＦヘプト−２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌノＪ− ル）　：　１７４０．　１７００．　１６８０．　１５７５　ｃｍ−’ＮＭＲ（ Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３１，ｄ、　Ｊ＝７．１２Ｈｚ）、　１．３ ０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３５Ｈｚ）、　３．１０−３．３５　（ＩＨ，ｍ）、　３．４５　（Ｉ Ｈ，ｄｄ。
Ｊ＝６．１４Ｈｚ、　２．４４Ｈｚ）、　４．１７−４．４０　（９Ｈ，ｍ）、 　４．６０−４．８０（４８，ｍ）、　５．２０−５．４０　（２Ｈ，ｍ）、　 ５．８０−６．１５　（ＩＨ，ｍ）実施例９−４） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２”［Ｎ−［２−（アリルオキシカルボ ニルオキシ）エチル］−Ｎ−アリルオキシカルボニルアミノ］アセトイミドイル アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４− メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０３ヘプト−２−エン−２− カルボン酸 ＩＲ（ヌノヲール）　：　１７３５．　１６８０　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．２８　（３＋１． 　ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．１０−３．３０　（ｌＬ　＋ｎ）、　３．４５　（Ｉ Ｈ，ｄｄ。
Ｊ＝６．１Ｈｚ、　２．５）１ｚ）、　３．７０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　４． １０−４．４０　（９Ｈ。
ｍ）、　４．６０−４．８０　（６Ｈ，ｍ）、　５．２０−５．４０　（４Ｈ， ｍ）。
５、８０−６．１５　（２Ｈ，ｍ） 実施例１Ｏ−１） 燐酸塩緩衝液（ｐＨ６，８６，２，５ｍｌ）とエタノール（６ｍｌ）の混合物中 の（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−（アリルオキシカルボニルアミノ ）アセトイミドイル］アゼチジン−３−イルチオコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒド ロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２゜０］ヘ プト２−エン−２−カルボン酸（１，０４ｇ）の溶液に、トリーローブチルスズ 水素化物（０，９６ｍｌ）、酢酸（０，２１ｍｌ）、およびテトラヒドロフラン （１２ｍｌ）中のトリフェニルホスフィン（０，１，２ｇ）とテトラキス（トリ フェニルホスフィン）パラジウム（０，２１ｇ）の溶液を、室温で激しく撹はん しながら、続けて加える。攪はんを１０分間続け、その混合物に、冷水（１００ ｍｌ）とジクロロメタン（１００ｍｌ）と塩化ナトリウム（２ｇ）の混合物を加 える。水性層を分離し、ジクロロメタンで二回洗浄し、減圧下で溶媒を蒸発させ る。残留物をダイアイオンＭＰ−２０（２００ｍｌ）でクロマトグラフィーに付 し、水とアセトニトリルの混合物（１００：０ないし９０：１０．　Ｖ／Ｖ）で 溶離する。目的の両分を収集し、凍結乾燥し、無定形物（Ｄ、４０ｇ）を得る。
このサンプルのＩ／４（１００ｍｇ）を、シリカゲル（１０ｍｌ）でさらにクロ マトグラフィーに付し、アセトニトリルと水の混合物（＋００：０ないし７０・ ３０．　Ｖｎ）で溶離する。目的の画分を収集し、減圧下で濃縮し、アンバーリ スト＾−２６（Ｃ１−形、２　ｍｌ）を通過させる。溶離物の凍結乾燥により、 （４１！、　５Ｓ、６Ｓ）−３−［１−（２−アミノアセトイミドイル）アゼチ ジン−３−イルチｔ］Ｊ−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル− ７−オキソ−１−７ザビシクロ［３，２，０Ｊヘプト−２−エン−２−カルボン 酸・塩酸塩（８５ｍｇ）を得る。
ＩＲＣ１ノ３−ル）　：　３２５０．　１７４０．　１５８０　ｃｓ”ＮＭＲ（ ＤｔＯ，δ）　＋　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３ Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４４　（Ｉｌ、　ｄｄ 、　Ｊ＝３゜６Ｈｚ）、　３．５４　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ）、　４． ０−４．５　（５Ｈ，ＩＩ＋）。
４．６−５．０　（２Ｈ，ｍ） 以下の化合物を実施例１Ｏ−１）と実質的に同じ方法で得る。
実施例１Ｏ−２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−０−［２−（メチルアミノ）アセトイミドイルコ アゼチジンー３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４− メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト−２−エン−２− カルボン酸・塩酸塩ＩＲ（スノタール）　：　３３００．　１？４０．　１６７ ０．　１５７０　ｃｍ’ＮＩ［Ｒ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ 、　Ｊ＝７．２１４ｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　２．４９　（３Ｈ，ｓ）、　３．１−３．３５　（ｌ）ｌ 、　ｍ）、　３．４５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６．１．２．５Ｈｚ）、　３．６１ ．３．６２　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ。
ｅａｃｈ　ｓ）、　４．１−４．５　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−５．０　（２Ｈ ，ｍ）実施例１Ｏ−３） （４Ｒ，５３，６３）−３−［１−［２−（カルバモイルメチルアミノ）アセト イミドイル］アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエ チル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２− エン−２−カルボン酸ｊＲ（ヌノ３−ル）　：　１７３５　ｃｍ”ＮＭＲ（Ｄ、 ０．　δ）　：　１．＋７　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．１４Ｈｚ）、　１．２８　 （３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３２Ｈｚ）、　３．１０−３．３０　（Ｉ）Ｉ、　ｍ）、　３．３９　 （２Ｌ　ｓ）、　３．４３（１１（、ｄｄ、　Ｊ＝６．２０Ｈｚ、　２．４０１ （ｚ）、　３．５６　（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝３．１８Ｈｚ）、　４．２０−４．４０　（５Ｈ，ｍ）、　４．３０−４． ８０　（２）１．　ｍ）実施例１Ｏ−４） （４１？、　５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−［（２−ヒドロキシエチル）ア ミノコアセトイミドイル］アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１− ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０ １ヘプト２−エン−２−カルボン酸＋Ｒ（ヌノ３−ル）　＋　１７４０．　１６ ８０　ｃｍ”ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ４．Ｉ Ｈｚ）、　１．２８　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　２．９９　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝４．９Ｈｚ）、　３．１０ −３．３５　（ＩＨ。
ｍ）、　３．４３　（Ｉｌ、　ｄｄ、　Ｊ＝６．２Ｈｚ、　２．４Ｈｚ）、　３ ．７０−３．８０（４Ｈ，ａ＋）、　４．２０−４．４５　（５Ｈ，ｍ）以下の 化合物を実施例１５−１）と実質的に同じ方法で得る。
実施例１ｌ−１） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−［Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ −（カルバモイルメチル）アミノコプロパンイミドイル］アゼチジン−３−イル チオ］−ｅ−［（ＩＲ）−ｔ−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ− ■−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸ＮＭＲ（Ｄ 、Ｏ，δ）　：　１．１７　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．５−２．７　（２■、　ｍ）、　３．０−３．４　（ＩＨ ，ｍ）、　３．４５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ）、　３．５−３．９５　 （３Ｈ，ｍ）、　４．０−４．６（６Ｈ，ｍ）、　４．６−５．０　（４Ｈ，ｍ ）、　５．２−５．５５　（２Ｈ，ｍ）。
５．６−６．２　（ＩＮ、　ｍ） 実施例１ｌ−２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−［Ｎ−［４−（アリルオキシカルボ ニルアミノ）ブチル］カルバモイルコアセトイミドイル］アゼチジン−３−イル チオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ− １−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌノ３ −ル）　＋　３２００．　１７４０．　１６４０．　１５７０　ｃｍＩＮＭＲ（ Ｄ、Ｏ，δ）・　１．１９　（３Ｂ、　ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３ Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６■ｚ）、　１．４−１．７　（４Ｌ　ｍ）、　３．０−３．４　（５Ｈ， ｍ）、　３．４５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ）、　４．０５−４．４　（ ５Ｈ，ｍ）、　４．５−４．６５（２Ｈ，ｍ）、　４．６５−５．０　（２Ｈ， ｍ）、　５．１５−５．４　（２）１．　ｍ）。
５．８−６．０５　（ＩＨ，ｍ） 実施例１ｌ−３） （４Ｒ，５Ｓ、　ＢＳ）−３−［１−［２−［４−［５−（アリルオキシカルボ ニルアミノ）ペンタノイルコピペラジン−１−イルカルボニル］アセトイミドイ ル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］− ４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘプトー２−エン− ２−カルボン酸 ＩＲ（ヌノ１−ル）　：　３２００．　１７４０．　１６８０．　１６２０　ｃ ｍｌＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　＋　１．１９　（３１（、ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、１．４−１．８　（４Ｈ，ｍ）、　２．４−２．５５　（２８， ｍ）。
３．０５−３．４　（３Ｈ，ｍ）、　３．４４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、 　６Ｈｚ）。
３．５０−３．８０　（８Ｈ，ｍ）、　４．０−４．５　（５Ｈ，ａ＋）、　４ ．５６　（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝５Ｈｚ）、　４．６５−４．９５　（２Ｈ，ｍ）、　５．１５−５．４　（ ２１１，ｍ）。
５．８−６．０　（ＩＨ，ｍ） 実施例１２−１） 燐酸塩緩衝液（ｐＨ６，８６，５，６ｍｌ）とエタノール（１３，５ｍｌ）の混 合物中の（４Ｒ，５Ｓ。
ＢＳ）−３−［１−［３−［Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−（カルバモイル メチル）アミノ］プロパンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（２，２４ｇ）の溶液に、ト リーｎ−ブチルスズ水素化物（１，７ｍｌ）、酢酸（０，３６ｍｌ、）、および テトラヒドロフラン（２７ｍｌ）中のトリフェニルホスフィン（０，２１ｇ）と テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０，３７ｇ）の溶液を、室 温で激しく撹はんしながら、続けて加える。攪はんを１０分間続け、その混合物 に、冷水（１００ｍｌ）と酢酸エチル（２００ｍｌ）の混合物を加える。水性層 を分離し、酢酸エチルで二回洗浄し、減圧下で濃縮する。残留物をダイアイオン ＩＰ−２０（３００ｌｌ１ｌ）でクロマトグラフィーに付し、水とアセトニトリ ルの混合物（１００：０ないし９４：６．　Ｖ／Ｖ）で溶離する。目的の両分を 収集し、凍結乾燥し、無定形物を得て、それをアルミナＡＣ−１２（住友化学製 ）（３７０ｍｌ）でさらにクロマトグラフィーに付し、水で溶離する。目的の画 分を収集し、濃縮し、アンバーリスト＾−２６（Ｃ１゛形、５　ｍｌ）を通過さ せる。溶離物の凍結乾燥により、（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−（ カルバモイルメチルアミノ）プロパンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］ −６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−ア ザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸（８３７ｍｇ）を得 る。
ＩＲ（スフ３−ル）　：　３３００．　１７３０．　１６７０．　１６２０　ｃ ｍ’ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　＋　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１ ．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．８−３．０　（２１（、ｍ）、　３．１−３．３５　（Ｉ Ｈ，ｍ）。
３、３５−３．５　（３１１，ｍ）、　３．９７　（２Ｈ，ｓ）、　４．０−４ ．５　（５Ｈ，ｍ）。
４．６−４．９　（２Ｈ，ｍ） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−（カルバモイルメチルアミノ）プロ パンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキ シエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト ２−エン−２−カルボン酸を、γ−アルミナにより通常のクロマトグラフ浄化処 理し、水での溶離の後、カラムを塩化ナトリウム水溶液（５％）で十分に洗浄す る。洗浄物を減圧下で溶媒を蒸発させ、残留物をダイアイオンＩＰ−２０（５０ ｍｌ）でクロマトグラフィーに付し、水とアセトニトリルの混合物（０：１００ ないし１５：８５．　Ｖ）’Ｖ）’ｔ’溶離する。溶離物の凍結乾燥によす、（ ４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−（１−７１Ｊ　ルアゼチジンー３−イルチオ）−６ −［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１＝アザビ シクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（６０ｍｇ）を副産物 として得る。
ＩＲ（ヌジ遭−ル）　：　３２５０．　１７４０．　１５８０　ｃｍ”ＮＭＲ（ Ｄ、０．　δ）　：　１．１６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．２９ 　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．１−３．３　（１）１．　ｍ）、　３．４５　（ＩＨ ，ｄｄ。
Ｊ＝２．６Ｈｚ、　６．１Ｈｚ）、　３．８５　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ ）、　４．０−４．４（５Ｈ，ｍ）、　４．４−４．５５　（２）１．　ｍ）、 　５．４−５．６　（２Ｈ，ｍ）。
５．７−５．９　（ＩＨ，ｍ） 実施例１２−２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−０−［２−［Ｎ−（４−アミノブチル）カルバモ イル］アセトイミドイルコアゼチジン−３−イルチオコ−６−［（ＩＲ）−１− ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０ コヘプトー２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩（１，２５ｇ）を実施例１２−１ ）の前半部と実質的に同じ方法で得る。
ＩＲ（スノヨール）　：　３２００．　１？４０．　１６５０．　１５６０　ｃ ｍ’ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．２０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　 １．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．４−１．８　（４■、　ｍ）、　３．０２　（２Ｈ，ｔ、 　Ｊ＝６Ｈｚ）。
３．１−３．４　（３Ｈ，ｍ）、　３．４６　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３１１ｚ、 　６Ｈｚ）。
４．１−４．４　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−４．９５　（２Ｈ，ｍ）実施例１２ −３） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−［４−（５−アミノペンタノイル） ピペラジン＋イルカルボニル］アセトイミドイルコアゼチジン−３−イルチオ］ −６−［（ＩＲ）＋ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビ シクロ［３，２，０込ブト２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩（１，９２ｇ）を 実施例１２−１）の前半部と実質的に同じ方法で得る。
ＩＲ（ヌノ３−ル）　：　３２５０．　１７３０．　１６２０　ｃｍ−’ＮＭＲ （Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３８，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　 （３■、ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．５−１．８５　（４Ｈ，ｍ）、　２．５４　（２Ｈ，ｔ、 　Ｊ＝７Ｈｚ）。
３．０３　（２８，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．１−３．４　（ＬＨ，ｍ）、　 ３．４６　（ＩＨ。
ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　３．５−３．８　（８Ｈ，ｍ）、　４．１ −４．４５　（５Ｈ。
ｍ）、　４．７−４．９　（２Ｈ，ｍ）実施例１３−１） 燐酸塩緩衝液（ｐＨ６，８６，１２０ｍｌ）とテトラヒドロフラン（３０ｍｌ） の混合物中の（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−（アゼチジン−３−イルチオ）−６ −［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビ シクロ［３，２，０コヘプトー２−エン−２−カルボン酸（４，０ｇ）の溶液に 、エチル３−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）プロパンイミダー ト・塩酸塩（４，４５ｇ）を加え、このとき、ｐＨを０℃で３０％炭酸カリウム 水溶液により約８．５に調整する。ｐＨ８，５で、さらに３０分間攪はん後、ｐ Ｈを０℃で塩酸（６Ｎ）により７．０に調整する。この反応混合物をテトラヒド ロフランと酢酸エチルの混合物（３ニア　ｖ７ｖ。
合計５００　ｍｌ）で洗浄する。生じた溶液は、（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３− ［１−［３−（４−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）プロパンイミドイ ル］アゼチジン−３−イルチオコ−６＝［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルツー ４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２ −カルボン酸・塩酸塩（０，５６ｇ）を含んでおり、これを、さらに浄化するこ となく、次の段階に使用する。その理由は、目的生成物がクロマトグラフィー状 態で不安定であるからである。
実施例＋３−２） 実施例１３−１）において得られた（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３− （４−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）プロパンイミドイルコアゼチジ ンー３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル− ７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０１ヘプト２−エン−２−カルボン酸 ・塩酸塩の溶液に、燐酸水素ナトリウム十二水和物（１，２ｇ）、燐酸二水素ナ トリウムニ水和物（０，２ｇ）とパラジウム水酸化物（炭素上に２０％、０．５ ｇ）を加え、生じた混合物を、水素の大気圧力の下で室温で３時間激しく撹はん する。触媒を濾過によって除去し、濾液を酢酸エチルでミロ洗浄する。真空での 濃縮により、残留物水溶液を得て、それをダイアイオンＨＰ−２０（２００ｍｌ ）でクロマトグラフィーに付し、水とアセトニトリルの混合物（１００：Ｏない し９２：８．　Ｖ／Ｖ）で溶離する。
凍結乾燥により、無定形物を得て、それをアルミナＡＣ−１２（２００＋ｎｌ） で、さらにクロマトグラフィーに付し、水で溶離する。目的の両分を収集し、減 圧下で濃縮し、アンバーリストＡ−２６（Ｃ１−形、２０ｍ１）を通過させる。
溶離物の凍結乾燥により、（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−（３−アミノプ ロパンイミドイル）アゼチジン−３−イルチオコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロ キシエチルコー４−メチル−７−オキソ−■−アザビシクロ［３，２，０］ヘプ ト＝２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩（０，５６ｇ）を得る。
ＩＲ（ヌジ運−ル）　：　３３００．　１７４５．　１Ｂ８０．　１６４０．　 １５７５　ｃｒ’Ｎｌ１Ｒ（Ｄｒｙ、δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝ ７Ｈｚ）、　ＩＪＯ（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．７−２．９　（２Ｈ，ｍ）、　３．１−３．４　（３１， ｍ）、　３．４７（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　６Ｈｚ）、　４．１−４．５ 　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−５．０（２Ｈ，ｍ） 以下の化合物を実施例１５−１）と実質的に同じ方法で得る。
実施例１４−１） （４Ｒ，５３，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル −７−オキソ−３−［１−［Ｎ−（１，３゜４−チアジアゾール−２−イル）ホ ルムイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−１−アザビシクロ［３，２，０ ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌノ３−ル）　：　１７４０．　１ ７２０．　１６０２　ｃｍ’ＮＭＲ（Ｄｒｙ、δ）　：　１．２０　（３Ｈ，ｄ 、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．３０　（３）１．　ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．１５−３．３８　（ＩＨ，ｍ）、　３．３８−３．５ ０　（ＩＨ，ｍ）。
４．０５−４．４５　（５Ｈ，ｍ）、　４．５８−４．８０　（２■、　ｍ）、 　８．１４　（ＩＨ。
ｓ）、　８．９１　（ＩＨ，ｓ） 実施例１４−２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−（Ｎ−メチルホルムイミドイル）アゼチジ ン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル− ７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘプトー２−エン−２−カルボン 酸 ＩＲ（ヌノッール）　：　１７５０．　１７００．　１５９０　ｃｒｙ”ＮＭＲ （Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．２９　 （３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．１Ｈｚ）、　２．９０．３．０６．３．１８’（ｔｏｔａｌ　３Ｈ，ｓ ）。
３、１０−３．３０　（１８，ｍ）、　３．４０−３．５０　（１８，ｍ）、　 ３．８５−４．５０（７Ｈ，ｍ）、　４．５５−４．８０　（２Ｈ，ｍ）、　７ 、？３．７．７６　（ｔｏｔａｌＩＨ，ｓ） 実施例１４−３） （４Ｒ，５３，６Ｓ）−３−［１−（Ｎ、　Ｎ−ジメチルイミニオメチル）アゼ チジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−ｘ−ン−２−ｈ 　ＪＬ／ボキシラートを（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−（７ゼｆ’）シー３−イ ル］＋オー６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ −１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸とＮ、Ｎ− ジメチル−Ｎ−（メトキシメチレン）イミニウムメタンスルホネートから得る。
ＩＲ（ヌジＪ−ル）　：　１７４５．　１６９０．　１５９８　ＣＩ−’ＮＭＲ （ＤＩＯ，δ）　：　１．Ｌ８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．２９ 　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．０５−３．３５　（ＩＨ，ｍ）、　３．１１．３．１ ８　（ｔｏｔａ１６Ｈ，ｂｏｔｈ　ｓ）、　３．４０−３．５０　（ＩＨ，ｍ） 、　３．８５−４．５０　（５Ｈ。
ｍ）、　４．６０−４．８５　（２Ｈ，ｍ）、７．５７　（ＩＨ，ｓ）実施例１ ４−４） （４Ｒ，５３，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル −７−オキソ−３−［１−０−メチル−２−（ｌ−ピロリニオ）コアゼチジンー ３−イルチオ］−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボ キシラード ＩＲ（スフ１−ル）　：　１７５８．　１６７８．　１６０３　ｃｍ−’ＮＭＲ （ＤＩＯ，δ）　＋　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．２９ 　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　１．８５−２．１０　（ＩＨ，ｍ）、　２．３２　（ＩＨ ，ｄｔ。
Ｊ４６．３Ｈｚ、　７．２Ｈｚ）、　２．６５−２．９０　（２Ｈ，ｍ）、　３ ．０５−３．３０（ＩＨ，ｍ）、　３．１０　（３Ｈ，ｓ）、　３．３５−３． ５０　（ＩＨ，ｍ）。
３、６５−３．８０　（２■、　ｍ）、　４．００−４．４５　（５Ｈ，ｍ）、 　４．６０−４．８５（２■、　ｍ） 実施例１５−１） 燐酸塩緩衝液（ｐＨ６，８６，８０ｍｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の 混合物中の（４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−（アゼチジン−３−イルチオ）−６− ［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシ クロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸（０，４ｇ）の溶液に、 少量ずつエチル２−（ジフルオロメチルチオ）アセトイミダート・塩酸塩（０， ５５ｇ）を加え、このとき、ｐＨを０℃で３０％炭酸カリウム水溶液により約８ ．５に調整する。
ｐＨ８，５で、さらに３０分間攪はん後、ｐＨを０℃で塩酸（６Ｎ）により７． ０に調整する。反応混合物をテトラヒドロフランと酢酸エチルの混合物（３ニア 　ｖ／ｖ、合計４０　ｍｌ）で四回洗浄し、減圧下で溶媒を蒸発させ、残留水溶 液を得て、それをダイアイオンＨＰ−２０（５０ｍｌ）でクロマトグラフィーに 付し、水とアセトニトリルの混合物（１００：０ないし９０：１０．　Ｖ／Ｖ） Ｔ溶離ｔ　ル。
目的の画分を収集し、凍結乾燥し、無定形物を得て、それをシリカゲル（２０ｍ ｌ）で、さらにクロマトグラフィーに付し、アセトニトリルと水の混合物（１０ ０：０ないＬ７０：３０．　Ｖ／Ｖ）ｔ’溶離スル。溶離物の凍結乾燥により、 （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−（ジフルオロメチルチオ）アセトイ ミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチ ル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エ ン−２−カルボン酸（０，２０ｇ）を得る。
ＩＲ（ヌノＪ−ル）　：　３３００．　１？４０．　１６７０．　１６３０．　 １５８０　ｃｒ’Ｎ１［Ｒ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ４Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４６　（１）１．　ｄｄ 、　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　４．１−４．６　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−５．１　（２１１，ｍ ）、　７．１５（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝５５Ｈｚ） 以下の化合物を実施例１５−１）と実質的に同じ方法で得る。
実施例１５−２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−（カルバモイルオキシ）アセトイミ ドイル］アゼチジン−３−イルコチオ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル ］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト−２−エ ン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌノコール）　：　１７３０．　１６７０．　１５８ ０　ｃｍ”ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）・　１．２４　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈ ｚ）、１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．１Ｈｚ）、　３．０６−３．３３　（ＩＨ，コ）、　３．３３−３．５ ３　（１）１．口）。
３．９６−４．５０　（７Ｈ，ｍ）、　４．５０−４．８３　（２Ｈ，ｍ）実施 例＋５−３） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー３−［＋ −［２−（メトキシアセチルアミノ）アセトイミドイル］アゼチジン−３−イル チオ］−４−メチル−７−オキソ−１〜アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２ −エン−２−カルボン酸ＩＲ（スノ確−ル）　：　１７５０．　１６７０．　１ ５９０　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＩＯ，δ）　：　１．＋９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７ ．１Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．０５−３．３５　（ＩＨ，ｍ）、　３．３５−３．５ ５　（ＩＨ，ｍ）。
３．４６　（３Ｈ，ｓ）、　４．１０　（２Ｈ，ｓ）、　４．１５−４．５０　 （７Ｈ，ｍ）。
４．６０−４．８０　（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−４） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−７−オキソ−３−［１−［２−（ピリジン−３−イル）アセトイミドイル］ アゼチジン−３−イルチオ］（−アザビシクロ［３，２゜０］ヘプト２−エン− ２−カルボン酸 ＩＲ（ヌノＪ−ル）　：　３２００．　１７４５．　１５９０　ｃｍ−’ＮＭＲ （Ｄ＋Ｏ１δ）　；　１．１６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（ ３■、ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．０５−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４４　（ＬＨ，ｄ、 　Ｊ＝３．６Ｈｚ）。
３．８８．３．８９　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ）、　４．０−４．４ 　（５８，ｍ）。
４．６−５．０　（２Ｈ，ｍ）、　７．４−７．５５　（ＩＨ，ｍ）、　７．８ ３　（ＩＨ，ｄ。
Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．４−８．６　（２Ｈ，ｍ）実施例１５−５） （４Ｒ，５Ｓ、　ＢＳ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルト４−メチル −３−［１−［２−（１−メチル−３−ピリジニオ）アセトイミドイル］アゼｔ ンン−３−イルチオ］−７−オキソー１−アザビシクロ［３２，０］ヘプト−２ −エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（スノ運−ル）　：　３３００．　１７３ ０　ｃｍｌＮＭＲ（Ｄ＋Ｏ１δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ） 、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４−３．５　（ＩＨ， ｍ）。
４．１−４．５　（ＩＯＨ，ｍ）、　４．６−４．９　（２Ｈ，ｍ）、　７．９ ５−８．２　（１１１゜ｍ）、　８．４５−８．５４　（ＩＨ，ｌ１１）、　８ ．７−８．９　（２Ｈ，ｍ）実施例１５−６） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−７−オキソ−３−［１−［３−（ピリジン−３−イル）プロパンイミドイル コアゼチジン−３−イルチオ］−１−アザビシクロ［３゜２．０コヘプト２−エ ン−２−カルボン酸ＩＲ（スジツール）　：　１７４０．　１６７０．　１６２ ０　ｃｍ’ＮＭＲ（ＤｔＯ，δ）：１．１３（３■、　ｄ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ） 、　１．２８　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　２．６０−２．９０　（２Ｈ，ｍ）、　２．９０−３．３ ５　（３Ｈ，ｍ）。
３．３５−３．５０　（１８，ｍ）、　３．８０−４．４０　（５Ｈ，ｍ）、　 ４．５０−４．７５（２Ｈ，ｍ）、　７．６５−７．８５　（Ｉｎ、　ｍ）、　 ８．０５−８．２０　（ＩＨ，ｍ）。
８．４５−８．７５　（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−７） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−３−［１−［３−（１−メチル−３−ピリジニオ）プロペンイミドイル］ア ゼチジン−３−イルチオ］＝７−オキソー１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプ ト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（スノ遺−ル）　：　３３００．　 １７４０．　１５８０　ｃｍ”Ｎ１１Ｒ（Ｄρ、δ）　：　１．１７　（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．６−２．９　（２Ｈ，ｍ）、　３．０−３．４　（３Ｈ， ｍ）。
３．４−３．５　（１８，ｍ）、　４．０−４．４　（５）１．　ｍ）、　４． ６−５．０　（２Ｈ。
ｍ）、　８．０−８．１　（ＩＨ，ｌ１１）、　８．４８　（Ｉｎ、　ｄ、　Ｊ ＝８Ｈｚ）。
８．６−８．８　（ＩＨ，ｍ）、　８．７９　（ＩＨ，ｓ）実施例１５−８） （４Ｒ，５３，６３）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル −３−［１−［３−（ピリジン−３−イル）プロパンイミドイルコアゼチジンー ３−イルチオ］−７−オキソー１−アザビシクロ［３゜２０］ヘプト２−エン− ２−カルボン酸ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７ Ｈｚ）、　１．３０　（３８，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．２−３．４　（ＩＨ，ｍ）、　３．４５　（ＩＨ，ｄｄ、 　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　４．０−４．５　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−４．９　（２）１．　 ｍ）、　６．６７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）、　７．５−７．７　（２Ｈ， ｍ）、　８．０５−８．２　（ＩＨ。
ｍ）、　８．５５−８．７５　（２Ｈ，ｍ）実施例１５−９） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−３−［１−［３−（１−メチル−３−ピリジニオ）プロペンイミドイル］ア ゼチジン−３−イルチオ］−７−オキソー１−アザビシクロ［３，２，０１ヘプ ト−２−エン−２−カルボン酸クロリド＋Ｒ（スジツール）　：　３３００．　 １７４０．　１６６０．　１５８０　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　１． ２０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．４　（ＩＨ，ｍ）、　３．４６　（ＩＨ，ｄｄ、 　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　４．４４　（３Ｈ，ｓ）、　４．２−４．６　（５Ｈ，ｍ）、　４ ．６−５．１（２Ｈ，ｍ）、　６．９４　（１■、　ｄｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ、　 ５Ｈｚ）、　７．６５　（１Ｂ。
ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）、　８．１１　（ＩＨ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　８゜７３ −８．８６　（２Ｈ。
ｍ）、　９．１１　（ＩＨ，ｍ） 実施例１５−１０） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−（１−カルバモイルメチル−３−ピ リジニオ）プロペンイミドイルコアゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ） −ｉ−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３， ２，０１ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（メジ１−ル）　：　 ３３００．　１７４０．　１６８０　ｃｍ”ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　’１． １９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．３５　（１■、　ｌ１１）、　３．４５　（ＩＨ ，ｄｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　４．２０−４．５２　（５Ｈ，ｍ）、　４．８０−５．０　（２Ｈ ，ｍ）、　６．９５（１８，ｄ、　Ｊ＝１６．５Ｈｚ）、　７．７０　（ＩＨ， ｄ、　Ｊ＝１６．５Ｈｚ）、　８．１９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ、　８Ｈｚ ）、　８．８４−８．８９　（２Ｈ，ｍ）、　９．１６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈ ｚ） 実施例１５−１１） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−７−オキソ−３−［１−［４−（１−ピリジニオ）プチルイミドイルコアゼ チジン−３−イルチオ］−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２ −カルボン酸クロリドＩＲ（スジツール）　：　３３００．　１７４０．　１５ ７０　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＩＭＩ、δ）　：　１．１６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈ ｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．２−２．８　（４Ｈ，ｍ）、　３．１−３．４　（ＩＨ， ｍ）。
３．４−３．５　（ＩＨ，ｍ）、　３．９−４．４　（５Ｈ，ｍ）、　４．４− ５．０　（２Ｈ。
ｍ）、　８．１３　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　８．１６　（ＩＨ，ｔ、　 Ｊ＝７Ｈｚ）。
８．８９　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）実施例１５−１２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［２−［Ｎ−［２−［Ｎ−（２−ヒドロキ シエチル）−Ｎ、　Ｎ−ジメチルアンモニオコニチル］カルバモイル］アセトイ ミドイルコアゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチ ルコー４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２− エン−２−カルボン酸クロリド ＩＲ（ヌノ運−ル）　：　３３００．　１７４０．　１６５０．　１５８０　ｃ ｍ−’ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、 　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．２２　（６■、　ｓ）、　３．０５−３．２５　（ＩＨ， ｍ）、　３．４７（ｌ■、　ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　６Ｈｚ）、　３．５−３． ６　（４Ｈ，ｌ１１）、　３．６５−３．８（２Ｈ，ｍ）、　４．０−４．１　 （２Ｈ，ｍ）、　４．１−４．４　（５１１，ｍ）。
４．６−４．９　（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−１３） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー４−メチ ル−３−［１−［２−（トリフルオロアセチルアミノ）アセトイミドイル］アゼ チジン−３−イル］チオー７−オキソー１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト −２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌジｒル）　：　１７３５．　１７００．　 １５６０　ｃｍ”Ｎ１１Ｒ（ＣＤＣＬ、δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ ＝７．１８Ｈｚ）、　１．２８　（３Ｈ。
ｄ、　Ｊ＝６．３５Ｈｚ）、　３．１５−３．３５　（ＩＨ，ｍ）、　３．４５ 　（ｌｉｔ、　ｄｄ。
Ｊ４．１２Ｈｚ、　２．５０Ｈｚ）、　４．１９−４．４５　（７Ｈ，ｍ）、　 ４．６０−５．００（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−１４） （４Ｒ，５３，６３）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−［１− ［２−（メトキシカルボニルアミノ）アセトイミドイル］アゼチジン−３−イル コチオ−４−メチルーフ−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２ −エン−２−カルボン酸ＩＲ（スジツール）二１７３５．１７２０．１６８０ｃ ＋ｎ１ＮＩ［Ｒ（Ｄ刀、δ）　：　１．２４　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．１９Ｈｚ ）、　１．２８　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３４Ｈｚ）、　３．１５−３．３５　（ＩＨ，ｍ）、　３．４５　（Ｉ Ｈ，ｄｄ。
Ｊ＝６．０９Ｈｚ、　２．５０Ｈｚ）、　３．７０　（３Ｈ，ｓ）、　４．０７ 　（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝３．６５Ｈｚ）、　４．２０−４．４５　（５Ｈ，ｍ）、　４．６０−５． ００　（２Ｈ，ｍ）実施例１５−１５） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−０− ［２−（メタンスルホニルアミノ）アセトイミドイル］アゼチジン−３−イルコ チオ−４−メチルーフ−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，（Ｄヘプト−２− エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌジ直−ル）　：　１７３０．　１６７０．　１５ ８０　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤｔＯ，δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７． １９Ｈｚ）、　１．２８　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３５Ｈｚ）、　３．１５　（３Ｈ，ｓ）、　３．１０−３．３０　（Ｉ Ｈ，ｍ）、　３．４４（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．１２Ｈｚ、　２．５０Ｈｚ）、 　４．１２　（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝２．５２Ｈｚ）、　４．２０−４．４５　（５Ｈ，ｍ）、　４．６０−５． ００　（２Ｈ，ｍ）実施例１５−１６） （４Ｒ，５８，６３）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル −７−オキソ−３−［１−（２−ウレイドアセトイミドイル）アゼチジン−３− イルチオ］−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン 酸 ＩＲ（ヌノＪ−ル）　：　１７４２．　１６６５．　１５８２　ｃｍ−’ＮＭＲ （Ｄ、０．　δ）　：　１．１９　（３８，ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ）、　１．３ ０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．３Ｈｚ）、　３．１０−３．３７　（１８，ｍ）、　３．３９−３．５ ０　（ＩＨ，ｍ）。
３．８５−４．５０　（５Ｈ，ｍ）、　４．０４　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．２Ｈ ｚ）。
４．６０−４．９０　（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−１７） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−［１ −［４−（イミダゾール−１−イル）プチルイミドイルコアゼチジン−３−イル チオ］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２− エン−２−カルボン酸ＩＲ（メン３−ル）　：　３３００．　１？３５．　１６ ２０．　１５８０　ｃｍｌＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．１８　（３Ｈ，ｄ、 　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．０−２．３　（２）１．　ｍ）、　２．３−２．５　（２ Ｈ，ｍ）。
３、１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２．５Ｈｚ 、　６Ｈｚ）。
３．９−４．４　（７Ｈ，ｍ）、　４．５−４．９　（２■、　ｍ）、　７．０ ９　（ＩＨ，ｓ）。
７．２２−７．２５　（ＩＨ，ｍ）、　７．７７　（ＩＨ，ｓ）実施例１５−１ ８） （４Ｒ，５３，ＢＳ）−６−［（ＩＲ）−１−ｔ：　Ｆ　ｏ　＋　ジエチル］− ４−Ｊ　ｆ−ルー３−０−［４−（３−メチル−１−イミダゾリオ）ブチルイミ ドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−７−オキソー１−アザビシクロ［３，２ ，０コヘプトー２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（ヌノＪ−ル）　：　３ ３５０．　１７５０．　１７０５　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤｔＯ，δ）　：　１．１ ９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．１−２．４　（２Ｈ，ｍ）、　２．４−２．６　（２８， ｍ）。
３、１−３．３　（ＬＨ，ｍ）、　３．４７　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ ）、　３．９２（３Ｈ，ｓ）、　４．０−４．４　（７８，ｍ）、　４．６−４ ．９　（２Ｈ，ｍ）、　７．５０（ＩＨ，ｓ）、　７．５４　（ＩＨ，ｓ）、　 ８．８１　（ＩＨ，ｓ）実施例１５−１９） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［４−（２−メチルイミダゾール−１−イ ル）ブチルイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ１６−［（ＩＲ）−１−ヒド ロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０１ヘ プト−２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（スジ１−ル）　：　１７４３．　１６７ ７、　１５７８ＮＩＩＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７ ．２Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６．４Ｈｚ）、　２．１０−２．３０　（２Ｈ，ｍ）、　２．４０−２．５ ５　（２Ｈ，ｍ）。
２．６１−２．６２　（ｔｏｔａｌ　３Ｈ，ｓ）、　３．１０−３．３０　（Ｉ Ｈ，ｍ）。
３．４０−３．５０　（ＩＨ，ｌ１１）、　４．００−４．４０　（５Ｈ，の） 、　４．５０−４．８０（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−２０） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−０− ［４−（４−ヒドロキシメチル−ｌ−メチル−３−イミダゾリオ）ブチルイミド イル］アゼチジン−３−イルチオ］−４−メチル−７−オキソ−■−アザビシク ロ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（ヌノ３−ル ）　：　３２００．　１？４０．　１５８０　ｃｔｎＩＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　 ：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．１−２．３　（２）１．　ｍ）、　２．４−２．６　（２ Ｈ，ｍ）。
３、１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４７　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ ）、　３．８９（３８，ｓ）、　４．０−４．４　（７Ｈ，ｍ）、　４．６−５ ．０　（２Ｈ，ｍ）、　７．４９（ＬＨ，ｓ）、　８．８３　（１１（、Ｓ）実 施例１５−２１） （４Ｒ，５３，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ｔニドｏ＋ジエチル］−３−［１ −［４−［３−（２−ヒドロキシエチル）−１−イミダゾリオ］ブチルイミドイ ル］アゼチジン−３−イルチオ］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ ［３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（スジタール） 　：　３３００．　１７３０．　１６７０．　１６２０．　１５７０　ｃｔｎ− ’ＮＭＲ（ＤＩＯ，δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１． ２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．１−２．４　（２Ｈ，ｍ）、　２．４−２．６　（２Ｈ， ｍ）。
３、１−３．４　（１■、　ｍ）、　３．４６　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−３，６Ｈ ｚ）。
３．９０−３．９８　（２Ｈ，ｍ）、　４．０−４．５　（９Ｈ，ｍ）、　４． ６−４．９　（２Ｈ。
ｍ） 実施例１５−２２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチ ル−７−オキソ−３−［１−［４−（３−チアゾリオ）ブチルイミドイル］アゼ チジン−３−イルチオ］−１−アザビンクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２ −カルボン酸クロリドＩＲ（ヌジ蒼−ル）　：　３３００．　１７４０．　１６ ８０　ｃｍ’ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．２−２．６　（４Ｈ，ｍ）、　３．１−３．３　（ＩＨ， ｍ）、　３．４６（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　６Ｈｚ）、　４．０−４．４ 　（７Ｈ，ｍ）、　４．５５−４．９（２Ｈ，ｍ）、　８．２０−８．２８　（ ＩＨ，ｍ）、　８．３８−８．４５　（ＩＨ，ｍ）実施例１５−２３） （４Ｒ，５３，６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル −３−［１−［６−（３−メチル−■−イミダゾリオ）ヘキサンイミドイル］ア ゼチジン−３−イルチオ］−７−オキソー１−アザビシクロ［３，２，（Ｄヘプ ト−２−エン−２−カルボン酸クロリド＋Ｒ（ヌク１−ル）　：　３３００．　 １７４５．　１５８０　ｃｍ”ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　＋　１．１９　（３Ｈ ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　１．２５−１．４５　（２Ｈ，ｍ）、　１．５−１．７　（２ Ｈ，ｍ）。
１．７−２．１　（２Ｈ，ｍ）、　２．３−２．４５　（２Ｈ，ｍ）、　３．０ −３．３　（１）１゜ｍ）、　３．４６　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　６Ｈ ｚ）、　３．９０　（３Ｈ，ｓ）。
４．０−４．４　（７Ｈ，ｍ）、　４．５−４．８　（２Ｈ，ｍ）、　７．４− ７．５　（２Ｈ。
ｍ）、　８．７３　（１■、　ｓ） 実施例１５−２４） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ｌＲ）−１−ヒドロキシエチル］　−３−［ １−［２−（イミダゾール−４＝イル）アセトイミドイルコアゼチジン−３−イ ルチオコー４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト− ２−エン−２−カルボン酸ＮＩＩＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１７　（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．０５−３．３０　（ＩＨ，ｍ）、　３．４３　（１■、　 ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　３．７７　（２）１．　ｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ）、　４．１−４．４　 （５１，ｍ）。
４．６−４．９　（２８，ｍ）、　７．１８　（ＩＨ，ｓ）、　７．７７　（Ｉ Ｈ，ｄ。
Ｊ＝ＩＨｚ） 実施例１５−２５） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［＋−［３−（イミダゾール−４−イル）プロパ ンイミドイルコアゼチジンー３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシ エチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト− ２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（７）＊−に’）　：　３１５０．　１７３０． 　１５７０　ｃｍ’ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　＋　１．１５　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．５−２．８　（２Ｈ，ｍ）、　２．９−３．３　（３Ｈ， ｍ）。
３．４−３．５　（ＬＨ，ｍ）、　３．５−３．７５　（Ｉｌｌ、　ｍ）、　３ ．９−４．４　（４Ｈ。
ｍ）、　４．５−４．９　（２Ｈ，ｍ）、　７．０３　（Ｉｌｌ、　ｓ）、　７ ．７４　（ＩＨ，ｄ。
Ｊ４７Ｈｚ） 実施例＋５−２６） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシメチルコー３−［１ −［２−（３−メチル−１−イミダゾリオ）アセトイミドイル］アゼチジン−３ −イルチオコー４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプ ト２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（ヌノラール）　：　３３００．　１ ７３０．　１６４０　ｃｍ１ＮＭＩ？　（Ｄ、０．　δ）　：　１．＋９　（３ Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３１１，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．０５−３．４　（ＩＨ，ｍ）、　３．４−３．５　（ＩＨ ，ｍ）、　３．９３（３Ｈ，ｓ）、　３．’ｌ−４，１（ＩＨ，ｍ）、　４．１ −４．４　（４Ｈ，ｍ）。
４．４−４．８　（２Ｈ，ｍ）、　５．０５　（２■、　ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ）、 　７．４６　（２＋１゜ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．７６　（ＩＨ，ｓ）実施例 １５−２７） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−［１ −［２−（１，３−ジメチル−２−イミダゾリオ）アセトイミドイルコアゼチジ ン−３−イルチオ］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０ ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（ヌジＩ−ル）　：　３３０ ０．　１７２５．　１５７０　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．１９ 　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４７　（ＩＨ，ｄｄ、 　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　３．８８　（６）１．　ｓ）、　４．１−４．５　（５Ｈ，ｍ）、 　４．８−５．０５（２１，ｍ）、　７．５８　（２Ｈ，ｓ）実施例１５−２８ ） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−（１，３−ジメチル−２−イミダゾ リオ）−プロペンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）− １−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２ ，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（ヌノヨール）　：　３ ３００．　１７４０．　１５８０　ｃｍｌＮＭＲ（Ｄ、０．　δ）　：　１．２ ０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．４　（ＩＯ，ｍ）、　３．４６　（ＩＨ，ｄｄ、 　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　３．９４　（６Ｈ，ｓ）、　４．１−４．６　（５Ｈ，ｍ）、　４ ．７−５．１（２Ｈ，ｍ）、　６．８５　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１７Ｈｚ、　４ Ｈｚ）、　７．５１　（ＩＨ。
ｄ、　Ｊ＝１７Ｈｚ）、　７．６０　（２Ｈ，Ｓ）実施例１５−２９） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−０−［２−（１，３−ジメチル−４−イミダゾリ オ）−アセトイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１− ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０ ］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（スソヨール）　：　３３０ ０．　１７３０．　１５６０　ｃＩｌｌ−’ＮＩＩＲ（Ｄ、０．　δ）　＋　１ ．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．０５−３．４　（ＩＨ，ｍ）、　３．４６　（ＬＨ，ｄｄ 、　Ｊ＝３Ｈｚ。
６■Ｚ）、３．８１　（３Ｈ，ｓ）、　３．８９　（３Ｈ，ｓ）、　４．０２　 （２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝４Ｈｚ）、　４．１５−４．５　（５８，ｍ）、　４．８−５．０　（２Ｈ ，ｍ）、　７．５７（ＩＨ，ｓ）、　８．８０　（ＩＨ，ｓ）実施例１５−３０ ） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−３−［１ −［２−（１，２−ジメチル−４−ピラゾリオ）アセトイミドイル］アゼチジン −３−イルチオ］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０コ ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（スジ３−ル）　：　３３００ ．　１７２０．　１５７０　Ｃｌ０−’ＮＭＲ（Ｄｒｙ、δ）　：　１．１９　 （３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４６　（ＩＨ，ｄｄ、 　Ｊ＝３Ｈｚ。
６Ｈｚ）、　３．７９．３．８０　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ）、　４ ．１２　（６Ｈ。
ｓ）、　４．１−４．４　（５）１．　ｍ）、　４．６−４．９５　（１）１． 　ｍ）、　８．２６゜８．２７　（ｔｏｔａｌ　２Ｈ，ｅａｃｈ　ｓ）実施例１ ５−３１） （４Ｒ，５３，６３）−３−［１−［３−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ −メチルアミノ］プロパンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩ＩＲ（ヌノジール）　 ：　３３００．　１？４０．　１５８０　ｃｔｎ”ＮＭＲ（Ｄ＃、δ）　：　１ ．１？　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．７３　（３）１．　ｓ）、　２．７０−２．９　（２＋（ 、ｍ’）、　３．１０（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　３．１５−３．４０ 　（３Ｈ，ｍ）、　３．４５　（ＩＨ。
ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　６Ｈｚ）、　３．８６　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ ）。
４、０５−４．４５　（５Ｈ，口）、　４．５−４．９　（２Ｈ，の）実施例ｌ ５−３２） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−メ チルアミノ）−プロパンイミドイルコアゼチジンー３−イルチオ］−６−［（Ｉ Ｒ）−１−ヒドロキシエチル〕−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［ ３，２，０］ヘプト−２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩ＩＲ（アノ１〜ル）　 ：　３１５０．　１７４０．　１６５０．　１５７０　ｃｔｎｌＮＭＲ（Ｄ、０ ．　δ）　＋　１．２０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３１（ 、ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．３３　（３Ｈ，ｓ）、　２．５−２．６５　（２Ｈ，ｍ） 、　２．７−２．９（２Ｈ，ｍ）、　３．２０　（２Ｈ，ｓ）、　３．１５−３ ．４　（ＩＨ，ｍ）、　３．４５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ、　６Ｈｚ）、　 ４．０５−４．４　（５）！、　ｉ）、　４．６−４．９（２Ｈ，Ｄ） 実施例１５−３３） （４Ｒ，５３，ＢＳ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルコー３−［１− ［４−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイルメチル−Ｎ、Ｎ−ジメチル アンモニオコブチルイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−４−メチルー７ 〜オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸ク ロリド ＩＲ（スノ揮−ル）　：　３３００．　１７４０．　１５７（ｌ　ｃｒｎ”ＩＮ ＭＲ（Ｄ、ｌＪ、δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２９ 　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、　２．０−２．３５　（２Ｈ，ｍ）、　２．４−２．６　（２Ｈ ，ｍ）、　３．２９（６Ｈ，ｓ）、　３．１−３．４　（ＩＨ，ｍ）、　３．４ −３．６　（３ｔ［、ｍ）、　４．１３（２１（、ｄ、　Ｊ＝３Ｈｚ）、　４． ２−４．４５　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−５．０　（２）１゜ｍ） 実施例１５−３４） （４Ｒ，５３，６Ｓ）−６−［（Ｉｌｌ）−１−ヒドロキシエチルコー３−［１ −［４−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニオ］ブチ ルイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−４−メチル−７−オキソ−１−ア ザビシクロ［３，２，０１ヘプト−２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＩ？（ スジ１−ル）　：　３２００．　１７４０．　１５８０　ｃｍ”ＮＭＲ（Ｄ、０ ．　δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３Ｈ， ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．０−２．３　（２Ｈ，ｍ）、　２．４−２．６　（２Ｈ， ｍ）、　３．１９（６に、　ｓ）、　３．０５−３．１５　（Ｉ）Ｉ、　ｍ）、 　３．４−３．６　（５）１．　ｍ）。
４．０−４．４　（７１，ｍ）、　４．６−４．９　（２Ｈ，＋ａ）実施例１５ −３５） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［４−（Ｎ−（２−カルバモイルオキシエ チル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニオ］ブチルイミドイル］アゼチジン−３−イ ルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ −１−アザビシクロ［３，２，’０１ヘプトー２−エンー２−カルボン酸クロリ ド ＪＲ（ヌノ理−ル）　：　３３００．　１７３０．　１５７０　ｃｓ’ＮＭＲ（ Ｄ＃、δ）　：　１．１９　（３）１．　ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２９　（３Ｈ ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．０−２．３　（２Ｈ，ｍ）、　２．４−２．６　（２Ｈ， ｍ）、　３．２０（６Ｈ，ｓ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、　３．４− ３．６　Ｃ３Ｈ，ｔｎ）。
３、６５−３．８　（２■、　ｍ）、　４．０−４．４５　（５Ｈ，ｍ）、　４ ．４５−４．６５（２Ｈ，ｍ）、　４．６５−４．９　（２Ｈ，ｍ）実施例１５ −３６） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチルト３−［１− ［４−［Ｎ−（Ｎ−メチルカルバモイルメチル）−Ｎ、Ｎ−ジメチルアンモニオ コプチルイミドイルコアゼチジン−３−イルチオ］−４−メチル−７−オキソ− １−アザビシクロ［３，２，０］ヘプト２−エン−２−カルボン酸クロリド ＩＲ（スジコール）　：　１３２０．　１７３０．　１６６０．　１５８０　ｃ ｍ−’ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１． ２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０−２．３　（２Ｈ，ｍ）、２．４−２．６　（２Ｈ，ｍ） 、２．８１（３Ｈ，ｓ）、３．２８　（３Ｈ，ｓ）、３．２９　（３Ｈ，ｓ）、 ３．１５−３．４０（ＩＨ，ｍ）、３．４６　（Ｉｌｌ、ｄｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、６ Ｈｚ）、３．５−３．７５（２Ｈ，ｍ）、４．０９　（２Ｎ、ｓ）、４．１５− ４．４０　（５）１．　ａ＋）。
４．６−４．９　（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−３７） （４Ｒ，５８，６３）−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル〕−４−メチル −３−［１−（４−（１−メチル−１−ピロリジニオ）ブチルイミドイル］アゼ チジン−３−イルチオ］−７−オキソー１−アザビシクロ［３，２，０コヘプト ２−エン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（スジ３−ル）　：　３３００．　１７ ３０．　１６８０　ｃｖｈ−’ＮＭＲ（Ｍｌ、δ）　：　１．１９　（３Ｈ，ｄ 、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．０−２．４　（６Ｈ，ｌ１１）、　２．４−２．６　（２ Ｈ，ｍ）、　３．０８（３Ｈ１ｓ）、　３．１−３．１５　（１■、　ｍ）、　 ３．１５−３．６５　（９Ｈ，ｍ）。
４．０−４．４　Ｃ４Ｈ，ｍ）、　４．６−５．０　Ｃ２Ｈ，ｍ＞実施例１５− ３８） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３（２−ヒドロキシエチルアミノ）プロ パンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキ シエチル〕−４−メチル−７−オキツートアザビシクロ［３，２，０］ヘプト− ２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩ＩＲ（スジ遅−ル）　：　３２００．　１７ ４０．　１５７０　ｃｍ−’ＮＭＩ？　（ＤｆＯ，δ）　：　１．２０　（３Ｈ ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ＞、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．７−２．９　（２Ｈ，ｍ）、　３．１−３．３　（３Ｈ， ｍ）。
３、３−３．６　（３■、　ｍ）、　３．８６　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、 　４．１−４．５（５Ｈ，ｍ）、　４．６−５．１　（２Ｈ，ｍ）実施例１５− ３９） （４Ｒ，５Ｓ、　６３）−３−［１−［３−（カルバモイルメチルアミノ）プロ パンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオコ−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキ シエチル］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，Ｏｒヘプト ２−エン−２−カルボン酸・塩酸塩＋Ｒ（スジ１−ル）　：　３３００．　１７ ３０．　１６７０．　１６２０　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄρ、δ）　：　１．１８　 （３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３Ｈ，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．８−３．０　（２Ｈ，ｍ）、　３．１−３．３５　ＣＩＨ ，ｍ）。
３．３５−３．５　（３１，ｍ）、　３．９７　（２Ｈ，ｓ）、　４．０−４． ５　（５■、　ｍ）。
４．６−４．９　（２Ｈ，ｍ） 実施例１５−４０） （４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−［３−（ベンジルオキシカルボニルアミノ ）プロパンイミドイル］アゼチジン−３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒ ドロキシエチル］−４−メチル−７−オキソ−ｌ−アザビシクロＣ３，２，０］ ヘプト−２−エン−２−カルボン酸ＩＲ（ヌゾま一ル）　：　３２００．　１７ ４５．　１６９０．　１５８５　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｍ、δ）　：　１．１７　（ ３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．３０　（３１，ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　２．４−２．６　（２Ｈ，ｍ）、　２．９５−３．２５　（Ｉ Ｈ，ｍ）。
３．３５−３．６５　（３Ｈ，ｍ）、　３．８−４．８　（７Ｈ，ａ＋）、　５ ．１４　（２Ｈ。
ｓ）、　７．４６　（５Ｈ，ｓ） 実施例１６ Ｃ４Ｒ，５Ｓ、　６Ｓ）−３−［１−４２−（ジメチルスルホニオ）アセトイミ ドイルコアゼチジンー３−イルチオ］−６−［（ＩＲ）−１−ヒドロキシエチル ］−４−メチル−７−オキソ−１−アザビシクロ［３，２，０１ヘプト−２−エ ン−２−カルボン酸クロリドＩＲ（ヌノ葺−ル）　：　３２５（１，１７３０， １６７０，１５７０ｃｔｎ−’ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ，δ）　：　１．１９　（３Ｈ， ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　１．２９　（３■、ｄ。
Ｊ＝６Ｈｚ）、　３．１７　（６Ｈ，ｓ）、　３．１−３．３　（ＩＨ，ｍ）、 　３．４７　（ＩＨ。
ｄｄ、　Ｊ＝３．６Ｈｚ）、　４．１−４．６　（５Ｈ，ｍ）、　４．６−５． １　（２０，ｍ）国際調査報告 □□□−］ 国際調査報告

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. １．式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒｌはカルボキシ基、ＣＯＯ−または保護されたカルボキシ基、Ｒ２は ヒドロキシ（低級）アルキル基または保護されたヒドロキシ（低級）アルキル著 、 Ｒ３は水素または低級アルキル基、 Ｒ４は置換された低級アルキル基または置換された低級アルケニル基、Ｒ５は水 素、または Ｒ４は水素、Ｒ５は複素環基または低級アルキル基、またはＲ４は水素、式＝Ｎ −Ｒ５はＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルイミノ基、またはＲ４とＲ５は共に結合さ れ、置換されていてもよいイミノを含む複素環基を形成する、をそれぞれ意味す る。］で表わされる化合物または医薬として許容されるその塩。
  2. ２．Ｒ４は低級アルキル基または低級アルケニル基、そのそれぞれが、カルバモ イル、Ｎ−（またはＮ，Ｎ−ジ）（低級）アルキルカルバモイル、Ｎ−［Ｎ−ヒ ドロキシ（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル］カ ルバモイル、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アル キルアンモニオ（低級）アルキル］カルバモイル、Ｎ−［アミノ（または保護さ れたアミノ）（低級）アルキル］カルバモイル、任意に置換された複素環チオ、 低級アルキルチオ、ジ（低級）アルキルスルホニオ、ハロ（低級）アルキルチオ 、低級アルコキシ、カルバモイルオキシ、アシルアミノ、アミノ、保護されたア ミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ−保護−Ｎ−（低級）アルキルアミノ、カルバモ イル（低級）アルキルアミノ、Ｎ−保護−Ｎ−［カルバモイル（低級）アルキル ］アミノ、Ｎ−カルバモイル（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ、 Ｎ−方ルバモイル（低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ−（低級）アルキルァンモニオ 、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキル アミノ、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ（低 級）アルキルアンモニオ、任意に置換された複素環カルボニル、任意に置換され た複素環基、［ヒドロキシ（低級）アルキル〕アミノ、Ｎ−保護−Ｎ−〔保護さ れたヒドロキシ（低級）アルキル］アミノ、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒド ロキシ（低級）アルキル］アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロ キシ（低級）アルキル］アンモニオ、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒド ロキシ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル］アミノ、Ｎ，Ｎ−ジ （低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル（ 低級）アルキル］アンモニオ、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−〔カルバモイルオキ シ（低級）アルキル］アミノ、またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［カル バモイルオキシ（低級）アルキル］アンモニオからなる基によって置換されてお り、Ｒ５は水素、または、 Ｒ４は水素、Ｒ５は任意に置換された複素環基または低級アルキル基、または、 Ｒ４は水素、式＝Ｎ−Ｒ５はＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルイミニオ基、または、 Ｒ４とＲ５は共に結合され、置換されていてもよいイミノを含む複素環基を形成 する、 である請求項１に記載の化合物。
  3. ３．Ｒ４はカルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−（またはＮ，Ｎ−ジ）（低級） アルキルカルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキ ル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アル キル、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルア ンモニオ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−［アミノ（ま たは保護されたアミノ）（低級）アルキル、カルバモイル（低級）アルキル、低 級アルキルによって任意に置換された複素環チオ（低級）アルキル、低級アルキ ルチオ（低級）アルキル、ジ（低級）アルキルスルホニオ（低級）アルキル、ハ ロ（低級）アルキルチオ（低級）アルキル、低級アルコキシ（低級）アルキル、 カルバモイルオキシ（低級）アルキル、アシルアミノ（低級）アルキル、アミノ （または保護されたアミノ）（低級）アルキル、低級アルキルアミノ（低級）ア ルキル、Ｎ−保護−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、［カルバモ イル（低級）アルキルアミノ］（低級）アルキル、Ｎ−保護−Ｎ−［カルバモイ ル（低級）アルキル］アミノ（低級）アルキル、Ｎ−カルバモイル（低級）アル キル〕−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、Ｎ−カルバモイル（低 級）アルキルーＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル、Ｎ− （低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ （低級）アルキル、Ｎ−（低級アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ， Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル、ヒドロキシとアミノ（ま たは保護されたアミノ）（低級）アルカノイルからなる基によって任意に置換さ れた複素環カルボニル（低級）アルキル、低級アルキルとヒドロキシ（低級）ア ルキルからなる基によって任意に置換された複素環（低級）アルキル、（低級） アルキルとカルバモイル（低級）アルキルからなる基によって任意に置換された 複素環（低級）アルケニル、［ヒドロキシ（低級）アルキル］アミノ（低級）ア ルキル、Ｎ−保護−Ｎ−［保護されたヒドロキシ（低級）アルキル］アミノ（低 級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］ア ミノ（低級）アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級 ）アルキル〕アンモニオ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ− ［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル］アミノ（低級 〕アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）ア ルキル］カルバモイル（低級）アルキル］アンモニオ（低級）アルキル、Ｎ−（ 低級）アルキルーＮ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキル］アミノ（低級） アルキル、またはＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低 級）アルキル］アンモニオ（低級）アルキル、Ｒ６は水素、または、 Ｒ４は水素、Ｒ５は複素環基または低級アルキル基、または、Ｒ４は水素、式＝ Ｎ−Ｒ５はＮ，Ｎ−ジ（低級）アルキルイミニオ、または、 Ｒ４とＲ５は共に結合され、置換されていてもよいイミノを含む複素環基を形成 する、 である請求項２に記載の化合物。
  4. ４．Ｒｌはカルボキシ基またはＣＯＯ−、Ｒ２はヒドロキシ（低級）アルキル基 、Ｒ３は低級アルキル基、 Ｒ４はカルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−（またはＮ，Ｎ−ジ）（低級）アル キルカルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル− Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル 、Ｎ−［Ｎ−ヒドロキシ（低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルァンモ ニオ（低級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル、Ｎ−［アミノ（または 低級アルケニルオキシカルボニルァミノ）（低級）アルキル］カルバモイル（低 級）アルキル、低級アルキルテトラゾリルチオ（低級）アルキル、低級アルキル チオ（低級）アルキル、ジ（低級）アルキルスルホニオ（低級）アルキル、ハロ （低級）アルキルチオ（低級）アルキル、低級アルコキシ（低級）アルキル、カ ルバモイルオキシ（低級）アルキル、低級アルカノイルァミノ（低級）アルキル 、ハロ（低級）アルカノイルアミノ（低級）アルキル、低級アルコキシカルボニ ルアミノ（低級）アルキル、低級アルコキシ（低級）アルカノイルァミノ（低級 ）アルキル、低級アルキルスルホニルアミノ（低級）アルキル、カルバモイルア ミノ（低級）アルキル、フェニル（低級）アルコキシカルボニルアミノ（低級） アルキル、アミノ［または低級アルケニルオキシカルボニルアミノまたはニトロ （Ｃ８−Ｃ１０）アル（低級）アルコキシカルボニルアミノ］（低級）アルキル 、低級アルキルアミノ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルケニルオキシ−方ル ボニル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、［カルバモイル（低級 ）アルキルアミノ］（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルケニルオキシカルバニ ル−Ｎ−［カルボモイル（低級）アルキル］アミノ（低級）アルキル、Ｎ−カル バモイル（低級）アルキル−Ｎ−（低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、Ｎ −かルバモイル（低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ（低 級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキルカルバモイル）（低級）アルキル−Ｎ−（ 低級）アルキルアミノ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキルカルバモイル） （低級）アルキル−Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルアンモニオ（低級）アルキル、 ヒドロキシァゼチジンニルカルボニル（低級）アルキル、アミノ（または低級ア ルケニルオキシカルボニルァミノ）（低級）アルカノイルピペラジニルカルボニ ル（低級）アルキル、ピリジル（低級）アルキル、低級アルキルピリジル（低級 ）アルキル、イミダゾリル（低級）アルキル、低級アルキルイミダゾリル（低級 ）アルキル、低級アルキルによって任意に置換されたヒドロキシ（低級）アルキ ルイミダゾリル（低級）アルキル、チアゾリル（低級）アルキル、ピラゾリル（ 低級）アルキルピロリジニル（低級）アルキル、低級アルキルピロリジニル（低 級）アルキル、ピリジル（低級）アルケニル、低級アルキルピリジル（低級）ア ルケニル、カルバモイル（低級）アルキルピリジル（低級）アルキル、低級アル キルイミダゾリル（低級）アルケニル、［ヒドロキシ（低級）アルキル］アミノ （低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルケニルオキシカルボニルーＮ−［低級アル ケニルオキシカルボニルオキシ（低級）アルキル〕アミノ（低級）アルキル、Ｎ −（低級）アルキル−Ｎ−〔ヒドロキシ（低級）アルキル］アミノ（低級）アル キル、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］アン モニオ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低 級）アルキル］カルバモイル（低級）アルキル］アミノ（低級）アルキル、Ｎ， Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［Ｎ−［ヒドロキシ（低級）アルキル］カルバモ イル（低級）アルキル］アンモニオ（低級）アルキル、Ｎ−（低級）アルキル− Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキル］アミノ（低級）アルキル、または Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキル−Ｎ−［カルバモイルオキシ（低級）アルキル］ア ンモニオ（低級）アルキル、Ｒ５は水素、または、Ｒ４は水素、Ｒ６はチアジア ゾリルまたは低級アルキル、またはＲ４は水素、式＝Ｎ−Ｒ５はＮ，Ｎ−ジ（低 級）アルキルイミニオ、または、 Ｒ４とＲ５は共に結合され、低級アルキルによって置換されていてもよい１−ピ ロリニル環を形成、 である請求項３に記載の化合物。
  5. ５．Ｒ１はカルボキシまたはＣＯＯ−、Ｒ２は１−ヒドロキシエチル、 Ｒ３はメチル、 Ｒ４はカルバモイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルメチル、〔Ｎ−［２ −［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアミノ］エチル］カルバモイル ］メチル、［Ｎ−［２−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルア ンモニオ］エチル］カルバモイル］メチル、Ｎ−（４−アミノブチル）カルバモ イルメチル、Ｎ−（４−アリルオキシカルボニルアミノブチル）カルバモイルメ チル、（１−メチルテトラゾール−５−イルチオ）メチル、メチルチオメチル、 ジメチルスルホニオメチル、ジフルオロメチルチオメチル、メトキシメチル、カ ルバモイルオキシメチル、アセチルアミノメチル、トリフルオロアセチルアミノ メチル、メトキシカルボニルアミノメチル、メトキシァセチルアミノメチル、メ チルスルホニルアミノメチル、カルバモイルアミノメチル、２−（ベンジルオキ シカルボニルアミノ）エチル、アミノメチル、２−アミノエチル、アリルオキシ カルボニルアミノメチル、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ） エチル、メチルアミノメチル、（Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−メチルアミ ノ）メチル、（カルバモイルメチルァミノ）メチル、２−（カルバモイルメチル アミノ）エチル、［Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−（カルバモイルメチル） アミノ］メチル、２−［Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−（カルバモイルメチ ル）アミノ］エチル、２−（Ｎ−カルバモイルメチル−Ｎ−メチルアミノ）エチ ル、３−（Ｎ−かルバモイルメチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）プロピル、 ３−［Ｎ−（メチルカルバモイル）メチル−Ｎ−メチルアミノ］プロピル、３− ［Ｎ−（メチルカルバモイル）メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ］プロピル 、４−ヒドロキシァゼチジン−１−イルカルボニルメチル、［４−（５−アミノ ペンタノイル）ピペラジン−１−イル〕カルボニルメチル、［４−（５−アリル オキシカルボニルアミノペンタノイル）ピペラジン−１−イル］カルボニルメチ ル、３−ピリジルメチル、２−（３−ピリジル）エチル、３−（１−ピリジニオ ）プロピル、（１−メチル−３−ピリジニオ）メチル、２−（１−メチル−３− ピリジニオ）エチル、３−（１−イミダゾリル）プロピル、４−イミダゾリルメ チル、２−（４−イミダゾリル）エチル、３−（２−メチルイミダゾ−ル−１− イル）プロピル、（３−メチル−１−イミダゾリオ）メチル、３−（３−メチル −１−イミダゾリオ）プロピル、５−（３−メチル−１−イミダゾリオ）ペンチ ル、１，３−ジメチル−２（または４）−イミダゾリオメチル、３−〔３−（２ −ヒドロキシエチル）−１−イミダゾリオ］プロピル、３−（４−ヒドロキシメ チル−１−メチル−３−イミダゾリオ）プロピル、３−（３−チアゾリオ）プロ ピル、（１，２−ジメチル−４−ピラゾリル）メチル、３−（１−ピロリジニル ）プロピル、３−（１−メチル−１−ピロリジニオ）プロピル、２−（３−ピリ ジル）エテニル、２−（１−メチル−３−ピリジニオ）エテニル、２−（１−カ ルバモイルメチル−３−ピリジニオ）エテニル、２−（１，３−ジメチル−２− イミダゾリオ）エテニル、（２−ヒドロキシエチルァミノ）メチル、２−（２− ヒドロキシエチルアミノ）エチル、［Ｎ−アリルオキシカルボニル−Ｎ−［２− （アリルオキシカルボニルオキシ）エチル］アミノ］メチル、２−［Ｎ−メチル −Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ］エチル、３−［Ｎ−メチル−Ｎ−（２ −ヒドロキシエチル）アミノ］プロピル、３−［Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２− ヒドロキシエチル）アンモニオ］プロピル、３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［Ｎ−（２ −ヒドロキシエチル）カルバモイルメチル］アミノ］プロピル、３−［Ｎ−メチ ル−Ｎ−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）カルバモイルメチル］アンモニオ］プ ロピル、３−［Ｎ−メチル−Ｎ−［２−（カルバモイルオキシ）エチル］アミノ ］プロピル、または３−〔Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔２−（カルバモイルオキシ ）エチル］アンモニオ］プロピル、Ｒ５は水素、または、Ｒ４は水素、Ｒ５は１ ，３，４−チアジアゾル−５−イルまたはメチル、または、 Ｒ４は水素、式＝Ｎ−Ｒ５はＮ，Ｎ−ジメチルイミノ、または、Ｒ４とＲ５は共 に結合され、１−メチル−２−ピロリニオ環を形成、である請求項４に記載の化 合物。
  6. ６．式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ請求項１の定義の通りで ある。］で表わされる化合物またはその塩の製造法であって、（ａ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前記定義の通りである。）で表わされ る化合物またはその塩を、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りであり、Ｒ６は低級アルキル 基を意味する。）で表わされる化合物またはその塩との反応に付して、式▲数式 、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りである。 ）で表わされる化合物またはその塩を得て、（ｂ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りであり、Ｒ■は 保護されたカルボキシ基を意味する。）で表わされる化合物またはその塩を、Ｒ ■のカルボキシ保証基の脱離反応に付して、式▲数式、化学式、表等があります ▼ （式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りである。）で表 わされる化合物またはその塩を得て、（ｃ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りであり、■は保 護されたヒドロキシ（低級）アルキル基を意味する。）で表わされる化合物また はその塩を、■のヒドロキシ保護基の脱離反応に付して、式▲数式、化学式、表 等があります▼⊥ （式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りであり、■はヒ ドロキシ（低級）アルキル基を意味する。）で表わされる化合物またはその塩を 得て、 （ｄ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はそれぞれ前記定義の通りであり、■は、 保護されたアミノおよび／または保護されたヒドロキシ部分を含む置換された低 級アルキル基または置換された低級アルケニル基、Ｒ５は水素をそれぞれ意味す る。）で表わされる化合物またはその塩を、■のカルボキシ保護基の脱離反応に 付して、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５はそれぞれ前記定義の通りであり、■は、 アミノおよび／またはヒドロキシ部分を含む置換された低級アルキル基または置 換された低級アルケニル基、Ｒ５は水素をそれぞれ意味する。）で表わされる化 合物またはその塩を得ることを特徴とする前記製造法。
  7. ７．医薬として許容される担体または賦形剤と混合される請求項１に記載の化合 物を有効成分として含有する医薬組成物。
  8. ８．請求項１に記載の化合物の抗菌剤としての使用。
  9. ９．請求項１に記載の化合物の、ヒトまたは動物の伝染病を治療するための医薬 の製造への利用。
  10. １０．請求項１に記載の化合物をヒトまたは動物に投与することからなる伝染病 の治療方法。
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