JPH0749386B2 - ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 - Google Patents
３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法Info
- Publication number
- JPH0749386B2 JPH0749386B2 JP62043929A JP4392987A JPH0749386B2 JP H0749386 B2 JPH0749386 B2 JP H0749386B2 JP 62043929 A JP62043929 A JP 62043929A JP 4392987 A JP4392987 A JP 4392987A JP H0749386 B2 JPH0749386 B2 JP H0749386B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- isophorone
- trimethylcyclohexanone
- reaction
- catalyst
- trimethylcyclohexanol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンの製造方
法に係る。
法に係る。
特に本発明はイソホロン反応粗液をラネーニッケル触媒
存在下で水素ガスにより部分水添してβ−イソホロンを
含まない3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンを製造方
法に係る。
存在下で水素ガスにより部分水添してβ−イソホロンを
含まない3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンを製造方
法に係る。
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンはラッカー、ワニ
ス等の被覆、仕上げ材製造に必要な合成樹脂組成物を配
合するための溶剤として用いられており、これは3,3,5
−トリメチルシクロヘキサノンが高沸点であること、ゲ
ル化することなしにビニル樹脂等の合成樹脂を高含有量
で溶解する能力をもつこと、貯蔵安定性に優れているこ
となどの理由によるものである。
ス等の被覆、仕上げ材製造に必要な合成樹脂組成物を配
合するための溶剤として用いられており、これは3,3,5
−トリメチルシクロヘキサノンが高沸点であること、ゲ
ル化することなしにビニル樹脂等の合成樹脂を高含有量
で溶解する能力をもつこと、貯蔵安定性に優れているこ
となどの理由によるものである。
又、一方、不飽和ポリエステル樹脂用の硬化用触媒、エ
ラストマーの加硫剤等の用途にも使用され、工業的に有
用な物質である。
ラストマーの加硫剤等の用途にも使用され、工業的に有
用な物質である。
（従来技術） 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンは高沸点（b.p.190
℃）の構造式 を有する環式飽和ケトンである． 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンは普通，構造式が
以下のようなα−イソホロン を含有する環式不飽和ケトンを接触水素添加反応させる
ことによって製造される． 上記のα−イソホロンが水添されると3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサノンになる。次いでこの3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサノンがさらに水添されると3,3,5−ト
リメチルシクロヘキサノールになる．したがって，水添
条件は制御された条件の下で行なわれなければならな
い。
℃）の構造式 を有する環式飽和ケトンである． 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンは普通，構造式が
以下のようなα−イソホロン を含有する環式不飽和ケトンを接触水素添加反応させる
ことによって製造される． 上記のα−イソホロンが水添されると3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサノンになる。次いでこの3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサノンがさらに水添されると3,3,5−ト
リメチルシクロヘキサノールになる．したがって，水添
条件は制御された条件の下で行なわれなければならな
い。
このように制御された水添条件によって生じた3,3,5−
トリメチルシクロヘキサノン粗製生成物は未反応のα−
イソホロンおよび分子式 のような異性体β−イソホロンを主な不純物としてシス
−およびトランス−3,3,5−トリメチルシクロヘキサノ
ールのような不純物と同時に含んでいる． 粗製3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン生成物の夾雑
物としての４種類の主要不純物，すなわち，α−イソホ
ロン，β−イソホロン，およびシス−およびトランス−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノールはそれぞれ約215
℃,188℃，約201℃，および約194℃というような沸点を
有している． したがって，α−イソホロンとシス−3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサノールは普通の工業的蒸溜技術で容易に
分離出来るが，β−イソホロンおよびトランス−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサノールは特別な精密蒸溜方
法，および／または，高能率の特殊な蒸溜装置を必要と
することは明らかである． 精密蒸溜による精製は費用がかかり，しかも精細高能率
な蒸溜技術が使用された場合でもβ−イソホロンの分離
は極めて困難となる． β−イソホロンはα−イソホロンの接触水添反応におい
て副生するのではなく，原料イソホロン中に含まれてい
るβ−イソホロンがラネーニッケル触媒では水添されず
にそのまま残ることにより，反応粗液中に含まれてく
る． β−イソホロンはパラジウム触媒を使用すると水添され
て3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンになるが，パラ
ジウム触媒はラネーニッケル触媒と比較して20倍以上高
価であり，経済的ではない． β−イソホロンはアセトンからのイソホロン製造時反応
中に副生するのではなく，精製中にα−イソホロンが異
性化して副生し，製品イソホロン中に含まれてくる． そこで本発明者は、これらの問題を解決し高純度の3,3,
5−トリメチルシクロヘキサノンの製造法を検討し、遂
に本発明を成すに到った。
トリメチルシクロヘキサノン粗製生成物は未反応のα−
イソホロンおよび分子式 のような異性体β−イソホロンを主な不純物としてシス
−およびトランス−3,3,5−トリメチルシクロヘキサノ
ールのような不純物と同時に含んでいる． 粗製3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン生成物の夾雑
物としての４種類の主要不純物，すなわち，α−イソホ
ロン，β−イソホロン，およびシス−およびトランス−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノールはそれぞれ約215
℃,188℃，約201℃，および約194℃というような沸点を
有している． したがって，α−イソホロンとシス−3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサノールは普通の工業的蒸溜技術で容易に
分離出来るが，β−イソホロンおよびトランス−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサノールは特別な精密蒸溜方
法，および／または，高能率の特殊な蒸溜装置を必要と
することは明らかである． 精密蒸溜による精製は費用がかかり，しかも精細高能率
な蒸溜技術が使用された場合でもβ−イソホロンの分離
は極めて困難となる． β−イソホロンはα−イソホロンの接触水添反応におい
て副生するのではなく，原料イソホロン中に含まれてい
るβ−イソホロンがラネーニッケル触媒では水添されず
にそのまま残ることにより，反応粗液中に含まれてく
る． β−イソホロンはパラジウム触媒を使用すると水添され
て3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンになるが，パラ
ジウム触媒はラネーニッケル触媒と比較して20倍以上高
価であり，経済的ではない． β−イソホロンはアセトンからのイソホロン製造時反応
中に副生するのではなく，精製中にα−イソホロンが異
性化して副生し，製品イソホロン中に含まれてくる． そこで本発明者は、これらの問題を解決し高純度の3,3,
5−トリメチルシクロヘキサノンの製造法を検討し、遂
に本発明を成すに到った。
（発明の構成） 即ち本発明は 「イソホロンを部分水添して3,3,5−トリメチルシクロ
ヘキサノンを製造する方法において、アセトンの縮合反
応により合成されたイソホロン粗液を部分水添させるこ
とを特徴とする3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンの
製造方法」 である。
ヘキサノンを製造する方法において、アセトンの縮合反
応により合成されたイソホロン粗液を部分水添させるこ
とを特徴とする3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンの
製造方法」 である。
以下に本発明の実施態様について詳しく説明する。
原料イソホロンはアセトンの縮合により製造される反応
粗液であり，その中に含まれるβ−イソホロンは0.1〜0
/2重量％である． ちなみに製品イソホロン中のβ−イソホロンは0.8〜1.5
重量％である。
粗液であり，その中に含まれるβ−イソホロンは0.1〜0
/2重量％である． ちなみに製品イソホロン中のβ−イソホロンは0.8〜1.5
重量％である。
溶媒は使用しなくても良いが，触媒の分散を良くするた
めに脂肪族アルコールを使用してもよい． 脂肪族アルコールとしてはメタノール，エタノール,iso
−プロパノール,n−プロパノール，などがある． 溶媒の使用量はイソホロンに対して10〜30％でよく，そ
れ以下の量では触媒の分散が悪くなり，反応が円滑に進
行しなくなる． 一方，それ以上の量では仕込み液中のイソホロンの濃度
が低下することになり，製造能力が制限される． 触媒として用いるラネーニッケルの使用量はイソホロン
に対して0.5〜５％，好ましくは0.8〜２％である． それ以下の量では触媒の分散が悪くなり，反応が円滑に
進行しなくなる． 一方，それ以上の量では3,3,5−トリメチルシクロヘキ
サノールの副生量が増加し，触媒量が多くなることによ
る装置上の制約を受ける． 反応温度は50〜100℃，好ましくは60〜70℃に設定す
る． それより低い温度では反応速度が低下し，一方，それ以
上の温度では副生3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ルが増加する． 反応圧力は水素ガスを供給して20〜80kg/cm2,好ましく
は20〜40kg/cm2の範囲で設定する。
めに脂肪族アルコールを使用してもよい． 脂肪族アルコールとしてはメタノール，エタノール,iso
−プロパノール,n−プロパノール，などがある． 溶媒の使用量はイソホロンに対して10〜30％でよく，そ
れ以下の量では触媒の分散が悪くなり，反応が円滑に進
行しなくなる． 一方，それ以上の量では仕込み液中のイソホロンの濃度
が低下することになり，製造能力が制限される． 触媒として用いるラネーニッケルの使用量はイソホロン
に対して0.5〜５％，好ましくは0.8〜２％である． それ以下の量では触媒の分散が悪くなり，反応が円滑に
進行しなくなる． 一方，それ以上の量では3,3,5−トリメチルシクロヘキ
サノールの副生量が増加し，触媒量が多くなることによ
る装置上の制約を受ける． 反応温度は50〜100℃，好ましくは60〜70℃に設定す
る． それより低い温度では反応速度が低下し，一方，それ以
上の温度では副生3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ルが増加する． 反応圧力は水素ガスを供給して20〜80kg/cm2,好ましく
は20〜40kg/cm2の範囲で設定する。
それより低い圧力では反応速度が低下し，一方，それ以
上の圧力では副生3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ルが増加する． 反応時間は使用する触媒量，温度などによって異なる
が，概略１時間でよい． 余り短時間ではイソホロンの転化率が低く，逆に余り長
時間ではやはり副生3,3,5−トリメチルシクロヘキサノ
ールが増加する． 次に本発明のより詳細に説明をするため実施例を 挙げる。
上の圧力では副生3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ルが増加する． 反応時間は使用する触媒量，温度などによって異なる
が，概略１時間でよい． 余り短時間ではイソホロンの転化率が低く，逆に余り長
時間ではやはり副生3,3,5−トリメチルシクロヘキサノ
ールが増加する． 次に本発明のより詳細に説明をするため実施例を 挙げる。
実施例 電磁攪拌器付１オートクレーブに400gのイソホロンの
反応粗液（β−イソホロン含量0.22％）,100gのイソプ
ロパノール及び触媒として4gのラネーニッケルを入れ，
水素で60kgに/cm2に加圧し，攪拌しながら,60℃に加熱
する． 反応の進行につれて圧力が下がるので，水素を補給し，
理論量の水素が消費されたところで反応を停止した． 反応時間は80分であった． 反応粗液をサンプリングし，ガスクロマトグラフィーで
粗成分析を行なったところ次の結果を得た。
反応粗液（β−イソホロン含量0.22％）,100gのイソプ
ロパノール及び触媒として4gのラネーニッケルを入れ，
水素で60kgに/cm2に加圧し，攪拌しながら,60℃に加熱
する． 反応の進行につれて圧力が下がるので，水素を補給し，
理論量の水素が消費されたところで反応を停止した． 反応時間は80分であった． 反応粗液をサンプリングし，ガスクロマトグラフィーで
粗成分析を行なったところ次の結果を得た。
イソプロパノール16.37％、3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノン77.75％、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ル2.87％、α−イソホロン1.40％、β−イソホロンはト
レースであった。
キサノン77.75％、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ル2.87％、α−イソホロン1.40％、β−イソホロンはト
レースであった。
イソホロン転化率 98.25％ 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン選択率 96.4％ 次にこの反応粗液を吸引濾過することにより触媒を除去
し，濾液を40φの30段多孔板塔を用いて精留し（減圧10
0Torr,還流比＝３〜５），製品留分（塔頂温度114〜116
℃）として純度 99.38％の3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノン285gを得た。
し，濾液を40φの30段多孔板塔を用いて精留し（減圧10
0Torr,還流比＝３〜５），製品留分（塔頂温度114〜116
℃）として純度 99.38％の3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノン285gを得た。
比較例 イソホロン反応粗液の代りにイソホロンの製品（β−イ
ソホロン含量0.8％）を使用して反応をおこない，以下
のような結果を得た． イソプロパノール16.50％、3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノン78.23％、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ル2.72％，α−イソホロン1.55％、β−イソホロン0.64
％であった。
ソホロン含量0.8％）を使用して反応をおこない，以下
のような結果を得た． イソプロパノール16.50％、3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノン78.23％、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノー
ル2.72％，α−イソホロン1.55％、β−イソホロン0.64
％であった。
イソホロン転化率 98.06％ 3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン選択率 96.6％ 次にこの反応粗液を吸引濾過により触媒を除去し，濾液
を40φの30段多孔板塔を用いて精留し（減圧100Torr,還
流比＝３〜５），製品留分（塔頂温度114〜116℃）とし
て純度98.58％の3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン28
8gのを得た。
を40φの30段多孔板塔を用いて精留し（減圧100Torr,還
流比＝３〜５），製品留分（塔頂温度114〜116℃）とし
て純度98.58％の3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン28
8gのを得た。
Claims (1)
- 【請求項１】イソホロンを部分水添して3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサノンを製造する方法において，アセト
ンの縮合反応により合成されたイソホロン粗液を部分水
添させることを特徴とする3,3,5−トリメチルシクロヘ
キサノンの製造方法．
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62043929A JPH0749386B2 (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62043929A JPH0749386B2 (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63208547A JPS63208547A (ja) | 1988-08-30 |
| JPH0749386B2 true JPH0749386B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=12677382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62043929A Expired - Lifetime JPH0749386B2 (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0749386B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105061176B (zh) * | 2015-07-22 | 2017-06-20 | 黄河三角洲京博化工研究院有限公司 | 一种3,3,5‑三甲基环己酮的固定床合成方法 |
-
1987
- 1987-02-26 JP JP62043929A patent/JPH0749386B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63208547A (ja) | 1988-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0635404B2 (ja) | 粗１，４−ブタンジオ−ルの精製方法 | |
| US5986126A (en) | Process for the production of 6-aminocapronitrile and/or hexamethylenediamine | |
| US4394523A (en) | Catalytic hydrogenation of di (4-aminophenyl) methane | |
| US3524892A (en) | Hexanediol from cyclohexane | |
| KR19980087026A (ko) | 디아민의 제조방법 | |
| CN107778141B (zh) | 一种1，4-丁二醇的纯化方法 | |
| JPH0749386B2 (ja) | ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 | |
| JP3959993B2 (ja) | １，４−ブタンジオールの製造方法 | |
| JPH10259167A (ja) | ビス（アミノメチル）シクロヘキサンの異性化方法 | |
| US4016201A (en) | Process for the preparation of acetoxybutanols | |
| JP4118011B2 (ja) | エポキシシクロドデカンの製造法 | |
| JPH0649660B2 (ja) | シクロヘキサンの精製方法 | |
| US3875235A (en) | Process for the preparation of tertiary amines of high purity | |
| JPH0749385B2 (ja) | ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 | |
| JPH0669991B2 (ja) | ３−アミノメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルアミンの製造法 | |
| JPS62129231A (ja) | ジイソプロピルカルビノ−ルの製造方法 | |
| US4285777A (en) | Process for the purification of benzaldehyde | |
| JP3994246B2 (ja) | シクロドデカノール及びシクロドデカノンの製造法 | |
| JP3994248B2 (ja) | シクロドデカノンの製造法 | |
| US4249028A (en) | Selective conversion of d-isolimonene to d-3-menthene | |
| JP2001039909A (ja) | シクロドデカノンとシクロドデカノールの混合物の製造法 | |
| JPS6348241A (ja) | ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 | |
| JPH0717557B2 (ja) | ジヒドロイソホロンの製造方法 | |
| JP4200704B2 (ja) | フッ素化ベンゾニトリルの製造方法 | |
| JP3959793B2 (ja) | ブタンジオールの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |