JP3414295B2 - 写真焼付装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル・マイク
ロミラー・デバイスを用いて、感光材料としての印画紙
を露光することにより、該印画紙に画像を焼き付ける写
真焼付装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光変調素子を用いてデジタル画像
を印画紙上に焼き付ける写真焼付装置が各種実施されて
いる。このような写真焼付装置のうち、光変調素子とし
て、サイズが極めて小さいマイクロミラーを平面上に多
数配置し、各マイクロミラーの傾斜角を制御して反射光
の反射方向を制御するデジタル・マイクロミラー・デバ
イス（以下、ＤＭＤと略称する）を用いる写真焼付装置
が提案されている。

【０００３】ＤＭＤは、例えば現在、光変調素子として
広く用いられている液晶表示装置（以下、ＬＣＤと略称
する）と比較して、光源からの光の利用効率が高いとい
う利点を有している。これは、ＬＣＤにおいては、スイ
ッチング素子や各種配線などによって開口率が比較的低
くなってしまうという問題や、その構造上、光源からの
光のうち、ある一定方向の偏光成分の光のみしか使用で
きないという問題があるからである。これに対して、Ｄ
ＭＤは、光源からの光をマイクロミラーによって反射さ
せる構造であるので、全ての偏光成分の光を効率よく使
用することができる。

【０００４】ここで、ＤＭＤの構成についてより詳しく
説明する。ＤＭＤは、図３（ａ）（ｂ）に示すように、
微小サイズの揺動自在なマイクロミラー５１がポスト５
２を介して基板５３上に複数設けられてなるデバイスで
ある。画像データに応じて個々のマイクロミラー５１の
傾きを調節し、光の反射方向を変えることで、印画紙の
露光が制御される。

【０００５】つまり、印画紙の露光時には、マイクロミ
ラー５１は、同図（ａ）に示すように、基板５３表面に
対して時計回りにθだけ傾き（−θだけ傾き）、光源か
らの光がマイクロミラー５１によって印画紙方向に反射
される。一方、印画紙の非露光時には、マイクロミラー
５１は、同図（ｂ）に示すように、基板５３表面に対し
て反時計回りにθだけ傾き（＋θだけ傾き）、光源から
の光がマイクロミラー５１によって印画紙方向とは異な
る方向に反射される。なお、マイクロミラー５１は、装
置の電源ＯＮ時またはＯＦＦ時に、同図（ａ）（ｂ）の
いずれか一方の状態を呈している。

【０００６】このようなＤＭＤを用いた従来の写真焼付
装置の一構成例を図４に示す。図４に示すように、写真
焼付装置６１は筺体６２を備え、この筺体６２の内部
に、光源６３、ＤＭＤ６４、およびプリントレンズ６５
が設けられている。また、筺体６２には、開口部６６が
形成されている。そして、筺体６２における開口部６６
の外側に、印画紙６７が配置される。

【０００７】このような構成の写真焼付装置６１による
印画紙６７に対する焼付動作は次のようになる。写真焼
付装置６１の動作時には、光源６３は常にＤＭＤ６４に
向けて光を照射している。そして、印画紙６７に対して
露光を行う際には、光源６３から出射した光が、ＤＭＤ
６４にて印画紙６７方向に反射されるように、ＤＭＤ６
４のマイクロミラー（図示せず）を基板表面に対して所
定角度傾ける。

【０００８】そして、印画紙６７方向に反射された光
は、プリントレンズ６５に入射し、一旦集光した後、開
口部６６を通って印画紙６７上に投影される。このプリ
ントレンズ６５の焦点距離を適宜設定することによっ
て、印画紙６７上に焼き付けられる画像の大きさが決定
される。

【０００９】一方、印画紙６７の非露光時には、光源６
３からの光が、印画紙６７方向とは異なる方向に反射さ
れるように、マイクロミラーを基板表面に対して傾斜さ
せる。この際に、印画紙６７方向とは異なる方向に反射
された光は、図示しない光吸収板に吸収される。

【００１０】なお、図示はしていないが、光源６３とＤ
ＭＤ６４との間には、必要に応じて、調光フィルタ、防
熱フィルタ、バランスフィルタなどの光学部品が配置さ
れる。調光フィルタは、光源６３から出射される白色光
からＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の光を取り出
すものである。防熱フィルタは赤外線をカットし、バラ
ンスフィルタは、ＤＭＤ６４の表面に均一な照度で光が
照射されるようにシェーディング補正をするものであ
る。

【００１１】また、上記の写真焼付装置６１は、プリン
トレンズを１つ備えた構成であったが、複数のプリント
レンズを切り替えて配置することによって、プリントの
倍率を変更可能な構成とすることも可能である。図５
は、複数のプリントレンズを備えた従来の写真焼付装置
の一構成例の概略を示す斜視図である。この従来の写真
焼付装置は、光源７１、ＤＭＤ７２、およびプリントレ
ンズ７３Ａ・７３Ｂ・７３Ｃが、遮光性を有する筺体７
４の内部に配置された構成となっている。

【００１２】光源７１は、例えばハロゲンランプおよび
リフレクタなどから構成されており、ＤＭＤ７２が配置
されている方向に光を照射している。ＤＭＤ７２は、上
記のように、複数のマイクロミラーを各画素に対応させ
て配置したものであり、画像情報に応じて、光源７１か
ら出射した光を印画紙７５方向へ反射させる。

【００１３】プリントレンズ７３Ａ・７３Ｂ・７３Ｃ
は、ＤＭＤ７２から印画紙７５方向へ反射された光を一
旦集光し、その後、印画紙７５上に投影するものであ
る。これらのプリントレンズ７３Ａ・７３Ｂ・７３Ｃ
は、それぞれ焦点距離が異なっており、ＤＭＤ７２と印
画紙７５とを結ぶ光軸上に選択的に配置される。これに
よって、印画紙７５上に焼き付ける画像のサイズを変化
させることができる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】上記の複数のプリント
レンズを切り替えて用いる写真焼付装置において、倍率
の大きいプリントレンズを用いた時と、倍率の小さいプ
リントレンズを用いた時とでは、印画紙上における単位
面積当たりの平均光量（以下、単に平均光量と称する）
が異なることになる。すなわち、プリントレンズの倍率
が大きくなればなるほど、印画紙上における平均光量が
小さくなる。よって、従来は、倍率が最も大きいプリン
トレンズを用いた時の印画紙上における平均光量に揃え
るために、倍率に応じて各プリントレンズの絞りを絞る
ことによって平均光量を調節していた。

【００１５】また、プリントレンズの倍率が大きくなる
と、印画紙上での光照射領域において、中心部と周辺部
との光量の差が大きくなる。このような光量むらをなく
すために、従来は、倍率の大きいプリントレンズに対し
て絞りを絞ることによって光量むらを抑えていた。

【００１６】すなわち、最も倍率の大きいプリントレン
ズに対しては、光照射領域における中心部と周辺部との
光量むらをなくす目的で絞りを絞り、これによって大き
く光量が低下することに加えて、これよりも倍率の小さ
いプリントレンズに対して、各プリントレンズによる印
画紙上での平均光量を揃えるために、さらに絞りを絞る
ことになる。したがって、光源から出射された光の利用
効率が大きく低下することになり、これによって必要と
する露光時間が長くなり、装置の処理能力が低下すると
いう問題が生じていた。

【００１７】また、最も倍率の大きいプリントレンズ以
外のプリントレンズにおいて、光量むらをなくすために
最適な絞り量と、各プリントレンズによる印画紙上での
平均光量を揃えるために最適な絞り量とが異なっている
ので、両方を最適な状態にすることはできないという問
題も生じている。

【００１８】また、他の対応としては、プリントレンズ
毎に光源の光量を変更する構成も考えられる。このよう
な構成の場合、各プリントレンズによる印画紙上での平
均光量は、光源の光量を調整することによって揃えるこ
とができるので、各プリントレンズの絞り量は、光量む
らをなくすために最適な値に設定することが可能とな
る。

【００１９】しかしながら、光源の光量を正確に制御す
るためには、例えば、印画紙近傍に光検出器などを設け
るとともに、フィードバック制御を行うための制御回路
や、インバータなどの構成を設ける必要が生じ、装置の
複雑化およびコストの上昇を招くことになる。

【００２０】また、光量むらをなくす目的での絞りによ
る光の利用効率の低下の問題は、プリントレンズ毎に光
源の光量を変更する構成においても、依然として解消さ
れていない。

【００２１】本発明は、上記の問題点を解決するために
なされたもので、その目的は、複数のプリントレンズを
切り替えて焼き付けを行う場合に、印画紙上での単位面
積当たりの平均光量を一定にするとともに、印画紙上で
の光照射領域に生じる光量むらを抑えることができる写
真焼付装置を提供することにある。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１記載の写真焼付装置は、光源と、上記光
源からの光を画像データに応じて各画素毎に変調させ
て、感光材料にその光を照射する光変調手段と、上記光
変調手段からの光を一旦集光して、その後上記感光材料
上に投影する、それぞれ倍率の異なる複数の投影手段
と、透過する光の光量を調整する複数の光量調整フィル
タとを備え、上記投影手段が、上記光変調手段から上記
感光材料へ照射される光の光軸上に選択的に配置され、
上記投影手段のいずれが選択されている場合にも、上記
感光材料上における単位面積当たりの平均光量がほぼ等
しくなるように、選択された投影手段に対応した光量調
整フィルタが、上記光源と上記感光材料との間の光軸上
に選択的に配置されることを特徴としている。

【００２３】上記の構成によれば、複数の光量調整フィ
ルタを光源と感光材料との間の光軸上に選択的に配置す
ることによって、投影手段のいずれが選択されている場
合にも、上記感光材料上における単位面積当たりの平均
光量をほぼ等しくすることができるので、選択されてい
る投影手段の倍率によらず、感光材料上に焼き付けられ
る画像の階調を十分にとることが可能となる。また、光
量調整フィルタは、比較的簡素な構成であるので、装置
の複雑化やコストの上昇などを招くことなく、光量の調
整を行うことができる。

【００２４】請求項２記載の写真焼付装置は、光源と、
上記光源からの光を画像データに応じて各画素毎に変調
させて、感光材料にその光を照射する光変調手段と、上
記光変調手段からの光を一旦集光して、その後上記感光
材料上に投影する投影手段と、透過する光の光量を調整
する光量調整フィルタとを備え、上記光量調整フィルタ
が、上記光源と上記感光材料との間の光軸上に配置され
ており、かつ、その中心部と周辺部とで透過光量が異な
るように処理されていることを特徴としている。

【００２５】上記の構成によれば、光源と感光材料との
間の光軸上に配置された光量調整フィルタが、その中心
部と周辺部とで透過光量が異なるように処理されている
ので、投影手段の倍率に応じて生じる、感光材料上での
光照射領域における中心部と周辺部との間の光量むらを
抑えることができる。また、例えば、絞りによって上記
のような光量むらを抑える構成と比較すると、光量調整
フィルタによって光量むらを抑える構成の方が、光量の
減少をはるかに低く抑えることができる。よって、感光
材料上に焼き付けられる画像のむらをなくすことができ
るとともに、光量むらを抑えるための光量の損失を最小
限にすることが可能となる。

【００２６】請求項３記載の写真焼付装置は、請求項２
記載の構成において、上記投影手段が、それぞれ倍率の
異なる複数の投影手段からなり、上記光量調整フィルタ
が、上記複数の投影手段のそれぞれに対応した複数の光
量調整フィルタからなり、上記投影手段が、上記光変調
手段から上記感光材料へ照射される光の光軸上に選択的
に配置されるとともに、選択されている投影手段に対応
した光量調整フィルタが、上記光源と上記感光材料との
間の光軸上に配置されることを特徴としている。

【００２７】上記の構成によれば、それぞれ倍率の異な
る複数の投影手段を選択的に用いるとともに、選択され
ている投影手段に対応した光量調整フィルタを用いてい
るので、感光材料に焼き付ける画像のサイズを変更する
ことが可能となるとともに、どの投影手段が選択されて
いる場合にも、感光材料上での光照射領域における中心
部と周辺部との間の光量むらを抑えることができる。

【００２８】請求項４記載の写真焼付装置は、請求項３
記載の構成において、上記の各光量調整フィルタにおい
て、その透過光量が、上記投影手段のいずれが選択され
ている場合にも、上記感光材料上における単位面積当た
りの平均光量がほぼ等しくなるように調整されているこ
とを特徴としている。

【００２９】上記の構成によれば、投影手段のいずれが
選択されている場合にも、上記感光材料上における単位
面積当たりの平均光量がほぼ等しくなるように、各光量
調整フィルタの透過光量が調整されているので、選択さ
れている投影手段の倍率によらず、感光材料上に焼き付
けられる画像の階調を十分にとることが可能となる。ま
た、光量調整フィルタは、比較的簡素な構成であるの
で、装置の複雑化やコストの上昇などを招くことなく、
光量の調整を行うことができる。

【００３０】請求項５記載の写真焼付装置は、請求項１
ないし４のいずれかに記載の構成において、上記光変調
手段が、画像データに応じて、上記光源からの光の反射
方向を制御する複数のマイクロミラーを有するデジタル
・マイクロミラー・デバイスであることを特徴としてい
る。

【００３１】上記の構成によれば、画像データに応じ
て、上記光源からの光の反射方向を制御する複数のマイ
クロミラーを有するデジタル・マイクロミラー・デバイ
スによって感光材料を露光するので、光源からの光の利
用効率の高い写真焼付装置を提供することができる。

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について図
１および図２に基づいて説明すれば、以下のとおりであ
る。

【００３３】図１は、本発明の実施の形態に係る写真焼
付装置の概略構成を示す斜視図である。この写真焼付装
置は、光源１、ＤＭＤ２、プリントレンズ（投影手段）
３Ａ・３Ｂ・３Ｃ、およびＮＤフィルタ（光量調整フィ
ルタ）４Ａ・４Ｂ・４Ｃが、遮光性を有する筺体５の内
部に配置された構成となっている。また、筺体５には、
開口部７が形成されている。

【００３４】光源１は、ＤＭＤ２の反射面における法線
方向から所定の角度だけ傾いた方向に配置されている。
また、ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃは、光源１とＤＭ
Ｄ２との間の光軸上に選択的に配置される。また、開口
部７は、ＤＭＤ２の反射面における法線方向に配置され
ており、プリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃが、この開口
部７とＤＭＤ２との間の光軸上に選択的に配置される。
そして、開口部７の外側には、感光材料としての印画紙
６が配置される。

【００３５】なお、光源１とＤＭＤ２との間の光軸上に
は、図１上では図示していないが、光均一化手段として
のインテグレータロッドおよびリレーレンズが配置され
ている。これらの構成の詳細については、後に説明す
る。

【００３６】光源１は、図示はしないが、例えばハロゲ
ンランプなどから構成されるランプ部、およびランプ部
から出射した光をＤＭＤ２が配置されている方向に反射
させるリフレクタなどから構成されている。

【００３７】ＤＭＤ２は、基板上にマトリクス状に設け
られる複数のメモリセル（図示せず）と、各メモリセル
に対応した複数のマイクロミラー（図示せず）とを備え
ており、画像データに応じて画素ごとに光源１から出射
された光の反射方向を変化させる構成となっている。

【００３８】より詳しく説明すると、ＤＭＤ２は、微小
サイズの揺動自在なマイクロミラーがポストを介して基
板上に複数設けられた構成となっており、画像データに
応じて個々のマイクロミラーの傾きを調節し、光の反射
方向を変えることで、印画紙６の露光を制御している。

【００３９】つまり、光を照射すべき画素に対応するマ
イクロミラーは、光源１からの光が印画紙６方向に反射
されるような向きに傾斜する。一方、非露光時、および
光を照射すべきでない画素に対応するマイクロミラー
は、光源１からの光が印画紙６方向とは異なる方向に反
射されるような向きに傾斜する。このような制御によ
り、画像データに応じた焼き付けが印画紙６に対して行
われる。

【００４０】ここで、本実施形態におけるＤＭＤ２によ
る露光方式について説明する。本実施形態においては、
ＤＭＤ２は、マイクロミラーが、縦に１０２４個、横に
１２８０個並べた状態で配置されている構成となってい
る。そして、これらのマイクロミラーが配置してある反
射領域のうち、縦方向の幅の一部からなる長方形の領
域、すなわち、マイクロミラーが縦に１９２個、横に１
２８０個並んだ領域（表示領域）のみを実際の露光に使
用する構成となっている。そして、この表示領域内で画
像情報をスクロールさせて表示するとともに、印画紙６
を、表示領域のスクロールに同期させて移動させること
により露光を行う。

【００４１】このように、ＤＭＤ２の反射領域のうち、
その一部分となる表示領域のみを実際の露光に使用する
ので、反射領域の中で不良ミラーが存在していても、そ
の不良ミラーが存在する領域を避けるように表示領域を
設定することができる。したがって、実際に印画紙６に
焼き付けられる画像は、不良ミラーからの影響が皆無と
なるので、高品質のプリント画像を提供することができ
る。

【００４２】なお、本実施形態においては、上記のよう
に、ＤＭＤ２上の一部の領域（表示領域）を使用し、こ
の表示領域内で画像情報をスクロールさせて表示すると
ともに、印画紙６を、表示領域のスクロールに同期させ
て移動させるデジタル走査露光を行う構成であったが、
これに限定されるものではない。例えば、ＤＭＤ２上の
マイクロミラーを全て使用して画像情報を表示し、印画
紙６を静止した状態で露光する構成でも構わない。

【００４３】プリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃは、ＤＭ
Ｄ２から印画紙６方向へ反射された光を一旦集光し、そ
の後、印画紙６上に投影するものである。これらのプリ
ントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃは、それぞれ焦点距離が異
なっており、ＤＭＤ２と印画紙６とを結ぶ光軸上に選択
的に配置される。これによって、印画紙６上に焼き付け
る画像のサイズを変化させることができる。このプリン
トレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃの位置の切り替えは、図示し
ないプリントレンズ切り替え手段によって行われる。

【００４４】本実施形態において、プリントレンズ３Ａ
・３Ｂ・３Ｃは、ＤＭＤ２における１２８０ドット分の
幅を、印画紙６上において、それぞれ６ｉｎｃｈ、５ｉ
ｎｃｈ、４ｉｎｃｈの幅となるように投影する倍率のレ
ンズとなっている。すなわち、印画紙６上に焼き付けら
れる画像の画素密度は、プリントレンズ３Ａを用いた場
合には約２０５ｄｐｉ(dots per inch) 、プリントレン
ズ３Ｂを用いた場合には約２４６ｄｐｉ、プリントレン
ズ３Ｃを用いた場合には約３０６ｄｐｉとなる。

【００４５】なお、本実施形態では、上記のように、３
種類のプリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃを設けた構成と
なっているが、これに限定されるものではなく、２種類
のプリントレンズ、あるいは、４種類以上のプリントレ
ンズを設ける構成とすることも可能である。

【００４６】ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃは、それぞ
れプリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃに対応しており、プ
リントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃの切り替えに伴って、光
源１とＤＭＤ２との間の光軸上に選択的に配置される。
このＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃの切り替えは、図示
しないＮＤフィルタ切り替え手段によって、プリントレ
ンズ切り替え手段の切り替えに同期するように行われ
る。

【００４７】ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃは、透過す
る光に対して、全ての波長の光を一様に吸収する中性濃
度（無彩色）のフィルタであり、入射光の波長成分を変
えることなく、透過光量を減少させる機能を有してい
る。このようなＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃは、例え
ば、金属を表面に薄く蒸着させることによってコーティ
ングが施されたガラス基板によって構成されている。

【００４８】そして、最も倍率が大きいプリントレンズ
３Ａに対応したＮＤフィルタ４Ａの透過光量が最も大き
く、最も倍率が小さいプリントレンズ３Ｃに対応したＮ
Ｄフィルタ４Ｃの透過光量が最も小さくなるように設定
してある。これによって、プリントレンズ３Ａ・３Ｂ・
３Ｃを切り替えた場合にも、印画紙６上における単位面
積当たりの平均光量（以下、単に平均光量と称する）が
変化しないようにすることができる。

【００４９】ここで、ＤＭＤ２によるデジタル走査露光
において、印画紙６上における平均光量と焼き付けられ
た画像の階調との関係について説明する。印画紙６上に
焼き付けられる画像において、表現される階調を広くと
るためには、ＤＭＤ２による露光制御によって、印画紙
６上に照射される光の光量を暗から明まで広く変化させ
る必要がある。すなわち、印画紙６の感光能力、および
ＤＭＤ２による走査露光時間に応じて、表現される階調
を最も広くするために最も適した最適平均光量が存在す
ることになる。

【００５０】例えば、この最適平均光量よりも強い平均
光量で印画紙６上に焼き付けを行った場合には、ＤＭＤ
２によるデジタル制御によって、完全な黒を表現した状
態と、これより１段階明るい階調を表現した状態との明
るさの差が大きくなってしまう。すなわち、焼き付けら
れる画像の暗い部分の階調の表現が十分に行うことがで
きなくなる。

【００５１】この点に関して、本実施形態の写真焼付装
置では、上記のように、プリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３
Ｃの切り替えに伴って、それぞれに対応したＮＤフィル
タ４Ａ・４Ｂ・４Ｃをも切り替えているので、印画紙６
上における平均光量を、最適平均光量で一定に保つこと
が可能となる。これにより、どのプリントレンズを使用
している時にも、十分な階調を有する画像を印画紙６上
に焼き付けることが可能となる。

【００５２】また、各ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃ
は、その中心部と周辺部とで透過光量が異なるようにコ
ーティングが施されている。これは、プリントレンズ３
Ａ・３Ｂ・３Ｃのそれぞれの倍率に応じて、印画紙６上
の光照射領域の中心部と周辺部との間に光量の差（光量
むら）が生じることを防ぐためのものである。すなわ
ち、プリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃのうち、どのプリ
ントレンズを用いた場合にも、それぞれに対応したＮＤ
フィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃによって、確実に光量むらを
抑えることができる。

【００５３】また、例えば、絞りによって上記のような
光量むらを抑える構成と比較すると、ＮＤフィルタ４Ａ
・４Ｂ・４Ｃによって光量むらを抑える構成の方が、光
量の減少をはるかに低く抑えることができる。よって、
印画紙６上に焼き付けられる画像のむらをなくすことが
できるとともに、光量むらを抑えるための光量の損失を
最小限にすることが可能となる。

【００５４】ここで、本実施形態における写真焼付装置
において、印画紙６上での光照射領域の光量むらの許容
範囲について説明する。上記のように、本実施形態にお
いて、ＤＭＤ２は、マイクロミラーが縦に１９２個、横
に１２８０個並んだ表示領域のみを実際の露光に使用す
る構成となっている。すなわち、印画紙６上での光照射
領域は、縦に１９２画素、横に１２８０画素並んだ長方
形の領域となっている。このような光照射領域におい
て、焼き付けを行った写真画像にむらが確認されない程
度とするためには、縦方向に対して１％以内の光量差、
横方向に対して４〜５％以内の光量差の範囲に抑えるこ
とが必要となる。

【００５５】このように、光照射領域における光量差の
許容範囲は、きわめて厳しいものになっているが、本実
施形態における写真焼付装置においては、上記のよう
に、各プリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃに対応したＮＤ
フィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃによって光量むらを除去して
いるので、光照射領域における光量差を上記のような許
容範囲に抑えることが可能となる。

【００５６】なお、本実施形態では、上記のように、３
種類のプリントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃに対応した３種
類のＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃを設けた構成となっ
ているが、これに限定されるものではない。例えば、プ
リントレンズの数に応じて、それぞれに対応したＮＤフ
ィルタを設ける構成とすることも可能である。

【００５７】次に、光源１とＤＭＤ２との間の光軸上に
配置された、インテグレータロッドおよびリレーレンズ
について説明する。図２は、光源１とＤＭＤ２との間の
光軸上の構成を示した模式図である。図２に示すよう
に、光源１とＤＭＤ２との間の光軸上には、光源１側か
ら順に、インテグレータロッド８、第１のリレーレンズ
９Ａ、選択されているＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃ、
および第２のリレーレンズ９Ｂが配置されている。

【００５８】インテグレータロッド８は、石英ガラス
（ＢＫ−７）から構成されており、断面が２ｍｍ×６ｍ
ｍ程度、長さが１００ｍｍ程度の直方体の形状となって
いる。インテグレータロッド８の一方の端部から光が入
射すると、内部で全反射が繰り返し行われ、もう一方の
端部から光量むらが除去された状態で光が出射される。
すなわち、光源１から出射した光には、ランプのフィラ
メントの形状やリフレクタの形状などの影響による光量
むらが発生しているが、このインテグレータロッド８を
通過させることによって、その光量むらが除去される。

【００５９】なお、光源１から出射した光の光量むらを
除去する構成として、例えば拡散板を用いる構成とした
場合には、必要とする範囲以外の領域にも光が拡散して
しまうことによって、光量が低下することになる。これ
に対して、上記のインテグレータロッド８は、上記のよ
うに、内部で全反射を繰り返すことによって光量むらを
除去する構成であるので、光量むらの除去に伴う光量の
低下はほとんど生じないという利点を有している。

【００６０】第１のリレーレンズ９Ａは、インテグレー
タロッド８を出射した光を平行光に変えるものである。
また、第２のリレーレンズ９Ｂは、入射した平行光をＤ
ＭＤ２上の表示領域に向けて集光させるものである。そ
して、この第１のリレーレンズ９Ａと第２のリレーレン
ズ９Ｂとの間における、平行光が通過している領域に、
上記のＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃが選択的に配置さ
れる。

【００６１】このように、ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４
Ｃに入射する光が平行光であることによって、ＮＤフィ
ルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃに入射する光の入射角度を全て等
しくすることができる。これに対して、例えば集束光が
ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃに入射する場合には、Ｎ
Ｄフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃに入射する光の入射角度が
場所によって異なることになる。この場合、入射角度に
応じて反射率が異なってしまうので、ＮＤフィルタ４Ａ
・４Ｂ・４Ｃにおける光量の調整が困難になる。すなわ
ち、ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃに入射する光が平行
光であることによって、ＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃ
における光量の調整を容易にすることができる。

【００６２】このように、光源１を出射した光が有する
光量むらが、インテグレータロッド８によって除去され
た後に、選択されているＮＤフィルタ４Ａ・４Ｂ・４Ｃ
によって透過光量の調整が行われている。よって、プリ
ントレンズ３Ａ・３Ｂ・３Ｃのどれが選択されている場
合にも、光照射領域における光量むらを確実に抑えるこ
とができる。

【００６３】

【発明の効果】以上のように、請求項１の発明に係る写
真焼付装置は、光源と、上記光源からの光を画像データ
に応じて各画素毎に変調させて、感光材料にその光を照
射する光変調手段と、上記光変調手段からの光を一旦集
光して、その後上記感光材料上に投影する、それぞれ倍
率の異なる複数の投影手段と、透過する光の光量を調整
する複数の光量調整フィルタとを備え、上記投影手段
が、上記光変調手段から上記感光材料へ照射される光の
光軸上に選択的に配置され、上記投影手段のいずれが選
択されている場合にも、上記感光材料上における単位面
積当たりの平均光量がほぼ等しくなるように、選択され
た投影手段に対応した光量調整フィルタが、上記光源と
上記感光材料との間の光軸上に選択的に配置される構成
である。

【００６４】これにより、選択されている投影手段の倍
率によらず、感光材料上に焼き付けられる画像の階調を
十分にとることが可能となるという効果を奏する。ま
た、光量調整フィルタは、比較的簡素な構成であるの
で、装置の複雑化やコストの上昇などを招くことなく、
光量の調整を行うことができるという効果を奏する。

【００６５】請求項２の発明に係る写真焼付装置は、光
源と、上記光源からの光を画像データに応じて各画素毎
に変調させて、感光材料にその光を照射する光変調手段
と、上記光変調手段からの光を一旦集光して、その後上
記感光材料上に投影する投影手段と、透過する光の光量
を調整する光量調整フィルタとを備え、上記光量調整フ
ィルタが、上記光源と上記感光材料との間の光軸上に配
置されており、かつ、その中心部と周辺部とで透過光量
が異なるように処理されている構成である。

【００６６】これにより、投影手段の倍率に応じて生じ
る、感光材料上での光照射領域における中心部と周辺部
との間の光量むらを抑えることができるという効果を奏
する。また、例えば、絞りによって上記のような光量む
らを抑える構成と比較すると、光量調整フィルタによっ
て光量むらを抑える構成の方が、光量の減少をはるかに
低く抑えることができるという効果を奏する。よって、
感光材料上に焼き付けられる画像のむらをなくすことが
できるとともに、光量むらを抑えるための光量の損失を
最小限にすることが可能となるという効果を奏する。

【００６７】請求項３の発明に係る写真焼付装置は、上
記投影手段が、それぞれ倍率の異なる複数の投影手段か
らなり、上記光量調整フィルタが、上記複数の投影手段
のそれぞれに対応した複数の光量調整フィルタからな
り、上記投影手段が、上記光変調手段から上記感光材料
へ照射される光の光軸上に選択的に配置されるととも
に、選択されている投影手段に対応した光量調整フィル
タが、上記光源と上記感光材料との間の光軸上に配置さ
れる構成である。

【００６８】これにより、請求項２の構成による効果に
加えて、感光材料に焼き付ける画像のサイズを変更する
ことが可能となるとともに、どの投影手段が選択されて
いる場合にも、感光材料上での光照射領域における中心
部と周辺部との間の光量むらを抑えることができるとい
う効果を奏する。

【００６９】請求項４の発明に係る写真焼付装置は、上
記の各光量調整フィルタにおいて、その透過光量が、上
記投影手段のいずれが選択されている場合にも、上記感
光材料上における単位面積当たりの平均光量がほぼ等し
くなるように調整されている構成である。

【００７０】これにより、請求項３の構成による効果に
加えて、選択されている投影手段の倍率によらず、感光
材料上に焼き付けられる画像の階調を十分にとることが
可能となるという効果を奏する。また、光量調整フィル
タは、比較的簡素な構成であるので、装置の複雑化やコ
ストの上昇などを招くことなく、光量の調整を行うこと
ができるという効果を奏する。

【００７１】請求項５の発明に係る写真焼付装置は、上
記光変調手段が、画像データに応じて、上記光源からの
光の反射方向を制御する複数のマイクロミラーを有する
デジタル・マイクロミラー・デバイスである構成であ
る。

【００７２】これにより、請求項１ないし４のいずれか
の構成による効果に加えて、画像データに応じて、上記
光源からの光の反射方向を制御する複数のマイクロミラ
ーを有するデジタル・マイクロミラー・デバイスによっ
て感光材料を露光するので、光源からの光の利用効率の
高い写真焼付装置を提供することができるという効果を
奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態に係る写真焼付装置の概
略構成を示す斜視図である。

【図２】上記写真焼付装置が備える光源とＤＭＤとの間
の領域に配置される構成の概略を示す模式図である。

【図３】同図（ａ）および（ｂ）は、ＤＭＤにおけるマ
イクロミラーの動作を示す説明図である。

【図４】プリントレンズを１つ備えた、従来の写真焼付
装置の概略構成を示す模式図である。

【図５】複数のプリントレンズを備えた、従来の写真焼
付装置の概略構成を示す模式図である。

【符号の説明】

１ 光源 ２ ＤＭＤ ３Ａ・３Ｂ・３Ｃ プリントレンズ（投影手段） ４Ａ・４Ｂ・４Ｃ ＮＤフィルタ（光量調整フィル
タ） ５ 筺体 ６ 印画紙（感光材料） ７ 開口部 ８ インテグレータロッド ９Ａ・９Ｂ 第１および第２のリレーレンズ

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源と、 上記光源からの光を画像データに応じて各画素毎に変調
   させて、感光材料にその光を照射する光変調手段と、 上記光変調手段からの光を一旦集光して、その後上記感
   光材料上に投影する、それぞれ倍率の異なる複数の投影
   手段と、 透過する光の光量を調整する複数の光量調整フィルタと
   を備え、 上記投影手段が、上記光変調手段から上記感光材料へ照
   射される光の光軸上に選択的に配置され、上記投影手段
   のいずれが選択されている場合にも、上記感光材料上に
   おける単位面積当たりの平均光量がほぼ等しくなるよう
   に、選択された投影手段に対応した光量調整フィルタ
   が、上記光源と上記感光材料との間の光軸上に選択的に
   配置されることを特徴とする写真焼付装置。
2. 【請求項２】光源と、 上記光源からの光を画像データに応じて各画素毎に変調
   させて、感光材料にその光を照射する光変調手段と、 上記光変調手段からの光を一旦集光して、その後上記感
   光材料上に投影する投影手段と、 透過する光の光量を調整する光量調整フィルタとを備
   え、 上記光量調整フィルタが、上記光源と上記感光材料との
   間の光軸上に配置されており、かつ、その中心部と周辺
   部とで透過光量が異なるように処理されていることを特
   徴とする写真焼付装置。
3. 【請求項３】上記投影手段が、それぞれ倍率の異なる複
   数の投影手段からなり、上記光量調整フィルタが、上記
   複数の投影手段のそれぞれに対応した複数の光量調整フ
   ィルタからなり、上記投影手段が、上記光変調手段から
   上記感光材料へ照射される光の光軸上に選択的に配置さ
   れるとともに、選択されている投影手段に対応した光量
   調整フィルタが、上記光源と上記感光材料との間の光軸
   上に配置されることを特徴とする請求項２記載の写真焼
   付装置。
4. 【請求項４】上記の各光量調整フィルタにおいて、その
   透過光量が、上記投影手段のいずれが選択されている場
   合にも、上記感光材料上における単位面積当たりの平均
   光量がほぼ等しくなるように調整されていることを特徴
   とする請求項３記載の写真焼付装置。
5. 【請求項５】上記光変調手段が、画像データに応じて、
   上記光源からの光の反射方向を制御する複数のマイクロ
   ミラーを有するデジタル・マイクロミラー・デバイスで
   あることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記
   載の写真焼付装置。