JPH0737284A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH0737284A JPH0737284A JP5180328A JP18032893A JPH0737284A JP H0737284 A JPH0737284 A JP H0737284A JP 5180328 A JP5180328 A JP 5180328A JP 18032893 A JP18032893 A JP 18032893A JP H0737284 A JPH0737284 A JP H0737284A
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Abstract
る紫外線硬化樹脂の耐食性を向上させ、光ディスクの腐
蝕を低減し、信頼性の向上及び寿命の長期化をはかる。 【構成】 透明基板1上に、少なくともAlを主成分と
した反射層5を形成して、その上に紫外線硬化樹脂層6
を被覆して成る光ディスクにおいて、この紫外線硬化樹
脂層6の構成材料中にイオウとリンとを含有させ、イオ
ウ化合物をイオウ換算で25ppm以下、リン化合物を
リン換算で35ppm以下として構成する。
Description
膜の上に紫外線硬化樹脂(UVレジン)が設けられた各
種の光ディスク、例えば反射光のカー回転角の変化によ
り再生が行われるいわゆる光磁気ディスクに係わる。
を、カー回転角の変化によって読み出すいわゆる光磁気
ディスクにおいては、ディスク状基板の上に記録層やA
l等の反射層が設けられ、これら記録層及び反射層が腐
蝕することを防止するために、その上にUVレジンが被
覆された構造を採っている。
5インチの光磁気ディスクの略線的拡大断面図を図1に
示す。この場合、ポリカーボネイト(PC)等より成る
透明基板1の上に、厚さ例えば110nmのSiN等よ
り成る保護層2、厚さ例えば23nmのTbFeCoC
r合金等より成る記録層3、厚さ40nm程度のSiN
等より成る保護層4、厚さ60nm程度のAl等より成
る反射層5がスパッタリング等により成膜されて成る。
ば厚さ5〜10μmとしてスピンコート等により塗布さ
れる。そして例えば、同様の構成をもって形成された他
のディスクを持ち来し、矢印hで示すように貼り合わせ
て両ディスクの紫外線硬化樹脂層が加熱溶融され、両面
ディスクとして構成される。
き防止に有効であるが、その耐食性は十分でなく、特に
上述したような光磁気ディスクにおいては、その記録層
を構成する希土類元素Gd、Dy、Tb、Nd等が非常
に腐蝕を受けやすく、SiN等の保護膜を設けても、そ
の固有の内部応力によって原子移動いわゆるストレスマ
イグレーションが生じ、腐蝕を惹き起こすという問題が
ある。
となく、例えば3.5インチ径の単板で構成されるディ
スクにおいては紫外線硬化樹脂が比較的厚く塗布される
ためこれまで以上の信頼性が要求され、またミニディス
ク(MD)等の種々の光ディスクにおいても同様の理由
により、紫外線硬化樹脂の耐食性の向上が望まれてい
る。
うな光ディスクの表面部に保護膜として設けられる紫外
線硬化樹脂の耐食性を向上させ、光ディスクの腐蝕を低
減し、信頼性の向上及び寿命の長期化をはかる。
1の断面図に示すように、透明基板1上に、少なくとも
Alを主成分とした反射層5を形成して、その上に紫外
線硬化樹脂層6を被覆して成る光ディスクにおいて、こ
の紫外線硬化樹脂層6の構成材料中にイオウとリンとを
含有させ、イオウ化合物をイオウ換算で25ppm以
下、リン化合物をリン換算で35ppm以下として構成
する。
の紫外線硬化樹脂層の構成材料中にイオウ及びリンが同
時に含有されている場合、イオウが25ppm、リンが
35ppmを越えると腐蝕に大きく寄与し、更に水分の
存在により腐蝕が促進加速されることが判明した。
30μmφ程度のものが多く、また、層状に進行してい
る。腐蝕部をEPMA(電子プローブX線マイクロアナ
ライザー)、SIMS(2次イオン質量分析法)、FT
−IR(フーリエ変換赤外分光法)により分析すると、
Al及びFe、Tb等の酸化物が確認され、従ってAl
反射膜や記録膜が腐食していることがわかった。
ン)が認められるものが多く、更に深さ方向の濃度分析
からUVレジン内に原因物が存在することが考えられ
る。
イオウ化合物及びリン化合物の含有量に特に着目して検
討を試みたところ、上述したようにイオウ化合物をイオ
ウ換算で25ppm以下、リン化合物の含有量をリン換
算で35ppm以下とすることによって腐食が格段に抑
えられた。
の腐食を抑制したことから、光ディスクの耐食性を著し
く向上させることができ、これによって光ディスクの信
頼性の向上及び寿命の長期化をはかることができる。
においては、前述の図1において説明した光磁気ディス
クに適用した場合を示す。
ト(PC)等より成る透明基板1の上に、厚さ例えば1
10nmのSiN等より成る保護層2、厚さ例えば23
nmのTbFeCoCr合金等より成る記録層3、厚さ
40nm程度のSiN等より成る保護層4、厚さ60n
m程度のAl等より成る反射層5がスパッタリング等に
より成膜されて成る。
射されるレーザ光の高効率反射及び熱拡散の働きをも
つ。
ば厚さ5〜10μmとしてスピンコート等により塗布さ
れて、例えば、同様の構成をもって形成された他のディ
スクを持ち来し、矢印hで示すように貼り合わせて加熱
溶融され、両面ディスクとして構成される。
本物性を与えるもの) (2)モノマー(光重合性多官能アクリレートである
が、プレポリマーの低粘度化、光開始剤の溶媒に使用) (3)光開始剤(紫外線を吸収してラジカルを生成し、
硬化反応の引き金となるもの) (4)増感剤(単独ではUV照射によって活性化しない
が、光開始剤と一緒に使用することで反応時間の短縮等
の効果が得られるもの) (5)その他の助剤(着色剤、光安定剤、熱安定剤、可
塑剤、黄色防止剤、界面活性剤、等) から成っている。これらの成分中、特に助剤にイオウ、
リンを含有する化合物が多く含まれる。
量を変化させた種々の紫外線硬化樹脂を用いて光ディス
クを作製し、カートリッジに装着した状態で耐食試験を
行った。
は、含有量(濃度)を確認するために、紫外線硬化樹脂
と有機溶媒に溶け、しかもイオン状態で安定な価数をと
る材料を選定した。
れ、イオウとしては2価の化合物であるC7 H5 NS2
(2−メルカプトベンゾチアゾール)で、ゴムの加硫促
進剤や分析用試薬として用いられるもの、またリンとし
ては3価安定の(C6 H5 )3P(トリフェニルホスフ
ィン)で重合開始剤として用いられる材料を含有させ
た。
は6価安定のC12H25 NaO4 S(ラウリル硫酸ナト
リウム)の乳化剤、リンとしては5価の安定化合物の
(C6H5 O)3 PO(リン酸トリフェニル)で可塑剤
等に用いられる材料を含有させた。
中のイオウ、リンの含有量の測定は、未硬化のもの1g
をMIBK(メチルイソブチルケトン)100mlに溶
解し、ICP(誘導結合高周波プラズマ)分光分析法に
て行った。その際、同一溶媒にて標準溶液及びブランク
溶液を作製し、測定波長はイオウが180.734n
m、リンが213.618nmを使用した。また、本測
定におけるイオウの検出限界値は0.163ppm、リ
ンは0.201ppmであり、上述の化合物添加量に対
する分析の感度は十分であった。
をスピンコーティング法により塗布して7〜10枚の光
ディスクをカートリッジに装着してそれぞれ作製し、恒
温層にて80℃、相対湿度90%Rh、100時間保存
の腐食試験を行った。この後、光学顕微鏡及び目視にて
腐食数を平均値として算出した。
pm以下、リン化合物が35ppm以下の場合に腐食発
生数を1.0個以下に低減できることがわかる。
程度に抑制された各光ディスクを再生装置に組み込んで
再生を行ったところ、ビットエラーが低く抑えられた。
となく、紫外線硬化樹脂の材料として種々の材料を用い
ることができる。
例えば下記の化1〜化6に化学式を示す材料が挙げられ
る。
酸)
酸)
ル酸)
ロキシエチルアクリレート)
記の化7〜化19に示す材料等が用いられる。
A)
A)
DA)
A)
DA)
PEG400DA)
ルジアクリレート、略号HPNDA)
PTA)
A)
HA)
いることもできる。
下記の化20〜化28に示す材料等を用いることができ
る。
下記の各材料が用いられる。 ・n−ブチルアミン ・ジ−n−ブチルアミン ・トリエチルアミン ・ジエチルアミノエチルメタクリレート
使用目的及びその性能に応じて非常に多岐に渡る材料が
用いられるが、ここではイオウ、リンの含有例を示す。
〜化31に示す各材料が挙げられる。
ェノン)
モノエチレートニッケル錯塩)
挙げられる。 ・アルキルスルホネート(RSO3 M) ・アルキルサルフェート(ROSO3 M) ・リン酸エステル塩
滑、帯電防止作用を有する)としては、例えば下記の化
33〜化35に示す材料が挙げられる。
性剤
〜化37に示す材料が挙げられる。
ルホネート
じて、その種類と割合を適切に選定して、紫外線硬化樹
脂を合成することができる。
硬化樹脂層のイオウ及びリンの含有量に着目して、イオ
ウ化合物を25ppm以下、リン化合物を35ppm以
下とすることによって、格段に腐食を防止することがで
き、これによりビットエラーの低減化をはかって再生特
性の向上をはかり、信頼性の向上及び寿命の長期化をは
かることができる。
ある。
Claims (1)
- 【請求項1】 透明基板上に、少なくともAlを主成分
とした反射層が形成され、その上に紫外線硬化樹脂層が
被覆されて成る光ディスクにおいて、 上記紫外線硬化樹脂層の構成材料中にイオウとリンが含
有されて成り、 イオウ化合物がイオウ換算で25ppm以下、 リン化合物がリン換算で35ppm以下とされて成るこ
とを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18032893A JP3520528B2 (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 光磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18032893A JP3520528B2 (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0737284A true JPH0737284A (ja) | 1995-02-07 |
JP3520528B2 JP3520528B2 (ja) | 2004-04-19 |
Family
ID=16081296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18032893A Expired - Fee Related JP3520528B2 (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 光磁気ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3520528B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006035683A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photocurable resin composition |
EP2189981A1 (en) * | 2007-09-14 | 2010-05-26 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and its recording/reproduction method |
CN110518440A (zh) * | 2018-05-22 | 2019-11-29 | 中山大学 | 一种发光装置及其制备方法 |
-
1993
- 1993-07-21 JP JP18032893A patent/JP3520528B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006035683A1 (en) | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photocurable resin composition |
EP2189981A1 (en) * | 2007-09-14 | 2010-05-26 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium and its recording/reproduction method |
EP2189981A4 (en) * | 2007-09-14 | 2012-04-18 | Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd | OPTICAL RECORDING MEDIUM AND RECORDING / REPLAYING METHOD THEREFOR |
CN110518440A (zh) * | 2018-05-22 | 2019-11-29 | 中山大学 | 一种发光装置及其制备方法 |
CN110518440B (zh) * | 2018-05-22 | 2021-07-13 | 中山大学 | 一种发光装置及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3520528B2 (ja) | 2004-04-19 |
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