JPH0746446B2 - 光記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光磁気ディスク等の光記録媒体に関するもの
である。

［従来技術］ 従来この種の光記録媒体の一つである光磁気ディスク
は、第２図に示されるように、ディスク円盤10上に絶縁
膜11、記録膜12、絶縁膜13及び反射膜14がその順に積層
されることにより形成されている。それらの各膜は通常
スパッタリング法により形成されている。

［発明が解決しようとする問題点］ 上記の光磁気ディスクの場合、絶縁膜11,13を耐湿性に
優れる無機系金属酸化物又は窒化物により形成している
が、膜厚が0.02［μｍ］程度であるために、絶縁膜にピ
ンホール15が生じ、記録膜12が空気にふれ酸化される虞
れがある。

［発明の目的］ 本発明は、上述した問題点を解消するためになされたも
のであり、記録膜が酸化されず、しかも耐湿性に優れた
光磁気記録媒体を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ この目的を達成するために、本発明の光記録媒体におい
ては、記録膜を覆う保護膜を、無機系の絶縁膜に有機系
の絶縁膜をコーティングして形成し、その有機系の絶縁
膜上に無機系の絶縁膜を付着させて形成している。

［作用］ 上記の構成を有する光磁気記録媒体は、無機系の絶縁膜
に有機系の絶縁膜をコーティングして形成し、その有機
系の絶縁膜上に無機系の絶縁膜を付着させている。最下
層の無機系の絶縁膜に生じるピンホールは有機系の絶縁
膜により閉塞されるのでピンホールを介して記録膜が酸
化されることが防止される。有機系の絶縁膜は一般的に
吸湿性があるため、その絶縁膜を大気中に放置すると有
機系の絶縁膜全面から水分が浸透し、絶縁膜の絶縁効果
が低下してしまう。有機系の絶縁膜に耐湿性に優れる無
機系の絶縁膜を付着させれば、有機系の絶縁膜が大気中
にさらされることがなくなり、記録膜の酸化が長期間に
わたって防止される。有機系の絶縁膜上に付着された無
機系の絶縁膜にはピンホールが生じるが、このピンホー
ルを介してのみ有機系絶縁膜が大気中にさらされるのみ
となるからである。

［実施例］ 以下、本発明を光磁気ディスクにおいて具体化した実施
例を図面に基づいて詳細に説明する。

この光磁気ディスク20は、第１図に示されているよう
に、支持盤としてのディスク円盤21上に種々の膜が積層
されることにより形成されている。このディスク円盤21
の厚さは、1.5mm程度であり、中心部には図示されない
回転軸と係合する穴部が形成されている。

前記ディスク円盤21の上面には、保護膜として三層構造
により形成されている絶縁膜22が全面に亘って付着され
ており、その絶縁膜22の厚さは0.1［μｍ］程度であ
る。その絶縁膜22は、金属酸化物又は窒化物等の無機系
の材料より形成されている絶縁膜22aの上に樹脂より成
る有機系の絶縁膜22bがコーティングされ、更に無機系
の絶縁膜22cがその上に付着されて形成されている。

前記絶縁膜22上には、光により記録可能又は読取可能な
情報を記録する記録膜23が、ディスク盤21の外周部分25
及び内周部分26を除いて全面に亘って付着されている。
その記憶膜23は、鉄等の遷移金属及び、希土類のテルビ
ウム若しくはガドリウムを主成分とする金属膜であり、
酸化されやすい。また、この記憶膜23の厚さは、0.1
［μｍ］程度である。尚、記録膜23上への情報の記録
は、レーザ光線を照射することにより、その部分におけ
る記録膜23に対して垂直に配向されている磁化を反転さ
せて行う。又、記録膜23に記録されている情報の読取は
光と磁気との相互作用であるカー効果を利用している
が、その記録及び読取の詳細の説明は、発明の要旨と異
なるので省略する。

前記記録膜23上には、前記絶縁膜22と同様な三層構造の
絶縁膜24a,24b,24cよりなる絶縁膜24が付着されてい
る。その絶縁膜24aは、記録膜23の上面のみを覆ってい
るのではなく、記録膜23の側面及び絶縁膜22上をも覆っ
ている。

前記絶縁膜24上には、従来の光磁気ディスクと同様な反
射膜27が付着されている。以上のように、本実施例の光
磁気ディスクにおいては、無機系の絶縁膜22c,22a,24a,
24cに多数のピンホール29が存在するが、有機系の絶縁
膜がコーティングされることにより、そのピンホール29
が大多数がなくなる。

更に、有機系の絶縁膜は耐湿性に乏しいが、上記の三層
構造にすることにより、耐湿性が極めて高くなる。

次に、上述した光磁気ディスクの製造方法及び製造装置
について第３図乃至第５図に基づいて説明する。

第３図には、この光磁気ディスクを製造するための連結
された４組のスパッタリング装置31〜34及びディスク円
盤に有機系の絶縁膜22b,24bをコーティングするための
スピンコーティング装置30が示されている。その４組の
スパッタリング装置の内の左端のものは、ディスク円盤
21上に無機系の絶縁膜22a,22cを形成するためのスパッ
タリング装置31である。その装置31の右側のスパッタリ
ング装置32は、三層構造よりなる絶縁膜22が付着された
ディスク円盤21上に記録膜23を付着するための装置であ
る。その装置32の右側のスパッタリング装置33は、記録
膜23が付着されたディスク円盤21に絶縁膜24a,24cを付
着するための装置である。その装置32の右側のスパッタ
リング装置34は、三層構造より成る絶縁膜24が付着され
たディスク円盤21に反射膜27を付着するための装置であ
る。

各スパッタリング装置31〜34はほぼ同様な構成を有して
おり、機密性を保持するベルジャ31a〜34aと、ベルジャ
31a〜34a内にバルブ31b〜34bを介してアルゴンガスを供
給する供給パルプ31c〜34cと、ベルジャ31a〜34a内を真
空にするためのバルブ31d〜34dを有する排気パイプ31e
〜34eと、ディスク円盤を載置する指示板31fと34fと、
指示板31f〜34fに載置されたディスク円盤を上方に移送
するためのリフト部31g〜34g及びリフト部駆動装置31h
〜34hを、リフト部31a〜34gにより上方に移送されたデ
ィスク円盤を把み隣接するスパッタリング装置等に移送
する搬送用アーム31i〜34i（第４図（ａ），（ｂ）参
照）と、高周波電源31j〜34jと、高周波電源31j〜34jよ
り電圧が印加されるターゲット31k〜34kと、ベルジャ31
a〜34a内にディスク円盤を出入れするためのバルブ31l
〜35lとから構成されている。尚、各スパッタリング装
置31〜34は、基本的構成において、周知のものであるた
め、詳細な説明は省略する。

スパッタリング装置31の左側には、ディスク円盤21に有
機系の絶縁膜22b,22bを形成するためのスピンコーティ
ング装置30が配置されている。スピンコーティング装置
30は、第５図に示されるように、ディスク円盤を載置す
る支持板61と、支持板61を高速で回転させる駆動装置
（図示せず）と、支持板61に載置されたディスク円盤21
に樹脂を供給するためのノズル62と、ディスク円盤21に
供給された樹脂が、ディスク円盤21を高速で回転させる
とき、外部に飛散するのを防止する飛散防止材63等を備
えている。

スパッタリング装置31とスピンコーティング装置30との
間には、ベルジャ31a内にバルブ31lを解してディスク円
盤を出入れするための搬送用アーム31mが配置されてい
る。各ターゲット31k〜34kにおける支持板31f〜34fに対
向する面には、ディスク円盤に膜を形成するための上述
した物質がそれぞれ貼着されている。

搬送用アーム31i〜34i及び31mは、第４図（ａ），
（ｂ）を示されるように、ディスク円盤を保持するため
の溝部40を有する保持部41と、保持部41を支持する伸縮
自在の腕部42と、腕部42を回動させる軸43とから構成さ
れている。そして、その搬送用アームのディスク円盤の
移送方法について説明すると、先ずディスク円盤がリフ
ト部31g〜34gによって上方に上げられた状態で、保持部
41がディスクの円盤の下方位置に移動される。そして、
リフト部31g〜34gが下がり、ディスク円板が溝部40には
まる。その状態で、バルブ31l〜35lが開放され、腕部42
が伸縮して隣接するスパッタリング装置の支持板31f〜3
4f上に移動する。リフト部31g〜34gがディスク円盤を下
方から持ち上げ、腕部42がその位置から所定位置に戻
る。リフト部31g〜34gが元の位置に下がると、ディスク
円盤は支持板31f〜34f上に載置される。

スパッタリング装置32内には、記録膜22の外周端部及び
内周端部を絶縁膜21における対応する端部よりそれぞれ
0.5mm程度小さくするためのマスキングホルダ50（第4c
参照）が配置される。尚、マスキングホルダ50は、内径
用のホルダ50aと外径用のホルダ50bとを有している。

次に製造方法について述べる。

先ず、搬送用アーム31mによって、バルブ31lを解して、
スパッタリング装置31内に搬送されたディスク円盤は、
支持板31f上に配置される。バルブ31lが閉じられた状態
で、スパッタリング装置31ではスパッタリングが行われ
る。ディスク円盤には無機系の絶縁膜22aが形成され
る。次に、バルブ31lを開き搬送用アーム31mによってそ
のディスク円盤が取り出される。そして、製造者によっ
て把まれたそのディスク円盤はスピンコーティング装置
30の支持板61上に載置される。その状態で、ディスク円
盤は、支持板61とともに高速回転され、絶縁膜22aが形
成されたディスク円盤に供給された樹脂は遠心力によ
り、ディスク円盤上に均一にコーティングされる。製造
者により支持板61上より取り上げられたディスク円盤
は、搬送用アーム31mによって、バルブ31lを介して再度
スパッタリング装置31内に搬送され、支持板31f上に配
置される。バルブ31lが閉じられた状態で、スパッタリ
ング装置31では、再度スパッタリングが行われ、有機系
の絶縁膜22bがコーティングされたディスク円盤には、
その上に無機系の絶縁膜22cが形成される。

そして、スパッタリング装置31及びスピンコーティング
装置30において三層構造より成る絶縁膜22が形成された
ディスク円盤は搬送用アーム31iによりバルブ32lを介し
て支持板32f上に配置される。そして搬送用アーム51に
よりマスキングホルダ50をそのディスク円盤上に載置す
る。その状態でスパッタリングが行われると、第１図に
示されるように外周端部及び内周端部が絶縁膜22におけ
る対応する端部より短くなった記録膜23が形成される。
その後、マスキングホルダ50が搬送用アーム51により取
り除かれる。そのディスク円盤が搬送用アーム32iによ
りバルブ33lを介して支持板33f上に配置される。スパッ
タリング装置33において、スパッタリングが行われる
と、絶縁膜22が記録膜23の上面、外周端面，内周端面及
び絶縁膜22C上に付着される。その後、バルブ33l,32l,3
1lが開放され、搬送用アーム32i,31i,31mを用いてディ
スク円盤がスピンコーティング装置30に搬送される。そ
して、上述した態様と同様にディスク円盤上に樹脂より
なる絶縁膜24bがコーティングされる。再び、搬送用ア
ーム31m,31i,32iを用いて、ディスク円盤はスパッタリ
ング装置33内の支持板33f上に載置される。バルブ33lが
閉じられ、スパッタリング装置33において、スパッタリ
ングが行われると、有機系の絶縁膜24bが形成されたデ
ィスク円盤に無機系の絶縁膜24cが形成される。それに
より、記録膜23は絶縁膜22,24に完全に覆われる。そし
て、そのディスク円盤上にスパッタリング装置34によっ
て、反射膜27が形成されると、第１図に示されるような
光磁気ディスクが形成される。

尚、この製造の過程において、無機系の絶縁膜24aがデ
ィスク円盤に形成された状態で、それが外部に取り出さ
れるが、記録膜23が絶縁膜24aにより覆われているの
で、記録膜23の酸化について特に問題は生じない。

尚、本発明は、上述した実施例に限定されるわけではな
く、例えば、上述した三層構造より成る絶縁膜が記録膜
における反射膜側のみに配置するようにしてもよいし、
その反対側のみに配置してもよい。更に、この絶縁膜
は、三層構造以上の多層構造の絶縁膜より成っていても
よいし、反射膜上に無機系の絶縁膜に有機系の絶縁膜が
コーティングされた二層構造より成る絶縁膜が形成され
ていてもよい。

［効果］ 無機系の絶縁膜が有機系の絶縁膜でコーティングされ、
その有機系の絶縁膜に無機系の絶縁膜を付着させること
により、記録膜を直接覆う無機系の絶縁膜に生じるピン
ホールを長期間にわたって有機系の絶縁膜により閉塞し
得、その酸化が長期間にわたって防止され、信頼性の高
い光記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明を具体化した実施例の断面図、第２図
は、従来の光磁気ディスクの第１図相当図、第３図は、
本発明の光磁気ディスクの製造装置の概略図、第４図は
（ａ），（ｂ）は、光磁気ディスクの製造装置に用いら
れる搬送アームを示す図、第４図（ｃ）は、実施例の光
磁気ディスクを製造する際に用いられるマスキングホル
ダの平面図、第５図は、光磁気ディスクを製造するため
に用いられるスピンコーティング装置を示す斜視図であ
る。 図中、21はディスク円盤、22a,24a,22c,24cは無機系の
絶縁膜、23は記録膜、22b,24bは有機系の絶縁膜、25は
外周端部、26は内周端部、27は反射膜である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光により情報が記録される記録膜を備えた
   光記録媒体において、 前記記録膜を覆う保護膜を、無機系の絶縁膜に有機系の
   絶縁膜をコーティングして形成し、その有機系の絶縁膜
   上に無機系の絶縁膜を付着させたことを特徴とする光記
   録媒体。