JPH0739838Y2 - 液体貯溜容器 - Google Patents
液体貯溜容器Info
- Publication number
- JPH0739838Y2 JPH0739838Y2 JP7605189U JP7605189U JPH0739838Y2 JP H0739838 Y2 JPH0739838 Y2 JP H0739838Y2 JP 7605189 U JP7605189 U JP 7605189U JP 7605189 U JP7605189 U JP 7605189U JP H0739838 Y2 JPH0739838 Y2 JP H0739838Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- liquid
- supply pipe
- storage container
- liquid storage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は例えば半導体素子製造工程において使用する薬
液を一旦貯溜して使用箇所等へ送り出す液体貯溜容器に
関する。
液を一旦貯溜して使用箇所等へ送り出す液体貯溜容器に
関する。
（従来の技術） 半導体素子の製造工程においては、種々の薬液が使用さ
れている。例えば半導体ウエハーなどの基板表面にレジ
ストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスク
として基板をエッチングするリソグラフィ工程では現像
液、リンス液、洗浄液などの薬液が使用されている。こ
れら薬液を貯溜する容器として第４図（Ａ）に示す構造
のものが知られている。
れている。例えば半導体ウエハーなどの基板表面にレジ
ストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスク
として基板をエッチングするリソグラフィ工程では現像
液、リンス液、洗浄液などの薬液が使用されている。こ
れら薬液を貯溜する容器として第４図（Ａ）に示す構造
のものが知られている。
この容器100は上端のキャップ101を貫通して容器100内
にフロート式の液面計102と液体Ｒの補給パイプ103を臨
ませ、容器100の底部から取り出しパイプ104を導出し、
液体Ｒを使用箇所へ供給するようにしている。
にフロート式の液面計102と液体Ｒの補給パイプ103を臨
ませ、容器100の底部から取り出しパイプ104を導出し、
液体Ｒを使用箇所へ供給するようにしている。
しかしながら斯かる構造とすると、容器100の液面上に
液体Ｒが直接落下するので、液体Ｒ中に気泡105が発生
し、該液体の粘度が高い場合は気泡105が上昇しにくく
液内に残り、そのまま使用箇所へ供給され、不良品を生
産し歩留まり低下を招く。この液体中に発生する気泡を
なくするため液体中に消泡剤を混入する方法などが提案
されているが、十分な効果を発揮できない。
液体Ｒが直接落下するので、液体Ｒ中に気泡105が発生
し、該液体の粘度が高い場合は気泡105が上昇しにくく
液内に残り、そのまま使用箇所へ供給され、不良品を生
産し歩留まり低下を招く。この液体中に発生する気泡を
なくするため液体中に消泡剤を混入する方法などが提案
されているが、十分な効果を発揮できない。
そこで第４図（Ｂ）に示すように補給パイプ103を大き
く湾曲せしめ、容器100の内壁面に沿わせて液体Ｒを流
下せしめる構造も考えられる。しかしながら斯かる構造
としても気泡105の発生がある。そこで第４図（Ｃ）に
示す改良案も提案される。この改良案は補給パイプ103
の下端を容器100内の液面の最下位レベルよりも更に下
方に位置せしめ、液面における気泡の巻き込みを防止し
たものである。
く湾曲せしめ、容器100の内壁面に沿わせて液体Ｒを流
下せしめる構造も考えられる。しかしながら斯かる構造
としても気泡105の発生がある。そこで第４図（Ｃ）に
示す改良案も提案される。この改良案は補給パイプ103
の下端を容器100内の液面の最下位レベルよりも更に下
方に位置せしめ、液面における気泡の巻き込みを防止し
たものである。
（考案が解決しようとする課題） 第４図（Ｃ）の如き構造とすることで気泡の発生を大幅
に抑制することができる。しかし極めて少ない量である
が補給パイプ103の内部或いは補給パイプの途中にバル
ブを設けている場合などにあっては当該バルブ部分にお
いて気泡が発生し、これが補給パイプを通って液体Ｒ内
に持ち込まれ、取り出しパイプ104を介して使用箇所ま
で運ばれてしまう。
に抑制することができる。しかし極めて少ない量である
が補給パイプ103の内部或いは補給パイプの途中にバル
ブを設けている場合などにあっては当該バルブ部分にお
いて気泡が発生し、これが補給パイプを通って液体Ｒ内
に持ち込まれ、取り出しパイプ104を介して使用箇所ま
で運ばれてしまう。
近年、半導体素子製造分野における微細加工化の進歩に
伴ない、レジストパターンの微細化も進み、リソグラフ
ィ工程で使用される薬液についても、気泡等のない高品
質のものが要求され、例えば、極めて僅かであっても気
泡の混入は許されない。
伴ない、レジストパターンの微細化も進み、リソグラフ
ィ工程で使用される薬液についても、気泡等のない高品
質のものが要求され、例えば、極めて僅かであっても気
泡の混入は許されない。
（課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく本考案は、液体貯溜容器内に挿入
される補給パイプの下端を容器内の液面の最下位レベル
よりも下方に位置せしめ、更に該パイプ下端にカップを
取り付けるか、パイプ下端を上向きに湾曲せしめた。
される補給パイプの下端を容器内の液面の最下位レベル
よりも下方に位置せしめ、更に該パイプ下端にカップを
取り付けるか、パイプ下端を上向きに湾曲せしめた。
（作用） 液体補給パイプの下端にカップを取り付けるか、下端を
上向きに湾曲せしめることで、パイプ内で発生した気泡
は上方から向かって吐き出されるので、容器底部から使
用箇所へ取り出されることがない。
上向きに湾曲せしめることで、パイプ内で発生した気泡
は上方から向かって吐き出されるので、容器底部から使
用箇所へ取り出されることがない。
（実施例） 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。
第１図は本考案の第１実施例を示す図であり、容器１の
上端開口はキャップ２によって閉塞され、このキャップ
２を貫通して容器１内にフロート式液面計３、加圧ガス
供給パイプ４及び液体の補給パイプ５を挿入し、容器１
の底部からは液体Ｒを使用箇所へ供給する取り出しパイ
プ６を導出している。
上端開口はキャップ２によって閉塞され、このキャップ
２を貫通して容器１内にフロート式液面計３、加圧ガス
供給パイプ４及び液体の補給パイプ５を挿入し、容器１
の底部からは液体Ｒを使用箇所へ供給する取り出しパイ
プ６を導出している。
そして、補給パイプ５の下端は容器１内の液面の最下位
レベルｌよりも下方に位置せしめ、且つ補給パイプ５下
端には上方に開口部を有するカップ７を取り付けてい
る。
レベルｌよりも下方に位置せしめ、且つ補給パイプ５下
端には上方に開口部を有するカップ７を取り付けてい
る。
而して、補給パイプ５を介して容器１内に液体を供給す
るにあたり、補給パイプ５内を通って気泡８が液中に吐
出されても、気泡８はカップ７の内面に沿って強制的に
上方に移動せしめられ、容器１底部に開口する取り出し
パイプ６に吸い込まれることがない。
るにあたり、補給パイプ５内を通って気泡８が液中に吐
出されても、気泡８はカップ７の内面に沿って強制的に
上方に移動せしめられ、容器１底部に開口する取り出し
パイプ６に吸い込まれることがない。
第２図及び第３図は夫々第２及び第３実施例を示す図で
あり、第２実施例にあっては、補給パイプ５の下端を上
方へ湾曲せしめ、第３実施例にあっては、容器１内に取
り出しパイプ６を挿入し、その他の構成は第１実施例を
同様である。第２実施例の如く補給パイプ５を湾曲せし
めれば部品点数の削減が図れ、第３実施例のように取り
出しパイプ６を容器１内に挿入し取り出しパイプ６の下
端開口を下向きとすれば更に気泡の混入を防止できる。
あり、第２実施例にあっては、補給パイプ５の下端を上
方へ湾曲せしめ、第３実施例にあっては、容器１内に取
り出しパイプ６を挿入し、その他の構成は第１実施例を
同様である。第２実施例の如く補給パイプ５を湾曲せし
めれば部品点数の削減が図れ、第３実施例のように取り
出しパイプ６を容器１内に挿入し取り出しパイプ６の下
端開口を下向きとすれば更に気泡の混入を防止できる。
尚、図示例にあっては液面計３を容器１内に設けたが、
容器１外に配置してもよく、更に容器１内にガス供給パ
イプ４を介して一定圧のガスを供給し、ガス圧によって
液体を供給するようにしたが、単に水頭圧差によって取
り出すようにしてもよい。
容器１外に配置してもよく、更に容器１内にガス供給パ
イプ４を介して一定圧のガスを供給し、ガス圧によって
液体を供給するようにしたが、単に水頭圧差によって取
り出すようにしてもよい。
（考案の効果） 以上に説明した如く本考案によれば、液体を使用箇所に
供給するにあたり液中に気泡が混入することを確実に防
止でき、例えば半導体素子製造分野で使用される現像
液、リンス液、洗浄液などの貯溜容器として用いれば、
歩留まりの向上及び製品の品質向上を図れる。
供給するにあたり液中に気泡が混入することを確実に防
止でき、例えば半導体素子製造分野で使用される現像
液、リンス液、洗浄液などの貯溜容器として用いれば、
歩留まりの向上及び製品の品質向上を図れる。
第１図乃至第３図は本考案に係る液体貯溜容器の各実施
例の断面図、第４図（Ａ）乃至（Ｃ）は従来の液体貯溜
容器の断面図である。 尚、図面中１は容器、３は液面計、４はガス供給パイ
プ、５は補給パイプ、６は取り出しパイプ、７はカッ
プ、８は気泡である。
例の断面図、第４図（Ａ）乃至（Ｃ）は従来の液体貯溜
容器の断面図である。 尚、図面中１は容器、３は液面計、４はガス供給パイ
プ、５は補給パイプ、６は取り出しパイプ、７はカッ
プ、８は気泡である。
Claims (2)
- 【請求項１】容器内に補給パイプを介して貯溜した液体
を容器底部から取り出すようにした液体貯溜容器におい
て、前記補給パイプの下端は容器内の液面の最下位レベ
ルよりも下方に位置するとともに上方に開口部を有する
カップが取り付けられていることを特徴とする液体貯溜
容器。 - 【請求項２】容器内に補給パイプを介して貯溜した液体
を容器底部から取り出すようにした液体貯溜容器におい
て、前記補給パイプの下端は容器内の液面の最下位レベ
ルよりも下方に位置するとともに上方に向かって湾曲し
ていることを特徴とする液体貯溜容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7605189U JPH0739838Y2 (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 液体貯溜容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7605189U JPH0739838Y2 (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 液体貯溜容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0315396U JPH0315396U (ja) | 1991-02-15 |
| JPH0739838Y2 true JPH0739838Y2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=31617172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7605189U Expired - Fee Related JPH0739838Y2 (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | 液体貯溜容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0739838Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3242023B2 (ja) * | 1997-05-08 | 2001-12-25 | 東京応化工業株式会社 | 可搬型貯蔵タンク |
-
1989
- 1989-06-28 JP JP7605189U patent/JPH0739838Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0315396U (ja) | 1991-02-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |