JPH0743852A - 画像形成材料 - Google Patents
画像形成材料Info
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- JPH0743852A JPH0743852A JP5188036A JP18803693A JPH0743852A JP H0743852 A JPH0743852 A JP H0743852A JP 5188036 A JP5188036 A JP 5188036A JP 18803693 A JP18803693 A JP 18803693A JP H0743852 A JPH0743852 A JP H0743852A
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- Japan
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- forming material
- hydrogen atom
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
像形成材料の感度を高める。 【構成】支持体上に少なくとも1層の感光性の銀塩を含
有する層を有し、かつ画像形成後も実質的に全ての銀が
残る画像形成材料において該感光性銀塩含有層の少なく
とも1層は730nmよりも長波長に増感極大を有し、且
つ、分光増感剤によるこの分光感度極大波長での感度が
該分光感度極大波長より30nm長波長の光に対する分光
感度の4.5倍以上であり、該分光感度極大波長より3
0nm短波長の光に対する分光感度の2倍以上であるよう
に分光増感されたことを特徴とする画像形成材料。
Description
ての銀が残る画像形成材料において感度の高い材料を提
供するものである。
る画像形成材料としては一般的にドライシルバーと言わ
れるものがあるが、未だ画像観察に影響を与えない形で
分光増感し感度を高くした材料を提供する技術は見出さ
れていない。
全の銀が残る画像形成材料において感度の高い材料を提
供するものである。
に少なくとも1層の感光性の銀塩を含有する層を有し、
かつ画像形成後も実質的に全ての銀が残る画像形成材料
において該感光性銀塩含有層の少なくとも1層は730
nmよりも長波長に増感極大を有し、かつ分光増感剤によ
るこの分光感度極大波長での感度が該分光感度極大波長
より30nm長波長の光に対する分光感度の4.5倍以上
であり、該分光感度極大波長より30nm短波長の光に対
する分光感度の2倍以上であるように分光増感されたこ
とを特徴とする画像形成材料で達成された。好ましくは
用いられる分光増感剤のポーラログラフ半波還元電位が
飽和カロメル電極に対して−1.26Vより卑でありか
つポーラログラフ半波酸化電位が0.38Vより貴であ
ることが望ましい。
すために用いた増感色素の銀塩上での吸収と一対一では
ないが、それを反映したものとなる。従って、上記本発
明の目的は、該銀塩含有層の少なくとも1層は730nm
よりも長波長に増感極大を有し、且つ、分光増感剤によ
る光吸収が下記式(1)及び(2)をともに満足するよ
うに分光増感されたことを特徴とする画像形成材料を用
いることによっても達成された。 Abs( ピーク波長)/Abs( ピーク波長+30nm) ≧4.5・・・・(1) Abs( ピーク波長)/Abs( ピーク波長−30nm) ≧ 2・・・・(2)
いて、前述の如き分光感度比または/及び光学濃度比を
満足すれば、本発明の主要な目的は達成することが出来
るが、分光増感色素を単に銀塩中に添加しただけではそ
れらを満足するような増感を施すことは難しく、銀塩粒
子の表面積1m2当たり、6.2×10-7モル(この量
は、増感色素1分子当たりの占有面積が106Å2 とし
た場合、添加した増感色素がすべて銀塩粒子に単層吸着
したとすると、粒子表面のほぼ40%弱を被覆する量に
相当する)以上2.7×10-6モル以下、より好ましく
は、9.3×10 -7モル以上2.1×10-6モル以下、
更により好ましくは、1.1×10-6モル以上1.9×
10-6モル以下とし、40℃以上90℃以下、より好ま
しくは50℃以上80℃以下、更に好ましくは60℃か
ら70℃の範囲で添加、熟成することによって、前述の
感度比または/及び光学濃度比を満足させることが可能
になった。
は、上記の感度比または/及び吸光度比を満足するもの
で730nm以上に増感極大を有するものであれば何でも
よいが、特に、一般式(I)で表される化合物が有用で
ある。
いてもよく、硫黄原子またはセレン原子を表す。Y1 及
びY4 は水素原子を表すほか、Y2 が水素原子でない場
合のY1 、及びY5 が水素原子でない場合のY4 はメチ
ル基、エチル基、ヒドロキシ基またはメトキシ基をも表
す。Y2 及びY5 は水素原子、炭素数3以下の置換され
ていても良いアルキル基(より好ましくは、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、メトキシメチル基、ヒ
ドロキシエチル基等。)、ヒドロキシ基、メトキシ基、
エトキシ基、単環式アリール基(より好ましくは、例え
ば、フェニル基、トリル基、アニシル基、2−ピリジル
基、4−ピリジル基、2−チエニル基、2−フリル基
等)、アセチルアミノ基及びプロピオニルアミノ基を表
すほか、Y 2 はY1 とで、Y5 はY4 とで、それぞれ連
結し、メチレンジオキシ基、トリメチレン基またはテト
ラメチレン基をも表す。Y3 及びY6 は水素原子を表す
ほか、Y3 はY2 と、Y6 とY5 とで、それぞれ連結
し、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基、またはテトラデヒドロテ
トラメチレン基をも表す。R1 及びR2 は同一でも異な
っていてもよく、総炭素数10以下の置換されていても
よいアルキル基又はアルケニル基を表す。アルキル基及
びアルケニル基のより好ましい置換基としては、例え
ば、スルホ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、炭素数6以下のアルコキシ基、炭素数12以下の
置換されていてもよいアリール基(例えば、フェニル
基、トリル基、スルホフェニル基、カルボキシフェニル
基、ナフチル基、5−メチルナフチル基、4−スルホナ
フチル基等)、複素環基(例えば、フリル基、チエニル
基等)、炭素数12以下の置換されていてもよいアリー
ルオキシ基(例えば、クロロフェノキシ基、フェノキシ
基、スルホフェノキシ基、ヒドロキシフェノキシ基、ナ
フチルオキシ基等)、炭素数8以下のアシル基(例え
ば、ベンゼンスルホニル基、メタンスルホニル基、アセ
チル基、プロピオニル基等)、炭素数6以下のアルコキ
シカルボニル基(例えば、エトキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基等)、シアノ基、炭素数6以下のアル
キルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基
等)、炭素数8以下の置換されていてもよいアリールチ
オ基(例えば、フェニルチオ基、トリルチオ基等)、炭
素数8以下の置換されていてもよいカルバモイル基(例
えば、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基
等)、炭素数8以下のアシルアミノ基(例えば、アセチ
ルアミノ基、メタンスルホンアミノ基等)、炭素数8以
下のアシルアミノカルボニル基(例えば、アセチルアミ
ノカルボニル基、メタンスルホニルアミノカルボニル基
等)、炭素数7以下のウレイド基(例えば、3−エチル
ウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基等)等が挙げ
られる。置換基は、一個以上有していてもよい。R3 及
びR5 は、水素原子を表す他、R3 はR1 と、R5 はR
2 と、それぞれ連結して5員環または6員環をも形成出
来ることを表す。R4 は水素原子または置換されていて
も良い低級アルキル基を表す。R6 は水素原子、メチル
基、エチル基またはプロピル基を表し、R7 は置換され
ていても良い低級アルキル基または置換されていても良
いフェニル基を表す。Xは、電荷を中和するに必要な対
イオンを表す。nは、0または1を表し、分子内塩の場
合は0である。
物例を以下に示すが本発明はこれに限定されるものでは
ない。
ては特願平4−91437号明細書の記載を参考にする
ことができる。
下とするのが好ましく、特に1g/m2以下さらに0.5
g/m2以下とするのが好ましい。本発明の画像形成材料
の製造に利用される乳剤増感法や各種添加剤、構成材料
等に関しては特に制限はなく、たとえば、特開平2−6
8539号公報、特開平2−103037号公報、およ
び特開平2−115837号公報の下記の該当箇所に記
載の各種の技術を利用することができる。
れた容器に塩化ナトリウム1.35gを入れた後、75
gの硝酸銀を含む水溶液150mlと塩化ナトリウム27
gおよびK3 RhCl6 4.4mgを含む水溶液150ml
を3分30秒間ダブルジェット法で添加し、その後75
gの硝酸銀を含む水溶液150mlと塩化ナトリウム27
gおよびK3 RhCl6 13.3mgを含む150mlを7
分間ダブルジェット法で添加した後4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン1gを
添加しNaOHでpH7にして、平均粒子サイズ0.1
3μmの立方体塩化銀粒子(投影面積直径の変動係数8
%)を作製した。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝
集沈降させ脱塩処理後ゼラチン33g、フェノキシエタ
ノール1.75gを加え、pH6.5、pAg8.5に
合わせた。その後50℃に昇温してチオ硫酸ナトリウム
2mgを加え、その2分後に塩化金酸5mgを添加し、60
分後に4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデンを500mg加えた後に急冷して固化
させ、乳剤Aとした。
して乳剤塗布液とした。
とした。 イ.ゼラチン 100g ロ.グルコースオキシダーゼ 110g ハ.ポリスチレンスルホン酸ナトリウム(分子量60万) 0.6g ニ.ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ2.5μm) 2.7g ホ.ポリアクリル酸ナトリウム 3.7g ヘ.t−オクチルフェノキシエトキシエタンスルホン酸ナトリウム 1.5g ト.C16H33O-(CH2CH2O)10-H 3.3g チ.C8H17SO3K 84mg リ.C8F17SO2N(C3H7)(CH2CH2O)4(CH2)4-SO3Na 84mg ヌ.NaOH 0.2g ル.メタノール 78cc ヲ.1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 乳剤層と表面保護層の総ゼラ チン量に対して、2.3重量 %になるように調整 ワ.化合物〔II〕 52mg
層塗布液とした。 イ.ゼラチン量 100g ロ.染料〔I〕 35g
0、Rohm & Hass 社製)の4.3%水溶液10.3gお
よび水50.5gをあらかじめ攪拌混合し、直径0.8
mm〜1.2mmのジルコニアビーズ40ccの入ったアイガ
ーモーターミル(M−50、アイガージャパン社製)に
入れて、回転数5000r.p.m.にて分散し、粒子サイズ
1μm以下の染料の微結晶分散物を得た。得られた染料
の微結晶分散物50g、ゼラチン1.8gおよび水1
3.3gを、40℃にて攪拌混合し、本発明の材料の調
製に供した。
とした。
ともに青色着色されたポリエチレンテレフタレートの支
持体の一方側に、バック層のゼラチン塗布量が、2.6
9g/m2、バック層の表面保護層のゼラチン塗布量が
1.3g/m2となるように塗布した。これに続いて、支
持体の反対側に前述の乳剤塗布液と表面保護層塗布液と
を、乳剤塗布液の塗布Ag量が0.3g/m2、ゼラチン
量が1.85g/m2および表面保護層のゼラチン量が
1.2g/m2となるように塗布し、塗布試料とした。
リーを行い、写真感度を測定した。塗布試料を25℃、
60%温湿度に保って、塗布後7日間放置し、富士写真
フイルム(株)社製FCR−7000の780nm半導体
レーザー露光部を用いて露光した。露光済の感光材料を
40℃に保温したグルコース水溶液(1%濃度)に2.
5秒間浸したのち、ローラーで絞り次いで吸水した膜面
の温度が60℃となるように温度調節したヒートドラム
を用い、40秒間加熱し感光材料をひきはがした。得ら
れた画像から、感度を測定し、残色を評価した。
がわかる。
Claims (4)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層の感光性の銀
塩を含有する層を有し、かつ画像形成後も実質的に全て
の銀が残る画像形成材料において該感光性銀塩含有層の
少なくとも1層は730nmよりも長波長に増感極大を有
し、且つ、分光増感剤によるこの分光感度極大波長での
感度が該分光感度極大波長より30nm長波長の光に対す
る分光感度の4.5倍以上であり、該分光感度極大波長
より30nm短波長の光に対する分光感度の2倍以上であ
るように分光増感されたことを特徴とする画像形成材
料。 - 【請求項2】 支持体上に少なくとも1層の感光性銀塩
層を有しかつ画像形成後も実質的に全ての銀が残る画像
形成材料に於いて、該感光性銀塩層の少なくとも1層は
730nmよりも長波長に増感極大を有し、且つ、分光増
感剤による光吸収が下記式(1)及び(2)をともに満
足するように分光増感されたことを特徴とする画像形成
材料。 Abs( ピーク波長)/Abs( ピーク波長+30nm) ≧4.5・・・・(1) Abs( ピーク波長)/Abs( ピーク波長−30nm) ≧ 2・・・・(2) - 【請求項3】 用いられる分光増感剤の飽和カロメル電
極に対するポーラログラフ半波還元電位が−1.26V
より卑であり、且つ、ポーラログラフ半波酸化電位が
0.38Vより貴であることを特徴とする請求項1また
は請求項2に記載の画像形成材料。 - 【請求項4】 用いられる分光増感剤の少なくとも一つ
が、下記一般式(I)で表されるジカルボシアニン色素
であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載
の画像形成材料。 一般式(I) 【化1】 式中、Z1 及びZ2 は、同一でも異なっていてもよく、
硫黄原子またはセレン原子を表す。Y1 及びY4 は水素
原子を表すほか、Y2 が水素原子でない場合のY1 、及
びY5 が水素原子でない場合のY4 はメチル基、エチル
基、ヒドロキシ基またはメトキシ基をも表す。Y2 及び
Y5 は水素原子、炭素数3以下の置換されていても良い
アルキル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、
メチルチオ基、単環式アリール基、アセチルアミノ基及
びプロピオニルアミノ基を表すほか、Y2 はY1 とで、
Y5 はY4 とで、それぞれ連結し、メチレンジオキシ
基、トリメチレン基またはテトラメチレン基をも表す。
Y3 及びY6 は水素原子を表すほか、Y3 はY2 と、Y
6 とY5 とで、それぞれ連結し、メチレンジオキシ基、
エチレンジオキシ基、トリメチレン基、テトラメチレン
基、またはテトラデヒドロテトラメチレン基をも表す。
R1 及びR2 は同一でも異なっていてもよく、置換され
ていてもよいアルキル基又はアルケニル基を表す。R3
及びR5 は、水素原子を表す他、R3 はR1 と、R5 は
R2 と、それぞれ連結して5員環または6員環をも形成
出来ることを表す。R4 は水素原子または置換されてい
ても良い低級アルキル基を表す。R6 は水素原子、メチ
ル基、エチル基またはプロピル基を表し、R7 は置換さ
れていても良い低級アルキル基または置換されていても
良いフェニル基を表す。Xは、電荷を中和するに必要な
対イオンを表す。nは、0または1を表し、分子内塩の
場合は0である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18803693A JP3233501B2 (ja) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | 画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18803693A JP3233501B2 (ja) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | 画像形成材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0743852A true JPH0743852A (ja) | 1995-02-14 |
JP3233501B2 JP3233501B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=16216553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18803693A Expired - Lifetime JP3233501B2 (ja) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | 画像形成材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3233501B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100817935B1 (ko) * | 2006-09-21 | 2008-03-31 | 한국화학연구원 | 근적외선 흡수 색소로 유용한 신규 시아닌 화합물과 이의제조방법 |
-
1993
- 1993-07-29 JP JP18803693A patent/JP3233501B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100817935B1 (ko) * | 2006-09-21 | 2008-03-31 | 한국화학연구원 | 근적외선 흡수 색소로 유용한 신규 시아닌 화합물과 이의제조방법 |
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---|---|
JP3233501B2 (ja) | 2001-11-26 |
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