JPH07335526A - 位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子 - Google Patents

位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子

Info

Publication number
JPH07335526A
JPH07335526A JP6126364A JP12636494A JPH07335526A JP H07335526 A JPH07335526 A JP H07335526A JP 6126364 A JP6126364 A JP 6126364A JP 12636494 A JP12636494 A JP 12636494A JP H07335526 A JPH07335526 A JP H07335526A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
acousto
optic
frequency
diffraction grating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP6126364A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Mizutani
英夫 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP6126364A priority Critical patent/JPH07335526A/ja
Priority to KR1019950014600A priority patent/KR960002513A/ko
Publication of JPH07335526A publication Critical patent/JPH07335526A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049Technique, e.g. interferometric

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光学系の調整が容易で複数波長の光を使用で
きるという特徴を維持した上で、簡単な構成で低い周波
数のビート信号を得る。 【構成】 白色光源10からの光束を回折格子14によ
り2分割し、この2光束をリレー光学系15a,15b
を介して所定の交差角で音響光学変調素子(AOM)1
7に入射させる。AOM17には逆方向に僅かに周波数
の異なる駆動信号SF1 ,SF2 が供給され、AOM1
7から互いに低い周波数差を有する回折光L1(1)及びL
2(-1) が射出される。回折光L1(1)及びL2(-1) を、そ
れぞれ対物レンズ38等を介して回折格子マークRM,
WMに所定の交差角で照射して、ヘテロダイン干渉法で
位置検出を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ヘテロダイン型の位置
検出装置、及びこの装置に使用される音響光学変調素子
に関し、特に半導体素子又は液晶表示素子等を製造する
際に使用される露光装置においてウエハ及びマスクを高
精度に位置合わせするためのアライメント装置に適用し
て好適なものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子等の微細パターンを高
い分解能で形成するために、レチクル(又はフォトマス
ク等)のパターン像をフォトレジストが塗布されたウエ
ハ(又はガラスプレート等)上に露光する投影露光装置
が使用されている。従来はステップ・アンド・リピート
方式でウエハ上の各ショット領域にレチクルのパターン
を露光する所謂ステッパーが多用されていたが、最近で
はレチクル及びウエハを投影光学系に対して同期して走
査することにより露光を行うステップ・アンド・スキャ
ン方式(走査露光方式)の投影露光装置も使用されつつ
ある。一般に半導体素子等はウエハ上に多層の回路パタ
ーンを積み重ねて形成されるため、投影露光装置におい
ては、ウエハ上の各ショット領域とレチクルとの位置合
わせ(アライメント)を高精度に行う必要がある。
【0003】そこで、ヘテロダイン干渉法を利用して高
精度に位置検出を行う位置検出装置が、例えば特開平2
−227604号公報において開示されている。この位
置検出装置は、レーザ光源からの光束をビームスプリッ
ター等で2分割した後、それぞれの光束を異なる音響光
学変調素子(AOM)に通すことにより、それら2光束
の間に所定の周波数差を付与している。そして、その周
波数差を有する2光束を、レチクル上の回折格子マーク
(レチクルマーク)、及びウエハ上の回折格子マーク
(ウエハマーク)に対してそれぞれ2方向から照射し、
各回折格子マークから同じ方向に発生する回折光よりな
る干渉光(ヘテロダインビーム)を光電検出器を介して
2つのビート信号に変換している。この場合、2つのビ
ート信号は周波数が上述の2つの音響光学変調素子によ
り付与された周波数差に等しく、且つ位相が対応する回
折格子マークの位置に対応するものであるため、それら
2つのビート信号より2つの回折格子マークの位置が検
出され、ひいてはレチクルとウエハとの位置合わせが行
われるものである。
【0004】ところが、上述の特開平2−227604
号公報に開示された位置検出装置では、ビームスプリッ
ター等で分割された2光束が異なる音響光学変調素子に
より変調される方式であるため、構成が複雑で且つ各光
学部材の調整が困難であった。また、分割された2光束
の光路差が波長に比べて大きくなり易いため、位置検出
用の光としてレーザビーム等の単色光(単一波長の光)
を用いざるを得ず、ウエハ上に塗布されたフォトレジス
ト等による薄膜干渉の悪影響を受け易く、特にウエハ側
のマークの位置検出精度が低下する恐れがあった。
【0005】更に、一般にウエハは種々のプロセスを経
るため、ウエハマークの断面形状が次第に崩れ、そのウ
エハマークの断面形状が非対称になることがある。この
場合、位置検出用の光が単色光であると、そのウエハマ
ーク(回折格子マーク)の非対称性により位置検出精度
が低下するという不都合もあった。そこで、これらの不
都合を全て解消するため、2個の互いに僅かに異なる周
波数で駆動される音響光学変調素子をリレー光学系を介
して直列に配置し、各音響光学変調素子に対して交差す
るように2光束を供給し、各音響光学変調素子内でそれ
ぞれ同時に2光束を周波数変調する位置検出装置が本出
願人により提案された。この場合、2個の音響光学変調
素子内ではそれぞれブラッグ回折(音響ブラッグ回折)
により周波数変調が行われている。また、2個の音響光
学変調素子を使用するのは、一般に従来の1個の音響光
学変調素子による変調周波数は50MHz程度以上であ
り、これがそのままビート信号の周波数となったのでは
信号処理が困難であるからである。即ち、2個の音響光
学変調素子をそれぞれ50MHz程度で、且つ僅かに異
なる周波数で駆動することにより、最終的に得られるビ
ート信号の周波数を例えば数10kHz程度に低下(ビ
ートダウン)させていた。
【0006】更に、音響光学変調素子をブラッグ回折領
域ではなく、ラマン−ナス回折領域で使用することによ
り、最小の音響光学変調素子で光束の分割手段と変調手
段とを兼用させるようにした位置検出装置も本出願人に
より提案されている。このようにラマン−ナス回折領域
で音響光学変調素子を使用する場合にも、周波数をビー
トダウンさせるために、2段目の音響光学変調素子を別
途設ける必要があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
直列に配置された音響光学変調素子を使用したヘテロダ
イン干渉型の位置検出装置では、各光学部材の調整が容
易であると共に、構成の対称性により複数波長の光を位
置検出光として使用できるため、薄膜干渉の影響や回折
格子マークの断面形状の非対称性の影響を受けにくいと
いう特徴があった。しかしながら、その従来の位置検出
装置では、ビート信号の周波数を低下させるために、リ
レー光学系を介して2個の独立の音響光学変調素子を直
列に配置していたため、光学系が大型であり且つ複雑で
あるという不都合があった。
【0008】また、2個の独立の音響光学変調素子によ
ってそれぞれ(合計で2回)回折を受けるために全体と
して位置検出光の利用効率が低下すると共に、中間のリ
レー光学系でも光量損失が生ずるという不都合があっ
た。本発明は斯かる点に鑑み、光学系の調整が容易で複
数波長の光を使用できるという特徴を維持した上で、簡
単な構成で低い周波数のビート信号を得ることができる
と共に、位置検出用の光の利用効率の高いヘテロダイン
干渉型の位置検出装置を提供することを目的とする。
【0009】更に本発明は、そのような位置検出装置に
使用できる音響光学変調素子を提供することをも目的と
する。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明による第1の位置
検出装置は、例えば図1及び図7に示すように、互いに
周波数が異なる2光束を生成する2光束生成手段と、こ
の2光束生成手段からの2光束を集光してこれら2光束
を被検物体(4)上に形成された回折格子状マーク(W
M)に対して所定の2方向から照射する対物光学系(1
8a,18b,21,26,27,38,3)と、回折
格子状マーク(WM)から発生する複数の回折光よりな
る干渉光を光電的に検出する光電検出器(33)とを有
し、この光電検出器の検出信号に基づいて被検物体
(4)の位置を検出する位置検出装置において、その2
光束生成手段は、複数波長の光を含む光束又は単一波長
の光束を供給する光源手段(10〜13)と、この光源
手段からの光束を分割して互いに周波数が異なる2光束
を生成する音響光学変調素子(14〜17)とを備え、
この音響光学変調素子の所定の超音波作用領域(48
A)内に、互いに逆向きに進行する周波数の異なる超音
波(47A,47B)が供給されるものである。
【0011】この場合、その音響光学変調素子の所定の
超音波作用領域の一例は、例えば図7〜図9に示すよう
に、1個の音響光学媒体(41A〜41C)中に形成さ
れるもの(48A〜48C)である。また、その所定の
超音波作用領域の他の例は、例えば図10に示すよう
に、隣接して配置された複数個の音響光学媒体に跨り、
これら複数個の音響光学媒体内にそれぞれ交互に逆向き
に進行する超音波(単一の超音波)が供給されるもの
(48D)である。
【0012】また、本発明による第1の音響光学変調素
子は、例えば図7に示すように、入射する光束を分割し
て互いに周波数が異なる2光束を生成する音響光学変調
素子において、音響光学媒体(41A)と、この音響光
学媒体内に互いに逆向きに進行する周波数の異なる超音
波を供給する超音波発生手段(42A〜45A,42B
〜45B)とを有し、それら逆向きに進行する周波数の
異なる超音波は、音響光学媒体(41A)内の共通の超
音波作用領域(48A)内に存在するものである。
【0013】また、本発明の第2の音響光学変調素子
は、例えば図10に示すように、入射する光束を分割し
て互いに周波数が異なる2光束を生成する音響光学変調
素子において、隣接して配置された複数個の音響光学媒
体(41D,41E)と、これら複数個の音響光学媒体
内にそれぞれ交互に逆向きに進行する周波数の異なる単
一の超音波(47A,47B)を供給する超音波発生手
段(49A,49B)とを有し、複数個の音響光学媒体
(41D,41E)が共通の超音波作用領域(48D)
を形成するものである。なお、以上の説明は音響光学変
調素子をブラッグ回折で使ったものであるが、これらは
図5に示すようなラマン−ナス回折を使ったものでも適
用可能である。その際、音響光学変調素子の構成として
は図7〜図11のものと基本的に同じである。また、図
12に示すような構成の位置検出装置となる。
【0014】また、本発明の第2の位置検出装置は、例
えば図1及び図15に示すように、互いに周波数が異な
る2光束を生成する2光束生成手段と、この2光束生成
手段からの2光束を集光してこれら2光束を被検物体
(4)上に形成された回折格子状マーク(WM)に対し
て所定の2方向から照射する対物光学系(18a,18
b,21,26,27,38,3)と、回折格子状マー
ク(WM)から発生する複数の回折光よりなる干渉光を
光電的に検出する光電検出器(33)とを有し、この光
電検出器の検出信号に基づいて被検物体(4)の位置を
検出する位置検出装置において、その2光束生成手段
は、複数波長の光を含む光束又は単一波長の光束を供給
する光源手段(10〜13)と、この光源手段からの光
束を分割して互いに周波数が異なる2光束を生成する音
響光学変調素子(14,15a,16,15b,17
A)とを備え、この音響光学変調素子内の隣接する2つ
の超音波作用領域(48F,48G)内に、互いに同一
方向に進行する周波数の異なる超音波(47I,47
J)が供給されるものである。
【0015】
【作用】斯かる本発明の第1及び第2の位置検出装置に
よれば、2光束生成手段から互いに周波数が異なる2光
束が供給されるため、それら2光束を使用することによ
りヘテロダイン干渉方式で高精度に位置検出が行われ
る。この際に、第1及び第2の位置検出装置で使用され
る2光束生成手段は、それぞれ単一の音響光学素子を用
いて互いに周波数の異なる2光束を生成し、しかもこれ
ら2光束の周波数差は所定の値(例えば1MHz程度以
下)にビートダウンされているものである。しかしなが
ら、第1及び第2の位置検出装置で使用される音響光学
変調素子の構成は異なっている。先ず第1の位置検出装
置で使用される音響光学変調素子につき説明する。
【0016】一般に、例えば図7において、音響光学媒
体(41A)に超音波を加えた場合は粗密波がその媒体
内に発生し、それにより屈折率が異なる領域が格子状に
発生する。即ち、音響光学変調素子(41A)内にいわ
ば位相格子ができたことと等価になり、この位相格子を
通る光は回折される。これらの回折光の内、たとえば0
次光と1次回折光とを取り出して再結像させると、その
位相格子のピッチと等しいピッチの干渉縞ができる。
【0017】その際、超音波が進行波である場合、音響
光学媒体(41A)内の粗密波は音速で移動することに
なり、従って上記の位相格子及びその像である干渉縞も
移動する。このことを別の観点から考えると、1次回折
光が周波数変調を受けたとみなすことができる。その周
波数変調の変調周波数fは、干渉縞の移動速度をV、干
渉縞のピッチをpとして、次式で表される。
【0018】f=V/p (A1) または、超音波の音速をv、超音波の波長をΛとして、
変調周波数fは次のようになる。 f=v/Λ (A2) 通常、音速vは数千m/s、波長Λは数十μmなので、
変調周波数fは数十MHzになってしまう。
【0019】そこで、変調周波数fの値を小さくするた
めに、図7に示すように、少なくとも2つの周波数
1 ,f2 が僅かに異なる超音波(47A,47B)を
互いに進行方向が逆になるように音響光学媒体(41
A)に加える。ここで、上記の異なる超音波の周波数を
1 ,f2 (f1 >f2)として、音響光学媒体(41
A)に加える2つの進行波を次式で表す。
【0020】 Y1=sin{2π(x/Λ1−f1・t)} (A3) Y2=sin{2π(x/Λ2+f2・t)} (A4) 但し、xは音響光学媒体中における超音波の伝わる方向
での位置の座標、Λ1及びΛ2はそれぞれの超音波の波
長である。また、これら2つの超音波の初期位相差は重
要ではないので省略する。2つの波の重ね合わせの原理
から、音響光学媒体(41A)中での超音波は次式で表
される。
【0021】 Y=Y1+Y2 =sin{2π(x/Λ1−f1・t)}+sin{2π(x/Λ2+f2・t)} =2sin[2π{x・(1/Λ1+1/Λ2)/2+(f2-f1)t/2}] ×cos[2π{x・(1/Λ1−1/Λ2)/2+(f2+f1)t/2}] (A5) ところで、周波数f1 ,f2 が非常に近い場合、波長Λ
1,Λ2はほぼ等しくなるため、次式により平均周波数
f、平均波長Λ、周波数差Δfを導入する。
【0022】f=(f2 +f1)/2、 Λ=(Λ1+Λ2)/2、 Δf=(f1 −f2) このとき、(A5)式は次のように近似して表される。 Y=2sin[2π{x/Λ−Δf・t/2}]×cos(2πf・
t) (A6) さらに、Δf≪fであることを考慮すると、(A6)式
は波長Λで周波数Δf/2の進行波とみなすことができ
る。これは光電検出器(33)の時間分解能が低く、周
波数fに関して時間積分されているような場合である。
【0023】従って、このような2つの逆向きの超音波
(47A,47B)が印加された音響光学媒体(41
A)にはそれらの差の周波数の1/2の周波数を持つ進
行波が生じているものと考えられ、この部分(超音波作
用領域48A)を通って回折される光によって形成され
る干渉縞はΔf・Λの速度で移動する。つまり、その回
折光はΔfの周波数変調を受けたものと考えることがで
きる。
【0024】言い換えると、図7のようなブラッグ回折
を利用する場合、一方の光束(L1)はΔf/2の周波数
変調を受け、他方の光束(L2)は−Δf/2の周波数変
調を受け、音響光学媒体(41A)から射出される際の
両者の間にはΔfの周波数差が生じている。即ち、1個
の音響光学変調素子を使用することにより、個々の大き
な周波数f1 ,f2 がΔfにビートダウンされたことに
なる。
【0025】ところで、図7に示すように音響光学媒体
(41A)に逆向きの超音波を加える場合には各々の進
行波が互いの端面で反射しないようにする必要がある。
反射があると定在波が生じてしまい回折光の周波数変調
にノイズ成分が混入する恐れがあるからである。そこで
例えば吸音材(46A,46B)を音響光学媒体(41
A)の端面に取り付けるような端面処理を行って、超音
波の反射波を小さくする。
【0026】または、図8に示すように、入射する光線
に対する1つの超音波作用領域(48B)内で超音波
(47C,47D)を加える領域が重ならないように、
超音波発生用のトランスデューサ(43C,43D)を
互い違いに配置する。そして、各々の端面には超音波の
吸収材を取り付けて、反射波が生じないような端面処理
を行う。これにより、各進行波(47C,47D)内を
通る光線には各々の進行波が作用し、波動の重ね合わせ
の原理から上述の(A6)式と同じような進行波が作用
する場合と等価になる。
【0027】この場合、例えば図7の例において、音響
ブラッグ回折を利用する場合の超音波作用領域(48
A)とは、音響光学媒体(41A)内での超音波の波長
をλ、音響光学媒体により決まる性能指数をM、供給さ
れる超音波の強度をIaとしたとき、次式で定義される
回折効率ηが最大になるような幅D1(超音波の進行方
向に垂直な方向の幅)を有する領域である。
【0028】 η=sin2{π・D1(M・Ia)1/2/(21/2 λ)} (A7) これは、例えば多田邦雄,神谷武志:光エレクトロニク
スの基礎,p327(丸善,昭和55年)に記載されて
いる。なお、複数の超音波を加える場合には、強度Ia
はそれぞれの超音波強度の和となる。また、ラマン−ナ
ス回折を利用する場合の回折効率ηは、第1種ベッセル
関数J1 を用いて、次のように表される。
【0029】 η=J1 2{21/2 π・D1(M・Ia)1/2/λ} (A8) さらに、同一の超音波作用領域内であれば、図10に示
すように、単一の超音波が印加された音響光学媒体(4
1D,42E)を複数個、その超音波進行方向が互いに
逆向きになるように配置してもよい。図10の場合で
も、同様の理由から(A6)式と同じ進行波が入射する
光束に作用するものと考えられる。
【0030】その図10に示すように、超音波作用領域
(48D)が複数の音響光学媒体(41D,41E)に
跨る場合には、各音響光学媒体(41D,41E)内で
の超音波の存在領域の幅をD41,D42,…、として、各
音響光学媒体(41D,41E)内での光の波長を
λ1 ,λ2 ,…、性能指数をM1 ,M2 ,…、供給され
る超音波強度をIa1 ,Ia2 ,…とする。そして、次
式で表される量Σを(A7)又は(A8)式の値D1
(M・Ia)1/2/λの代わりに代入して得られる回折効
率ηが、最大になるような長さD4を有する領域がその
超音波作用領域(48D)となる。
【0031】 Σ=D41(M1・Ia1)1/21+D42(M2・Ia2)1/22+… (A9) ところで、以上の(A7)式、(A8)式、(A9)式
の強度Iaは、(A6)式で示した重ね合わせの波と同
様なふるまいをするので時間平均で最大となるように考
慮する必要がある。一方、本発明の第2の位置検出装置
に使用される音響光学変調素子は、図15に示すよう
に、2つの独立の超音波作用領域(48F,48G)を
有するものである。この場合、各超音波作用領域(48
F,48G)の幅D6について、(A7)式又は(A
8)式が成立している。そして、超音波作用領域(48
F,48G)には互いに僅かに異なる周波数f1 ,f2
の超音波を同一方向に供給する。この結果、例えばブラ
ッグ回折を利用するものとすると、斜めに入射する一方
の光束L1 は、先ず第1の超音波作用領域(48F)で
回折されて+1次回折光L 1Iとして周波数f1 だけ周波
数変調を受けて第2の超音波作用領域(48G)に向か
う。
【0032】その+1次回折光L1Iは、第2の超音波作
用領域(48G)で回折されて−1次回折光L1Jとして
周波数−f2 だけ周波数変調を受けて、後続の対物光学
系に向かう。従って、対物光学系に向かう回折光L1J
周波数の変調量は(f1 −f 2 )となる。同様に、斜め
に入射する他方の光束L2 については、2つの超音波作
用領域(48F,48G)により−(f1 −f2 )だけ
の周波数変調を受けて回折光L2Jとなる。従って、第2
の超音波作用領域(48G)から射出される2つの光束
1J,L2Jの間の周波数差は2(f1 −f2 )(=2・
Δf)となり、2つの大きな周波数f1 ,f2 がビート
ダウンされている。また、第1の位置検出装置(図7)
と比べて変調周波数は2倍である。
【0033】
【実施例】以下、本発明による位置検出装置の第1実施
例につき図1〜図11を参照して説明する。本実施例
は、投影露光装置のアライメント系に本発明を適用した
ものであり、且つ音響ブラッグ回折を利用する例であ
る。図1は本実施例の投影露光装置を示し、この図1に
おいて、所定の回路パターンと、そのパターン周辺部に
設けられたアライメント用の回折格子マークRMとを有
するレチクル1が、2次元的に移動可能なレチクルステ
ージ2上に保持されている。レチクル1は、投影光学系
(投影対物レンズ)3に関してウエハ4と共役となるよ
うに配置されている。
【0034】照明光学系40からの露光光は、レチクル
上方に光軸に対して45゜の傾斜角で斜設されたダイク
ロイックミラー6により下方へ反射され、レチクル1を
均一な照度で照明する。その露光光のもとで、レチクル
上のパターンは投影光学系3によりウエハ4上に転写さ
れる。なお、ウエハ4上には、レチクル1上に形成され
た回折格子マークRMと同様のアライメント用の回折格
子マークWMが形成されている。
【0035】ウエハ4は、ステップ・アンド・リピート
方式で2次元的に移動するウエハステージ5上に保持さ
れており、ウエハ上の1つのショット領域でのレチクル
パターンの転写が完了すると、ウエハ4は次のショット
位置までステッピングされる。レチクルステージ2及び
ウエハステージ5におけるx方向、y方向及び回転
(θ)方向の位置を独立に検出するための不図示の干渉
計が各ステージに設けられており、各方向における各ス
テージの駆動は不図示の駆動モータにより行われる。
【0036】一方、回折格子マークRM及びWMの位置
検出を行うためのアライメント光学系が、ダイクロイッ
クミラー6の上方に設けられている。以下、そのアライ
メント光学系について説明する。露光光とは異なる波長
帯の光を供給するXeランプ、ハロゲンランプ等の白色
光源10からの白色光は、口径可変な可変絞り11及び
コンデンサーレンズ12を介することにより平行光束L
0 に変換された後、所定の波長域の光を抽出するバンド
パスフィルター13を介して回折格子14に垂直に入射
する。この回折格子14に垂直に入射した平行光束L0
は、回折格子14の回折作用によって所定の波長域をも
つ±1次回折光L1 ,L2 に分割生成される。
【0037】さて、所定の波長域を持つ±1次回折光
(以下、単に「光束」と呼ぶ)L1 ,L2 は、レンズ1
5a及び15bを有するリレー光学系15によって集光
された後、音響光学変調素子(以下、「AOM」と略称
する。)17に対し等しい入射角のもとで対称に入射す
る。なお、レンズ15aとレンズ15bとの間には、回
折格子14からの±1次回折光を抽出するための空間フ
ィルター16が設けられている。
【0038】AOM17は、それぞれ周波数f1 及びf
2 (f1 >f2 とする)の高周波信号SF1 及びSF2
で逆方向から駆動されており、所定の波長域の光束L1
及びL2 はAOM17により音響ブラッグ回折作用を受
ける。以下では、回折光の次数は高周波信号SF1 によ
る進行波の進行方向を基準にして考える。ここで、所定
の波長域の光束L1 及びL2 の周波数(中心周波数)を
それぞれf0 とすると、所定の波長域の光束L1 の+1
次回折光L1 (1) (以下、「光束L1 (1) 」と称す
る。)は、AOM17により(f0 +f3 )(但し、f
3 =(f1 −f2 )/2)の周波数変調を受け、所定の
波長域の光束L2 の−1次回折光L2 (-1)(以下、「光
束L2 (-1)」と称する。)は、AOM17により(f0
−f3 )の周波数変調を受ける。
【0039】その後、光束L1 (1) 及び光束L2 (-1)
は、レンズ18a、反射ミラー20、レンズ18b、レ
ンズ21を介し、ビームスプリッター22によりそれぞ
れ2分割される。なお、レンズ18aとレンズ18bと
で構成されるリレー光学系の間には、光束L1 (1) と光
束L2 (-1)とを抽出するための空間フィルター19が設
けられている。
【0040】ビームスプリッター22を透過した光束L
1 (1) 及び光束L2 (-1)はレンズ23により集光され、
この集光位置に設けられた参照用の回折格子24上に
は、ピッチ方向に沿って流れる干渉縞が形成される。そ
して、この回折格子24を介した回折光が光電検出器2
5にて参照用の光ビート信号として光電検出される。光
電検出器25から出力される信号には、(A6)式から
分かるように、本来の光ビート信号の他に周波数f1
度の高周波成分が含まれているため、その高周波成分を
周波数f1 /2程度以下の信号のみを通過させるローパ
スフィルタ回路(LPF)53aを介して除去し、その
光ビート信号のみを位相検出系50に供給する。
【0041】一方、ビームスプリッター22で反射され
た光束L1 (1) 及び光束L2 (-1)は、リレー光学系(2
6a,26b,27)、ビームスプリッター28、平行
平面板37を通過する。この平行平面板37は、投影光
学系3の瞳共役位置又はその近傍に、アライメント光学
系の光軸に対して傾角可変に設けられ、テレセントリッ
ク性を維持するための機能を有する。なお、平行平面板
37の代わりに、厚さが厚い粗調整用の平行平面板と、
厚さが薄い微調整用の平行平面板とを組み合わせた構成
としても良い。
【0042】平行平面板37を通過した光束L1 (1) 及
び光束L2 (-1)は、対物レンズ38、ダイクロイックミ
ラー6を介して、所定の交差角を持つ2方向からレチク
ル1上の回折格子マークRMを照明する。なお、投影光
学系3がアライメント光に対して色収差補正されていな
い場合には、対物レンズ38は、特開昭63−2831
29号にて提案されている2焦点光学系で構成すること
が望ましい。これにより、2焦点光学系に入射する2光
束は互いに直交する偏光光にそれぞれ分割され、第1焦
点へ向かう一方の偏光光同士がレチクル1上で集光し、
第2焦点へ向かう他方の偏光光同士がウエハ4上で集光
する。
【0043】さて、光束L1 (1) 及び光束L2 (-1)は、
レチクル1上の回折格子マークRMを照明するが、レチ
クル1には、図2(a)に示す如く、回折格子マークR
Mと並列的にアライメント光透過窓P0 が設けられてお
り、図2(b)に示す如く、この透過窓P0 に対応する
ウエハ4上の位置に、回折格子マークWMが形成されて
いる。
【0044】光束L1 (1) 及び光束L2 (-1)は、回折格
子マークRM及び透過窓P0 を覆うように2方向から照
明し、これにより回折格子マークRM上には、ピッチ方
向に沿って流れる干渉縞が発生する。そして、この回折
格子マークRMの法線方向(投影光学系3の光軸方向)
には、光束L1 (1) の+1次回折光、及び光束L2 (-1)
の−1次回折光がそれぞれ発生する。
【0045】ここで、光束L1 (1) と光束L2 (-1)とが
回折格子マークRMを2方向から照明するときの交差角
は、回折格子マークRMのピッチをPRM、光源10から
供給される光の基準波長をλ0 、光束L1 (1) または光
束L2 (-1)の回折格子マークRMに対する入射角をθRM
とするとき、 sin θRM=λ0 /PRM (1) の関係を満足するように設定されている。
【0046】これにより、回折格子マークRMから発生
する±1次回折光は、再びダイクロイックミラー6、対
物レンズ38、平行平面板37を通過した後、ビームス
プリッター28で反射されて、レンズ29、ビームスプ
リッター30を介して、視野絞り34に達する。この視
野絞り34は、レチクル1と共役な位置に設けられてお
り、具体的には、図3(a)の斜線で示す如く、レチク
ル1の回折格子マークRMからの回折光のみを通過させ
るように、回折格子マークRMの位置に対応して開口部
RMが設けられている。
【0047】このため、視野絞り34を通過した回折格
子マークRMからの回折光は0次回折光をカットする空
間フィルター35によりフィルタリングされて、±1次
回折光のみが光電検出器36に達し、この光電検出器3
6にてレチクル1の位置情報を含んだ光ビート信号が光
電検出される。光電検出器36から出力される信号も、
周波数f1 /2程度以下の信号を通過させるローパスフ
ィルタ回路(LPF)53cを介して位相検出系50に
供給される。
【0048】一方、上記レチクル1の透過窓P0 を通過
した光束L1 (1) 及び光束L2 (-1)の一部は、投影光学
系3を介して、ウエハ4上の回折格子マークWMを所定
の交差角を持った2方向から照明し、これにより回折格
子マークRM上には、ピッチ方向に沿って流れる干渉縞
が発生する。そして、この回折格子マークWMの法線方
向(投影光学系3の光軸方向)には、光束L1 (1) の−
1次回折光、及び光束L2 (-1)の+1次回折光がそれぞ
れ発生する。
【0049】ここで、光束L1 (1) と光束L2 (-1)とが
回折格子マークRMを2方向から照明するときの交差角
は、回折格子マークWMのピッチをPWM、光源10から
供給される光の基準波長をλ0 、光束L1 (1) または光
束L2 (-1)の回折格子マークWMに対する入射角をθWM
とするとき、 sin θWM=λ0 /PWM (2) の関係を満足するように設定されている。
【0050】これにより、回折格子マークWMから発生
する±1次回折光は、再び投影光学系3、透過窓P0
ダイクロイックミラー6、対物レンズ38、平行平面板
37を通過した後、ビームスプリッター28で反射され
て、レンズ29、ビームスプリッター30を介して、視
野絞り31に達する。この視野絞り31は、ウエハ4と
共役な位置に設けられており、具体的には、図3(b)
の斜線で示す如く、ウエハ4の回折格子マークWMから
の回折光のみを通過させるように、回折格子マークWM
の位置に対応して開口部SWMが設けられている。
【0051】このため、視野絞り31を通過した回折格
子マークWMからの回折光は0次回折光をカットする空
間フィルター32によりフィルタリングされて、±1次
回折光のみが光電検出器33に達し、この光電検出器3
3にてウエハ4の位置情報を含んだ光ビート信号が光電
検出される。光電検出器36から出力される信号も、周
波数f1 /2程度以下の信号を通過させるローパスフィ
ルタ回路(LPF)53bを介して位相検出系50に供
給される。
【0052】ここで、各空間フィルター32,35はア
ライメント光学系の瞳と略共役な位置、即ち投影光学系
3の瞳(射出瞳)と実質的に共役な位置に配置され、レ
チクル1、ウエハ4上に形成された回折格子マークR
M,WMからの0次回折光(正反射光)を遮断し、±1
次回折光(レチクル1、ウエハ4の回折格子マークに対
して垂直方向に発生する回折光)のみを通過させるよう
に設定されている。また、光電検出器33及び36は、
対物レンズ38及びレンズ29に関して、それぞれレチ
クル1及びウエハ4と略共役となるように配置されてい
る。
【0053】さて、以上にて説明したアライメント光学
系の構成により、各光電検出器25,33,36からそ
れぞれローパスフィルタ回路53a,53b,53cを
介して得られる3つの信号は、ともに同じ周波数Δf
(=2f3 =f1 −f2 )の正弦波状の光ビート信号を
含んでおり、位相差検出系50内の光ビート信号抽出部
(フーリエ変換回路)にて3つの光電信号からそれぞれ
周波数Δfの正弦波状の光ビート信号を精度良く抽出す
る。
【0054】今、位置合わせされていない状態でレチク
ル1、ウエハ4が任意の位置で停止しているとすると、
この光ビート信号は、一定の位相だけずれることにな
る。ここで、レチクル1及びウエハ4からの各光ビート
信号の位相差(±180゜)は、レチクル1及びウエハ
4上にそれぞれ形成された回折格子マークの格子ピッチ
の1/2以内の相対位置ずれ量に一義的に対応してい
る。
【0055】このため、レチクル1とウエハ4とが格子
配列方向に対して相対移動すると、相対位置ずれ量が各
回折格子マークRM,WMの格子ピッチの1/2以下の
精度でプリアライメントされ、主制御系51は、サーボ
系52により位相差検出系50で得られた位相差が0又
は所定の値となるようにレチクルステージ2又はウエハ
ステージ5を2次元移動させて位置合わせを行う。これ
により高精度で位置合わせが行われる。
【0056】また、光電検出器25により得られる参照
用の光ビート信号を基準信号として、この基準信号と各
回折格子マークRM,WMからの光ビート信号との各々
の位相差が零又は所定の値となるように位置合わせを行
っても良い。また、AOM17を駆動する駆動信号を基
準信号として利用することもできる。次に、図1に示し
た第1実施例において、互いに異なる周波数の2光束を
生成する部分についてより具体的な構成及び原理を図4
を参照しながら説明する。
【0057】図4に示す如く、白色光の光束L0 が回折
格子14に対して垂直に入射すると、回折格子14の回
折作用により、各波長毎に各次数の回折光が発生する。
このとき、回折格子14の法線方向に対する回折光の回
折角をφ1 、回折格子14のピッチをPG 、光の波長を
λ、回折光の次数をN(整数)とするとき、以下の
(3)式を満足する各次数の回折光が発生する。
【0058】sin φ1 =Nλ/PG (3) そして、集光レンズ15aを通過した所定の波長帯の各
次数の回折光は、集光レンズ15aの後側焦点位置(集
光レンズ15bの前側焦点位置)に配置された空間フィ
ルター16によってフィルタリングされ、所定の波長帯
の±1次回折光以外の光は遮蔽され、所定の波長帯の±
1次回折光L1 ,L2 のみが選択されて、集光レンズ1
5bを介してAOM17へ向かう。
【0059】ここで、空間フィルター16を通過する±
1次回折光L1 ,L2 の回折角を考えると、例えば、照
射光L0 の基準波長λ0 を633nm、光束L0 の波長
帯を(λ0 ±Δλ)(Δλは20nm)、回折格子14
のピッチを4μmとするとき、613nmの最短波長に
よる±1次回折光の回折角は(3)式より8.82゜と
なり、653nmの最長波長による±1次回折光の回折
角は、(3)式より9.40゜となる。
【0060】従って、613nm〜653nmの波長帯
の光では8.82゜〜9.40°の範囲の回折角の±1
次回折光が発生する。この様に、光の波長が異なるに伴
い回折角φ1 が変化するが、本実施例では図4に示す如
く、リレー光学系15a,15bによって回折格子14
の回折点をAOM17の超音波進行路内にリレーして、
各波長の±1次回折光をAOM17内部で集光させてい
るため、回折格子14により対称に2分割される所定の
波長帯の±1次回折光L1 ,L2 は、各波長毎に予め定
められた入射角φ2 のもとでAOM17に対し対称に入
射する。
【0061】そこで、これについて式をもって説明する
と、先ず、所定の波長域の±1次回折光L1 ,L2 は、
入射角φ2 で2方向からAOM17に入射し、このAO
M17による音響ブラッグ回折作用を受ける。AOM1
7は、所定の波長域の1次回折光L1 の+1次回折光L
1 (1) の回折角と、所定の波長域の−1次回折光L2
−1次回折光L2 (-1)の回折角とが共に2φ2 (入射角
φ2 の2倍)となる周波数f1 の高周波信号SF1 、及
び周波数f1 とほぼ同じ周波数f2 の高周波信号SF2
によりドライブされている。
【0062】今、AOM17のブラッグ回折による回折
角をθb1(=2φ2 )とし、AOM17内を横切る合成
された超音波(進行波)の速度をv、高周波信号S
1 ,SF2 の周波数をf1 ,f2 、光の波長をλとす
ると、AOM17内を横切る超音波(進行波)の波長Λ
1 及び回折角θb1について、それぞれ次の(4)式、
(5)式の関係が成立する。
【0063】 Λ=v/f (f=(f1 +f2 )/2) (4) sin θb1=λ/Λ (5) よって、(4)式及び(5)式より、AOM17による
回折角θb (=2φ2)は、最終的に次式の如くなる。 sin θb1=f・λ/v(又は、sin2φ2 =f・λ/v) (6) 従って、所定の波長域の+1次回折光L1 (1) 及び所定
の波長域の−1次回折光L2 (-1)は、各波長毎に、
(6)式を満足する回折角を持ってAOM17を対称に
射出する。
【0064】なお、リレー光学系15a,15bの倍率
をβ1 とし、リレー光学系15a,15bが正弦条件を
満足しているとすると、次の関係が成立する。 β1 =sin φ1 /sin φ2 ≒2sin φ1 /sin(2φ2 ) (7) (3)式、(6)式及び(7)式より以下の(8)式が
導出される。 β1 =(2v)/(PG・f) (8) よって、リレー光学系15a,15bは、上の(8)式
を満足するように構成することが望ましい。
【0065】図1に戻り、本実施例では、所定の波長域
を持つ周波数F1 の+1次回折光(光束)L1 (1) と、
所定の波長域を持つ周波数F2 の−1次回折光(光束)
2(-1)とを各回折格子24,RM,WMに対して各波
長の光毎に異なる入射角のもとで対称に照射できるた
め、各回折格子24,RM,WMの垂直方向には各波長
域の±1次回折光を常に発生させることができ、その結
果、各波長の±1次回折光により所定の周波数Δf(=
|F1 −F2 |=|f1 −f2 |)を含む光ビート光を
生成することができる。従って、所定の周波数Δf(=
|F1 −F2 |=|f1 −f2 |)を含む多波長のビー
ト光を各光電検出器25,33,36にてそれぞれ光電
検出(各回折格子の位置情報を含んだビート光を各波長
毎に複数検出)できる。その結果、各波長のビート光に
よる平均化効果により各回折格子マークの非対称性を影
響を抑えつつ、多波長光によるフォトレジスト層の薄膜
干渉の影響(光量変化等の影響)を解消でき、ヘテロダ
イン干渉法による高精度なアライメントが達成できる。
【0066】しかも、回折格子14(光束分割手段)に
よって入射方向(光軸方向)に対して対称に分割された
白色光(多波長光)は、リレー光学系15a,15b及
びAOM17を対称かつ並列的に進行するので、分割光
束間には光路長差が原理的に発生しない。このため、分
割光束間の波面は位相差が0の状態で揃っているため、
高精度なアライメントが可能となるばかりか、調整容易
でコンパクトな装置が実現できる。
【0067】ところで、第1実施例においては、AOM
17から対称に射出される光変調を受けた±1次回折光
1 (1) ,L2 (-1)をアライメント用の光束として利用
し、この±1次回折光L1 (1) ,L2 (-1)を各回折格子
24,RM,WMに対して2方向から照射することによ
り発生する所定の周波数Δf(=|f1 −f2 |)のビ
ート光の信号を、各光電検出器25,33,36及び位
相差検出系50内の光ビート信号抽出部(フーリエ変換
回路)を介して抽出し、この抽出信号をアライメント用
としているが、これは以下に述べる理由による。
【0068】本実施例においては、図6(a)及び
(b)に示す如く、AOM17の光変調によって+1次
回折光L1 (1) の光路A上には光束L2 の0次回折光L
2 (0) が混入し、−1次回折光L2 (-1)の光路B上には
光束L1 の0次回折光L1 (0) が混入してしまう。この
とき、光束L1 の0次回折光L1 (0) 及び光束L2 の0
次回折光L2 (0) はともに各波長において周波数変調を
受けることなく、それぞれ周波数f0 を有する。
【0069】このため、光路Aでは周波数(f0
3 )の1次回折光L1 (1) とf0 の周波数の0次回折
光L2 (0) とが混在し、光路Bでは周波数(f0
3 )の−1次回折光L2 (-1)とf0 の周波数の0次回
折光L1 (0) とが混在するので、これらが各回折格子2
4,RM,WMを2方向から照射することにより、各回
折格子24,RM,WMの垂直方向には、様々なビート
周波数を持つビート光が生成される。そして、様々なビ
ート周波数を持つビート光を単に各光電検出器25,3
3,36にて光電変換した信号に基づいてアライメント
を行うと、様々なビート周波数の信号がノイズ信号とな
り、検出精度に悪影響を及ぼすばかりか、さらにはアラ
イメントができない問題が生ずる。
【0070】そこで、まずAOM17の光変調により生
成される様々なビート周波数を持つビート光について検
討する。各回折光の周波数を整理して示すと、光路Aに
おいては、 1次回折光L1 (1) の周波数:f0 +f3 (9) 0次回折光L2 (0) の周波数:f0 (10) となる。同様に、光路Bにおいては、 −1次回折光L2 (-1)の周波数:f0 −f3 (11) 0次回折光L1 (0) の周波数:f0 (12) となる。
【0071】このため、光路Aを進行する各回折光と光
路Bを進行する各回折光との組合せにより生成されるビ
ート光の各周波数は、次のようになる。即ち、(9)式
と(11)式との差の絶対値より、 |(f0 +f3 )−(f0 −f3 )|=|2f3 | (13) (9)式と(12)式との差の絶対値より、 |(f0 +f3 )−f0 |=|f3 | (14) (10)式と(11)式との差の絶対値より、 |f0 −(f0 −f3 )|=|f3 | (15) (9)式と(11)式との差の絶対値より、 |f0 −f0 |=0 (16) となる。
【0072】このように各光電検出器25,33,36
にて光電検出されるビート光には、(13)式〜(1
5)式の3つのビート周波数が混在する。なお、(1
6)式についての回折光の組合せは、各光電検出器2
5,33,36にて光電検出されると、直流成分(DC
成分)となり、これが検出精度に悪影響を及ぼす際に
は、位相差検出系50内の光ビート信号抽出部にてフー
リエ変換したときに除去しても良く、さらには別の電気
的なフィルタ手段によって直流成分を除去しても良い。
【0073】従って、アライメント用のビート周波数と
して利用できるのは、これらのビート周波数のうちで共
通するビート周波数が存在しないものであるため、本実
施例においては、光束L1 (1) と光束L2 (-1)との組合
せによって生成される唯一1つしかない|f1 −f2
(=2f3 )のビート周波数の信号を位相差検出系50
内の光ビート信号抽出部(フーリエ変換回路)にて抽出
している。
【0074】これによって、各種のビート周波数を持つ
ビート光が各光電検出器25,33,36にて光電検出
されても、光ビート信号抽出部(フーリエ変換回路)に
より抽出された所定のビート周波数(|f1 −f2 |)
の信号に基づいて、ヘテロダイン干渉法による高精度な
アライメントが達成できる。次に、本実施例で使用され
るAOM17の具体的な構成、及び変形例の構成につき
図7〜図11を参照して説明する。
【0075】図7は、図1中で使用されているAOM1
7を示し、この図7において、音響光学媒体41Aの一
方の側面に電極板42A、超音波発生用のトランスデュ
ーサ43A、電極板44A、及び吸音材46Bが順次固
定され、電極板42A及び44Aの間に高周波電源45
Aから周波数f1 の駆動信号が供給され、これにより進
行波47Aが形成される。また、音響光学媒体41Aの
他方の側面に電極板42B、超音波発生用のトランスデ
ューサ43B、電極板44B、及び吸音材46Aが順次
固定され、電極板42B及び44Bの間に高周波電源4
5Bから周波数f2 の駆動信号が供給され、これにより
進行波47Bが形成される。吸音材46A及び46B
は、それぞれ対向するトランスデューサ43A及び43
Bからの超音波(進行波)を吸収して、反射波の発生を
防止する役割を果たす。
【0076】この場合、音響光学媒体41Aとしては、
通常のガラスの他に、2酸化テルル(TeO2)の単結
晶、水晶、石英、モリブデン酸鉛単結晶等が使用でき
る。また、吸音材46A,46Bとしては、音響インピ
ーダンスが音響光学媒体41Aのそれと近く、且つ音波
を吸収し易い材料が使用できる。音響インピーダンスと
は、密度と音速との積である。具体的に、吸音材46
A,46Bとしては、鉛、又はアルミニウム等の金属膜
が使用できる。また、トランスデューサ43A,43B
としては、リチウムナイオベイト(LiNbO3)の単結
晶、LiIO3 の単結晶、Ba3 NaNb5 15の単結
晶等が使用できる。
【0077】また、トランスデューサ43A及び43B
により挟まれた領域が1つの幅D1の超音波作用領域4
8Aを形成しており、(A6)式から分かるように、超
音波作用領域48A内に周波数f3(=(f1 −f2)/
2)の進行波が形成される。従って、光束L1 は、実際
にはその周波数f3 の進行波により回折されて+1次回
折光(光束)L1(1)となるが、概念的には、光束L1
の光束L1Aの進行波47Aによる+1次回折光L1A(1)
、及び光束L1Bの進行波47Bによる+1次回折光L
1B(1) の混合波が光束L1(1)を形成するものとみなすこ
とができる。同様に、光束L1 と対称に入射する光束L
2 については、周波数f3 の進行波による−1次回折光
が光束L2 (-1)となるが、概念的には光束L2 中の進行
波47Aによる−1次回折光、及び進行波47Bによる
−1次回折光の混合波が光束L2 (-1)を形成するものと
みなすことができる。そして、光束L1(1)の変調周波数
はf3であり、光束L2 の変調周波数は−f3 である。
一例として、トランスデューサの駆動周波数f1 は50
MHz程度、駆動周波数f2 は(50MHz+数10k
Hz)程度であり、ビート周波数である2・f3 は、数
10kHzである。
【0078】更にこの場合、光束L1 の0次光L1(0)の
光束L2 (-1)に対する混入、及び光束L2 の0次光L
2(0)の光束L1(1)に対する混入を防ぐために、超音波4
7A,47Bの進行方向と入射する2光束L1 ,L2
張る平面とは非平行にしておく。これにより、0次光L
1(0)及びL2(0)は、図1の空間フィルター19により完
全に除去できる。
【0079】次に、図8は、音響光学変調素子の第1の
変形例を示し、この図8において、音響光学媒体41B
の一方の側面に、吸音材46D及び電極板に挟まれたト
ランスデューサ43Cが被着され、音響光学媒体41B
の他方の側面に吸音材46D及びトランスデューサ43
Cに対向するように、それぞれ電極板に挟まれたトラン
スデューサ43D及び吸音材46Cが被着され、トラン
スデューサ43C及び43Dにそれぞれ高周波電源45
C及び45Dから周波数f1 及びf2 の駆動信号が供給
されている。この場合、トランスデューサ43C及び4
3Dから逆方向に並列に供給される進行波47C及び4
7Dにより共通の幅D2の超音波作用領域48Bが形成
される。
【0080】この超音波作用領域48B内に周波数f
3(=(f1 −f2)/2)の合成の進行波が形成される。
従って、光束L1 は、実際にはその周波数f3 の進行波
により回折されて+1次回折光(光束)L1(1)となる
が、概念的には、光束L1 中の光束L1Cの進行波47C
による+1次回折光L1C(1) 、及び光束L1Dの進行波4
7Dによる+1次回折光L1D(-1)の混合波が光束L1(1)
を形成するものとみなすことができる。同様に、光束L
1 と対称に入射する光束L2 については、周波数f 3
進行波による−1次回折光が光束L2 (-1)となるが、概
念的には光束L2 中の進行波47Cによる−1次回折
光、及び進行波47Dによる−1次回折光の混合波が光
束L2 (-1)を形成するものとみなすことができる。
【0081】図8の例では、進行波47C及び47Dが
殆ど重なることなく、トランスデューサ43C及び43
Dに対してそれぞれ吸音材46C及び46Dが対向して
配置されているため、図7の例よりも反射波の発生がよ
り確実に防止できる。なお、以下に示す変形例のよう
に、互いに逆方向に進行波を発生するトランスデューサ
を3個以上配置してもよい。図9は、音響光学変調素子
の第2の変形例を示し、この図9において、音響光学媒
体41Cの一方の側面に、吸音材46F、電極板に挟ま
れたトランスデューサ43E、吸音材46H、電極板に
挟まれたトランスデューサ43Gが順次被着され、これ
らに対向するように音響光学媒体41Bの他方の側面に
順次、電極板に挟まれたトランスデューサ43F、吸音
材46E、電極板に挟まれたトランスデューサ43H、
吸音材46Gが被着され、トランスデューサ43E,4
3Gにそれぞれ高周波電源45E及び45Gから周波数
1 の駆動信号が供給され、トランスデューサ43F及
び43Hにそれぞれ高周波電源45F及び45Hから周
波数f2 の駆動信号が供給されている。この場合、トラ
ンスデューサ43E,43Gから供給される進行波、及
びトランスデューサ43F,43Hから逆方向に供給さ
れる進行波により共通の幅D3の超音波作用領域48C
が形成される。
【0082】この超音波作用領域48C内に周波数f
3(=(f1 −f2)/2)の合成の進行波が形成される。
従って、光束L1 は、実際にはその周波数f3 の進行波
により回折されて+1次回折光(光束)L1(1)となる
が、概念的には、光束L1 中の周波数f1 の進行波によ
る+1次回折光、及び周波数f2 の進行波による+1次
回折光の混合波が光束L1(1)を形成するものとみなすこ
とができる。光束L1 と対称に入射する光束(不図示)
についても同様である。
【0083】次に、以下に示す変形例のように1つの超
音波作用領域は複数の音響光学媒体に跨ってもよい。図
10は、音響光学変調素子の第4の変形例を示し、この
図10において、第1の音響光学媒体41Dの側面に対
向するように吸音材46A、及び電極板に挟まれたトラ
ンスデューサ49Aが固定され、第2の音響光学媒体4
1Eの側面に対向するように吸音材46B、及び電極板
に挟まれたトランスデューサ49Bが固定されている。
トランスデューサ49Aと吸音材46Bとが隣接するよ
うに配置され、トランスデューサ49A及び49Bにそ
れぞれ高周波電源から周波数f1 及びf2 の駆動信号が
供給されている。この場合、第1の音響光学媒体41D
内でトランスデューサ49Aから供給される進行波47
A、及び第2の音響光学媒体41E内でトランスデュー
サ49Bから逆方向に供給される進行波47Bにより共
通の幅D4の超音波作用領域48Dが形成される。
【0084】この超音波作用領域48D内に実質的に周
波数f3(=(f1 −f2)/2)の合成の進行波が形成さ
れる。従って、光束L1 は、実際にはその周波数f3
進行波により回折されて+1次回折光(光束)L1(1)と
なるが、概念的には、光束L 1 中の光束L1Aの進行波4
7Aによる+1次回折光L1A(1) 、及び光束L1Bの進行
波47Bによる+1次回折光L1B(1) の混合波が光束L
1(1)を形成するものとみなすことができる。光束L1
対称に入射する光束(不図示)についても同様である。
【0085】なお、以下に示す変形例のように、互いに
逆方向に進行波が進む音響光学媒体を交互に3個以上配
置してもよい。図11は、音響光学変調素子の第4の変
形例を示し、この図11において、音響光学媒体41F
にトランスデューサ49Cから周波数f1 の進行波が供
給され、それに続く音響光学媒体41Gにトランスデュ
ーサ49Dから逆方向に周波数f2 の進行波が供給さ
れ、その次の音響光学媒体41Hにトランスデューサ4
9Eから逆方向に周波数f1 の進行波が供給され、それ
に続く音響光学媒体41Iにトランスデューサ49Fか
ら逆方向に周波数f2 の進行波が供給されている。この
場合、音響光学媒体41F〜41I内を通過する進行波
により共通の幅D5の超音波作用領域48Eが形成され
る。
【0086】この超音波作用領域48E内に周波数f
3(=(f1 −f2)/2)の合成の進行波が形成される。
従って、光束L1 は、実際にはその周波数f3 の進行波
により回折されて+1次回折光(光束)L1(1)となる
が、概念的には、光束L1 中の周波数f1 の進行波によ
る+1次回折光、及び周波数f2 の進行波による+1次
回折光の混合波が光束L1(1)を形成するものとみなすこ
とができる。光束L1 と対称に入射する光束(不図示)
についても同様である。
【0087】この場合、複数個の音響光学媒体41F〜
41Iは材質が異なっていてもかまわないが、各音響光
学媒体内の超音波の波長は全て等しいことが望ましい。
材質が異なっていて音速が違う場合でも、超音波の速度
v及び周波数fを用いて波長Λ=v/fとなるため、超
音波の周波数fを変えることにより超音波の波長Λを等
しくすることが可能である。このように分離した複数の
音響光学媒体による回折は一つの超音波作用領域48E
内で生じると考えられるので、回折効率は1個の音響光
学媒体を有する場合と等しい。また、互いに逆向きに超
音波が進む音響光学媒体の2つの方向毎の個数は違って
も構わない。但し、(A9)式で示す和Σより、それら
の2つの方向での各々の総和の値がそれぞれΣ/2とな
ることが望ましい。
【0088】次に、本発明の第2実施例につき図12を
参照して説明する。本実施例も、投影露光装置のヘテロ
ダイン干渉型のアライメント系に本発明を適用したもの
であり、図12において図1に対応する部分には同一符
号を付してその詳細説明を省略する。但し、本実施例は
ラマン−ナス回折領域で音響光学変調素子を使用する例
である。
【0089】図12は、本実施例の投影露光装置を示
し、この図12のアライメント光学系において、露光光
とは異なる波長帯の光を供給する白色光源10からの白
色光は、口径可変な可変絞り11及びコンデンサーレン
ズ12を介することにより平行な光束L0 に変換された
後、所定の波長域の光を抽出するバンドパスフィルター
13を介してAOM17にほぼ垂直に入射する。
【0090】AOM17は、それぞれ周波数f1 及びf
2 (f1 >f2 とする)の高周波信号SF1 及びSF2
で逆方向から駆動されており、所定の波長域の光束L0
はAOM17によりラマン−ナス(Raman-Nath)回折作
用を受ける。以下では、回折光の次数は高周波信号SF
1 による進行波の進行方向を基準にして考える。ここ
で、所定の波長域の光束L0 の周波数(中心周波数)を
0 とすると、光束L0 の+1次回折光L1 (1) (以
下、「光束L1 (1) 」と称する。)は、AOM17によ
り(f0 +f3 )(但し、f3 =(f1 −f2 )/2)
の周波数変調を受け、光束L0 の−1次回折光L2 (-1)
(以下、「光束L2 (-1)」と称する。)は、AOM17
により(f0 −f3 )の周波数変調を受ける。
【0091】その後、光束L1 (1) 及び光束L2 (-1)
は、レンズ18a、反射ミラー20、レンズ18b、レ
ンズ21を介し、ビームスプリッター22によりそれぞ
れ2分割される。なお、レンズ18aとレンズ18bと
で構成されるリレー光学系の間には、光束L1 (1) と光
束L2 (-1)とを抽出するための空間フィルター19が設
けられている。そして、AOM17からは0次光及び高
次回折光も発生するが、これらは空間フィルター19に
より阻止される。その他の構成は図1の実施例と同様で
あるため、ここでは説明を省略する。
【0092】次に、第2実施例において、互いに異なる
周波数の2光束を生成する部分についてより具体的な構
成及び原理を図5を参照しながら説明する。図5に示す
如く、白色光の光束L0 がAOM17に対して垂直に入
射すると、AOM17のラマン−ナス回折作用により、
各波長毎に各次数の回折光が発生する。このとき、AO
M17の法線方向に対する回折光の回折角をφ2 、AO
M17内の進行波の波長をΛG 、その進行波の速度を
v、光の波長をλ、回折光の次数を1次とするとき、以
下の関係が成立する。
【0093】 ΛG =v/f (f=(f1+f2)/2) (17) sin φ2 =λ/ΛG (18) 従って、この(18)式で定まる回折角φ2 が(6)式
における回折角θb1の1/2に合致すれば、図1の光学
系はそのまま図12でも使用できることになる。
【0094】また、図12のAOM17としても、図7
〜図11の何れの構成のAOMでも使用できる。図12
の例によれば、図1の回折格子14等を省くことがで
き、構成が簡略化できる。次に、図15を参照して本発
明の第3実施例につき説明する。本実施例で使用する投
影露光装置は図1の投影露光装置とほぼ同じであるが、
図1のAOM17が図15のAOM17Aにより置き換
えられている。
【0095】図15は、本実施例のAOM(音響光学変
調素子)17Aを示し、この図15において、音響光学
媒体41Jの一方の側面に、吸音材46I及び46Jが
被着され、音響光学媒体41Jの他方の側面に吸音材4
6I及び46Jに対向するように、電極板42I,44
Iに挟まれたトランスデューサ43I、及び電極板42
J,44Jに挟まれたトランスデューサ43Jが被着さ
れ、トランスデューサ43I及び43Jにそれぞれ高周
波電源45I及び45Jから周波数f1 及びf 2 の駆動
信号が供給されている。この場合、トランスデューサ4
3I及び43Jから音響光学媒体41Jに対して同一方
向に並列に進行波47I及び47Jが供給され、進行波
47Iによる幅D6の超音波作用領域48Fと、進行波
47Jによる幅D6の超音波作用領域48Gとが独立に
形成される。
【0096】そして、超音波作用領域48F内には周波
数f1 の進行波が形成され、超音波作用領域48G内に
は周波数f2 の進行波が形成される。従って、光束L1
は、先ず超音波作用領域48F内で回折(+1次の回
折)されて周波数f1 の変調を受けて光束L1Iとして超
音波作用領域48Gに入射する。光束L1Iは、超音波作
用領域48G内で−1次の回折により周波数−f2 の変
調を受けて光束L1Jとして射出される。従って、光束L
1Jは、(f1 −f2)の周波数変調を受けている。
【0097】同様に、他方の光束L2 は、先ず超音波作
用領域48F内で回折(−1次の回折)されて周波数−
1 の変調を受けて光束L2Iとして超音波作用領域48
Gに入射する。光束L2Iは、超音波作用領域48G内で
+1次の回折により周波数f 2 の変調を受けて光束L2J
として射出される。従って、光束L2Jは、−(f1 −f
2)の周波数変調を受けている。結果として、射出される
光束L2Iと光束L2Jとの間のビート周波数は2(f1
2)となり、周波数のビートダウンが行われている。但
し、図15で得られるビート周波数は図7で得られるビ
ート周波数の2倍となっている。
【0098】なお、図15では1個の音響光学媒体41
J内に並列に2個の超音波作用領域48F,48Gが形
成されているが、隣接する複数の音響光学媒体内にそれ
ぞれ独立に同一方向に進行波が進む超音波作用領域を形
成してもよい。その際、図15で各々回折される光には
0次光が混入する場合もあるので、その際には各々の複
数の音響光学媒体を光軸回りに回転して回折光のみを選
択する空間フィルターを設けるとよい。ところで、上述
の第1実施例(図1)では、光源手段(10〜12)か
ら供給される白色光(多波長光)を光束分割手段として
の回折格子14によって入射方向(光軸方向)に対して
対称に分割しているが、回折格子14とは別の光束分割
手段として、例えば、図14に示すごときウオラストン
プリズム140を用いても良い。更に、図13に示すよ
うに、複数の単色光源100〜102から射出される波
長λ1 〜λ3 の光束を反射型回折格子103を用いて同
軸に合成して光束L0 とし、この光束L0 を図1の白色
光源から射出される光束L0 の代わりに使用してもよ
い。
【0099】また、図1及び図12に示した各実施例と
も、各光電検出器25,33,36により光電検出され
る信号から、位相差検出系50内部の光ビート信号抽出
部にて所定の周波数のビート信号が抽出されているが、
各光電検出器25,33,36と位相差検出系50との
間の電気的な経路間に、光ビート信号抽出部(フーリエ
変換回路)をそれぞれ配置し、各光電検出器25,3
3,36から出力される光電信号をそれぞれ独立にフー
リエ変換しても良い。
【0100】なお、本発明は上述実施例に限定されず、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
ことは勿論である。
【0101】
【発明の効果】本発明の第1の位置検出装置によれば、
必要に応じて白色光(多波長光)による光ビート信号が
得られるため、各波長の光ビート信号、即ち複数の光ビ
ート信号による平均化効果によって、各回折格子状マー
クの非対称性による悪影響を抑えることができる。しか
も、白色光(多波長光)により被検面上の回折格子マー
クを照射しているため、フォトレジスト層等の薄膜干渉
の影響を解消しながら、ヘテロダイン干渉法による高精
度な位置検出が達成できる。
【0102】更に、白色光(多波長光)は2光束生成手
段により入射方向に対して対称に分割された後、各光学
系を光軸に対して対称かつ並列的に進行するため、分割
光束間には光路長差が原理的に発生しない。このため、
分割光束間の波面が揃っているため、高精度な位置合わ
せが可能となるばかりか、調整容易でコンパクトな装置
が実現できる。
【0103】更に、1個の超音波作用領域内に逆向きの
超音波を供給しているため、1個の音響光学変調素子を
使用するという簡単な構成で、ビートダウンされた低い
周波数の光ビート信号を得ることができる。また、周波
数のビートダウンの過程でリレー光学系を使用する必要
がないため、また超音波作用領域が1つであるため、位
置検出用の光束の利用効率が高い利点がある。
【0104】この場合、超音波作用領域が複数の音響光
学媒体に跨ると、各音響光学媒体内でそれぞれ反射波の
発生が確実に防止される。また、本発明の第1及び第2
の音響光学変調素子によれば、簡単な構成で周波数のず
れ量の小さい2光束を得ることができる。また、第2の
音響光学変調素子においては、音響光学媒体内の反射波
の発生が確実に防止できる。
【0105】また、本発明の第2の位置検出装置によれ
ば、光学系の調整が容易で複数波長の光を使用できると
いう特徴が維持されている。且つ、隣接する2つの超音
波作用領域に同一方向に超音波を供給するという簡単な
構成で低い周波数のビート信号を得ることができると共
に、周波数のビートダウンの過程でリレー光学系が使用
されないため、位置検出用の光の利用効率が高い利点が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第1実施例の投影露光装置の概略
構成を示す構成図である。
【図2】各回折格子マークを示す拡大平面図である。
【図3】アライメント光学系内に設けられた各視野絞り
を示す拡大平面図である。
【図4】第1実施例における2光束生成部(互いに異な
る周波数の2光束を生成する部分)の構成を示す図であ
る。
【図5】音響光学変調素子によるラマン−ナス回折の原
理の説明図である。
【図6】第1実施例の音響光学変調素子によりノイズ光
が生成される様子を示す図である。
【図7】第1実施例で使用されるの音響光学変調素子を
示す構成図である。
【図8】音響光学変調素子の第1の変形例を示す構成図
である。
【図9】音響光学変調素子の第2の変形例を示す構成図
である。
【図10】音響光学変調素子の第3の変形例を示す構成
図である。
【図11】音響光学変調素子の第4の変形例を示す構成
図である。
【図12】本発明の第2実施例の投影露光装置の概略構
成を示す構成図である。
【図13】互いに異なる波長の光を射出する複数の光源
とブレーズド型の反射型回折格子とによって光源手段を
構成した例を示す図である。
【図14】光束分割手段をウオラストンプリズムで構成
した例を示す図である。
【図15】本発明の第3実施例で使用される音響光学変
調素子を示す構成図である。
【符号の説明】
1 レチクル 3 投影光学系 4 ウエハ RM,WM 回折格子マーク 10 白色光源 11 可変絞り 12 コンデンサーレンズ 13 バンドパスフィルター 14 回折格子 15a,15b 第1リレー光学系 17,17A 音響光学変調素子(AOM) 18a,18b 第2リレー光学系 16,19 空間フィルター 38 対物レンズ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに周波数が異なる2光束を生成する
    2光束生成手段と、前記2光束生成手段からの2光束を
    集光して該2光束を被検物体上に形成された回折格子状
    マークに対して所定の2方向から照射する対物光学系
    と、前記回折格子状マークから発生する複数の回折光よ
    りなる干渉光を光電的に検出する光電検出器とを有し、
    該光電検出器の検出信号に基づいて前記被検物体の位置
    を検出する位置検出装置において、 前記2光束生成手段は、複数波長の光を含む光束又は単
    一波長の光束を供給する光源手段と、該光源手段からの
    光束を分割して互いに周波数が異なる2光束を生成する
    音響光学変調素子とを備え、 該音響光学変調素子の所定の超音波作用領域内に、互い
    に逆向きに進行する周波数の異なる超音波が供給される
    ことを特徴とする位置検出装置。
  2. 【請求項2】 前記音響光学変調素子の所定の超音波作
    用領域は、隣接して配置された複数個の音響光学媒体に
    跨り、該複数個の音響光学媒体内にそれぞれ交互に逆向
    きに進行する超音波が供給されることを特徴とする請求
    項1記載の位置検出装置。
  3. 【請求項3】 入射する光束を分割して互いに周波数が
    異なる2光束を生成する音響光学変調素子において、 音響光学媒体と、該音響光学媒体内に互いに逆向きに進
    行する周波数の異なる超音波を供給する超音波発生手段
    とを有し、 前記逆向きに進行する周波数の異なる超音波は、前記音
    響光学媒体内の共通の超音波作用領域に内に存在するこ
    とを特徴とする音響光学変調素子。
  4. 【請求項4】 入射する光束を分割して互いに周波数が
    異なる2光束を生成する音響光学変調素子において、 隣接して配置された複数個の音響光学媒体と、該複数個
    の音響光学媒体内にそれぞれ交互に逆向きに進行する周
    波数の異なる超音波を供給する超音波発生手段とを有
    し、 前記複数個の音響光学媒体が共通の超音波作用領域を形
    成することを特徴とする音響光学変調素子。
  5. 【請求項5】 互いに周波数が異なる2光束を生成する
    2光束生成手段と、前記2光束生成手段からの2光束を
    集光して該2光束を被検物体上に形成された回折格子状
    マークに対して所定の2方向から照射する対物光学系
    と、前記回折格子状マークから発生する複数の回折光よ
    りなる干渉光を光電的に検出する光電検出器とを有し、
    該光電検出器の検出信号に基づいて前記被検物体の位置
    を検出する位置検出装置において、 前記2光束生成手段は、複数波長の光を含む光束又は単
    一波長の光束を供給する光源手段と、該光源手段からの
    光束を分割して互いに周波数が異なる2光束を生成する
    音響光学変調素子とを備え、 該音響光学変調素子内の隣接する2つの超音波作用領域
    内に、互いに同一方向に進行する周波数の異なる超音波
    が供給されることを特徴とする位置検出装置。
JP6126364A 1994-06-08 1994-06-08 位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子 Withdrawn JPH07335526A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6126364A JPH07335526A (ja) 1994-06-08 1994-06-08 位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子
KR1019950014600A KR960002513A (ko) 1994-06-08 1995-06-02 위치 검출 장치 및 이 장치를 사용한 음향 광학 변조 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6126364A JPH07335526A (ja) 1994-06-08 1994-06-08 位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07335526A true JPH07335526A (ja) 1995-12-22

Family

ID=14933362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6126364A Withdrawn JPH07335526A (ja) 1994-06-08 1994-06-08 位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH07335526A (ja)
KR (1) KR960002513A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010503001A (ja) * 2006-09-12 2010-01-28 ユーシーエル ビジネス ピーエルシー イメージング装置及び方法
CN102305601A (zh) * 2011-05-18 2012-01-04 天津大学 光学自由曲面三维形貌高精度非接触测量方法及装置
WO2014057998A1 (ja) * 2012-10-12 2014-04-17 株式会社ニコン 照明装置及び顕微鏡、並びに照明方法及び観察方法
US9069227B2 (en) 2011-04-20 2015-06-30 Ucl Business Plc Methods and apparatus to control acousto-optic deflectors
US9341919B2 (en) 2010-04-21 2016-05-17 Ucl Business Plc Methods and apparatus for controling drive frequencies of acousto-optic deflectors
JP2016518609A (ja) * 2013-05-07 2016-06-23 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. アライメントセンサ、リソグラフィ装置およびアライメント方法
EP2629133A4 (en) * 2010-10-14 2017-12-13 Nikon Corporation Structured illumination device, structured illumination microscope device, and surface shape measurement device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100926034B1 (ko) * 2007-10-30 2009-11-11 한국과학기술원 음향광학변조필터를 이용한 듀얼모드 분광 이미징 방법, 그시스템 및 이를 이용한 광학기기

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010503001A (ja) * 2006-09-12 2010-01-28 ユーシーエル ビジネス ピーエルシー イメージング装置及び方法
US8294977B2 (en) 2006-09-12 2012-10-23 Ucl Business Plc Imaging apparatus and methods
US8687268B2 (en) 2006-09-12 2014-04-01 Ucl Business Plc Imaging apparatus and methods
US9104087B2 (en) 2006-09-12 2015-08-11 Ucl Business Plc Imaging apparatus and methods
US9341919B2 (en) 2010-04-21 2016-05-17 Ucl Business Plc Methods and apparatus for controling drive frequencies of acousto-optic deflectors
EP2629133A4 (en) * 2010-10-14 2017-12-13 Nikon Corporation Structured illumination device, structured illumination microscope device, and surface shape measurement device
US9069227B2 (en) 2011-04-20 2015-06-30 Ucl Business Plc Methods and apparatus to control acousto-optic deflectors
CN102305601A (zh) * 2011-05-18 2012-01-04 天津大学 光学自由曲面三维形貌高精度非接触测量方法及装置
WO2014057998A1 (ja) * 2012-10-12 2014-04-17 株式会社ニコン 照明装置及び顕微鏡、並びに照明方法及び観察方法
JP5958779B2 (ja) * 2012-10-12 2016-08-02 株式会社ニコン 顕微鏡及び観察方法
JP2016518609A (ja) * 2013-05-07 2016-06-23 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. アライメントセンサ、リソグラフィ装置およびアライメント方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR960002513A (ko) 1996-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2658051B2 (ja) 位置合わせ装置,該装置を用いた投影露光装置及び投影露光方法
EP0581118B1 (en) Light source for a heterodyne interferometer
US5801389A (en) Acousto-optic modulator, position detector using it, and projection exposure apparatus
JPH047814A (ja) 位置合わせ方法及び装置
JPH07208923A (ja) 位置ずれ検出装置
JPH07335526A (ja) 位置検出装置及び該装置に使用される音響光学変調素子
JP2001267211A (ja) 位置検出方法及び装置、並びに前記位置検出方法を用いた露光方法及び装置
JP3506156B2 (ja) 位置検出装置、露光装置、及び露光方法
JP2808619B2 (ja) 位置合わせ装置,露光装置及び素子製造方法
EP0823667A2 (en) Alignment apparatus and exposure apparatus equipped with same
JP3550605B2 (ja) 位置検出方法、それを用いた露光方法、その露光方法を用いた半導体素子、液晶表示素子又は薄膜磁気ヘッドの製造方法、及び位置検出装置、それを備えた露光装置
JP3339591B2 (ja) 位置検出装置
JPH1050580A (ja) 位置検出装置及び該装置を備えた露光装置
JP3893691B2 (ja) 結像光学系
JPH08124830A (ja) 投影露光装置
JPH06241727A (ja) 位置検出装置
JPH06137814A (ja) 微小変位測定方法およびその装置
JPH0682215A (ja) 位置検出装置
JPH06342748A (ja) 位置検出装置
JPH1050579A (ja) 位置検出装置及び該装置を備えた露光装置
JPH1012530A (ja) アライメント装置
JPH10116770A (ja) 位置検出方法及び装置
JPH06310404A (ja) 投影露光装置
JP2691298B2 (ja) 位置合わせ装置およびそれを備えた露光装置
JPS61290306A (ja) 位置検知方法及びこの方法を用いた露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20010904