JPH07326566A - マスク支持台 - Google Patents
マスク支持台Info
- Publication number
- JPH07326566A JPH07326566A JP14078594A JP14078594A JPH07326566A JP H07326566 A JPH07326566 A JP H07326566A JP 14078594 A JP14078594 A JP 14078594A JP 14078594 A JP14078594 A JP 14078594A JP H07326566 A JPH07326566 A JP H07326566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- support
- supporting
- support surfaces
- dust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 マスクの平面度がある程度不十分でもマスク
と支持面との間にゴミが介在することがあっても、マス
クのたわみ性状が平面度やゴミに依存することなく常に
一定であるような４点支持型のマスク支持台を提供する
こと。 【構成】 本発明においては、マスクを４つの支持面で
当接支持するマスク支持台において、前記４つの支持面
のうち隣接する２つの支持面を、前記４つの支持面を含
む面に垂直で且つ前記隣接する２つの支持面の各中心を
通る面内において、前記隣接する２つの支持面の各々か
ら同じ距離だけ間隔を隔てた支点部を中心として揺動可
能に支持する揺動手段と、前記４つの支持面のうち残り
の２つの支持面を固定支持する固定支持手段とを備えて
いる。
と支持面との間にゴミが介在することがあっても、マス
クのたわみ性状が平面度やゴミに依存することなく常に
一定であるような４点支持型のマスク支持台を提供する
こと。 【構成】 本発明においては、マスクを４つの支持面で
当接支持するマスク支持台において、前記４つの支持面
のうち隣接する２つの支持面を、前記４つの支持面を含
む面に垂直で且つ前記隣接する２つの支持面の各中心を
通る面内において、前記隣接する２つの支持面の各々か
ら同じ距離だけ間隔を隔てた支点部を中心として揺動可
能に支持する揺動手段と、前記４つの支持面のうち残り
の２つの支持面を固定支持する固定支持手段とを備えて
いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はマスク支持台に関し、特
に半導体製造に用いられる露光装置のマスク支持台やマ
スクパターンの位置測定機のマスク支持台等に関するも
のである。
に半導体製造に用いられる露光装置のマスク支持台やマ
スクパターンの位置測定機のマスク支持台等に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図７は、従来のマスク支持台の構成を示
す斜視図である。図７のマスク支持台１３は全体的に矩
形状のフレームであり、中央には光を透過するように開
口部が形成されている。支持台１３には、マスクやレテ
ィクル（以下、総称して「マスク」という））を当接支
持するための支持面Ｐ1'、Ｐ2'、Ｐ3'およびＰ4'が形成
されている。各支持面は支持台１３と一体的に形成され
ている。なお、支持台１３に載置されたマスクには、真
空引きあるいは静電チャックにより、マスク自重に加え
て拘束力が付加される。
す斜視図である。図７のマスク支持台１３は全体的に矩
形状のフレームであり、中央には光を透過するように開
口部が形成されている。支持台１３には、マスクやレテ
ィクル（以下、総称して「マスク」という））を当接支
持するための支持面Ｐ1'、Ｐ2'、Ｐ3'およびＰ4'が形成
されている。各支持面は支持台１３と一体的に形成され
ている。なお、支持台１３に載置されたマスクには、真
空引きあるいは静電チャックにより、マスク自重に加え
て拘束力が付加される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述のような従来のマ
スク支持台においては、マスクを当接支持する４つの支
持面Ｐ1'、Ｐ2'、Ｐ3'およびＰ4'が完全に１つの平面上
に位置しないような場合、支持されるマスク面に不自然
なたわみが発生する。また、マスクの平面度が十分でな
い場合にも、同様に不自然なたわみが発生する。特に、
支持面とマスクとの間にゴミ等の異物が介在した場合に
は、マスク面にゴミに起因した不自然なたわみが発生す
る。
スク支持台においては、マスクを当接支持する４つの支
持面Ｐ1'、Ｐ2'、Ｐ3'およびＰ4'が完全に１つの平面上
に位置しないような場合、支持されるマスク面に不自然
なたわみが発生する。また、マスクの平面度が十分でな
い場合にも、同様に不自然なたわみが発生する。特に、
支持面とマスクとの間にゴミ等の異物が介在した場合に
は、マスク面にゴミに起因した不自然なたわみが発生す
る。
【０００４】図８は、マスク面に不自然なたわみが発生
した様子を示す斜視図である。また、図９は、支持台の
支持面とマスクとの間にゴミが挟まった状態を示してい
る。図８では、図７においてたとえば支持台１３の支持
面Ｐ2'（あるいはＰ4'）とマスク１４との間にゴミを挟
まった場合のマスク面の不自然なたわみ性状を表わして
いる。
した様子を示す斜視図である。また、図９は、支持台の
支持面とマスクとの間にゴミが挟まった状態を示してい
る。図８では、図７においてたとえば支持台１３の支持
面Ｐ2'（あるいはＰ4'）とマスク１４との間にゴミを挟
まった場合のマスク面の不自然なたわみ性状を表わして
いる。
【０００５】一方、図９を参照すると、支持台１３の支
持面Ｐ1'とマスク１４との間にゴミが挟まった状態が示
されている。図９において、ゴミの高さはｄであり、支
持面Ｐ1'とＰ2'との距離はＬであり、マスク１４の厚さ
はｔである。このように、マスク１４には、自重および
真空引きの作用によるたわみに加えて、ゴミを挟んだ場
合全体的な傾きが発生する。
持面Ｐ1'とマスク１４との間にゴミが挟まった状態が示
されている。図９において、ゴミの高さはｄであり、支
持面Ｐ1'とＰ2'との距離はＬであり、マスク１４の厚さ
はｔである。このように、マスク１４には、自重および
真空引きの作用によるたわみに加えて、ゴミを挟んだ場
合全体的な傾きが発生する。
【０００６】このゴミによる全体的な傾きの結果、マス
ク１４の上面にある点Ｑの位置はδだけ位置ずれするこ
とになる。位置ずれ量δは、単純には次の式（１）で表
わされる。 δ＝（ｔ／２）×（ｄ／Ｌ） （１） このように、支持面とマスクとの間にゴミが介在してマ
スクにねじれのような不自然な変形が加わると、図１０
（ａ）に示すようにマスク１４面上に規則的に描かれた
パターンＰＴｏには歪みが生じ、全体的に図１０（ｂ）
に示すパターンＰＴｍのように変形する。
ク１４の上面にある点Ｑの位置はδだけ位置ずれするこ
とになる。位置ずれ量δは、単純には次の式（１）で表
わされる。 δ＝（ｔ／２）×（ｄ／Ｌ） （１） このように、支持面とマスクとの間にゴミが介在してマ
スクにねじれのような不自然な変形が加わると、図１０
（ａ）に示すようにマスク１４面上に規則的に描かれた
パターンＰＴｏには歪みが生じ、全体的に図１０（ｂ）
に示すパターンＰＴｍのように変形する。
【０００７】図５は、マスク面上のパターン座標を測定
する座標測定機の構成を示す斜視図である。図５の測定
機において、マスク３は支持台４上に載置され、支持台
４は更に２次元ステージ５に支持されている。２次元ス
テージ５は、一対の駆動用モータ６によってそれぞれＸ
方向およびＹ方向に往復移動可能になっている。その結
果、マスク３はＸＹ平面上を移動することが可能であ
る。
する座標測定機の構成を示す斜視図である。図５の測定
機において、マスク３は支持台４上に載置され、支持台
４は更に２次元ステージ５に支持されている。２次元ス
テージ５は、一対の駆動用モータ６によってそれぞれＸ
方向およびＹ方向に往復移動可能になっている。その結
果、マスク３はＸＹ平面上を移動することが可能であ
る。
【０００８】マスク３の上面に形成された細線パターン
ＰＴｏの各部の中心位置は、検出光学系７によって検出
される。なお、二次元ステージ５のＸＹ平面内の位置
は、二次元ステージ５上に設けられた反射鏡Ｍと協働す
るレーザ干渉計８によって正確に計測されているので、
マスク３のパターン座標を高精度に検出することができ
る。図５に示す座標測定機において、支持台４の支持面
とマスク３との間にゴミが挟まると、マスク３面上のパ
ターンＰＴｏには図１０（ｂ）のパターンＰＴｍのよう
な歪みが生じ、パターン座標を正しく測定することがで
きない。すなわち、ゴミに起因してマスクのたわみ具体
が一定にならないので、測定再現性が損なわれるという
不都合があった。
ＰＴｏの各部の中心位置は、検出光学系７によって検出
される。なお、二次元ステージ５のＸＹ平面内の位置
は、二次元ステージ５上に設けられた反射鏡Ｍと協働す
るレーザ干渉計８によって正確に計測されているので、
マスク３のパターン座標を高精度に検出することができ
る。図５に示す座標測定機において、支持台４の支持面
とマスク３との間にゴミが挟まると、マスク３面上のパ
ターンＰＴｏには図１０（ｂ）のパターンＰＴｍのよう
な歪みが生じ、パターン座標を正しく測定することがで
きない。すなわち、ゴミに起因してマスクのたわみ具体
が一定にならないので、測定再現性が損なわれるという
不都合があった。
【０００９】図６は、マスク面上のパターンを感光基板
に投影露光する光縮小投影露光装置の構成を示す斜視図
である。図６において、マスク３’は支持台４’上に載
置され、マスク３’上のパターンＰＴｏ（パターンはマ
スク３’の下面に形成されている）がコンデンサレンズ
９で集められた水銀ランプ１０からの光で照明される。
そして、マスク３’に形成されたパターンＰＴｏは、縮
小投影レンズ１１を介してウェハ１２上に縮小投影され
る。
に投影露光する光縮小投影露光装置の構成を示す斜視図
である。図６において、マスク３’は支持台４’上に載
置され、マスク３’上のパターンＰＴｏ（パターンはマ
スク３’の下面に形成されている）がコンデンサレンズ
９で集められた水銀ランプ１０からの光で照明される。
そして、マスク３’に形成されたパターンＰＴｏは、縮
小投影レンズ１１を介してウェハ１２上に縮小投影され
る。
【００１０】なお、ウェハ１２は二次元ステージ５’上
に載置され、二次元ステージ５’は一対の駆動用モータ
６’によってそれぞれＸ方向およびＹ方向に往復移動可
能になっている。その結果、ウェハ１２はＸＹ平面上を
移動することが可能である。また、二次元ステージ５’
は、二次元ステージ５’上に設けられた反射鏡Ｍ′と協
働するレーザ干渉計８’によってＸＹ平面内の位置が正
確に計測されるようになっている。
に載置され、二次元ステージ５’は一対の駆動用モータ
６’によってそれぞれＸ方向およびＹ方向に往復移動可
能になっている。その結果、ウェハ１２はＸＹ平面上を
移動することが可能である。また、二次元ステージ５’
は、二次元ステージ５’上に設けられた反射鏡Ｍ′と協
働するレーザ干渉計８’によってＸＹ平面内の位置が正
確に計測されるようになっている。
【００１１】こうして、駆動モータ６’によって二次元
ステージ５’を、ひいてはウェハ１２を所定間隔ずつ移
動させながら縮小投影露光を繰り返すことによって、ウ
ェハ１２の全体領域に亘り多数の露光パターンを逐次形
成する。図６の光縮小投影露光装置において、支持台
４’の支持面とマスク３’との間にゴミが挟まると、マ
スク３’の下面に形成されたパターンＰＴｏには図１０
（ｂ）のパターンＰＴｍのような歪みが生じる。その結
果、歪んだマスクパターンがそのままウェハ１２上に縮
小露光されてしまい、露光再現性が損なわれるという不
都合があった。
ステージ５’を、ひいてはウェハ１２を所定間隔ずつ移
動させながら縮小投影露光を繰り返すことによって、ウ
ェハ１２の全体領域に亘り多数の露光パターンを逐次形
成する。図６の光縮小投影露光装置において、支持台
４’の支持面とマスク３’との間にゴミが挟まると、マ
スク３’の下面に形成されたパターンＰＴｏには図１０
（ｂ）のパターンＰＴｍのような歪みが生じる。その結
果、歪んだマスクパターンがそのままウェハ１２上に縮
小露光されてしまい、露光再現性が損なわれるという不
都合があった。
【００１２】なお、３つの支持面でマスクを当接支持す
るようになったマスク支持台が提案されている。このよ
うな３点支持型の従来のマスク支持台では、マスクの平
面度や支持面との間のゴミの有無にかかわらず、マスク
のたわみ具合は常に一定である。しかしながら、二軸対
称形のマスクを３点で支持するので、ある軸に関してマ
スクを対称に支持することができても、他の軸に対して
マスクを対称に支持することができない。また、３つの
支持面のうち特定の支持面に対する反力が特に大きくな
り、その結果マスクの特定の角においてたわみが特に大
きくなりやすいという不都合があった。
るようになったマスク支持台が提案されている。このよ
うな３点支持型の従来のマスク支持台では、マスクの平
面度や支持面との間のゴミの有無にかかわらず、マスク
のたわみ具合は常に一定である。しかしながら、二軸対
称形のマスクを３点で支持するので、ある軸に関してマ
スクを対称に支持することができても、他の軸に対して
マスクを対称に支持することができない。また、３つの
支持面のうち特定の支持面に対する反力が特に大きくな
り、その結果マスクの特定の角においてたわみが特に大
きくなりやすいという不都合があった。
【００１３】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、マスクの平面度がある程度不十分でもマスク
と支持面との間にゴミが介在することがあっても、マス
クのたわみ性状が平面度やゴミに依存することなく常に
一定であるような４点支持型のマスク支持台を提供する
ことを目的とする。
のであり、マスクの平面度がある程度不十分でもマスク
と支持面との間にゴミが介在することがあっても、マス
クのたわみ性状が平面度やゴミに依存することなく常に
一定であるような４点支持型のマスク支持台を提供する
ことを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、マスクを４つの支持面で当接支
持するマスク支持台において、前記４つの支持面のうち
隣接する２つの支持面を、前記４つの支持面を含む面に
垂直で且つ前記隣接する２つの支持面の各中心を通る面
内において、前記隣接する２つの支持面の各々から同じ
距離だけ間隔を隔てた支点部を中心として揺動可能に支
持する揺動手段と、前記４つの支持面のうち残りの２つ
の支持面を固定支持する固定支持手段とを備えているこ
とを特徴とするマスク支持台を提供する。
に、本発明においては、マスクを４つの支持面で当接支
持するマスク支持台において、前記４つの支持面のうち
隣接する２つの支持面を、前記４つの支持面を含む面に
垂直で且つ前記隣接する２つの支持面の各中心を通る面
内において、前記隣接する２つの支持面の各々から同じ
距離だけ間隔を隔てた支点部を中心として揺動可能に支
持する揺動手段と、前記４つの支持面のうち残りの２つ
の支持面を固定支持する固定支持手段とを備えているこ
とを特徴とするマスク支持台を提供する。
【００１５】本発明の好ましい態様によれば、前記揺動
手段と前記固定支持手段とは別体に形成され、前記揺動
手段は前記支点部において前記固定支持手段と当接して
いる。あるいは、前記揺動手段と前記固定支持手段とは
一体に形成され、前記支点部は揺動方向に可撓性を有す
る。
手段と前記固定支持手段とは別体に形成され、前記揺動
手段は前記支点部において前記固定支持手段と当接して
いる。あるいは、前記揺動手段と前記固定支持手段とは
一体に形成され、前記支点部は揺動方向に可撓性を有す
る。
【００１６】
【作用】本発明においては、４つの支持面のうち隣接す
る２つの支持面が、４つの支持面を含む面に垂直で且つ
隣接する２つの支持面の各中心を通る面内において、隣
接する２つの支持面の各々から同じ距離だけ間隔を隔て
た支点部を中心として揺動可能になっている。したがっ
て、後述するように、マスクの平面度がある程度不十分
でもマスクと支持面との間にゴミが挟まっていても、隣
接する２つの支持面が特定の支点回りに適宜回転し、マ
スクを４つの支持面で均等に（同一の力で）支持するこ
とができる。
る２つの支持面が、４つの支持面を含む面に垂直で且つ
隣接する２つの支持面の各中心を通る面内において、隣
接する２つの支持面の各々から同じ距離だけ間隔を隔て
た支点部を中心として揺動可能になっている。したがっ
て、後述するように、マスクの平面度がある程度不十分
でもマスクと支持面との間にゴミが挟まっていても、隣
接する２つの支持面が特定の支点回りに適宜回転し、マ
スクを４つの支持面で均等に（同一の力で）支持するこ
とができる。
【００１７】こうして、本発明のマスク支持台では、マ
スクの平面度がある程度不十分でも支持面とマスクとの
間にゴミが挟まっても、マスクの平面度やゴミに起因し
た不自然な反力がマスクに対して作用することがないの
で、マスクのたわみ性状が常に一定となる。したがっ
て、マスクパターンの座標測定機のマスク支持台に本発
明を適用すると、マスクの平面度や支持面との間に挟ん
だゴミの有無に係わらずマスクのたわみ具合が常に一定
となり、良好な測定再現性が得られる。また、光露光装
置のマスク支持台に本発明を適用すると、マスクの平面
度やゴミの有無に依存することなく露光パターンのたわ
み性状が常に一定となり、良好な露光再現性が得られ
る。
スクの平面度がある程度不十分でも支持面とマスクとの
間にゴミが挟まっても、マスクの平面度やゴミに起因し
た不自然な反力がマスクに対して作用することがないの
で、マスクのたわみ性状が常に一定となる。したがっ
て、マスクパターンの座標測定機のマスク支持台に本発
明を適用すると、マスクの平面度や支持面との間に挟ん
だゴミの有無に係わらずマスクのたわみ具合が常に一定
となり、良好な測定再現性が得られる。また、光露光装
置のマスク支持台に本発明を適用すると、マスクの平面
度やゴミの有無に依存することなく露光パターンのたわ
み性状が常に一定となり、良好な露光再現性が得られ
る。
【００１８】さらに、マスク支持台の設計仕様が同じで
あれば、マスク支持台自体の加工精度に依存することな
く、複数個の支持台に対して高い互換性を確保すること
ができる。なお、本発明のマスク支持台は、マスクパタ
ーンの座標測定機や光縮小投影露光装置に限定されるこ
となく、Ｘ線露光装置等の等倍露光装置やマスクパター
ンの描画装置等に対しても広く適用することができるこ
とは明らかである。
あれば、マスク支持台自体の加工精度に依存することな
く、複数個の支持台に対して高い互換性を確保すること
ができる。なお、本発明のマスク支持台は、マスクパタ
ーンの座標測定機や光縮小投影露光装置に限定されるこ
となく、Ｘ線露光装置等の等倍露光装置やマスクパター
ンの描画装置等に対しても広く適用することができるこ
とは明らかである。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の実施例を、添付図面に基づい
て説明する。図１は、本発明の第１実施例にかかるマス
ク支持台の構成を示す斜視図である。図１のマスク支持
台において、４つの支持面のうち支持面Ｐ1 およびＰ2
は揺動部２と一体に形成されている。また、残りの支持
面Ｐ3 およびＰ4 は、台座１と一体に形成されている。
４つの支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 は、ＸＹ平面
において四角形をなすように配置されている。なお、揺
動部２は、Ｘ軸に平行な支点Ｏｓを中心としてＸ軸周り
に回転可能なように台座１上に支持されている。また、
支点Ｏｓは、Ｙ軸に沿って支持面Ｐ1と支持面Ｐ2 との
中心に位置している。
て説明する。図１は、本発明の第１実施例にかかるマス
ク支持台の構成を示す斜視図である。図１のマスク支持
台において、４つの支持面のうち支持面Ｐ1 およびＰ2
は揺動部２と一体に形成されている。また、残りの支持
面Ｐ3 およびＰ4 は、台座１と一体に形成されている。
４つの支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 は、ＸＹ平面
において四角形をなすように配置されている。なお、揺
動部２は、Ｘ軸に平行な支点Ｏｓを中心としてＸ軸周り
に回転可能なように台座１上に支持されている。また、
支点Ｏｓは、Ｙ軸に沿って支持面Ｐ1と支持面Ｐ2 との
中心に位置している。
【００２０】図２は、図１においてマスクが載置された
場合の支持面Ｐ1 とＰ2 との位置関係を示す図であっ
て、（ａ）は平面度の良いマスクＭｓがゴミが介在する
ことなく載置された場合であり、（ｂ）は支持面Ｐ1 と
の間にゴミＤｓを挟んで平面度の良いマスクＭｓ載置さ
れた場合である。いずれの場合も、マスクＭｓの重心位
置が４つの支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四
角形の中心と一致していれば、各支持面に加わる力は全
て等しくなる。この原理を図３に基づいて証明する。
場合の支持面Ｐ1 とＰ2 との位置関係を示す図であっ
て、（ａ）は平面度の良いマスクＭｓがゴミが介在する
ことなく載置された場合であり、（ｂ）は支持面Ｐ1 と
の間にゴミＤｓを挟んで平面度の良いマスクＭｓ載置さ
れた場合である。いずれの場合も、マスクＭｓの重心位
置が４つの支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四
角形の中心と一致していれば、各支持面に加わる力は全
て等しくなる。この原理を図３に基づいて証明する。
【００２１】図３において、ｆ1 、ｆ2 、ｆ3 およびｆ
4 はそれぞれ支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 がマス
クＭｓを押す返す力（反力）の大きさであり、矢印は力
の方向を表わしている。まず、図１中の揺動部２の支点
Ｏｓ回りの回転モーメントＲｂｏは、支持面Ｐ1 が図中
下に下がる回転方向を正として、次の式（２）のように
表される。 Ｒｂｏ＝−ｆ1 ｓ＋ｆ2 ｓ＝−（ｆ1 −ｆ2 ）ｓ （２） ただし、ｓは、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四角
形のＹ方向の長さの半分に相当する。また、揺動部２は
Ｘ軸に対して対称であり、マスクＭｓを載置することに
より発生する回転量は微小であるとする。マスクＭｓが
載置されて安定した状態ではＲｂｏ＝０であるので、
（２）式よりｆ1 ＝ｆ2 となる。すなわち、支持面Ｐ1
およびＰ2 における反力は常に等しい。
4 はそれぞれ支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 がマス
クＭｓを押す返す力（反力）の大きさであり、矢印は力
の方向を表わしている。まず、図１中の揺動部２の支点
Ｏｓ回りの回転モーメントＲｂｏは、支持面Ｐ1 が図中
下に下がる回転方向を正として、次の式（２）のように
表される。 Ｒｂｏ＝−ｆ1 ｓ＋ｆ2 ｓ＝−（ｆ1 −ｆ2 ）ｓ （２） ただし、ｓは、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四角
形のＹ方向の長さの半分に相当する。また、揺動部２は
Ｘ軸に対して対称であり、マスクＭｓを載置することに
より発生する回転量は微小であるとする。マスクＭｓが
載置されて安定した状態ではＲｂｏ＝０であるので、
（２）式よりｆ1 ＝ｆ2 となる。すなわち、支持面Ｐ1
およびＰ2 における反力は常に等しい。
【００２２】次に、マスクＭｓの重心が支持面Ｐ1 、Ｐ
2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四角形の中心Ｐｇと一致して
いるので、Ｘ軸回りにマスクＭｓが回転しようとするモ
ーメントＲｍｘは０である。逆に、４つの支持面がマス
クＭｓを回転させようとする回転モーメントＲｈｘは支
持点Ｐ1 が図中下に下がる回転方向を正として、次の式
（３）のように表される。 Ｒｈｘ＝−（ｆ1 ＋ｆ4 ）ｓ＋（ｆ2 ＋ｆ3 ）ｓ （３）
2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四角形の中心Ｐｇと一致して
いるので、Ｘ軸回りにマスクＭｓが回転しようとするモ
ーメントＲｍｘは０である。逆に、４つの支持面がマス
クＭｓを回転させようとする回転モーメントＲｈｘは支
持点Ｐ1 が図中下に下がる回転方向を正として、次の式
（３）のように表される。 Ｒｈｘ＝−（ｆ1 ＋ｆ4 ）ｓ＋（ｆ2 ＋ｆ3 ）ｓ （３）
【００２３】安定状態では、すなわち釣り合った状態で
はＲｈｘ＝−Ｒｍｘであるから、Ｒｈｘも０となる。す
なわち、式（３）より次の式（４）の関係を得る。 ｆ1 ＋ｆ4 ＝ｆ2 ＋ｆ3 （４） また、Ｙ軸回りにマスクＭｓが回転しようとするモーメ
ントＲｍｙも、Ｘ軸回りの回転モーメントＲｍｘの場合
と同様の理由で０となる。４つの支持面がマスクをＸ軸
回りに回転させようとする回転モーメントＲｈｙは、支
持面Ｐ1 が図中上に上がる回転方向を正として、次の式
（５）のように表される。 Ｒｈｙ＝（ｆ1 ＋ｆ2 ）ｕ−（ｆ3 ＋ｆ4 ）ｕ （５） ただし、ｕは、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四角
形のＸ方向の長さの半分に相当する。
はＲｈｘ＝−Ｒｍｘであるから、Ｒｈｘも０となる。す
なわち、式（３）より次の式（４）の関係を得る。 ｆ1 ＋ｆ4 ＝ｆ2 ＋ｆ3 （４） また、Ｙ軸回りにマスクＭｓが回転しようとするモーメ
ントＲｍｙも、Ｘ軸回りの回転モーメントＲｍｘの場合
と同様の理由で０となる。４つの支持面がマスクをＸ軸
回りに回転させようとする回転モーメントＲｈｙは、支
持面Ｐ1 が図中上に上がる回転方向を正として、次の式
（５）のように表される。 Ｒｈｙ＝（ｆ1 ＋ｆ2 ）ｕ−（ｆ3 ＋ｆ4 ）ｕ （５） ただし、ｕは、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ3 およびＰ4 のなす四角
形のＸ方向の長さの半分に相当する。
【００２４】安定状態では、すなわち釣り合った状態で
はＲｈｙ＝−Ｒｍｙであるから、Ｒｈｙも０となる。す
なわち、式（５）より次の式（６）の関係が得られる。 ｆ1 ＋ｆ2 ＝ｆ3 ＋ｆ4 （６） 式（２）より得られた関係ｆ1 ＝ｆ2 と、式（４）およ
び（６）に示す関係とから、次の式（７）の関係が成立
する。 ｆ1 ＝ｆ2 ＝ｆ3 ＝ｆ4 （７）
はＲｈｙ＝−Ｒｍｙであるから、Ｒｈｙも０となる。す
なわち、式（５）より次の式（６）の関係が得られる。 ｆ1 ＋ｆ2 ＝ｆ3 ＋ｆ4 （６） 式（２）より得られた関係ｆ1 ＝ｆ2 と、式（４）およ
び（６）に示す関係とから、次の式（７）の関係が成立
する。 ｆ1 ＝ｆ2 ＝ｆ3 ＝ｆ4 （７）
【００２５】さらに、マスクＭｓの重さをＷとすると、
次の式（８）で表される関係が得られる。 ｆ1 ＋ｆ2 ＋ｆ3 ＋ｆ4 ＝Ｗ （８） したがって、式（７）および（８）より、次の式（９）
で表される関係が成立する。 ｆ1 ＝ｆ2 ＝ｆ3 ＝ｆ4 ＝Ｗ／４ （９）
次の式（８）で表される関係が得られる。 ｆ1 ＋ｆ2 ＋ｆ3 ＋ｆ4 ＝Ｗ （８） したがって、式（７）および（８）より、次の式（９）
で表される関係が成立する。 ｆ1 ＝ｆ2 ＝ｆ3 ＝ｆ4 ＝Ｗ／４ （９）
【００２６】このように、４つの支持面Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ
3 およびＰ4 により、マスクＭｓの重さＷが均等に支持
されていることがわかる。以上の解析は、マスクの平面
度や支持面との間に挟んだゴミの有無に依存することな
く成立するので、本実施例のマスク支持台にマスクを載
置した時のたわみ具合は常に等しくなる。また、図１に
示すように、支持面Ｐ1 およびＰ2 が形成された揺動部
２は、台座１に対してＸＹ平面内で固定支持されていな
いが、支持面Ｐ3 およびＰ4 は台座１と一体的に形成さ
れているので、載置されたマスクが横方向（Ｘ方向また
はＹ方向）に位置ずれすることはない。
3 およびＰ4 により、マスクＭｓの重さＷが均等に支持
されていることがわかる。以上の解析は、マスクの平面
度や支持面との間に挟んだゴミの有無に依存することな
く成立するので、本実施例のマスク支持台にマスクを載
置した時のたわみ具合は常に等しくなる。また、図１に
示すように、支持面Ｐ1 およびＰ2 が形成された揺動部
２は、台座１に対してＸＹ平面内で固定支持されていな
いが、支持面Ｐ3 およびＰ4 は台座１と一体的に形成さ
れているので、載置されたマスクが横方向（Ｘ方向また
はＹ方向）に位置ずれすることはない。
【００２７】図４は、本発明の第２実施例にかかるマス
ク支持台の構成を示す図である。第２実施例のマスク支
持台は第１実施例のマスク支持台と同様の構成を有する
が、第１実施例では台座１と揺動部２とが別体に構成さ
れているのに対し、第２実施例では台座１と揺動部２と
が可撓性支点部を介して一体に形成されている点だけが
基本的に相違する。
ク支持台の構成を示す図である。第２実施例のマスク支
持台は第１実施例のマスク支持台と同様の構成を有する
が、第１実施例では台座１と揺動部２とが別体に構成さ
れているのに対し、第２実施例では台座１と揺動部２と
が可撓性支点部を介して一体に形成されている点だけが
基本的に相違する。
【００２８】このように、第２実施例のマスク支持台で
は、図４に示すように、揺動部２’の支点Ｏｓ’が揺動
方向（図１におけるＸ軸回転方向）に可撓性を有するよ
うに構成されている。すなわち、揺動部２’の支点Ｏ
ｓ’では、揺動方向に対する剛性は極めて小さいが、横
方向（図１におけるＸＹ平面方向）に対する剛性は高
い。したがって、図１の第１実施例の場合よりも、本実
施例のほうがマスクの横方向に対する安定性が増大する
という利点がある。
は、図４に示すように、揺動部２’の支点Ｏｓ’が揺動
方向（図１におけるＸ軸回転方向）に可撓性を有するよ
うに構成されている。すなわち、揺動部２’の支点Ｏ
ｓ’では、揺動方向に対する剛性は極めて小さいが、横
方向（図１におけるＸＹ平面方向）に対する剛性は高
い。したがって、図１の第１実施例の場合よりも、本実
施例のほうがマスクの横方向に対する安定性が増大する
という利点がある。
【００２９】図１２は、本発明の第３実施例にかかるマ
スク支持台の構成を示す図である。図１１は、マスクが
支持面に載置された場合のたわみ具合を示す図であっ
て、（ａ）は支持面による吸着がない場合を、（ｂ）は
支持面による吸着がある場合をそれぞれ示している。図
１１（ａ）に示すように、支持面による吸着がない場
合、マスクＭｓにはその自重のみにより不自然なたわみ
が発生する。しかしながら、真空吸着等でマスクＭｓを
支持面上に固定する場合、すなわち支持面による吸着が
ある場合、図１１（ｂ）に示すように、支持面Ｐ1 （Ｐ
4 ）、Ｐ2 （Ｐ3 ）において局所的な力が加わり、マス
クのたわみ具合にも影響を与えることになる。このた
め、マスクの平面度や支持面との間に挟んだゴミに起因
して厳密にはたわみ性状が一定にならないという不都合
がある。
スク支持台の構成を示す図である。図１１は、マスクが
支持面に載置された場合のたわみ具合を示す図であっ
て、（ａ）は支持面による吸着がない場合を、（ｂ）は
支持面による吸着がある場合をそれぞれ示している。図
１１（ａ）に示すように、支持面による吸着がない場
合、マスクＭｓにはその自重のみにより不自然なたわみ
が発生する。しかしながら、真空吸着等でマスクＭｓを
支持面上に固定する場合、すなわち支持面による吸着が
ある場合、図１１（ｂ）に示すように、支持面Ｐ1 （Ｐ
4 ）、Ｐ2 （Ｐ3 ）において局所的な力が加わり、マス
クのたわみ具合にも影響を与えることになる。このた
め、マスクの平面度や支持面との間に挟んだゴミに起因
して厳密にはたわみ性状が一定にならないという不都合
がある。
【００３０】上述のような不都合を解決するために、図
１２に示す第３実施例のマスク支持第では、各支持面Ｐ
1 （Ｐ4 ）、Ｐ2 （Ｐ3 ）が揺動部Ｏｐにより図１２の
紙面内および紙面と垂直な面内において揺動自在に構成
されている。なお、図１３には、揺動部および支持面を
拡大して示している。図１３に示すように、支持面は図
中矢印方向に回転可能であるが、横方向には高い剛性を
有する。このように、第３実施例のマスク支持台では、
支持面がマスクのたわみ具合に応じて傾き、支持面とこ
れに対応するマスク面とがほぼ一致するようになるの
で、支持面による吸着がマスクに作用しても不自然なた
わみが発生しない。したがって、第３実施例のマスク支
持台によれば、上述の第１および第２実施例よりもさら
に、マスクのたわみ具合を常に一定にすることができ
る。
１２に示す第３実施例のマスク支持第では、各支持面Ｐ
1 （Ｐ4 ）、Ｐ2 （Ｐ3 ）が揺動部Ｏｐにより図１２の
紙面内および紙面と垂直な面内において揺動自在に構成
されている。なお、図１３には、揺動部および支持面を
拡大して示している。図１３に示すように、支持面は図
中矢印方向に回転可能であるが、横方向には高い剛性を
有する。このように、第３実施例のマスク支持台では、
支持面がマスクのたわみ具合に応じて傾き、支持面とこ
れに対応するマスク面とがほぼ一致するようになるの
で、支持面による吸着がマスクに作用しても不自然なた
わみが発生しない。したがって、第３実施例のマスク支
持台によれば、上述の第１および第２実施例よりもさら
に、マスクのたわみ具合を常に一定にすることができ
る。
【００３１】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、マスク
の平面度や支持面との間に挟んだゴミの有無に依存する
ことなく、マスクのたわみ具合は常に一定となる。した
がって、マスクパターンの座標測定機や光露光装置等に
本発明のマスク支持台を適用すると、良好な測定再現性
および良好な露光再現性が得られる。
の平面度や支持面との間に挟んだゴミの有無に依存する
ことなく、マスクのたわみ具合は常に一定となる。した
がって、マスクパターンの座標測定機や光露光装置等に
本発明のマスク支持台を適用すると、良好な測定再現性
および良好な露光再現性が得られる。
【図１】本発明の第１実施例にかかるマスク支持台の構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
【図２】図１においてマスクが載置された場合の支持面
Ｐ1 とＰ2 の位置関係を示す図であって、（ａ）は平面
度の良いマスクＭｓがゴミが介在することなく載置され
た場合であり、（ｂ）は支持面Ｐ1 との間にゴミＤｓを
挟んでマスクＭｓが載置された場合である。
Ｐ1 とＰ2 の位置関係を示す図であって、（ａ）は平面
度の良いマスクＭｓがゴミが介在することなく載置され
た場合であり、（ｂ）は支持面Ｐ1 との間にゴミＤｓを
挟んでマスクＭｓが載置された場合である。
【図３】図１においてマスクから４つの支持面に加わる
力が全て等しくなることを示す原理図である。
力が全て等しくなることを示す原理図である。
【図４】本発明の第２実施例にかかるマスク支持台の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図５】マスク面上のパターン座標を測定する座標測定
機の構成を示す斜視図である。
機の構成を示す斜視図である。
【図６】マスク面上のパターンを感光基板に投影露光す
る光縮小投影露光装置の構成を示す斜視図である。
る光縮小投影露光装置の構成を示す斜視図である。
【図７】従来のマスク支持台の構成を示す斜視図であ
る。
る。
【図８】マスク面に不自然なたわみが発生した様子を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図９】支持台の支持面とマスクとの間にゴミが挟まっ
た状態を示す図である。
た状態を示す図である。
【図１０】（ａ）はマスク上に規則的に描かれたパター
ンＰＴｏを、（ｂ）はマスクと支持面との間のゴミ等に
起因して不自然に変形したパターンＰＴｍを示す図であ
る。
ンＰＴｏを、（ｂ）はマスクと支持面との間のゴミ等に
起因して不自然に変形したパターンＰＴｍを示す図であ
る。
【図１１】マスクが支持面に載置された場合のたわみ具
合を示す図であって、（ａ）は支持面による吸着がない
場合を、（ｂ）は支持面による吸着がある場合をそれぞ
れ示している。
合を示す図であって、（ａ）は支持面による吸着がない
場合を、（ｂ）は支持面による吸着がある場合をそれぞ
れ示している。
【図１２】本発明の第３実施例にかかるマスク支持台の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図１３】図１２のマスク支持台の支持面部の構成を示
す斜視図である。
す斜視図である。
１ 台座 ２、２’ 揺動部 ３、３’ マスク（あるいはレティクル） ４、４’ 支持台 ７ 検出光学系 ８、８’ レーザ干渉計 １１ 縮小投影レンズ １２ ウエハ
Claims (4)
- 【請求項１】 マスクを４つの支持面で当接支持するマ
スク支持台において、 前記４つの支持面のうち隣接する２つの支持面を、前記
４つの支持面を含む面に垂直で且つ前記隣接する２つの
支持面の各中心を通る面内において、前記隣接する２つ
の支持面の各々から同じ距離だけ間隔を隔てた支点部を
中心として揺動可能に支持する揺動手段と、 前記４つの支持面のうち残りの２つの支持面を固定支持
する固定支持手段とを備えていることを特徴とするマス
ク支持台。 - 【請求項２】 前記揺動手段と前記固定支持手段とは別
体に形成され、前記揺動手段は前記支点部において前記
固定支持手段と当接していることを特徴とする請求項１
に記載のマスク支持台。 - 【請求項３】 前記揺動手段と前記固定支持手段とは一
体に形成され、前記支点部は揺動方向に可撓性を有する
ことを特徴とする請求項１に記載のマスク支持台。 - 【請求項４】 マスクを４つの支持面で支持するマスク
支持台において、 前記４つの支持面は、前記４つの支持面を含む面に対し
て垂直な面内において揺動可能であることを特徴とする
マスク支持台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14078594A JPH07326566A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | マスク支持台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14078594A JPH07326566A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | マスク支持台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326566A true JPH07326566A (ja) | 1995-12-12 |
Family
ID=15276691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14078594A Pending JPH07326566A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | マスク支持台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07326566A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003525524A (ja) * | 2000-01-28 | 2003-08-26 | シュテアク エルテーペー システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | サブストレートの熱処理のための装置 |
| JP2005066735A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Topcon Corp | 軸出器 |
| US7307698B2 (en) | 2004-02-18 | 2007-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| JP2009016479A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 可撓性基板保持具、有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法 |
| CN102200701A (zh) * | 2010-03-26 | 2011-09-28 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模版固定装置 |
| JP2013077683A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Nuflare Technology Inc | レチクルの支持機構および検査装置 |
| CN104849955A (zh) * | 2014-02-13 | 2015-08-19 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种掩膜板支撑装置和清洗掩膜板的方法 |
| JP2021006931A (ja) * | 2015-09-01 | 2021-01-21 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体の保持方法、及び露光方法 |
-
1994
- 1994-05-31 JP JP14078594A patent/JPH07326566A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003525524A (ja) * | 2000-01-28 | 2003-08-26 | シュテアク エルテーペー システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | サブストレートの熱処理のための装置 |
| JP4828761B2 (ja) * | 2000-01-28 | 2011-11-30 | シュテアク エルテーペー システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | サブストレートの熱処理のための装置 |
| JP2005066735A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Topcon Corp | 軸出器 |
| US7307698B2 (en) | 2004-02-18 | 2007-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| JP2009016479A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 可撓性基板保持具、有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法 |
| CN102200701A (zh) * | 2010-03-26 | 2011-09-28 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模版固定装置 |
| JP2013077683A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Nuflare Technology Inc | レチクルの支持機構および検査装置 |
| CN104849955A (zh) * | 2014-02-13 | 2015-08-19 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种掩膜板支撑装置和清洗掩膜板的方法 |
| JP2021006931A (ja) * | 2015-09-01 | 2021-01-21 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体の保持方法、及び露光方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4525852A (en) | Alignment apparatus | |
| JP3659529B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JPH09148237A (ja) | 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法 | |
| EP0947884A2 (en) | Lithographic projection apparatus with substrate holder | |
| JP3487368B2 (ja) | 走査型露光装置 | |
| JPH07326566A (ja) | マスク支持台 | |
| TWI254841B (en) | Lithographic apparatus | |
| JPH08316123A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH10149975A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JPH0581046B2 (ja) | ||
| JPH10116877A (ja) | 面位置検出装置および方法、それを用いた露光方式、ならびにデバイス製造方法 | |
| WO1998006009A1 (en) | Lithography system with remote multisensor alignment | |
| JP2001267220A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
| JP3624057B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP3068398B2 (ja) | レチクルの製造方法およびその製造装置 | |
| US6426789B1 (en) | Aligner having shared rotation shaft | |
| JPH0653113A (ja) | 走査投影露光装置 | |
| JPH11135412A (ja) | 投影露光装置及びレチクル保持方法 | |
| JPH11260697A (ja) | スキャン式縮小投影露光方法および装置 | |
| JP3271758B2 (ja) | 走査露光方法、走査型露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法 | |
| JP2613901B2 (ja) | 縮小投影型露光装置 | |
| JP3483403B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH0530346Y2 (ja) | ||
| JP3271760B2 (ja) | 走査露光方法、走査型露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法 | |
| JPH10163300A (ja) | ステージ装置 |