JPH0745509A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH0745509A
JPH0745509A JP5191508A JP19150893A JPH0745509A JP H0745509 A JPH0745509 A JP H0745509A JP 5191508 A JP5191508 A JP 5191508A JP 19150893 A JP19150893 A JP 19150893A JP H0745509 A JPH0745509 A JP H0745509A
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JP
Japan
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pattern
reticle
liquid crystal
light
stop
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Pending
Application number
JP5191508A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Ishii
博行 石井
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NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Publication date
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Priority to EP94112057A priority patent/EP0637780A1/en
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Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
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    • G03F7/701—Off-axis setting using an aperture

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】露光装置において、照明系における絞り機構の
絞りパターンを機械的に交換することなく、極めて短時
間に容易にレチクルパターンのピッチに対応する絞りパ
ターンに変更する。 【構成】照明系の光経路途中に液晶板である絞り機構５
ａと、この液晶板の走査電極駆動回路１４ａ及び信号電
極駆動回路１４ｂを制御し予め登録された絞りパターン
を記憶する制御部１４と、絞りパターンを指定する入力
部１５とを設け、レチクル１１のパターンピッチに対応
する絞りパターンに液晶板の白黒で表示する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板であるウェ
ーハにマスクに形成されるパターンを転写する露光装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の露光装置の一例における構
成を示す図、図３は図２の絞り機構のパターン例を示す
図である。ステッパーと呼ばれるこの種の露光装置は、
図２に示すように、照明部１から出された照明光３を適
過あるいは遮断するシャッター２と、照度の均一化を図
る光学ブロック４と、光学ブロック４から出た照明光を
絞る開口をもつ絞り機構５ｂと、絞り５ａで絞られた照
明光を反射させるミラー６と、リレーレンズ７でレチク
ルブラインド８で結像され露光範囲を決められた照明光
反射するミラー９と、反射された照明光をレチクル１１
に入光するメインコンデンサーレンズ１０と、レチクル
１１に透過した照明光を入光しパターンをウェーハ１３
に縮小して結像する投影レンズ１２とを備えている。
【０００３】また、この露光装置の照明系は斜入射照明
法を採用しており、高解像力化、広焦点深度化を目的と
したものである。この照明系の絞り機構５ｂのパターン
は、図３に示すように、輪帯形状であり、外側に配置さ
れる遮光部１６と中心に位置する遮光部１７とで構成さ
れ、形状ファクターａ／ｂは使用するレチクルのパター
ンピッチに応じて設定し、斜入射角度を変えていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の露光装
置では、照明系の絞り機構が固定式であるため斜入射照
明を使用する場合レチクルパターンのピッチに合わせた
絞りプレートに交換する必要がある。すなわち、使用す
るレチクルが変化するたびに絞りを交換しなければなら
ない。このことは交換に時間を費やし装置の稼働率を低
下させる問題があった。
【０００５】従って、本発明の目的は、レチクルの種々
のパターンに対応できる照明系の絞りをもつ露光装置を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、光源よ
り投射される光を部分的に遮光し透過する絞りパターン
をもつ絞り機構と、透過された光をミラーを介しコンデ
ンサーレンズに入光し、このコンデンサーレンズより出
光する光を入光するレチクルと、レチクルのパターンを
縮小してウェーハに結像する投影レンズとを備える露光
装置において、前記絞り機構に液晶板を有し、この液晶
板の不透明部である遮光部を変えることによって前記絞
りパターンを前記レチクルの種々のパターンに対応させ
る露光装置である。
【０００７】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【０００８】図１（ａ）及び（ｂ）は本発明の一実施例
における露光装置の構成を示す図および絞り機構の構成
を示す図である。この露光装置は、図１に示すように、
照明系における絞り機構５ａにマトリックス液晶表示素
子である液晶板を用いたことである。また、この液晶板
をパターンを制御する制御部１４と入力部１５とを備え
ている。
【０００９】液晶板は２枚の透明なガラス基板にＸＹマ
トリックス液晶素子が組込まれ、側面に走査電極駆動回
路１４ａ及び信号電極駆動回路１４ｂが接続されてい
る。制御部１４はレチクルパターンに応じて形状ファク
タを登録する記憶部と選択スイッチ及びフレームメモリ
等を有し、液晶板をコントロールするものであって、入
力部１５はレチクルパターンに応じて登録された形状フ
ァクタを指定する。
【００１０】このように、照明系の絞り機構に液晶板を
用い、レチクル１１のパターンピッチに対応する形状フ
ァクタの登録番号を入力部１５に入力すると、制御部１
４は液晶板の走査電極駆動回路１４ａ及び信号電極駆動
回路１４ｂを動作させ液晶素子を白黒表示する。白黒表
示されたパターンは形状ファクタａ／ｂで示すパターン
になる。このことによって、照明光はこの液晶板を通過
し、適切なコーヒレンスファクタをもつ照明光としてレ
チクル１１に投光される。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、照明光源
からの光を絞る絞り機構に、液晶板を用い、この液晶板
の白黒表示パターンを制御する制御部と、制御部に登録
されたレチクルに対応する白黒パターンを指定する入力
部とを設けることによって、従来のように絞りパターン
を機械的に交換する作業が必要無くなり、極めて短時間
に容易にレチクルパターンに対応する絞りに設定できる
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例における露光装置の構成を示す
図および絞り機構の構成を示す図である。
【図２】従来の露光装置の一例における構成を示す図で
ある。
【図３】図１の絞り機構における絞りパターンを示す図
である。
【符号の説明】
１ 照明部 ２ シャッター ３ 照明光 ４ 光学ブロック ５ａ，５ｂ 絞り機構 ６，９ ミラー ７ リレーレンズ ８ レチクルブラインド １０ メインコンデンサー １１ レチクル １２ 投影レンズ １３ ウェーハ １４ 制御部 １４ａ 走査電極駆動回路 １４ｂ 信号電極駆動回路 １５ 入力部 １６，１７ 遮光部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光源より投射される光を部分的に遮光し
    透過する絞りパターンをもつ絞り機構と、透過された光
    をミラーを介しコンデンサーレンズに入光し、このコン
    デンサーレンズより出光する光を入光するレチクルと、
    レチクルのパターンを縮小してウェーハに結像する投影
    レンズとを備える露光装置において、前記絞り機構に液
    晶板を有し、この液晶板の不透明部である遮光部を変え
    ることによって前記絞りパターンを前記レチクルの種々
    のパターンに対応させることを特徴とする露光装置。
JP5191508A 1993-08-03 1993-08-03 露光装置 Pending JPH0745509A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5191508A JPH0745509A (ja) 1993-08-03 1993-08-03 露光装置
EP94112057A EP0637780A1 (en) 1993-08-03 1994-08-02 Exposure apparatus for photolithography

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5191508A JPH0745509A (ja) 1993-08-03 1993-08-03 露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0745509A true JPH0745509A (ja) 1995-02-14

Family

ID=16275824

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5191508A Pending JPH0745509A (ja) 1993-08-03 1993-08-03 露光装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0143814B1 (ko) * 1995-03-28 1998-07-01 이대원 반도체 노광 장치
US6156443A (en) * 1998-03-24 2000-12-05 National Research Council Of Canada Method of producing improved erosion resistant coatings and the coatings produced thereby

Family Cites Families (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2699433B2 (ja) * 1988-08-12 1998-01-19 株式会社ニコン 投影型露光装置及び投影露光方法
JP3200894B2 (ja) * 1991-03-05 2001-08-20 株式会社日立製作所 露光方法及びその装置

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EP0637780A1 (en) 1995-02-08

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Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19991130