JPS6348241A - ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は３，３．５−トリメチルシクロヘキサノンを製
造する改良法に係る。特に本発明はイソプロパノールと
イソホロンの混合物を水素移動反応させることにより３
．３．５−ｉ−リメチルシクロヘキサノンを製造する方
法に係る。更に詳細に述べるならばイソプロパノールを
イソホロンに対して１モル倍以上含むイソプロパノール
とイソホロンの混合物をラネーニッケル触媒存在下で水
素ガスを用いず、水素移動反応によりイソホロンの部分
水添を行なわせることによって３．３．５−トリメチル
シクロヘキサノンを製造する方法に係る。

３．３．５７トリメチルシクロヘキサノンはラッカー、
ワニス等の被覆、仕上げ材製造に必要な合成樹脂組成物
を配合する為の溶剤として用いられており、これは３．
３；　５−トリメチルシクロヘキサノンが高沸点でおる
こと、ゲル化することなしにビニル樹脂等の合成樹脂を
高含有量で溶解する能力をもつこと、貯蔵安定性に優れ
ていることなどの理由によるものである。又、一方、不
飽和ポリエステル樹脂用の硬化用触媒、エラストマーの
加硫剤等の用途にも使用され、工業的に有用な物質であ
る。

（従来技術） イソホロンから３．３．５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを製造する方法は古くより周知の水素ガスを用いる接
触水添法がある。かくして米国特許２，２６４，６２５
号にはイソホロンの接触水添法が記載されているが、か
かる反応においては充分な注意が必要である。

何故ならば過度に水添するとカルボニル基の水添が起き
アルコールであるシス−及びトランス−３，３，５−ト
リメチルシクロヘキサノールが副生してしまうし、又、
水添が不充分であると大量の未反応インホロンを残す結
果になるからである。

なお、この副反応は以下の化学反応式の如く進行する。

接触水添法の副反応 イソホロン　　　　　　３．３．　ｓ−トリメチルシク
ロヘキサノール（シス、ト ランスの異性体が存在〉 二通りの場合は何れも望ましくない。何故ならば第１に
アルコールまで過度に水添すると３，３゜５−トリメチ
ルシクロヘキサノンから分別するのに極めて困難なトラ
ンス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールを生
成するからである。即ち３，３．５−トリメチルシクロ
ヘキサノンの沸点は１８９℃でありトランス−３，３，
５−トリメチルシクロヘキサノールの沸点は１９０℃で
ある。第２に未反応のイソホロンを大量に残す結果に□
なる。不充分な水添はイソホロンの回収リサイクル量が
増加し、製造設備も複雑になり、決して経済的な方法で
はない。

（発明が解決しようとする問題点） バッチ式方法によって３．３．５−トリメチルシクロヘ
キサノンを製造する方法が米国特許２゜５６０．３６１
号に示されている。この特許では、イソホロンと３．３
．５−トリメチルシクロヘキサノールの等モル混合物を
接触水添触媒の存在下でトランス−水添反応を行なわし
め、目的とする３、３．５−トリメチルシクロヘキサノ
ンを得るものであるが、反応は遅く僅か７４％の変換を
達成するのに１２時間もかかる。又触媒ラネーニッケル
を１０重量％という大量に使用しなければならない。し
かも一方の原料である３、３．５−トリメチルシクロヘ
キサノールを予めイソホロンの水添によって製造しなけ
ればならないので全く実際的な方法とは言い難い。なお
、この反応は以下の化学反応式の通りに進行する。

ＵＳＰ２，５６０，３６１の反応 イソホロン　３．３．５−　トリメチ　　３．３．５−
トリメチルシクロへキサ　　ルシクロヘキサ ノール　　　　　ン そこで本発明者は、これらの問題を解決し優れた３、３
．５−トリメチルシクロヘキサノンの製造法を検討し、
遂に本発明を成すに到った。

（発明の構成） 即ち本発明はイソホロンから３．３．５−トリメチルシ
クロヘキサノンを製造する方法において、イソプロパノ
ールとイソホロン及び接触還元触媒を用いて水素移動反
応させることを特徴とする３゜３．５−トリメチルシク
ロヘキサノンの製造方法である。

この場合イソホロン転化率は９４％以上、３゜３．５−
トリメチルシクロヘキサノン選択率９７％以上３．３．
５−トリメチルシクロヘキサノール副生率は例えばｔｒ
ａｎｓ体０．３％ｃｉｓ体２，２％である。

かくして得られた反応粗液からは通常の分離精製法例え
ば触媒を濾過したのち濾液を蒸留することによって容易
に高純度な、３．．３．５−トリメチルシクロヘキサノ
ンが得られる。本発明の反応は以下の化学反応式の通り
に進行する。

本発明の化学反応 ＯＨ インプロパツール　イソホロン ○ アセトン　　　３．３．５−　トリメチルシクロヘキサ
ノン 以下に本発明の実施態様を更に詳しく述べる。

イソホロン及びイソプロパノールは工業用品位のもので
よく本発明を実施するに当って特別精製等の処理を要す
ることはない。イソプロパノールの使用はイソホロンと
の間にトランス−水添反応を行なわせるのに必要欠くべ
からざる量即ちイソホロンに対して１モル倍おれば充分
でありそれ以下ではイソホロン転化率が低下する。一方
１モル倍を超えるインプロパツールの使用は本来不要で
あるが、１〜１．５モル倍程度の少過剰量は使用しても
何ら影響を及ぼさない。更に１．５モル倍を超える過剰
量を使用することは３，３．５−トリメチルシクロヘキ
サノールの副生率を高める恐れがおること又、何より仕
込液中のインホロン濃度が低下することにより製造能力
に制限を受は好ましいものではない。

触媒として用いる、ラネーニッケルはイソホロン及びイ
ソプロパノールの合計重量に対して０．５〜１ＯＮ量％
でよく好ましくは１〜３重量％である。０．５重量％以
下の量では反応時間が長くなってしまうし、１０重量％
以上の量では３．３．５−トリメチルシクロヘキサノー
ルの副生が増加するし、触媒量が多いことによる装置上
の制約を受けることがあり好ましくない。

反応温度は、一般の二重結合の水添反応に比較して高い
１５０〜２５０’Ｃの範囲で設定する。好ましくは、１
７０〜１９０’Ｃの反応温度である。

それより低い温度では、反応速度の低下と副生ずる３、
３．５−トリメチルシクロヘキサノールのｔｒａｎＳ／
ＣｉＳ比が大きくなる。一方それ以上の温度では、副生
３，３．５−トリメチルシクロヘキサノールの増大、及
び何よりも高温を維持する為の設備的条件が不利となる
。反応圧力は、水素ガスを供給しないので設定した反応
温度で原料及び生成物が示す蒸気圧力の圧力のみであっ
て例えば等モルのイソプロパノールとインホロンを仕込
んだ場合では、１７５°Ｃの反応条件下で約１０ＫＧ程
度を示すにすぎない。従って反応装置の耐圧設計値を通
常の接触水添装置より下げることも可能となる。

反応時間は、使用する触媒量、温度、等によって異なる
が、凡ね３〜５時間でよい。必まり短時間ではイソホロ
ン転化率が低く、あまり長時間ではやはり副生３，３．
５−トリメチルシクロヘキサノールが漸増する。

次に本発明のより詳細な説明をする為実施例を挙げる。

実施例 電磁撹拌器付１１オートクレーブに３４６ｇのイソホロ
ン１５０ｇのイソプロパノール及び１０９のラネーニッ
ケルを入れ窒素置換後撹拌しつつ１７５°Ｃに加熱する
。１７５°Ｃに達してから４時間後、反応粗液をサンプ
リングしガスクロマトグラフィーで組成分析を行なった
ところ次の結果を得た。

アセトン１８．３２％、イソプロパノール０．１０％、
３．３．５−トリメチルシクロヘキサノン７５．３８％
、３．３．５−トリメチルシクロヘキサノール１．９４
％（ｔｒａｎｓ体／　ｃｉｓ体＝０．１３）、イソホロ
ン４．１８％、であった。

イソホロン転化率　　９４．９％ ３．３．５−トリメチルシクロヘキサノン選択率　　９
７．５％ 次にこの反応粗液より吸引濾過により触媒を除去し濾液
を４０φの３０段多孔板塔を用いて精留しく減圧１００
ＴＯｒｒ　Ｒ／Ｄ＝３〜５）製品留分（塔頂温度１１４
〜１１６°Ｃ）として２６６ｇの３．３．５−トリメチ
ルシクロヘキサノン純度９９、３８％を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）イソホロンから３，３，５−トリメチルシクロヘキ
   サノンを製造する方法において、イソプロパノールとイ
   ソホロン及び接触還元触媒を用いて水素移動反応させる
   ことを特徴とする ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンの製造方法。 ２）接触還元触媒がラネーニッケルであることを特徴と
   する特許請求の範囲第（１）項記載の製造方法。