JP3893691B2 - 結像光学系 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は顕微鏡対物光学系や半導体製造装置の投影光学系等に用いられる結像光学系に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、この種の結像光学系の解像度を上げる1つの方法として、微分干渉法が広く知られている。この微分干渉法は、図9に示すように構成されている。図9において、光源30を出た光は、第1偏光板31を通って直線偏光の光41となる。光41は偏光分離器としての第1のウォラストンプリズム32に入射し、この第1のウォラストンプリズム32の複屈折作用によって、電場の振動面が互いに直交する常光線42と異常光線43との2つの光束に分離される。図9では、常光線42は電場の振動面が紙面内にあるP偏光であり、異常光線43は電場の振動面が紙面に垂直な面内にあるS偏光であるものとして表示している。
【0003】
このとき、常光線42(P偏光)と異常光線43(S偏光)は、互いにある角度を持って広がっていき、この広がりの中心32aに前側焦点を一致させたコンデンサレンズ33を置くことにより、このコンデンサレンズ33を通過した常光線42と異常光線43の波面が互いに平行になり、試料34の互いにシェアー量だけずれた点を照明する。試料34に入射した常光線42と異常光線43は、試料34を透過する際に回折され、それぞれ常光線42の回折光44と異常光線43の回折光45になって対物レンズ前群35に入射し、対物レンズ前群35を透過して、偏向合成器としての第2のウォラストンプリズム36に入射する。対物レンズ前群35の後側焦点位置は、第2のウォラストンプリズム36の常光線44と異常光線45との収束の中心36aに配置されており、且つ、第2のウォラストンプリズム36の常光線44と異常光線45の合成方向は、第1のウォラストンプリズム32の常光線42と異常光線43の分離方向と平行に配置されている。この結果、第2のウォラストンプリズム36に入射した常光線44と異常光線45は、それぞれの波面が再び重なり合い、光46となる。光46は位相変換器としての1/2波長板37に入射し、1/2波長板37によって光46に含まれるP偏光成分とS偏光成分とは互いに180度の位相差がつけられ、光47となる。光47は第2偏光板38に入射し、第2偏光板38によって第2偏光板38の透過軸方向の成分のみが取り出されて可干渉となり、対物レンズ後群39を透過して、像面40上に微分干渉した干渉縞が結像される。
【0004】
以上のように、光46のうち常光線42(P偏光)の回折光44と異常光線43(S偏光)の回折光45は、試料34の異なるところを透過したことによって生じた異なる複素振幅を持った回折光であり、より具体的には互いにシェアー量だけシフトした物体の回折スペクトルとなっている。しかも常光線42の回折光44と異常光線43の回折光45は180度の位相差を有するので、微分干渉効果によって像面40には物体上のシェアー量だけ離れた2点の複素振幅透過率が異なる場合に明部となる干渉縞が形成される。偏光を用いて微分干渉効果をもたらす構成は図9に示されるものだけではないが、原理的には同じ手法を用いている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の微分干渉法では、微分干渉を行わせる手段として偏光を用い、さらに偏光の分離・合成を行うため、第1及び第2偏光板31、38及び偏光分離器32、偏光合成器36と位相変換器37が必要不可欠となる。これに対しては、偏光分離器又は合成器と位相変換器とを兼ねたウォラストンプリズムを用いることが可能であるが、通常、ウォラストンプリズムは水晶などの結晶を用いるので、大きくて良質のものが得られにくいという不都合があった。また偏光板を2枚用いるので光量が1/4に減少してしまい、像が暗くなるという不都合もあった。さらには、装置構成が複雑となり、装置を大型化しようとすればコストがかさんでしまうという不都合もあった。そのために、微分干渉法はごく小さな顕微鏡光学系で実用化されているにすぎなかった。
そこで、本発明は単純な構成で微分干渉を生じさせることが可能であり、装置の大型化が容易となる結像光学系を提供することを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、すなわ ち、細く絞られた照明光束を物体に照射する光源と、前側焦点が前記物体の位置又はそ の近傍に位置するように配置され、前記照明光束により照明された物体からの0次回折 光および±1次回折光を受光する結像レンズ前群と、該結像レンズ前群の後ろ側焦点位 置に配置された光学フィルターと、前側焦点が前記光学フィルターの位置に一致するよ うに配置された結像レンズ後群とを有する結像光学系において、
前記光学フィルターは、第1の位相領域と、該第1の位相領域に対して180°の位相差を生じさせる第2の位相領域とを交互に配置して形成され、前記第1の位相領域と前記第2の位相領域とはいずれも同一の幅を有し、且つ前記第1の位相領域と第2の位相領域との境界が、前記結像レンズ前群の後ろ側焦点面と一致する瞳の中央部に重なるように配置され、前記境界を物体からの0次回折光が通過するように配置したことを特徴とする結像光学系。を物体からの0次回折光が通過するように配置したことを特徴とする結像光学系。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施例に係る結像光学系の要部を図1に示す。図1に おいて、波長λの細く絞られた照明光束1が光源10から物体11に面に入射し、物体 11面上の点Sより0次回折光束2及び1次回折光束3、−1次回折光束4が出射され る。そして回折光束2,3、4は、結像レンズ前群12に入射する。結像レンズ前群1 2と結像レンズ後群14で構成される結像光学系の結像レンズ前群12の後ろ側焦点位 置、すなわち結像光学系の瞳位置には光学フィルター13が配置されており、そのため 光学フィルター13には回折光2,3,4がほぼ平行光となって入射する。なお、本実 施例の結像光学系はいわゆる光源補償型の光学系を構成しないため、照明光束1は広が りが非常に細いものを使用している。
【0008】
ここで光学フィルター13の平面図を図2(a)に示し、断面図を図2(b)、(c)に示す。なお図2(b)、(c)の断面図は、図2(a)の平面図におけるAA面での断面を表している。光学フィルター13は、第1の位相領域A1、A2、A3、・・・と、第1の位相領域に対して180°の位相差を生じさせる第2の位相領域B1、B2、B3、・・・とが交互に配置されて形成され、第1の位相領域A1、A2、A3、・・・と第2の位相領域B1、B2、B3、・・・とはいずれも同一の幅Pを有している。また光学フィルター13は、光学フィルター13中央部の第1の位相領域A2と第2の位相領域B2との間の境界上の点Qを物体11からの0次回折光2が通過するように配置されており、0次回折光2が通過する境界から幅方向への距離をxとしたとき、光学フィルター13の透過率分布がsin2(πx/P)となるように構成されている。なお、図2では便宜上、第1の位相領域A1、A2、A3及び第2の位相領域B1、B2、B3のみを表示している。
【0009】
光学フィルター13の第1の位相領域Aiと第2の位相領域Bi(i=1、2、・・・)とは、図2(b)に示したように光学フィルターの厚さをそれぞれ異なるように形成して、互いの位相差を180°発生させる構成や、他の実施例として図2(c)に示したように屈折率をそれぞれ異なるように形成して、互いの位相差を180°発生させる構成とすることが可能である。
【0010】
光学フィルター13において、互いに180°の位相差を生じさせる第1の位相領域Aiと第2の位相領域Biとが幅P毎に交互に配置されていること、及び光学フィルター13の透過率分布がsin2(πx/P)となるように構成されていることから、光学フィルター13の複素振幅透過率は、次のように表すことができる。
(1)式より、点Sからの回折光束2、3、4は光学フィルター13によって方向余弦±λ/2Pの2方向に分離されて、それぞれ回折光束2a、2b、3a、3b、4a、4bとなる。加えて、方向余弦+λ/2Pの方向に進む回折光束2a、3a、4aは、方向余弦−λ/2Pの方向に進むもう一方の回折光束2b、3b、4bと180°の位相差を有する。
【0011】
回折光束2a、2b、3a、3b、4a、4bは、対物レンズ後群14を透過して像面15上に結像される。光学フィルター13は対物レンズ後群14の前側焦点位置に配置されているため、方向余弦+λ/2Pの方向に進む回折光束2a、3a、4aと方向余弦−λ/2Pの方向に進む回折光束2b、3b、4bとは、それぞれ像面15上の異なった結像点U、Vに空間像を形成する。2つの結像点U、V間の距離、すなわち空間像のシェアー量dは、対物レンズ後群14の焦点距離をfとして、d=fλ/Pとなる。さらに空間像は互いに180°の位相差を持つので、微分干渉効果によって物体11面上のパターンのエッジ部分のみを強調することが可能となる。
このように本発明に係る結像光学系においては、ただ一枚の光学フィルター13を用いることによって、偏光を用いることなく微分干渉効果をもたらすことができる。しかも従来の方法では、前述したように偏光板を2枚用いるので光量は1/4に減少するが、本発明に係る光学フィルター13の複素振幅透過率はsin(πx/P)であるから、光量の減少率は1/2となり、従来の方法よりも2倍明るい像を得ることができる。
【0012】
なお、フィルター13の透過率については様々なバリエーションが可能である。フィルター13の透過率はある程度操作することによって微分干渉的な像を形成することができ、例えば、図2の光学フィルター13における第1の位相領域Aiと第2の位相領域Biとの境界部分の透過率を低く形成するだけでも微分干渉効果を発生させることができる。この場合、透過率は連続的に変化させても、段階的に変化させてもよい。これに対して、透過率がフィルター13全面で1であるような場合には、図1におけるフィルター13での回折光は図中に示したような2成分が生成されるだけではないので、前述したような2重像を形成して微分干渉効果を起こさせるというよりも、瞳操作的な結像という性格の方がより強くなり、微分干渉結像としてはあまりよい結像とはならない。
また、本発明に係る光学フィルター13は、現在の微細加工技術を持ってすれば容易に製造できるので、安価に、且つ大型の装置を製造することも可能である。
【0013】
つぎに、光学フィルター13を配置せず通常の結像を行った場合の空間像の強度分布と、光学フィルター13を配置して本実施例の結像光学系を構成し結像を行った場合の空間像の強度分布とを比較した図を図3から図8に示す。なおここでは光源として水銀ランプのi線(波長365nm)を用いている。
図3と図4は0.35μm間隔のライン/スペースパターンPについての空間像強度分布Sであり、図3は通常の結像を行った場合を示し、図4は本実施例の結像光学系で結像を行った場合を示す。瞳位置に光学フィルター13を配置することによって、微分干渉効果によりライン/スペースパターンのエッジのみを強調することが可能となった。
また、図4から明らかなように、本発明の結像光学系では空間像強度分布Sのピッチはライン/スペースパターンPのピッチの1/2で観測することができ、分解能を2倍に向上させることができる。このため、本発明の結像光学系を半導体製造装置の投影光学系に適用すれば、通常の結像を行った場合に比べ2倍の分解能を持った投影光学系を実現することが可能である。
【0014】
さらに図5と図6は線幅0.35μmの孤立線Lについての空間像強度分布Sであり、図5は通常の結像を行った場合を示し、図6は本実施例の結像光学系で結像を行った場合を示す。ライン/スペースパターンの場合と同様に、微分干渉効果によりエッジを強調することが可能となった。
さらに図7と図8は0.20μm幅の位相パターンQについての空間像強度分布Sであり、図7は通常の結像を行った場合を示し、図8は本実施例の結像光学系で結像を行った場合を示す。図7においては位相パターンの影響が確かに強度分布に現れてはいるが、明視野中で明るさがわずかに明るくなったり暗くなったりしているだけなので、実際には大変視認しにくい。しかしながら、図8の場合にはピーク強度こそわずかだが暗視野中に明線が浮き上がって見えるので、図7の場合よりも遥かに視認し易いものとなった。
【0015】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、本発明の如く、光学フィルターを配置し た結像光学系を構成することによって、像のエッジを強調することができ視認し易い像 を形成することが可能となると共に、微分干渉光学系の単純化、大型化が容易となった 。さらに半導体製造装置の投影光学系に適用すれば、通常の結像を行ったばあいに比べ 2倍の分解能を持った投影光学系を実現することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る結像光学系の要部を示す概略図
【図2】本発明における光学フィルターの(a)平面図、(b)一実施例に係る断面図 、及び(c)他の実施例に係る断面図
【図3】光学フィルターを配置せず通常の結像を行った場合のライン/スペースパター ンの空間像の強度分布
【図4】本実施例の結像光学系により結像を行った場合のライン/スペースパターンの 空間像の強度分布
【図5】光学フィルターを配置せず通常の結像を行った場合の孤立線の空間像の強度分 布
【図6】本実施例の結像光学系により結像を行った場合の孤立線の空間像の強度分布
【図7】光学フィルターを配置せず通常の結像を行った場合の位相パターンの空間像の 強度分布
【図8】本実施例の結像光学系により結像を行った場合の位相パターンの空間像の強度 分布
【図9】従来の微分干渉光学系の要部を示す概略図
【符号の説明】
1・・・照明光束
2・・・0次回折光束
3・・・1次回折光束
4・・・−1次回折光束
2a、2b、3a、3b、4a、4b・・・回折光束
10・・・光源
11・・・物体
12・・・結像レンズ前群
13・・・光学フィルター
14・・・結像レンズ後群
15・・・像面
Ai・・・第1の位相領域
Bi・・・第2の位相領域
Claims (3)
- 細く絞られた照明光束を物体に照射する光源と、前側焦点が前記物体の位置又はその近傍に位置するように配置され、前記照明光束により照明された物体からの0次回折光および±1次回折光を受光する結像レンズ前群と、該結像レンズ前群の後ろ側焦点位置に配置された光学フィルターと、前側焦点が前記光学フィルターの位置に一致するように配置された結像レンズ後群とを有する結像光学系において、
前記光学フィルターは、第1の位相領域と、該第1の位相領域に対して180°の位相差を生じさせる第2の位相領域とを交互に配置して形成され、前記第1の位相領域と前記第2の位相領域とはいずれも同一の幅を有し、且つ前記第1の位相領域と第2の位相領域との境界が、前記結像レンズ前群の後ろ側焦点面と一致する瞳の中央部に重なるように配置され、前記境界を物体からの0次回折光が通過するように配置したことを特徴とする結像光学系。 - 前記第1の位相領域と前記第2の位相領域との境界部分の透過率を、前記 第1の位相領域と第2の位相領域の中央部分の透過率よりも低く構成した請求項1記載の結像光学系。
- 前記第1の位相領域と前記第2の位相領域との前記幅をPとし、前記0次回折光が通過する前記境界から前記幅方向への距離をxとしたとき、
前記光学フィルターの透過率分布がsin2(πx/P)となるように構成した請求2記載の結像光学系。
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