JPH07324014A

JPH07324014A - カチオン性キトサン誘導体を含有する化粧料用防腐剤

Info

Publication number: JPH07324014A
Application number: JP11726694A
Authority: JP
Inventors: Michihiro Tajima; 道弘田島; Masato Izume; 正人井爪; Masatoshi Sakurai; 正利櫻井; Kazumi Ito; 和美伊藤; Osamu Igarashi; 修五十嵐
Original assignee: SHIYUU UEMURA KESHOHIN KK; Koken Co Ltd; Katakura Chikkarin Co Ltd
Current assignee: SHIYUU UEMURA KESHOHIN KK; Koken Co Ltd; Katakura Chikkarin Co Ltd
Priority date: 1994-05-30
Filing date: 1994-05-30
Publication date: 1995-12-12

Abstract

(57)【要約】【構成】カチオン性キトサン誘導体を含有することを
特徴とする化粧料用防腐剤。【効果】広範囲の抗菌活性を有し、グラム陽性菌に対
して最も高い活性を持つ。また、他の防腐剤との併用で
より広く強い効果が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カチオン性キトサン誘
導体を含有する化粧料用防腐剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種化粧料には、通常品質の劣化を防ぐ
ために防腐剤が配合されている。従来、このような防腐
剤としては、フェノール、クロルクレゾール、クロルキ
シレノール、イソプロピルメチルフェノール、レゾルシ
ン、オルトフェニルフェノール、パラオキシ安息香酸エ
ステル、チモール、クレゾール、パラクロルフェノー
ル、フェノキシエタノール等のフェノール系化合物又は
その誘導体；安息香酸、安息香酸ナトリウム、サリチル
酸、サリチル酸ナトリウム、デヒドロ酢酸、ソルビン
酸、ソルビン酸カリウム、ウンデシレン酸モノエタノー
ルアミド等の酸類；トリクロロカルバニリド、トリフル
オロメチルジクロロカルバニリド等のアミド系化合物；
塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化アル
キルトリメチルアンモニウム類、塩化セチルピリジニウ
ム、臭化アルキルイソキノリニウム、臭化ドミファン等
の４級アンモニウム類；塩化アルキルジアミノエチルグ
リシンラウリルアミノエチルグリシン、ラウロイルサル
コシンナトリウム等の両性界面活性剤；塩酸クロルヘキ
シジン、グルクロン酸クロルヘキシジン、クロロブタノ
ール、感光素、チラム、クロラミンＴ、ヒノキチオー
ル、エチルアルコール、2-メチル-4- イソチアゾリン-3
- オン、5-クロロ-2- メチル-4- イソチアゾリン-3- オ
ン、ジャーマル、グライダント、ダウィシル等のその他
化合物等が用いられている。中でもパラオキシ安息香酸
エステルは最も広く用いられており、従来品の中では比
較的皮膚刺激性も小さく安全性の高い防腐剤といわれて
きた。

【０００３】しかしながら、パラオキシ安息香酸エステ
ルでさえも、いわゆる化粧品かぶれが多数報告されてい
ること等から、一般に防腐剤の安全性には問題があると
されてきた。一方、エビやカニ等の甲殻類の殻に含まれ
るキチンを脱アセチル化して得られる、D-グルコサミン
がβ-1,4結合によって直鎖状に結合した天然多糖類であ
るキトサンも抗菌力を持つことが知られている（特開昭
62-83877号公報）。

【０００４】しかしながら、キトサンは、抗菌スペクト
ルが非常に狭いことや中性ないしはアルカリ性の溶媒に
は不溶である等の欠点を有し、化粧料の防腐剤としては
利用しにくいものであった。また、キトサンをグリシジ
ルトリアルキルアンモニウムハロゲン化物を用いて置換
することによって得られるカチオン性キトサン誘導体を
皮膚処理用美容剤に配合することにより、皮膚を適度の
湿った状態に維持し、乾燥を防ぐことが知られているが
（特公平６−２７１２１号公報、特開昭６１−１９２７
０１号公報）、化粧料の防腐剤として使用された例はな
い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の化粧
料用防腐剤が持つ欠点を解決し、高い安全性と広い抗菌
スペクトルを有する化粧料用防腐剤を提供することを目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、カチオン性キ
トサン誘導体を含有することを特徴とする化粧料用防腐
剤である。本発明に用いるカチオン性キトサン誘導体
は、第４級アンモニウム基等のカチオン性基を有するキ
トサン誘導体であり、好ましくは、キトサンを一般式
（II）：

【０００７】

【化３】

【０００８】［式中、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は、同一又は
相異なり、それぞれアルキル基又はアラルキル基を表
し、Ｒ₆は次式（Ｂ）：

【０００９】

【化４】

【００１０】で示される基又は次式（Ｃ）：

【００１１】

【化５】

【００１２】（式中、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示
される基を表し、Ｘはハロゲン原子を表す。］で示され
る第４級アンモニウムハロゲン化物を用いて部分的に置
換することによって得ることができる。ここで、原料と
して用いるキトサンは、カニ、エビ等の甲殻類の殻や昆
虫等の外骨格、あるいは菌、藻類の細胞壁等に存在する
キチンを濃アルカリによる脱アセチル化処理によって得
られるD-グルコサミン、又はこれとN-アセチル-D- グル
コサミンがβ-1,4結合によって直鎖状に結合した多糖類
である。キトサンの構成糖であるD-グルコサミンは体内
の細胞膜表面や細胞間隙で数々の重要な生理機能を担う
ペプチドグリカン等の糖タンパクや糖脂質の構成成分と
して普遍的に存在し、代謝機構が備わっていること等か
ら、高い安全性を有しているものと考えられる。

【００１３】キトサンを得る具体的な例としては、次の
方法が挙げられる。即ち、カニ、エビの甲殻を希塩酸で
処理して脱炭酸カルシウム処理し、次いで希水酸化ナト
リウム溶液で処理して脱タンパクする。得られた粗キチ
ンを水洗し、必要に応じて精製処理し、つづいて濃水酸
化ナトリウム溶液で脱アセチル化処理する。得られた粗
キトサンを水洗し、必要に応じて精製しキトサンとす
る。

【００１４】キトサンとしては、一般には、溶解性や作
業性の点から脱アセチル化率50〜100 ％、好ましくは70
〜100 ％のものを用いる。本発明に用いるカチオン性キ
トサン誘導体は、好ましくは、脱アセチル化率50〜100
％のキトサンを、水を含有するアルコール類、アセトン
類との有機溶媒中、前記式（II）で示される第４級アン
モニウムハロゲン化物を用いて部分的に置換することに
よって得ることができる。

【００１５】以上のようにして得られるカチオン性キト
サン誘導体は、一般式（Ｉ）：

【００１６】

【化６】

【００１７】［式中、Ｒ₁は次式（Ａ）：

【００１８】

【化７】

【００１９】（式中、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は、同一又は
相異なり、それぞれアルキル基又はアラルキル基を表
し、Ｘはハロゲン原子を表す。）で示される第４級アン
モニウム基、水素原子又はアセチル基を表し、Ｒ₂は前
記式（Ａ）で示される第４級アンモニウム基又は水素原
子を表す。］で示される繰返し単位からなる第４級高分
子化合物である。

【００２０】前記式（Ｉ）の置換基である第４級アンモ
ニウム基（Ａ）において、Ｒ₃、Ｒ ₄又はＲ₅で表され
るアルキル基としては、好ましくは炭素数１〜２２のア
ルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル
基、ｔ−ブチル基、ドデシル基が挙げられ、アラルキル
基としては、例えばベンジル基、フェネチル基が挙げら
れる。また、Ｘで表されるハロゲン原子としては、例え
ば塩素原子、臭素原子が挙げられる。

【００２１】第４級アンモニウム基（Ａ）の置換度（繰
返し単位当たりの第４級アンモニウム基（Ａ）の数）
は、第４級アンモニウムハロゲン化物（II）の添加量に
より調節可能である。得られたカチオン性キトサン誘導
体は水溶性であり、また高置換度のカチオン性キトサン
誘導体は低級アルコールにも溶解することができる。第
４級アンモニウム基（Ａ）の置換度は、特に制限はない
が、溶解性及び経済性の点から 0.7〜1.5 であることが
好ましい。

【００２２】本発明の化粧料用防腐剤は、化粧石鹸、洗
顔料、シャンプー、リンス、染毛料、頭髪用化粧品、一
般クリーム、乳液、ひげそり用クリーム、日焼けクリー
ム、日焼け止めクリーム、化粧水、オーデコロン、ひげ
そり用ローション、日焼けローション、日焼け止めロー
ション、おしろいパウダー、ファンデーション、パッ
ク、爪クリーム、エナメル、エナメル除去液、眉墨、ほ
お紅、アイクリーム、アイシャドウ、マスカラ、口紅、
リップクリーム、歯磨き、浴用化粧品等の化粧料に適用
される。

【００２３】本発明の化粧料用防腐剤を化粧料に適用す
るに際し、カチオン性キトサン誘導体の化粧料への配合
量は化粧料全量中の0.01〜10重量％が適当であり、特に
好ましくは0.1 〜１重量％である。本発明におけるカチ
オン性キトサン誘導体は単独で抗菌作用を有するが、他
の防腐剤との併用で更に効果がでる。例えば、併用され
る防腐剤としては、フェノール系化合物又はその誘導体
（フェノール、クロルクレゾール、クロルキシレノー
ル、イソプロピルメチルフェノール、レゾルシン、オル
トフェニルフェノール、パラオキシ安息香酸エステル、
チモール、クレゾール、パラクロルフェノール、フェノ
キシエタノール）、酸類（安息香酸、安息香酸ナトリウ
ム、サリチル酸、サリチル酸ナトリウム、デヒドロ酢
酸、ソルビン酸、ソルビン酸カリウム、ウンデシレン酸
モノエタノールアミド）、アミド系化合物（トリクロロ
カルバニリド、トリフルオロメチルジクロロカルバニリ
ド）、４級アンモニウム類（塩化ベンザルコニウム、塩
化ベンゼトニウム、塩化アルキルトリメチルアンモニウ
ム類、塩化セチルピリジニウム、臭化アルキルイソキノ
リニウム、臭化ドミファン）、両性界面活性剤（塩化ア
ルキルジアミノエチルグリシンラウリルアミノエチルグ
リシン、ラウロイルサルコシンナトリウム）、その他化
合物（塩酸クロルヘキシジン、グルクロン酸クロルヘキ
シジン、クロロブタノール、感光素、チラム、クロラミ
ンＴ、ヒノキチオール、エチルアルコール、2-メチル-4
- イソチアゾリン-3- オン、5-クロロ-2- メチル-4- イ
ソチアゾリン-3- オン、ジャーマル、グライダント、ダ
ウィシル）等がある。カチオン性キトサン誘導体と併用
する防腐剤はいずれの防腐剤であっても使用することが
できるが、特に好ましくはフェノキシエタノールとの併
用であり、高い抗菌活性を持つ化粧料を得ることができ
る。カチオン性キトサン誘導体とフェノキシエタノール
の併用によりフェノキシエタノールの配合量を重量比で
1/2 〜1/5 に減少させることが可能であり、またそれぞ
れ単独による配合より広い抗菌スペクトルを得ることが
可能である。カチオン性キトサン誘導体とフェノキシエ
タノールの配合比は重量比で50/1〜1/50が適当であり、
特に好ましくは10/1〜1/10である。

【００２４】また、カチオン性キトサン誘導体とパラオ
キシ安息香酸エステルとの併用においても、パラオキシ
安息香酸エステルの配合量を重量比で2/5 〜1/10に減少
させることが可能であり、更にそれぞれ単独による配合
より広い抗菌スペクトルを得ることが可能である。カチ
オン性キトサン誘導体とパラオキシ安息香酸エステルの
配合比は重量比で50/1〜1/50が適当であり、特に好まし
くは10/1〜1/10である。

【００２５】

【実施例】以下、製造例及び実施例により本発明を更に
具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定され
るものではない。（製造例１）脱アセチル化率85％の粉末キトサン15g を
80％イソプロピルアルコール300mlに分散させ、グリシ
ジルトリメチルアンモニウムクロリド（純分80％）をキ
トサンのアミノ基に対して等モル（14.4g ）、５倍モル
（72g ）、10倍モル（144g）になるように加え、60℃で
24時間反応を行った。次いで、濾過し、80％イソプロピ
ルアルコールによる洗浄を繰り返し、最後にアセトンで
洗浄した後、濾過残を70℃で一晩乾燥して粉末のカチオ
ン性キトサン誘導体（カチオン性キトサン誘導体１）を
得た。収量及び置換度を表１に示した。

【００２６】

【表１】

【００２７】（製造例２）脱アセチル化率85％の粉末キ
トサン15g を80％イソプロピルアルコール300mlに分散
させ、グリシジルトリメチルアンモニウムクロリド（純
分80％）をキトサンのアミノ基に対して等モル（14.4g
）、５倍モル（72g ）、10倍モル（144g）になるよう
に加え、更に15％水酸化カリウム溶液5ml 加え60℃で24
時間反応を行った。次いで、濾過し、80％イソプロピル
アルコールによる洗浄を繰り返し、最後にアセトンで洗
浄した後、濾過残を70℃で一晩乾燥して粉末のカチオン
性キトサン誘導体（カチオン性キトサン誘導体２）を得
た。収量及び置換度を表２に示した。

【００２８】

【表２】

【００２９】（実施例１）下記〜の溶液を乾熱滅菌
済みの試験管へ10mlずつ分注し、菌液0.1ml を接種して
経時的に生菌数を測定した。生菌数は、検体より各1ml
を採取して平板混釈法によって測定した。カチオン性キ
トサン誘導体としては、製造例１による置換度0.71の誘
導体を用いた。

【００３０】その結果、表３〜表９に示すように、カチ
オン性キトサン誘導体単独でBacillus subtilis に強い
抗菌作用が認められた。カチオン性キトサン誘導体とパ
ラオキシ安息香酸メチル（商品名：メチルパラベン）の
併用ではそれぞれ単独より広い抗菌スペクトルと強い抗
菌力が示された。

【００３１】また、カチオン性キトサン誘導体とフェノ
キシエタノールと併用においても同様に、それぞれ単独
より広い抗菌スペクトルが認められ、その抗菌力は強ま
った。 0.1％カチオン性キトサン誘導体 0.5％カチオン性キトサン誘導体 0.1％メチルパラベン 0.3％フェノキシエタノール 0.05 ％メチルパラベン 0.1％カチオン性キトサン誘導体 0.1％メチルパラベン 0.1％カチオン性キトサン誘導体 0.3％フェノキシエタノール 0.2％カチオン性キトサン誘導体表３〜表９の菌種において、E.c は Escherichia coli
(大腸菌) 、P.a は Pseudomonas aeruginosa （緑膿
菌）、B.s は Bacillus subtills（枯草菌）、Ca.は Ca
ndida albicans(カンジダ菌) 、As. は Aspergillus ni
ger（黒コウジ黴）を表す。

【００３２】

【表３】

【００３３】

【表４】

【００３４】

【表５】

【００３５】

【表６】

【００３６】

【表７】

【００３７】

【表８】

【００３８】

【表９】

【００３９】（実施例２）化粧水Ａ成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）1,3-ブチレングリコール 2.0 2.0 （２）ポリオキシエチレン(30)ポリオキシプロピレン(6) デシルテトラデシルエーテル 0.2 0.2 （３）香料 0.05 0.05 （４）ピロリドンカルボン酸ナトリウムアラントイン 0.05 0.05 （５）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （６）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（１）から（３）を50℃で加熱溶解し、別に成分
（４）から（６）を撹拌溶解した。成分（４）から
（６）の溶解したものの撹拌下、成分（１）から（３）
の溶解したものを溶解させ、化粧水を得た。カチオン性
キトサン誘導体としては、製造例１による置換度0.71の
誘導体を用いた。

【００４０】前記にて作成した化粧水Ａ、について
次の条件にてチャレンジテストを行った。その結果、表
１０に示すように優れた効果が認められた。抗菌力測定
方法−チャレンジテスト−化粧水Ａ、を30g ずつ容
器に入れ、下記の５種類の菌液全てを0.3ml ずつ接種し
て経時的に生菌数を測定した。生菌数は、検体より各1g
を採取して平板混釈法により測定した。結果は、細菌用
培地と真菌用培地に生育したコロニー数の合計の1/2 と
した。

【００４１】菌種：Escherichia coli（大腸菌）、Pseu
domonas aeruginosa（緑膿菌）、Bacillus subtilis(枯
草菌) 、Candida albicans（カンジダ菌）、Aspergillu
s niger(黒コウジ黴) 植菌数： 10⁴〜10⁶/g（各菌種につき）培養：25℃、28日間（実施例３）化粧水Ｂ成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）1,3-ブチレングリコール 5.0 5.0 （２）ポリオキシエチレン(30)ポリオキシプロピレン(6) デシルテトラデシルエーテル 0.2 0.2 （３）香料 0.05 0.05 （４）エタノール 5.0 5.0 （５）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （６）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（１）から（３）を50℃で加熱溶解し、別に成分
（４）から（６）を撹拌溶解した。成分（４）から
（６）の溶解したものの撹拌下、成分（１）から（３）
の溶解したものを溶解させ、化粧水を得た。カチオン性
キトサン誘導体としては、製造例２による置換度0.88の
誘導体を用いた。

【００４２】前記にて作成した化粧水Ｂ、について
実施例２と同様にチャレンジテストを行った。その結
果、表１０に示すように優れた効果が認められた。（実施例４）クリーム成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）セタノール 2.5 2.5 （２）スクワラン 5.0 5.0 （３）硬化油 4.0 4.0 （４）親油型モノステアリン酸グリセリル 2.5 2.5 （５）モノステアリン酸ソルビタン 2.0 2.0 （６）モノステアリン酸ポリエチレン(25)グリコール 2.5 2.5 （７）トリオクタン酸グリセリル 5.0 5.0 （８）d1- α- トコフェロール 0.1 0.1 （９）1,3-ブチレングリコール 5.0 5.0 （１０）フェノキシエタノール 0.3 0.3 （１１）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （１２）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（１）から（８）を80℃で加熱溶解し、別に成分
（９）から（１２）も80℃で加熱溶解した。成分（１）
から（８）の溶解したものの撹拌下に成分（９）から
（１２）の溶解したものを加えて乳化させ、クリームを
得た。カチオン性キトサン誘導体としては、製造例２に
よる置換度0.88の誘導体を用いた。

【００４３】前記にて作成したクリーム、について
実施例２と同様にチャレンジテストを行った。その結
果、表１０に示すように優れた効果が認められた。（実施例５）パックＡ成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）スクワラン 2.0 2.0 （２）サフラワー油 1.0 1.0 （３）トリオレイン酸ポリオキシエチレン(20)ソルビタン 1.0 1.0 （４）ベントナイト 4.5 4.5 （５）タルク 1.5 1.5 （６）グリセリン 5.0 5.0 （７）1,3-ブチレングリコール 1.0 1.0 （８）フェノキシエタノール 0.3 0.3 （９）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （１０）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（６）から（１０）を80℃で加熱溶解し、撹拌下、
成分（４）及び（５）を加えて十分に膨潤分散させた。
更に、別に成分（１）から（３）を混合したものを加
え、パックを得た。カチオン性キトサン誘導体として
は、製造例１による置換度1.08の誘導体を用いた。

【００４４】前記にて作成したパックＡ、について
実施例２と同様にチャレンジテストを行った。その結
果、表１０に示すように優れた効果が認められた。（実施例６）パックＢ成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）ポリビニルアルコール 13.0 13.0 （２）ヒドロキシプロピルセルロース 2.0 2.0 （３）エタノール 8.0 8.0 （４）グリセリン 5.0 5.0 （５）1,3-ブチレングリコール 5.0 5.0 （６）フェノキシエタノール 0.3 0.3 （７）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （８）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（４）から（８）を80℃で加熱溶解し、撹拌下、成
分（１）及び（２）を加えて十分に膨潤分散させた。室
温まで冷却した後、成分（３）を加え、パックを得た。
カチオン性キトサン誘導体としては、製造例１による置
換度1.40の誘導体を用いた。

【００４５】前記にて作成したパックＢ、について
実施例２と同様にチャレンジテストを行った。その結
果、表１０に示すように優れた効果が認められた。（実施例７）シャンプーＡ成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）ラウリン酸アミドプロピルベタイン液 40.0 40.0 （２）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 5.0 5.0 （３）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （４）1,3-ブチレングリコール 5.0 5.0 （５）フェノキシエタノール 0.3 0.3 （６）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（４）から（６）を80℃で加熱溶解後、室温まで冷
却し、成分（１）から（３）を加えて撹拌溶解させ、シ
ャンプーを得た。カチオン性キトサン誘導体としては、
製造例２による置換度1.32の誘導体を用いた。

【００４６】前記にて作成したシャンプーＡ、につ
いて実施例２と同様にチャレンジテストを行った。その
結果、表１０に示すように優れた効果が認められた。（実施例８）シャンプーＢ成分配合量（重量％）実施例品対照品（１）ラウリン酸アミドプロピルベタイン液 15.0 15.0 （２）ラウリル硫酸トリエタノールアミン 40.0 40.0 （３）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 5.0 5.0 （４）カチオン性キトサン誘導体 0.2 − （５）1,3-ブチレングリコール 5.0 5.0 （６）フェノキシエタノール 0.3 0.3 （７）精製水で全量を100 とする。 ──────────────────────────────────── 合計 100.0 100.0 成分（５）から（７）を80℃で加熱溶解後、室温まで冷
却し、成分（１）から（４）を加えて撹拌溶解させ、シ
ャンプーを得た。カチオン性キトサン誘導体としては、
製造例２による置換度1.46の誘導体を用いた。

【００４７】前記にて作成したシャンプーＢ、につ
いて実施例２と同様にチャレンジテストを行った。その
結果、表１０に示すように優れた効果が認められた。

【００４８】

【表１０】

【００４９】

【発明の効果】本発明の化粧料用防腐剤は広範囲の抗菌
活性を有し、グラム陽性菌に対して最も高い活性を持
つ。また、他の防腐剤との併用でより広く強い効果が得
られる。例えば、低刺激性であるフェノキシエタノール
はその抗菌活性がグラム陽性菌に対しかなり低いが、カ
チオン性キトサン誘導体との併用により広い範囲の抗菌
活性を示すことができる。また、パラオキシ安息香酸エ
ステルは前述したように皮膚刺激が問題となるが、カチ
オン性キトサン誘導体との併用によりその配合量を減ら
すことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者井爪正人茨城県土浦市並木５丁目5511番地片倉チッカリン株式会社筑波総合研究所内 (72)発明者櫻井正利東京都世田谷区桜丘４丁目23番５号株式会社シュウウエムラ化粧品研究室内 (72)発明者伊藤和美東京都世田谷区桜丘４丁目23番５号株式会社シュウウエムラ化粧品研究室内 (72)発明者五十嵐修東京都豊島区目白３丁目14番３号株式会社高研東京営業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】カチオン性キトサン誘導体を含有するこ
とを特徴とする化粧料用防腐剤。
【請求項２】更に、フェノール系化合物及び／又はそ
の誘導体を含有することを特徴とする請求項１記載の化
粧料用防腐剤。
【請求項３】フェノール系化合物及び／又はその誘導
体がパラオキシ安息香酸エステル及び／又はフェノキシ
エタノールであることを特徴とする請求項２記載の化粧
料用防腐剤。
【請求項４】カチオン性キトサン誘導体が一般式
（Ｉ）：【化１】［式中、Ｒ₁は次式（Ａ）：【化２】（式中、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は、同一又は相異なり、そ
れぞれアルキル基又はアラルキル基を表し、Ｘはハロゲ
ン原子を表す。）で示される第４級アンモニウム基、水
素原子又はアセチル基を表し、Ｒ₂は前記式（Ａ）で示
される第４級アンモニウム基又は水素原子を表す。］で
示される繰返し単位からなることを特徴とする請求項１
ないし３のいずれか１項に記載の化粧料用防腐剤。
【請求項５】請求項３記載の化粧料用防腐剤を含有す
ることを特徴とする化粧料。