JPH073238A - 電子回路形成用接着剤及び電子回路形成方法 - Google Patents

電子回路形成用接着剤及び電子回路形成方法

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JPH073238A
JPH073238A JP14644493A JP14644493A JPH073238A JP H073238 A JPH073238 A JP H073238A JP 14644493 A JP14644493 A JP 14644493A JP 14644493 A JP14644493 A JP 14644493A JP H073238 A JPH073238 A JP H073238A
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JP
Japan
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adhesive
electronic circuit
parts
weight
forming
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JP14644493A
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English (en)
Inventor
Hideki Miyagawa
秀規 宮川
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/303Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 接着剤の厚みを十分に確保でき、かつ少量の
塗布量で広い接着面積が得られる接着剤とそれを用いた
電子回路形成方法を提供する。 【構成】 エポキシ樹脂、エチレン酢ビコポリマー、イ
ミダゾール系熱硬化剤、有機過酸化物、無機質充填剤、
チクソトロピー剤及び有機質顔料を含む一液性の電子回
路形成用接着剤であり、この接着剤を基板に塗布後に体
積膨張させ、部品を装着し、熱硬化し、フラックス塗布
後溶融半田中に浸漬して半田接合する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子回路を形成する際
に基板上に電子部品を固定するための電子回路形成用接
着剤及び電子回路形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子回路形成方法として、基板上
に熱硬化型接着剤を塗布し、電子部品を装着し、高温炉
中で接着剤を加熱硬化し、フラックス塗布後、溶融半田
中に浸漬して半田接合を行う方法が広く用いられてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の電子回路形成方法では、部品接着面の高さ
が高い電子部品に対して塗布した接着剤が接触できず、
電子部品を基板に固定できないことがあるという問題を
有していた。
【0004】又、重量の大きい電子部品に対しては広い
接着面積を得るために接着剤を多量に塗布しなければな
らないため、接着剤を高速塗布した場合に接着剤が糸を
引き、これが基板の電極に付着して半田付けが不可能に
なるという問題があった。
【0005】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、接着
剤の厚みを十分に確保できて部品が欠落せず、また少量
の塗布量で広い接着面積が得られ、優れた品質の電子回
路を形成できる電子回路形成用接着剤及び電子回路形成
方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の電子回路形成用
接着剤は、エポキシ樹脂、エチレン酢ビコポリマー、イ
ミダゾール系熱硬化剤、有機過酸化物、無機質充填剤、
チクソトロピー剤及び有機質顔料を含む一液性の電子回
路形成用接着剤であって、エポキシ樹脂の総量100重
量部に対して、エチレン酢ビコポリマー10〜80重量
部、イミダゾール系熱硬化剤5〜40重量部、有機過酸
化物0.1〜5重量部、無機充填剤10〜100重量
部、チクソトロピー剤0.1〜20重量部、有機質顔料
0.01〜5重量部を含むことを特徴とする。
【0007】好適には、エポキシ樹脂が0〜180°C
で液体であり、チクソトロピー剤がアマイドワックス又
は無水シリカ微粉末又は石綿の少なくとも1つ以上を含
むものである。
【0008】又、本発明の電子回路形成方法は、上記電
子回路形成用接着剤を基板上に塗布し、接着剤を体積膨
張させ、接着剤上に部品を装着し、接着剤を加熱硬化
し、基板にフラックスを塗布し、基板を溶融半田中に浸
漬して半田接合を行うことを特徴とする。
【0009】好適には、加熱、紫外線照射、減圧の少な
くとも1つ以上で接着剤を体積膨張させる。
【0010】
【作用】本発明によれば、エチレン酢ビコポリマーと有
機過酸化物を含んでいるので、加熱、紫外線照射、減圧
等の手段にて接着剤を体積膨張させることができ、その
ため十分な接着剤厚みを得ることができるとともに少量
の塗布量で広い接着面積を得ることができ、したがって
部品接着面の高さが高い電子部品や重量の大きい電子部
品についても欠落する恐れがなく、また高速塗布しても
塗布量が少なくてよいため糸引き現象を防止でき、半田
付け品質に影響を与えず、優れた品質の電子回路基板を
製造できる。
【0011】エチレン酢ビコポリマーは、エポキシ樹脂
総量100重量部に対して10重量部より少ないと十分
な体積膨張効果が得られず、80重量部より多いと接着
強度が低下するため、10〜80重量部にすることによ
って体積膨張効果と接着強度の両者を確保している。ま
た、有機過酸化物は、0.1重量部より少ないと体積膨
張効果が得られず、5重量部より多いと過度に硬化し易
くなって保存性が悪くなるため、0.1〜5重量部にす
ることによって体積膨張効果と保存性を確保している。
【0012】また、エポキシ樹脂が0〜180°Cで液
体であるものを使用することにより冷蔵保存時での結晶
化を防止でき、かつ加熱硬化までのエポキシ樹脂の空中
飛散を防止できる。
【0013】また、チクソトロピー剤をアマイドワック
ス又は無水シリカ微粉末又は石綿の少なくとも1つ以上
とすることにより、さらに糸引きを防止できる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の電子回路形成用接着剤及び電
子回路形成方法の一実施例を図面を参照しながら説明す
る。
【0015】なお、以下において用いる配合成分の内容
は次の通りである。
【0016】エポキシ樹脂A :エピコート80
7(油化シェルエポキシ社製)(融点0°C未満) エポキシ樹脂B :エピコート1001(油化シ
ェルエポキシ社製)(融点64°C) エチレン酢ビコポリマー:ユカロンEVA−41H(三
菱油化社製) イミダゾール系熱硬化剤:キュアゾール2MA−OK
(四国化成社製) 有機過酸化物 :パークミルD(日本油脂社
製) 充填剤 :サイプラボンド(日本ミスト
ロン社製) チクソトロピー剤A :ディスパロンA603−20
X(楠本化成社製)(脂肪酸アマイドワックス) チクソトロピー剤B :アエロジル200番(日本ア
エロジル社製)(無水シリカ) チクソトロピー剤C :カソドリアRG244(巴工
業社製)(石綿) 有機質顔料 :カーミン6B(大日本インキ
社製) また、表4中に示す物性の測定法及び評価方法は次の通
りである。
【0017】接着剤厚み増加率 :基板に接着剤を接着
剤塗布機にて100点塗布し、接着剤の厚みh0 を測定
し、接着剤を140°C、1Torr 中で3分間体積膨張
させたものの接着剤厚みh1 を測定し、{(h1
0 )/h0 }×100〔%〕を接着剤厚み増加率とす
る。
【0018】接着剤面積増加率 :基板に接着剤を接着
剤塗布機にて100点塗布し、接着剤の面積S0 を測定
し、接着剤を140°C、1Torr 中で3分間体積膨張
させたものの接着剤面積S1 を測定し、{(S1
0 )/S0 }×100〔%〕を接着剤面積増加率とす
る。
【0019】糸引き発生率 :基板に接着剤を接着
剤塗布機にて1000点塗布し、塗布形状が糸引き状で
ある点数aを測定して、(a/1000)×100
〔%〕を糸引き発生率とする。
【0020】接着強度 :JIS K 685
0の測定に準ずる。
【0021】冷蔵時の結晶化 :接着剤をポリエチレ
ン容器に封入して、5±1°Cにて10日間放置したも
のについて結晶の有無を調べる。
【0022】25°Cでの保存性:接着剤の製造直後の
粘度η0 をE型粘度計で測定し、接着剤を25±1°C
にて10日間放置した後、再び粘度η1 を測定し、η1
/η2 <2であるものを25°Cでの保存性合格とす
る。
【0023】部品欠陥率 :基板に接着剤を接着
剤塗布機で塗布し、接着剤を140°C、1Torr で3
分間体積膨張したものに、20PinSOIC部品を部
品装着機にて装着し、基板を150°Cに、5分間暴露
して接着剤を熱硬化させたものを反転し、落下した部品
数b〔個〕をサンプル数10000〔個〕にて測定し、
(b〔個〕/10000〔個〕)×100〔%〕を部品
欠陥率とする。
【0024】半田付け性 :基板に接着剤を接着
剤塗布機で塗布し、接着剤を140°C、1Torr で3
分間体積膨張したものに、20PinSOIC部品を部
品装着機にて装着し、基板を150°Cに、5分間暴露
して接着剤を熱硬化させたものを反転し、部品が落下し
なかった基板100枚にフラックスを塗布し、基板を溶
融半田槽を通過させて半田接合基板を作製した。図1に
以上の半田付け性評価サンプルの製作工程のフローチャ
ートを示す。こうして作製した基板について半田接合の
有無を測定し、サンプル100枚に全てに半田接合が見
られたものについて半田付け性を合格とする。
【0025】次に、各実施例及び比較例について説明す
る。表1(実施例)及び表2、表3(比較例)に示す処
方の成分を十分攪拌して接着剤を調製した。各例におけ
る成分組成は重量部である。
【0026】
【表1】
【0027】
【表2】
【0028】
【表3】
【0029】これらの接着剤について特性を調べたとこ
ろ、表4に示す結果を得た。
【0030】
【表4】
【0031】表4から、エポキシ樹脂の融点が64°C
の比較例1においては、冷蔵時の結晶化が見られ、また
エチレン酢ビコポリマーが10重量部以下の比較例2に
おいては、接着剤厚み増加率が、10〜80重量部の各
実施例に比して30〜50%程度低下しており、80重
量部以上の比較例3においては、接着強度が各実施例に
比して50%程度低下している。また、有機酸化物が
0.1重量部以下の比較例4においては、0.1〜5重
量部の各実施例に比して接着剤厚み増加率が10%以下
に低下しており、5重量部以上の比較例5においては、
25°Cでの保存性が著しく劣っている。また、チクソ
トロピー剤が0.1〜20重量の各実施例に比して、2
0重量部以上の比較例6及び0.1重量部以下の比較例
7においては糸引き発生率が10〜60倍程度増加し、
半田付け性が悪化している。
【0032】
【発明の効果】本発明の電子回路形成用接着剤及びそれ
を用いた電子回路形成方法によると、エチレン酢ビコポ
リマーと有機過酸化物を含んでいるので、加熱、紫外線
照射、減圧等の手段にて接着剤を体積膨張させることが
でき、そのため十分な接着剤厚みを得ることができると
ともに少量の塗布量で広い接着面積を得ることができ、
部品接着面の高さが高い電子部品や重量の大きい電子部
品についても欠落する恐れがなく、また高速塗布しても
塗布量が少なくてよいため糸引き現象を防止でき、半田
付け品質に影響を与えず、優れた品質の電子回路基板を
製造できる。
【0033】また、エポキシ樹脂を0〜180°Cで液
体であるものとし、チクソトロピー剤をアマイドワック
ス又は無水シリカ又は石綿の少なくとも1つ以上とする
ことにより、さらに保存性とディスペンス性を向上する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の電子回路基板形成方法を示す
フローチャートである。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂、エチレン酢ビコポリマ
    ー、イミダゾール系熱硬化剤、有機過酸化物、無機質充
    填剤、チクソトロピー剤及び有機質顔料を含む一液性の
    電子回路形成用接着剤であって、エポキシ樹脂の総量1
    00重量部に対して、エチレン酢ビコポリマー10〜8
    0重量部、イミダゾール系熱硬化剤5〜40重量部、有
    機過酸化物0.1〜5重量部、無機充填剤10〜100
    重量部、チクソトロピー剤0.1〜20重量部、有機質
    顔料0.01〜5重量部を含むことを特徴とする電子回
    路形成用接着剤。
  2. 【請求項2】 エポキシ樹脂が、0〜180°Cで液体
    であることを特徴とする請求項1記載の電子回路形成用
    接着剤。
  3. 【請求項3】 チクソトロピー剤が、アマイドワックス
    又は無水シリカ微粉末又は石綿の少なくとも1つ以上を
    含むことを特徴とする請求項1記載の電子回路形成用接
    着剤。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の電子回路形成用接着剤を
    基板上に塗布し、接着剤を体積膨張させ、接着剤上に部
    品を装着し、接着剤を加熱硬化し、基板にフラックスを
    塗布し、基板を溶融半田中に浸漬して半田接合を行うこ
    とを特徴とする電子回路形成方法。
  5. 【請求項5】 接着剤を体積膨張させる方法が加熱、紫
    外線照射、減圧の少なくとも1つ以上であることを特徴
    とする請求項4記載の電子回路形成方法。
JP14644493A 1993-06-17 1993-06-17 電子回路形成用接着剤及び電子回路形成方法 Pending JPH073238A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004069894A1 (ja) * 2003-02-06 2004-08-19 Matsushita Electric Works, Ltd. エポキシ樹脂組成物、同組成物の硬化層を有する半導体装置、および同半導体装置の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004069894A1 (ja) * 2003-02-06 2004-08-19 Matsushita Electric Works, Ltd. エポキシ樹脂組成物、同組成物の硬化層を有する半導体装置、および同半導体装置の製造方法
JPWO2004069894A1 (ja) * 2003-02-06 2006-05-25 松下電工株式会社 エポキシ樹脂組成物、同組成物の硬化層を有する半導体装置、および同半導体装置の製造方法

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