JPH0734359Y2 - 自動分析装置のプローブ洗浄装置 - Google Patents
自動分析装置のプローブ洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0734359Y2 JPH0734359Y2 JP1990090927U JP9092790U JPH0734359Y2 JP H0734359 Y2 JPH0734359 Y2 JP H0734359Y2 JP 1990090927 U JP1990090927 U JP 1990090927U JP 9092790 U JP9092790 U JP 9092790U JP H0734359 Y2 JPH0734359 Y2 JP H0734359Y2
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- probe
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は自動生化学分析装置などの自動分析装置におい
て、プローブを移動させて試料や試薬を吸引・吐出する
分注装置で用いられるプローブ洗浄装置に関するもので
ある。
て、プローブを移動させて試料や試薬を吸引・吐出する
分注装置で用いられるプローブ洗浄装置に関するもので
ある。
（従来の技術） プローブ洗浄装置は試料分注装置や試薬分注装置におい
てプローブの移動軌跡上に配置され、プローブが挿入さ
れて洗浄される洗浄槽を備えている。
てプローブの移動軌跡上に配置され、プローブが挿入さ
れて洗浄される洗浄槽を備えている。
プローブ洗浄装置は大別すると、第２図に示されるよう
に洗浄槽２の下部から洗浄水が供給されて洗浄槽２の上
部からあふれ出て排水されるオーバーフロー槽タイプの
ものと、第３図に示されるように洗浄槽６の下部に排水
管につながる小穴８を有し、洗浄槽６の上部から洗浄水
が供給され、その供給量と小穴８からの排水量の差によ
り洗浄槽６に水だまりを作るタイプのものとがある。４
は試料や試薬を吸引・吐出するプローブである。
に洗浄槽２の下部から洗浄水が供給されて洗浄槽２の上
部からあふれ出て排水されるオーバーフロー槽タイプの
ものと、第３図に示されるように洗浄槽６の下部に排水
管につながる小穴８を有し、洗浄槽６の上部から洗浄水
が供給され、その供給量と小穴８からの排水量の差によ
り洗浄槽６に水だまりを作るタイプのものとがある。４
は試料や試薬を吸引・吐出するプローブである。
（考案が解決しようとする課題） プローブ４を洗浄するときは、プローブ４の先端が洗浄
槽2,6に挿入され、プローブ４の先端部の外側が洗浄さ
れるとともに、プローブ４に洗浄水を吸引し、吐出する
ことによってプローブ４内も洗浄される。このとき、プ
ローブ４の洗浄にともなって洗浄槽2,6の洗浄水が汚染
される。第２図の洗浄装置では汚染された洗浄水の置換
に長い時間がかかり、例えば3ml/秒の供給量のときに１
秒程度かかる。また、水量が多く必要となる。
槽2,6に挿入され、プローブ４の先端部の外側が洗浄さ
れるとともに、プローブ４に洗浄水を吸引し、吐出する
ことによってプローブ４内も洗浄される。このとき、プ
ローブ４の洗浄にともなって洗浄槽2,6の洗浄水が汚染
される。第２図の洗浄装置では汚染された洗浄水の置換
に長い時間がかかり、例えば3ml/秒の供給量のときに１
秒程度かかる。また、水量が多く必要となる。
第３図の洗浄装置では、汚染された洗浄水が下部の小穴
８から排水されるように、洗浄水の供給量と小穴８から
の排水量の調節を微妙に制御する必要がある。例えば供
給量を３±0.3ml/秒程度に制御しなければならないが、
このような微妙な制御は困難である。
８から排水されるように、洗浄水の供給量と小穴８から
の排水量の調節を微妙に制御する必要がある。例えば供
給量を３±0.3ml/秒程度に制御しなければならないが、
このような微妙な制御は困難である。
本考案は汚染された洗浄水の置換時間が短く、水量が少
なくてすみ、かつ洗浄水の供給量の調節も容易なプロー
ブ洗浄装置を提供することを目的とするものである。
なくてすみ、かつ洗浄水の供給量の調節も容易なプロー
ブ洗浄装置を提供することを目的とするものである。
（課題を解決するための手段） 本考案のプローブ洗浄装置は、プローブが挿入される洗
浄槽の他に洗浄水を供給する洗浄水供給槽を備え、洗浄
槽と洗浄水供給槽とは上部で連通し、洗浄槽の下部は小
穴で排水管とつながり、洗浄水供給槽は前記連通部より
は上部で、かつ洗浄槽の上端よりも低い位置で排水管に
つながっている。
浄槽の他に洗浄水を供給する洗浄水供給槽を備え、洗浄
槽と洗浄水供給槽とは上部で連通し、洗浄槽の下部は小
穴で排水管とつながり、洗浄水供給槽は前記連通部より
は上部で、かつ洗浄槽の上端よりも低い位置で排水管に
つながっている。
（作用） 洗浄水は洗浄水供給槽から上部の連通部を経て洗浄槽に
供給される。洗浄槽の下部には小穴が設けられているの
で、その小穴を経て洗浄槽の水が排水管に排水される。
洗浄槽の小穴から排水される流量よりも多くの洗浄水を
連通部から供給することにより、洗浄槽内での水位が所
定の位置まで到達する。洗浄水供給槽にさらに多くの洗
浄水を供給すると、洗浄水供給槽の上部からあふれ出し
て排水管に排水される。洗浄水供給槽からの洗浄水供給
量が多くなっても連通部からは一定量の洗浄水を洗浄槽
に供給される。
供給される。洗浄槽の下部には小穴が設けられているの
で、その小穴を経て洗浄槽の水が排水管に排水される。
洗浄槽の小穴から排水される流量よりも多くの洗浄水を
連通部から供給することにより、洗浄槽内での水位が所
定の位置まで到達する。洗浄水供給槽にさらに多くの洗
浄水を供給すると、洗浄水供給槽の上部からあふれ出し
て排水管に排水される。洗浄水供給槽からの洗浄水供給
量が多くなっても連通部からは一定量の洗浄水を洗浄槽
に供給される。
（実施例） 第１図は一実施例を表わし、（Ａ）は上面図、（Ｂ）は
（Ａ）のＸ−Ｘ線位置での断面図である。
（Ａ）のＸ−Ｘ線位置での断面図である。
10は本体部であり、その下部には排水管12が設けられて
いる。本体部10の中心部には洗浄槽14が設けられ、洗浄
槽14の下端は小穴16を経て排水管12とつながっている。
洗浄槽14の近傍には洗浄水供給槽18と、２個の排水穴2
0,22が設けられている。洗浄水供給槽18と排水穴20,22
の上端の位置は同じ高さであり、洗浄槽14の上端は洗浄
水供給槽18、排水穴20,22の上端よりも高くなってい
る。洗浄水供給槽18と洗浄槽14は上部において、洗浄水
供給槽18の上端よりも低い位置で連通穴24によりつなが
っている。洗浄水供給槽18の下端には継手26を介して洗
浄水供給用チューブ28が接続されている。排水穴20,22
は下端部で排水管12とつながっている。
いる。本体部10の中心部には洗浄槽14が設けられ、洗浄
槽14の下端は小穴16を経て排水管12とつながっている。
洗浄槽14の近傍には洗浄水供給槽18と、２個の排水穴2
0,22が設けられている。洗浄水供給槽18と排水穴20,22
の上端の位置は同じ高さであり、洗浄槽14の上端は洗浄
水供給槽18、排水穴20,22の上端よりも高くなってい
る。洗浄水供給槽18と洗浄槽14は上部において、洗浄水
供給槽18の上端よりも低い位置で連通穴24によりつなが
っている。洗浄水供給槽18の下端には継手26を介して洗
浄水供給用チューブ28が接続されている。排水穴20,22
は下端部で排水管12とつながっている。
洗浄装置10の上部には、プローブ４が水平方向に移動す
るときに障害にならないように切欠き30,32が設けられ
ている。
るときに障害にならないように切欠き30,32が設けられ
ている。
次に、本実施例の動作について説明する。
洗浄水はチューブ28、継手26を介して洗浄水供給槽18に
供給される。洗浄水供給槽18に満たされた洗浄水は上部
の連通穴24を経て洗浄槽14に流れ落ちる。洗浄水は洗浄
槽14の下部の小穴16を経て排水管12に排水されるが、小
穴16の排水量以上に供給された洗浄水はＡで示される位
置まで溜っていく。プローブ４はＡの位置以下まで降下
して所定の洗浄動作を行なう。
供給される。洗浄水供給槽18に満たされた洗浄水は上部
の連通穴24を経て洗浄槽14に流れ落ちる。洗浄水は洗浄
槽14の下部の小穴16を経て排水管12に排水されるが、小
穴16の排水量以上に供給された洗浄水はＡで示される位
置まで溜っていく。プローブ４はＡの位置以下まで降下
して所定の洗浄動作を行なう。
洗浄水が洗浄水供給槽18に必要以上に供給された場合
は、連通穴24を通して洗浄槽14に流れ出さなかった余分
な洗浄水は洗浄水供給槽18の上部からあふれ出し、排水
穴20,22を経て排水管12に流れ落ち、排水部に捨てられ
る。
は、連通穴24を通して洗浄槽14に流れ出さなかった余分
な洗浄水は洗浄水供給槽18の上部からあふれ出し、排水
穴20,22を経て排水管12に流れ落ち、排水部に捨てられ
る。
この実施例によれば、一例としてチューブ28から供給さ
れる洗浄水の流量が2.5〜5ml/秒の範囲で洗浄槽14に良
好な水の流れを作ることができる。
れる洗浄水の流量が2.5〜5ml/秒の範囲で洗浄槽14に良
好な水の流れを作ることができる。
（考案の効果） 本考案では洗浄槽の下部に排水用小穴を設け、上部の連
通穴から洗浄水を供給するようにしたので、洗浄水の供
給量が一定以上であれば余分な洗浄水は洗浄槽に入らず
に排水され、洗浄槽には均一な水だまり状態を作ること
ができ、水だまり状態が安定する。また、流量調整が簡
単になる。
通穴から洗浄水を供給するようにしたので、洗浄水の供
給量が一定以上であれば余分な洗浄水は洗浄槽に入らず
に排水され、洗浄槽には均一な水だまり状態を作ること
ができ、水だまり状態が安定する。また、流量調整が簡
単になる。
洗浄槽では洗浄水の水だまりは常に上から下に向かって
流れを作っているので、汚染された洗浄水を速やかに排
水することができる。
流れを作っているので、汚染された洗浄水を速やかに排
水することができる。
第１図は一実施例を示す図であり、（Ａ）は上面図、
（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ線位置での断面図である。第２
図及び第３図はそれぞれ従来のプローブ洗浄装置を示す
垂直断面図である。 ４……プローブ、10……洗浄装置本体部、12……排水
管、14……洗浄槽、16……小穴、18……洗浄水供給槽、
20,22……排水穴、24……連通穴。
（Ｂ）は（Ａ）のＸ−Ｘ線位置での断面図である。第２
図及び第３図はそれぞれ従来のプローブ洗浄装置を示す
垂直断面図である。 ４……プローブ、10……洗浄装置本体部、12……排水
管、14……洗浄槽、16……小穴、18……洗浄水供給槽、
20,22……排水穴、24……連通穴。
Claims (1)
- 【請求項１】プローブを移動させて試料や試薬を吸引・
吐出する自動分析装置の分注装置でプローブの移動軌跡
上に配置され、プローブの先端を浸して洗浄するプロー
ブ洗浄装置において、プローブが挿入される洗浄槽の他
に洗浄水を供給する洗浄水供給槽を備え、洗浄槽と洗浄
水供給槽とは上部で連通し、洗浄槽の下部は小穴で排水
管とつながり、洗浄水供給槽は前記連通部よりは上部
で、かつ洗浄槽の上端よりも低い位置で排水管につなが
っていることを特徴とするプローブ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990090927U JPH0734359Y2 (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | 自動分析装置のプローブ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990090927U JPH0734359Y2 (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | 自動分析装置のプローブ洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0447648U JPH0447648U (ja) | 1992-04-22 |
| JPH0734359Y2 true JPH0734359Y2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=31826105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990090927U Expired - Fee Related JPH0734359Y2 (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | 自動分析装置のプローブ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0734359Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009116437A1 (ja) * | 2008-03-17 | 2009-09-24 | オリンパス株式会社 | ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4500081B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-07-14 | ベックマン・コールター・インコーポレーテッド | ノズル洗浄方法とノズル洗浄装置 |
| JP5439302B2 (ja) * | 2010-07-12 | 2014-03-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 自動分析装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5562359A (en) * | 1978-11-02 | 1980-05-10 | Fujitsu General Ltd | Dispensing device for test sample analyzer |
| JPS5754059U (ja) * | 1980-09-12 | 1982-03-29 | ||
| JPS62288574A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-15 | Hitachi Ltd | サンプリングプロ−ブ洗浄槽 |
-
1990
- 1990-08-29 JP JP1990090927U patent/JPH0734359Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009116437A1 (ja) * | 2008-03-17 | 2009-09-24 | オリンパス株式会社 | ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
| JP2009222593A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Olympus Corp | ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0447648U (ja) | 1992-04-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |