JP7189480B1 - フラックスコートボール及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ウェーハに対する濡れ性が高められたフラックスコートボール；ボールの凝集が生じにくく、簡便な方法であるフラックスコートボールの製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、コア部１１０と、コア部１１０を被覆するシェル部１２０と、を備えるフラックスコートボール１００を採用する。コア部１１０は、ソルダボール又は銅核ボールからなり；シェル部１２０は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり；フラックスコートボール１００における酸化膜厚が３ｎｍ以下であることを特徴とする。【選択図】図１
Description
本発明は、フラックスコートボール及びその製造方法に関する。
はんだバンプ形成方法には、めっき法、ペースト印刷法、ボール搭載法などがあるが、それぞれ一長一短があるとされる。
これらの中で、ボール搭載法は、球状小型のはんだボールを電極上に直接搭載し、リフローによってバンプにする方法であり、他の方法に比べて、バンプを高くできる、バンプ高さのばらつきを小さくすることができる等の利点がある。一方、ボール搭載法は、ウェーハ全面に、はんだボールを搭載する必要があり、そのはんだボールの数は非常に多くなるため、歩留まり向上が問題となる。
これらの中で、ボール搭載法は、球状小型のはんだボールを電極上に直接搭載し、リフローによってバンプにする方法であり、他の方法に比べて、バンプを高くできる、バンプ高さのばらつきを小さくすることができる等の利点がある。一方、ボール搭載法は、ウェーハ全面に、はんだボールを搭載する必要があり、そのはんだボールの数は非常に多くなるため、歩留まり向上が問題となる。
ボール搭載法によるはんだバンプ形成は、まず、ウェーハ上の電極上に、メタルマスクを介してフラックスを塗布する。次に、フラックスが塗布されたウェーハ上の電極上に位置合わせして、はんだボールを搭載する。次に、はんだボールを搭載したウェーハをリフローすることで、はんだボールを溶融させることにより、はんだバンプが形成される。
小型情報機器の発達により、搭載される電子部品では急速な小型化が進行している。電子部品では、小型化に伴い、接続端子の狭小化や実装面積の縮小化が求められる。はんだバンプ形成においては、狭ピッチパターン上に、フラックスを安定的に印刷することが難しくなってきている。
これに対して、はんだボールの表面に予めフラックスを被覆した、フラックスコートボールが提案されている。例えば、球状小型のはんだボール表面に、液状フラックスを塗布し乾燥させて作製されたフラックスコートボールが開示されている（特許文献１参照）。
これに対して、はんだボールの表面に予めフラックスを被覆した、フラックスコートボールが提案されている。例えば、球状小型のはんだボール表面に、液状フラックスを塗布し乾燥させて作製されたフラックスコートボールが開示されている（特許文献１参照）。
しかしながら、従来のフラックスコートボールでは、その製造の際、はんだボールに液状フラックスを塗布し乾燥させた際に、凝集を生じやすい問題がある。また、従来のフラックスコートボールにおいては、ウェーハに対する濡れ性の点で、更なる向上が必要である。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、ウェーハに対する濡れ性が高められたフラックスコートボール；ボールの凝集が生じにくく、簡便な方法であるフラックスコートボールの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、上記の課題を解決するため、以下の手段を採用する。
［１］ コア部と、前記コア部を被覆するシェル部とを備え、前記コア部は、ソルダボール又は銅核ボールからなり、前記シェル部は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、酸化膜厚が３ｎｍ以下であることを特徴とする、フラックスコートボール。
［２］ さらに、真球度が０．９９０以上である、［１］に記載のフラックスコートボール。
［３］ 前記フラックス層の厚さが０．５μｍ以上２．５μｍ以下である、［１］又は［２］に記載のフラックスコートボール。
［４］ 前記フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）が２．０μｍ以下である、［１］～［３］のいずれか一項に記載のフラックスコートボール。
［５］ 前記活性剤が、少なくとも有機酸を含む、［１］～［４］のいずれか一項に記載のフラックスコートボール。
［６］ 前記有機酸が、グルタル酸、ジグリコール酸、マロン酸、クエン酸、ピメリン酸、アジピン酸及び２，２－ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸からなる群より選択される少なくとも一種である、［５］に記載のフラックスコートボール。
［７］ ボール全体の径が３０μｍ以上３００μｍ以下である、［１］～［６］のいずれか一項に記載のフラックスコートボール。
［８］ ソルダボール又は銅核ボールからなるコア部と、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、前記コア部を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールの製造方法であって、ソルダボール又は銅核ボールと、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する乾式処理工程を有することを特徴とする、フラックスコートボールの製造方法。
［９］ 前記乾式処理工程において、前記フラックス材料に対する、前記のソルダボール又は銅核ボールの割合（質量比）を１～１０として、前記のソルダボール又は銅核ボールと、前記フラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する、［８］に記載のフラックスコートボールの製造方法。
本発明によれば、ウェーハに対する濡れ性が高められたフラックスコートボール；ボールの凝集が生じにくく、簡便な方法であるフラックスコートボールの製造方法を提供することができる。
以下、図を参照しながら、本実施形態のフラックスコートボールについて詳細に説明する。尚、以下の図面においては、図を見やすくするため、各構成要素の寸法や比率などは適宜異ならせてある。
（フラックスコートボール）
本発明の一態様に係るフラックスコートボールは、コア部と、前記コア部を被覆するシェル部と、を備える。
かかるフラックスコートボールにおいて、前記コア部は、ソルダボール又は銅核ボールからなる。前記シェル部は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなる。
かかるフラックスコートボールにおいては、酸化膜厚が３ｎｍ以下である。
本発明の一態様に係るフラックスコートボールは、コア部と、前記コア部を被覆するシェル部と、を備える。
かかるフラックスコートボールにおいて、前記コア部は、ソルダボール又は銅核ボールからなる。前記シェル部は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなる。
かかるフラックスコートボールにおいては、酸化膜厚が３ｎｍ以下である。
＜第１実施形態＞
図１は、フラックスコートボールの一実施形態を示す断面図である。
図１において、フラックスコートボール１００は、球形状のコア部１１０と、コア部１１０の全体を被覆するシェル部１２０とを備える。
図１は、フラックスコートボールの一実施形態を示す断面図である。
図１において、フラックスコートボール１００は、球形状のコア部１１０と、コア部１１０の全体を被覆するシェル部１２０とを備える。
・フラックスコートボール１００の酸化膜厚について
本発明において、フラックスコートボールの酸化膜厚とは、コア部表面に存在する酸化膜の厚さを意味し、ＳｉＯ２換算値である。
コア部表面に存在する酸化膜の厚さ（コア部表面の酸化膜厚）は、以下のようにして測定する。
測定試料であるフラックスコートボールを、アセトン中で２０分間の条件で超音波洗浄する。次に、オージェ電子分光法により、前記超音波洗浄後の測定試料表面を測定する。
例えば、分析装置として、オージェ電子分光分析装置（アルバック・ファイ株式会社製のＰＨＩ７００など）を用いる。分析条件として、加速電圧１０ｋＶ、電流値１０ｎＡ、分析径２０μｍに設定する。
本発明において、フラックスコートボールの酸化膜厚とは、コア部表面に存在する酸化膜の厚さを意味し、ＳｉＯ２換算値である。
コア部表面に存在する酸化膜の厚さ（コア部表面の酸化膜厚）は、以下のようにして測定する。
測定試料であるフラックスコートボールを、アセトン中で２０分間の条件で超音波洗浄する。次に、オージェ電子分光法により、前記超音波洗浄後の測定試料表面を測定する。
例えば、分析装置として、オージェ電子分光分析装置（アルバック・ファイ株式会社製のＰＨＩ７００など）を用いる。分析条件として、加速電圧１０ｋＶ、電流値１０ｎＡ、分析径２０μｍに設定する。
フラックスコートボール１００においては、コア部１１０表面の酸化膜厚が３ｎｍ以下であり、好ましくは２．５ｎｍ以下であり、より好ましくは２．０ｎｍ以下である。
コア部１１０表面の酸化膜厚が、前記範囲の上限値以下であれば、ウェーハに対する濡れ広がりが良好となり、濡れ性が高められる。
コア部１１０表面の酸化膜厚は、小さい値ほど、酸化膜が薄いことから好ましい。コア部１１０表面の酸化膜厚の下限値は、例えば０．５ｎｍとされる。
コア部１１０表面の酸化膜厚が、前記範囲の上限値以下であれば、ウェーハに対する濡れ広がりが良好となり、濡れ性が高められる。
コア部１１０表面の酸化膜厚は、小さい値ほど、酸化膜が薄いことから好ましい。コア部１１０表面の酸化膜厚の下限値は、例えば０．５ｎｍとされる。
・フラックスコートボール１００の径について
本発明において、フラックスコートボールの径とは、フラックスコートボール全体の径、すなわち直径を意味し、図１中の「Ｒ１００」に相当する。
フラックスコートボール１００の径（Ｒ１００）は、例えば、３０μｍ以上３００μｍ以下であり、３５μｍ以上２００μｍ以下でもよいし、４０μｍ以上１５０μｍ以下でもよいし、４５μｍ以上１００μｍ以下でもよい。
フラックスコートボール１００の径（Ｒ１００）が、前記範囲であることで、パターンの狭ピッチ化の要求への対応が容易となる。
本発明において、フラックスコートボールの径とは、フラックスコートボール全体の径、すなわち直径を意味し、図１中の「Ｒ１００」に相当する。
フラックスコートボール１００の径（Ｒ１００）は、例えば、３０μｍ以上３００μｍ以下であり、３５μｍ以上２００μｍ以下でもよいし、４０μｍ以上１５０μｍ以下でもよいし、４５μｍ以上１００μｍ以下でもよい。
フラックスコートボール１００の径（Ｒ１００）が、前記範囲であることで、パターンの狭ピッチ化の要求への対応が容易となる。
・フラックスコートボール１００の真球度について
フラックスコートボール１００の真球度は、例えば０．９９０以上である。
フラックスコートボール１００の真球度が０．９９０以上であることで、はんだバンプの高さを、より均一な高さに調整することが容易となる。
フラックスコートボール１００の真球度は、例えば０．９９０以上である。
フラックスコートボール１００の真球度が０．９９０以上であることで、はんだバンプの高さを、より均一な高さに調整することが容易となる。
フラックスコートボールの真球度は、以下のようにして求める。
測定試料であるフラックスコートボール５００個について、その直径を長径で除した際に算出される算術平均値を求める。この算術平均値が、上限値である１．０００に近いほど、フラックスコートボールの形状は真球に近いことを意味する。
測定試料の長径の長さ、直径の長さは、例えば、株式会社ミツトヨ製のウルトラクイックビジョン、ＵＬＴＲＡ ＱＶ３５０－ＰＲＯ測定装置によって測定することができる。
測定試料であるフラックスコートボール５００個について、その直径を長径で除した際に算出される算術平均値を求める。この算術平均値が、上限値である１．０００に近いほど、フラックスコートボールの形状は真球に近いことを意味する。
測定試料の長径の長さ、直径の長さは、例えば、株式会社ミツトヨ製のウルトラクイックビジョン、ＵＬＴＲＡ ＱＶ３５０－ＰＲＯ測定装置によって測定することができる。
・フラックスコートボール１００における質量比の関係について
フラックスコートボール１００に占める、コア部１１０の含有割合は、例えば９５質量％以上であり、９６質量％以上９９．８質量％以下でもよいし、９７質量％以上９９．７質量％以下でもよいし、９８質量％以上９９．６質量％以下でもよい。
フラックスコートボール１００に占める、シェル部１２０の含有割合は、例えば５質量％以下であり、０．２質量％以上４質量％以下でもよいし、０．３質量％以上３質量％以下でもよいし、０．４質量％以上２質量％以下でもよい。
フラックスコートボール１００に占める、コア部１１０及びシェル部１２０の含有割合が前記範囲であると、一定量のフラックスが確保されて、ウェーハに対する濡れ性をより高められる。
フラックスコートボール１００に占める、コア部１１０及びシェル部１２０の含有割合は、フラックスコートボール１００をアセトンで洗浄処理し、その後、乾燥処理を行い、洗浄処理前の質量と、乾燥処理後の質量とから求めることができる。
フラックスコートボール１００に占める、コア部１１０の含有割合は、例えば９５質量％以上であり、９６質量％以上９９．８質量％以下でもよいし、９７質量％以上９９．７質量％以下でもよいし、９８質量％以上９９．６質量％以下でもよい。
フラックスコートボール１００に占める、シェル部１２０の含有割合は、例えば５質量％以下であり、０．２質量％以上４質量％以下でもよいし、０．３質量％以上３質量％以下でもよいし、０．４質量％以上２質量％以下でもよい。
フラックスコートボール１００に占める、コア部１１０及びシェル部１２０の含有割合が前記範囲であると、一定量のフラックスが確保されて、ウェーハに対する濡れ性をより高められる。
フラックスコートボール１００に占める、コア部１１０及びシェル部１２０の含有割合は、フラックスコートボール１００をアセトンで洗浄処理し、その後、乾燥処理を行い、洗浄処理前の質量と、乾燥処理後の質量とから求めることができる。
・フラックスコートボール１００の表面粗さについて
本発明において、フラックスコートボールの表面粗さとは、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）を意味する。
フラックスコートボール１００の表面粗さ、すなわちフラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）は、例えば、２．０μｍ以下であり、好ましくは１．８μｍ以下であり、より好ましくは１．６μｍ以下である。
フラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）が、前記範囲の上限値以下であれば、フラックスコートボール１００の真球度が高まる。
フラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）は、低い値ほど、フラックス層１２０表面の平滑性が高いことから好ましい。フラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）の下限値は、例えば０．５μｍとされる。
本発明において、フラックスコートボールの表面粗さとは、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）を意味する。
フラックスコートボール１００の表面粗さ、すなわちフラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）は、例えば、２．０μｍ以下であり、好ましくは１．８μｍ以下であり、より好ましくは１．６μｍ以下である。
フラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）が、前記範囲の上限値以下であれば、フラックスコートボール１００の真球度が高まる。
フラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）は、低い値ほど、フラックス層１２０表面の平滑性が高いことから好ましい。フラックス層１２０の表面粗さ（Ｒａ）の下限値は、例えば０．５μｍとされる。
フラックスコートボールの表面粗さは、以下のようにして求める。
測定試料であるフラックスコートボール表面、すなわちフラックス層表面の粗さを、レーザ顕微鏡によって、所定の範囲で測定する。例えばレーザーテック株式会社製などのコンフォーカル顕微鏡を用い、対物レンズの倍率を５０倍に調整し、ｚ軸上における測定ピッチを０．１μｍとして、任意の３個のフラックスコートボールの表面粗さ（Ｒａ）を測定する。そして、それらの算術平均を求める。
測定試料であるフラックスコートボール表面、すなわちフラックス層表面の粗さを、レーザ顕微鏡によって、所定の範囲で測定する。例えばレーザーテック株式会社製などのコンフォーカル顕微鏡を用い、対物レンズの倍率を５０倍に調整し、ｚ軸上における測定ピッチを０．１μｍとして、任意の３個のフラックスコートボールの表面粗さ（Ｒａ）を測定する。そして、それらの算術平均を求める。
≪コア部≫
フラックスコートボール１００において、コア部１１０は、ソルダボール又は銅核ボールからなる。
コア部１１０の径（Ｒ１１０）は、例えば、３０μｍ以上２９５μｍ以下であり、３０μｍ以上２５０μｍ以下でもよいし、４０μｍ以上２００μｍ以下でもよい。
なお、コア部１１０の径（Ｒ１１０）は、コア部１１０の直径を意味し、ソルダボール又は銅核ボールの直径に相当する。
フラックスコートボール１００において、コア部１１０は、ソルダボール又は銅核ボールからなる。
コア部１１０の径（Ｒ１１０）は、例えば、３０μｍ以上２９５μｍ以下であり、３０μｍ以上２５０μｍ以下でもよいし、４０μｍ以上２００μｍ以下でもよい。
なお、コア部１１０の径（Ｒ１１０）は、コア部１１０の直径を意味し、ソルダボール又は銅核ボールの直径に相当する。
コア部１１０を構成するソルダボールの材料としては、例えば、Ｓｎ、Ｓｎを主成分とするはんだ合金が挙げられる。Ｓｎを主成分とするはんだ合金におけるＳｎの含有量は、はんだ合金の総量に対して、例えば５質量％以上であり、１０質量％以上でもよいし、４０質量％以上でもよい。
はんだ合金としては、例えば、Ｓｎ－Ａｇ合金、Ｓｎ－Ｃｕ合金、Ｓｎ－Ａｇ－Ｃｕ合金、Ｓｎ－Ｉｎ合金、Ｓｎ－Ｐｂ合金、Ｓｎ－Ｂｉ合金、Ｓｎ－Ｂｉ－Ａｇ－Ｃｕ合金等が挙げられる。
はんだ合金には、任意の合金元素を添加することができる。この合金元素としては、例えば、Ａｇ、Ｃｕ、Ｉｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｐ、Ｆｅ、Ｇａ等が挙げられる。
はんだ合金としては、例えば、Ｓｎ－Ａｇ合金、Ｓｎ－Ｃｕ合金、Ｓｎ－Ａｇ－Ｃｕ合金、Ｓｎ－Ｉｎ合金、Ｓｎ－Ｐｂ合金、Ｓｎ－Ｂｉ合金、Ｓｎ－Ｂｉ－Ａｇ－Ｃｕ合金等が挙げられる。
はんだ合金には、任意の合金元素を添加することができる。この合金元素としては、例えば、Ａｇ、Ｃｕ、Ｉｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｐ、Ｆｅ、Ｇａ等が挙げられる。
コア部１１０を構成する銅核ボールとしては、銅ボール表面に、めっき処理を施したものが挙げられる。めっきの組成は特に制限されず、めっき処理は、同一の又は異なるめっきの組成で複数回の処理が施されたものでもよい。例えば、銅ボール表面に、拡散防止のバリア層であるＮｉめっき処理を施し、そのＮｉめっき表面に、さらにＳｎ－Ａｇ－Ｃｕ合金をめっき処理したものが挙げられる。
≪シェル部≫
フラックスコートボール１００において、シェル部１２０は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなる。
フラックス層１２０の厚さ（Ｔ１２０）は、例えば、０．１０μｍ以上２．０μｍ以下であり、０．１５μｍ以上１．５μｍ以下でもよいし、０．２０μｍ以上１．０μｍ以下でもよいし、０．２５μｍ以上０．８０μｍ以下でもよい。
フラックス層１２０の厚さ（Ｔ１２０）が、前記範囲の下限値以上であると、一定量のフラックスが確保されて、ウェーハに対する濡れ性をより高められる。一方、前記範囲の上限値以下であると、フラックスコートボール１００の凝集が生じにくくなる。
フラックスコートボール１００において、シェル部１２０は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなる。
フラックス層１２０の厚さ（Ｔ１２０）は、例えば、０．１０μｍ以上２．０μｍ以下であり、０．１５μｍ以上１．５μｍ以下でもよいし、０．２０μｍ以上１．０μｍ以下でもよいし、０．２５μｍ以上０．８０μｍ以下でもよい。
フラックス層１２０の厚さ（Ｔ１２０）が、前記範囲の下限値以上であると、一定量のフラックスが確保されて、ウェーハに対する濡れ性をより高められる。一方、前記範囲の上限値以下であると、フラックスコートボール１００の凝集が生じにくくなる。
シェル部１２０を構成するフラックス層は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有し、必要に応じてこれら以外の成分も含有してよい。
活性剤としては、要求される特性に応じて適宜選択することができ、例えば、有機酸、アミン等が挙げられる。
有機酸としては、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸等の有機カルボン酸；脂肪族スルホン酸、芳香族スルホン酸等の有機スルホン酸が挙げられる。
アミンとしては、アゾール類、グアニジン類、アルキルアミン化合物、アミノアルコール化合物が挙げられる。
樹脂成分としては、要求される特性に応じて適宜選択することができ、例えば、ロジン、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂、キシレン樹脂、変性キシレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、アクリル－ポリエチレン共重合樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
活性剤としては、要求される特性に応じて適宜選択することができ、例えば、有機酸、アミン等が挙げられる。
有機酸としては、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸等の有機カルボン酸；脂肪族スルホン酸、芳香族スルホン酸等の有機スルホン酸が挙げられる。
アミンとしては、アゾール類、グアニジン類、アルキルアミン化合物、アミノアルコール化合物が挙げられる。
樹脂成分としては、要求される特性に応じて適宜選択することができ、例えば、ロジン、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂、キシレン樹脂、変性キシレン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、アクリル－ポリエチレン共重合樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
上記の中でも、シェル部１２０を構成するフラックス層は、コア部の酸化抑制、濡れ性付与の点から、少なくとも活性剤を含有することが好ましい。
ここでの活性剤は、コア部１１０への被覆性の点から、有機酸及びアミンからなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、少なくとも有機酸を含むことがより好ましい。
シェル部１２０を構成するフラックス層は、少なくとも有機酸を含む層であることが好ましく、例えば、有機酸のみからなる層、有機酸と樹脂成分とを含む層、有機酸とアミンとを含む層、有機酸と樹脂成分とアミンとを含む層などが挙げられる。
ここでの有機酸は、有機カルボン酸であることが好ましく、脂肪族カルボン酸であることがより好ましく、グルタル酸、ジグリコール酸、マロン酸、クエン酸、ピメリン酸、アジピン酸及び２，２－ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸からなる群より選択される少なくとも一種であることが特に好ましい。
ここでの活性剤は、コア部１１０への被覆性の点から、有機酸及びアミンからなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、少なくとも有機酸を含むことがより好ましい。
シェル部１２０を構成するフラックス層は、少なくとも有機酸を含む層であることが好ましく、例えば、有機酸のみからなる層、有機酸と樹脂成分とを含む層、有機酸とアミンとを含む層、有機酸と樹脂成分とアミンとを含む層などが挙げられる。
ここでの有機酸は、有機カルボン酸であることが好ましく、脂肪族カルボン酸であることがより好ましく、グルタル酸、ジグリコール酸、マロン酸、クエン酸、ピメリン酸、アジピン酸及び２，２－ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸からなる群より選択される少なくとも一種であることが特に好ましい。
フラックス層が含有する成分は、１種単独でもよいし、２種以上でもよい。
フラックス層中の活性剤の含有量は、フラックス層の全体に対して、例えば１０質量％以上１００質量％以下である。
フラックス層中の樹脂成分の含有量は、フラックス層の全体に対して、例えば０質量％以上９０質量％以下である。
フラックス層中の活性剤の含有量は、フラックス層の全体に対して、例えば１０質量％以上１００質量％以下である。
フラックス層中の樹脂成分の含有量は、フラックス層の全体に対して、例えば０質量％以上９０質量％以下である。
シェル部１２０を構成するフラックス層は、活性剤及び樹脂成分以外の成分（任意成分）を含有してもよい。
この任意成分としては、例えば酸化防止剤、着色剤等が挙げられる。
この任意成分としては、例えば酸化防止剤、着色剤等が挙げられる。
以上説明した第１実施形態によれば、ウェーハに対する濡れ性が高められたフラックスコートボール１００を提供することができる。
第１実施形態に係るフラックスコートボール１００は、コア部１１０と、コア部１１０を被覆するシェル部１２０とを備える。コア部１１０は、ソルダボール又は銅核ボールからなり、ウェーハ上の電極と、半導体パッケージの電極とを電気的に接合する。シェル部１２０は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、リフローの際に、コア部１１０表面の酸化膜、及び電極表面の金属酸化膜を除去して、コア部１１０と電極との濡れ性の向上を図る。
第１実施形態に係るフラックスコートボール１００は、その酸化膜厚（すなわち、コア部表面に存在する酸化膜の厚さ）が３ｎｍ以下とされている。この酸化膜厚３ｎｍ以下というのは、コア部を構成するソルダボール又は銅核ボール単体の酸化膜厚とほぼ同程度である。このように、酸化膜厚が薄く制御されているため、フラックスコートボール１００によれば、ウェーハに対する濡れ性が高められる。
第１実施形態に係るフラックスコートボール１００は、コア部１１０と、コア部１１０を被覆するシェル部１２０とを備える。コア部１１０は、ソルダボール又は銅核ボールからなり、ウェーハ上の電極と、半導体パッケージの電極とを電気的に接合する。シェル部１２０は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、リフローの際に、コア部１１０表面の酸化膜、及び電極表面の金属酸化膜を除去して、コア部１１０と電極との濡れ性の向上を図る。
第１実施形態に係るフラックスコートボール１００は、その酸化膜厚（すなわち、コア部表面に存在する酸化膜の厚さ）が３ｎｍ以下とされている。この酸化膜厚３ｎｍ以下というのは、コア部を構成するソルダボール又は銅核ボール単体の酸化膜厚とほぼ同程度である。このように、酸化膜厚が薄く制御されているため、フラックスコートボール１００によれば、ウェーハに対する濡れ性が高められる。
＜その他実施形態＞
上述した第１実施形態は、コア部１１０を被覆するシェル部１２０を、単層のフラックス層からなる構成として説明したが、その構成に限定されず、コア部１１０を被覆するシェル部が多層のフラックス層からなる実施形態としてもよい。この実施形態によれば、複数のフラックス層の各層に、異なる効果を持たせることができる。
上述した第１実施形態は、コア部１１０を被覆するシェル部１２０を、単層のフラックス層からなる構成として説明したが、その構成に限定されず、コア部１１０を被覆するシェル部が多層のフラックス層からなる実施形態としてもよい。この実施形態によれば、複数のフラックス層の各層に、異なる効果を持たせることができる。
上述した第１実施形態に係るフラックスコートボール１００では、シェル部１２０がコア部１１０の全体を被覆する、として説明したが、その説明内容に限定されず、シェル部がコア部１１０の一部を被覆する実施形態としてもよい。例えば、フラックスコートボールを電極上に直接搭載した際、シェル部がウェーハ上の電極に少なくとも接するように、コア部１１０の一部を被覆しているシェル部を備えた実施形態でもよい。
本発明の一態様に係るフラックスコートボールは、ボール搭載法によるはんだバンプ形成に有用なものである。かかるフラックスコートボールによれば、はんだバンプ形成においては、狭ピッチパターン上に、フラックスを安定的に供給することができる。
（フラックスコートボールの製造方法）
本発明の一態様に係るフラックスコートボールの製造方法は、ソルダボール又は銅核ボールからなるコア部と、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、前記コア部を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールの製造方法である。
かかるフラックスコートボールの製造方法においては、ソルダボール又は銅核ボールと、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する乾式処理工程を有する。
本発明の一態様に係るフラックスコートボールの製造方法は、ソルダボール又は銅核ボールからなるコア部と、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、前記コア部を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールの製造方法である。
かかるフラックスコートボールの製造方法においては、ソルダボール又は銅核ボールと、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する乾式処理工程を有する。
上述した実施形態のフラックスコートボール１００は、前記一態様に係るフラックスコートボールの製造方法を使用して製造することができる。
コア部１１０に使用されるソルダボール又は銅核ボールのボール径（直径）は、例えば、３０μｍ以上２９５μｍ以下であり、３０μｍ以上２５０μｍ以下でもよいし、４０μｍ以上２００μｍ以下でもよい。
コア部１１０に使用されるソルダボール又は銅核ボールとしては、上述した≪コア部≫の説明の中で例示したものが挙げられる。
フラックス材料には、例えば粉末状のものを用いることができる。粉末状のフラックス材料としては、その粉体の集団の全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が１００μｍ以上１０００μｍ以下の粉末状のものを用いることが好ましい。
フラックス材料としては、上述した有機酸、アミン、樹脂成分についての説明の中で例示したもの等が挙げられる。
コア部１１０に使用されるソルダボール又は銅核ボールのボール径（直径）は、例えば、３０μｍ以上２９５μｍ以下であり、３０μｍ以上２５０μｍ以下でもよいし、４０μｍ以上２００μｍ以下でもよい。
コア部１１０に使用されるソルダボール又は銅核ボールとしては、上述した≪コア部≫の説明の中で例示したものが挙げられる。
フラックス材料には、例えば粉末状のものを用いることができる。粉末状のフラックス材料としては、その粉体の集団の全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が１００μｍ以上１０００μｍ以下の粉末状のものを用いることが好ましい。
フラックス材料としては、上述した有機酸、アミン、樹脂成分についての説明の中で例示したもの等が挙げられる。
＜乾式処理工程＞
乾式処理工程では、ソルダボール又は銅核ボールと、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する。
ソルダボール又は銅核ボールと、フラックス材料との混合比率は、所望とするフラックス層の厚さ、ソルダボール又は銅核ボールのボール径に応じて適宜調整すればよい。
例えば、ボール径が３０μｍ以上１００μｍ以下である場合、前記フラックス材料に対する、前記のソルダボール又は銅核ボールの割合（質量比）は、ボール／フラックス材料＝１～１０とすることが好ましく、１．５～７．５とすることがより好ましく、２～６とすることがさらに好ましい。
かかる質量比が、前記の好ましい範囲の下限値上であれば、フラックス材料がボール全体を容易に被覆でき、一方、前記の好ましい範囲の上限値以下であれば、フラックス層が厚くなりすぎることが抑制される。
乾式処理工程では、ソルダボール又は銅核ボールと、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する。
ソルダボール又は銅核ボールと、フラックス材料との混合比率は、所望とするフラックス層の厚さ、ソルダボール又は銅核ボールのボール径に応じて適宜調整すればよい。
例えば、ボール径が３０μｍ以上１００μｍ以下である場合、前記フラックス材料に対する、前記のソルダボール又は銅核ボールの割合（質量比）は、ボール／フラックス材料＝１～１０とすることが好ましく、１．５～７．５とすることがより好ましく、２～６とすることがさらに好ましい。
かかる質量比が、前記の好ましい範囲の下限値上であれば、フラックス材料がボール全体を容易に被覆でき、一方、前記の好ましい範囲の上限値以下であれば、フラックス層が厚くなりすぎることが抑制される。
乾式処理工程における加熱の温度条件は、フラックス材料の融点に応じて設定することが好ましい。加熱温度が高すぎると、振盪撹拌を行う容器の内壁にボールが固着するおそれがあり、一方、加熱温度が低すぎると、フラックス材料によるボール表面の被覆が不充分となるおそれがある。
かかる加熱の温度条件としては、フラックス材料の融点マイナス３５℃以上、融点マイナス５℃以下とすることが好ましく、フラックス材料の融点マイナス２５℃以上、融点マイナス１０℃以下とすることがより好ましい。
乾式処理工程における振盪撹拌の操作は、前記の温度条件で加熱しつつ行うことが好ましい。あるいは、振盪撹拌の操作前に、予備加熱をしておき、その後、振盪撹拌の操作を行うことが好ましい。予備加熱は、例えば、前記のかかる加熱の温度条件と同じ温度条件で行うことができる。
かかる加熱の温度条件としては、フラックス材料の融点マイナス３５℃以上、融点マイナス５℃以下とすることが好ましく、フラックス材料の融点マイナス２５℃以上、融点マイナス１０℃以下とすることがより好ましい。
乾式処理工程における振盪撹拌の操作は、前記の温度条件で加熱しつつ行うことが好ましい。あるいは、振盪撹拌の操作前に、予備加熱をしておき、その後、振盪撹拌の操作を行うことが好ましい。予備加熱は、例えば、前記のかかる加熱の温度条件と同じ温度条件で行うことができる。
乾式処理工程における振盪撹拌の操作は、遠沈管等の任意の容器に、フラックス材料と、ソルダボール又は銅核ボールとを投入する。その後、使用するフラックス材料に適した温度で加熱を行いつつ、所定のストローク数で容器の振盪撹拌を行う。
ストローク数及び撹拌時間は、それぞれ、適宜調整すればよい。ストローク数は、５００ｓｐｍ（ｓｔｒｏｋｅｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）以上４０００ｓｐｍとすることが好ましく、１５００ｓｐｍ以上２５００ｓｐｍとすることがより好ましい。撹拌時間は、１０分間以上１２０分間以下が好ましく、３０分間以上９０分間以下とすることがより好ましい。
ストローク数及び撹拌時間は、それぞれ、適宜調整すればよい。ストローク数は、５００ｓｐｍ（ｓｔｒｏｋｅｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）以上４０００ｓｐｍとすることが好ましく、１５００ｓｐｍ以上２５００ｓｐｍとすることがより好ましい。撹拌時間は、１０分間以上１２０分間以下が好ましく、３０分間以上９０分間以下とすることがより好ましい。
以上説明した、一態様に係るフラックスコートボールの製造方法によれば、乾式工法を採用しているため、加熱しつつ振盪撹拌する操作後であっても、ボールの凝集が生じにくく、分散状態の良好なフラックスコートボールを製造することができる。
加えて、かかるフラックスコートボールの製造方法は、固体の材料同士を振盪撹拌する操作を要するだけであり、湿式工法における溶媒除去のような操作が不要であり、簡便な方法である。
加えて、かかるフラックスコートボールの製造方法は、固体の材料同士を振盪撹拌する操作を要するだけであり、湿式工法における溶媒除去のような操作が不要であり、簡便な方法である。
かかるフラックスコートボールの製造方法においては、乾式工法を採用しているため、酸化膜厚（コア部表面に存在する酸化膜の厚さ）を薄く制御することが容易であり、ウェーハに対する濡れ性が高められたフラックスコートボールを安定的に製造することが可能である。
また、かかるフラックスコートボールの製造方法においては、振盪撹拌する操作を採用しているため、シェル部を構成するフラックス層を、均一な厚さに制御することが容易であり、真球度を高められやすく、ボールとしての性能向上を図りやすい。
上述した一態様に係るフラックスコートボールの製造方法は、乾式処理工程を有する製造方法として説明したが、その実施形態に限定されず、乾式処理工程に加えてさらに任意の工程を有する実施形態でもよい。任意の工程としては、例えば、シェル部１２０を構成する第１フラックス層上に、さらに、第２フラックス層を形成する工程が挙げられる。この実施形態によれば、コア部１１０を被覆するシェル部が多層のフラックス層からなるフラックスコートボールを製造することができる。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
本実施例において、フラックスコートボールの製造の際に使用した、コア部及びシェル部のそれぞれの材料を示した。
コア部の材料として、以下に示す球形状の金属ボールを使用した。
ソルダボール（Ｃ－１）：Ｓｎ９９．３質量％とＣｕ０．７質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）６３μｍ。
ソルダボール（Ｃ－２）：Ｓｎ９６．５質量％とＡｇ３．０質量％とＣｕ０．５質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）１００μｍ。
ソルダボール（Ｃ－３）：Ｓｎ４３質量％とＢｉ５７質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）１００μｍ。
銅核ボール（Ｃ－４）：銅ボール表面に、Ｓｎ－３Ａｇ－０．５Ｃｕめっき処理を施した銅核ボール、径（Ｒ１１０）２２０μｍ。
ソルダボール（Ｃ－５）：Ｓｎ９６．５質量％とＡｇ３．０質量％とＣｕ０．５質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）３００μｍ。
ソルダボール（Ｃ－６）：Ｓｎ９９．３質量％とＣｕ０．７質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）４４μｍ。
ソルダボール（Ｃ－１）：Ｓｎ９９．３質量％とＣｕ０．７質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）６３μｍ。
ソルダボール（Ｃ－２）：Ｓｎ９６．５質量％とＡｇ３．０質量％とＣｕ０．５質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）１００μｍ。
ソルダボール（Ｃ－３）：Ｓｎ４３質量％とＢｉ５７質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）１００μｍ。
銅核ボール（Ｃ－４）：銅ボール表面に、Ｓｎ－３Ａｇ－０．５Ｃｕめっき処理を施した銅核ボール、径（Ｒ１１０）２２０μｍ。
ソルダボール（Ｃ－５）：Ｓｎ９６．５質量％とＡｇ３．０質量％とＣｕ０．５質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）３００μｍ。
ソルダボール（Ｃ－６）：Ｓｎ９９．３質量％とＣｕ０．７質量％との合金からなるソルダボール、径（Ｒ１１０）４４μｍ。
シェル部の材料として、以下に示すフラックス材料を使用した。
フラックス材料（Ｓ－１）：グルタル酸（融点９５℃）、５０％粒子径３１４μｍ
フラックス材料（Ｓ－２）：ジグリコール酸（融点１４４℃）、５０％粒子径３３５μｍ
フラックス材料（Ｓ－３）：マロン酸（融点１３５℃）、５０％粒子径３６２μｍ
フラックス材料（Ｓ－４）：クエン酸（融点１５３℃）、５０％粒子径２８８μｍ
フラックス材料（Ｓ－５）：ピメリン酸（融点１０６℃）、５０％粒子径２５４μｍ
フラックス材料（Ｓ－６）：アジピン酸（融点１５２℃）、５０％粒子径３２５μｍ
フラックス材料（Ｓ－１）：グルタル酸（融点９５℃）、５０％粒子径３１４μｍ
フラックス材料（Ｓ－２）：ジグリコール酸（融点１４４℃）、５０％粒子径３３５μｍ
フラックス材料（Ｓ－３）：マロン酸（融点１３５℃）、５０％粒子径３６２μｍ
フラックス材料（Ｓ－４）：クエン酸（融点１５３℃）、５０％粒子径２８８μｍ
フラックス材料（Ｓ－５）：ピメリン酸（融点１０６℃）、５０％粒子径２５４μｍ
フラックス材料（Ｓ－６）：アジピン酸（融点１５２℃）、５０％粒子径３２５μｍ
＜フラックスコートボールの製造（１）＞
（実施例１）
円筒状の遠沈管（直径４ｃｍ、長さ１２ｃｍ）に、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）１．２ｇと、ソルダボール（Ｃ－１）６ｇとを投入して密閉した。
次いで、フラックス材料（Ｓ－１）とソルダボール（Ｃ－１）とを投入した前記遠沈管に対して、温度７５℃で５分間の予備加熱を行った。予備加熱の温度条件は、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。
次いで、予備加熱後の前記遠沈管を、温度７５℃に加熱しつつ、前記遠沈管の長軸方向に振盪撹拌の操作を６０分間続けた。ここでの加熱の温度条件は、予備加熱の温度条件と同様に、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。また、振盪撹拌の操作は、２０００ｓｐｍ（ｓｔｒｏｋｅｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）にして行った。
次いで、振盪撹拌の後、室温（２３℃）まで冷却することにより、ソルダボール（Ｃ－１）からなるコア部と、グルタル酸の層（フラックス層）からなり、コア部の全体を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールを得た。
（実施例１）
円筒状の遠沈管（直径４ｃｍ、長さ１２ｃｍ）に、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）１．２ｇと、ソルダボール（Ｃ－１）６ｇとを投入して密閉した。
次いで、フラックス材料（Ｓ－１）とソルダボール（Ｃ－１）とを投入した前記遠沈管に対して、温度７５℃で５分間の予備加熱を行った。予備加熱の温度条件は、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。
次いで、予備加熱後の前記遠沈管を、温度７５℃に加熱しつつ、前記遠沈管の長軸方向に振盪撹拌の操作を６０分間続けた。ここでの加熱の温度条件は、予備加熱の温度条件と同様に、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。また、振盪撹拌の操作は、２０００ｓｐｍ（ｓｔｒｏｋｅｓ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅ）にして行った。
次いで、振盪撹拌の後、室温（２３℃）まで冷却することにより、ソルダボール（Ｃ－１）からなるコア部と、グルタル酸の層（フラックス層）からなり、コア部の全体を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールを得た。
（比較例１）
アセトンに、フラックス材料（Ｓ－１）を溶解させて、グルタル酸濃度が１００ｇ／Ｌの溶液を調製した。
次いで、前記溶液に、ソルダボール（Ｃ－１）６ｇを浸漬し、室温（２３℃）で１時間の撹拌を行った。
次いで、撹拌後のソルダボール（Ｃ－１）を、前記溶液から取り出し、乾燥させてアセトンを揮発除去することにより、ソルダボール（Ｃ－１）からなるコア部と、グルタル酸の層（フラックス層）からなり、コア部の全体を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールを得た。
アセトンに、フラックス材料（Ｓ－１）を溶解させて、グルタル酸濃度が１００ｇ／Ｌの溶液を調製した。
次いで、前記溶液に、ソルダボール（Ｃ－１）６ｇを浸漬し、室温（２３℃）で１時間の撹拌を行った。
次いで、撹拌後のソルダボール（Ｃ－１）を、前記溶液から取り出し、乾燥させてアセトンを揮発除去することにより、ソルダボール（Ｃ－１）からなるコア部と、グルタル酸の層（フラックス層）からなり、コア部の全体を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールを得た。
＜評価（１）＞
上記で得られた実施例１のフラックスコートボール、及び比較例１のフラックスコートボールについて、外観、フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及びその標準偏差、フラックスコートボールの真球度及びその標準偏差、フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）、フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合、フラックスコートボールの酸化膜厚、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）、フラックス層の剥がれにくさ、フラックスコートボールの濡れ性、製造直後のボールの分散状態をそれぞれ評価した。
各評価の詳細を以下に記載した。
上記で得られた実施例１のフラックスコートボール、及び比較例１のフラックスコートボールについて、外観、フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及びその標準偏差、フラックスコートボールの真球度及びその標準偏差、フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）、フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合、フラックスコートボールの酸化膜厚、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）、フラックス層の剥がれにくさ、フラックスコートボールの濡れ性、製造直後のボールの分散状態をそれぞれ評価した。
各評価の詳細を以下に記載した。
［外観］
図２は、実施例１のフラックスコートボール、及び比較例１のフラックスコートボールの外観を示す写真である。
図２から、実施例１及び比較例１のフラックスコートボールのいずれも、コア部であるソルダボール（Ｃ－１）全体が、グルタル酸の層（フラックス層）で被覆されていること、が確認できる。
実施例１のフラックスコートボール表面の方が、比較例１のフラックスコートボール表面に比べて、平滑性が高いことが確認された。
図２は、実施例１のフラックスコートボール、及び比較例１のフラックスコートボールの外観を示す写真である。
図２から、実施例１及び比較例１のフラックスコートボールのいずれも、コア部であるソルダボール（Ｃ－１）全体が、グルタル酸の層（フラックス層）で被覆されていること、が確認できる。
実施例１のフラックスコートボール表面の方が、比較例１のフラックスコートボール表面に比べて、平滑性が高いことが確認された。
［フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及び真球度］
フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及び真球度は、ＣＮＣ画像測定システムを使用して測定した。具体的には、株式会社ミツトヨ製のウルトラクイックビジョン、ＵＬＴＲＡ ＱＶ３５０－ＰＲＯ測定装置を使用した。
この測定装置により、フラックスコートボールの長径の長さ、直径の長さをそれぞれ測定し、５００個の各フラックスコートボールの直径を長径で除した値、の算術平均値を算出して、真球度を求めた。値が上限である１．０００に近いほど真球に近いことを表す。
また、５００個の各フラックスコートボールの直径、の算術平均値を算出して、径（Ｒ１００）を求めた。
上述のようにして求めた、フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及びその標準偏差、並びに、フラックスコートボールの真球度及びその標準偏差を表１に示した。
フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及び真球度は、ＣＮＣ画像測定システムを使用して測定した。具体的には、株式会社ミツトヨ製のウルトラクイックビジョン、ＵＬＴＲＡ ＱＶ３５０－ＰＲＯ測定装置を使用した。
この測定装置により、フラックスコートボールの長径の長さ、直径の長さをそれぞれ測定し、５００個の各フラックスコートボールの直径を長径で除した値、の算術平均値を算出して、真球度を求めた。値が上限である１．０００に近いほど真球に近いことを表す。
また、５００個の各フラックスコートボールの直径、の算術平均値を算出して、径（Ｒ１００）を求めた。
上述のようにして求めた、フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及びその標準偏差、並びに、フラックスコートボールの真球度及びその標準偏差を表１に示した。
［フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）］
フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）は、上記で求めたフラックスコートボールの径（Ｒ１００）から、ソルダボール（Ｃ－１）の径（Ｒ１１０）６３μｍを差し引いた後、２で除すること（片側の層の厚さを算出）により求めた。この結果を表１に示した。
フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）は、上記で求めたフラックスコートボールの径（Ｒ１００）から、ソルダボール（Ｃ－１）の径（Ｒ１１０）６３μｍを差し引いた後、２で除すること（片側の層の厚さを算出）により求めた。この結果を表１に示した。
［フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合］
フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合は、フラックスコートボールをアセトンで洗浄処理し、その後、乾燥処理を行い、洗浄処理前の質量と、乾燥処理後の質量とから求めた。この結果を表１に示した。
アセトンでの洗浄処理は、フラックスコートボールを、室温（２３℃）のアセトン中に３０分間浸漬して行った。乾燥処理は、室温下で行った。
シェル部の含有量＝フラックスコートボールの洗浄処理前の質量－乾燥処理後の質量
シェル部の含有割合（質量％）＝シェル部の含有量／フラックスコートボールの洗浄処理前の質量×１００
フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合は、フラックスコートボールをアセトンで洗浄処理し、その後、乾燥処理を行い、洗浄処理前の質量と、乾燥処理後の質量とから求めた。この結果を表１に示した。
アセトンでの洗浄処理は、フラックスコートボールを、室温（２３℃）のアセトン中に３０分間浸漬して行った。乾燥処理は、室温下で行った。
シェル部の含有量＝フラックスコートボールの洗浄処理前の質量－乾燥処理後の質量
シェル部の含有割合（質量％）＝シェル部の含有量／フラックスコートボールの洗浄処理前の質量×１００
［フラックスコートボールの酸化膜厚］
フラックスコートボールの酸化膜厚は、コア部表面に存在する酸化膜の厚さ（コア部表面の酸化膜厚）を、以下のようにして測定することにより求めた。
測定試料であるフラックスコートボールを、アセトン中で２０分間の条件で超音波洗浄した。次に、分析装置としてオージェ電子分光分析装置（アルバック・ファイ株式会社製のＰＨＩ７００）を用い、前記超音波洗浄後の測定試料表面を、下記分析条件にて測定することにより、酸化膜厚を求めた。この酸化膜厚はＳｉＯ２換算値である。この結果を表１に示した。
分析条件：加速電圧１０ｋＶ、電流値１０ｎＡ、分析径２０μｍに設定。
フラックスコートボールの酸化膜厚は、コア部表面に存在する酸化膜の厚さ（コア部表面の酸化膜厚）を、以下のようにして測定することにより求めた。
測定試料であるフラックスコートボールを、アセトン中で２０分間の条件で超音波洗浄した。次に、分析装置としてオージェ電子分光分析装置（アルバック・ファイ株式会社製のＰＨＩ７００）を用い、前記超音波洗浄後の測定試料表面を、下記分析条件にて測定することにより、酸化膜厚を求めた。この酸化膜厚はＳｉＯ２換算値である。この結果を表１に示した。
分析条件：加速電圧１０ｋＶ、電流値１０ｎＡ、分析径２０μｍに設定。
［フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）］
フラックスコートボールの表面粗さ、すなわち、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）は、以下のようにして測定することにより求めた。
測定試料であるフラックスコートボール表面、すなわちフラックス層表面を、コンフォーカル顕微鏡（機種名：ＯＰＴＥＬＩＣＳ Ｃ１３０、レーザーテック株式会社製）で測定した。対物レンズの倍率を５０倍に調整し、ｚ軸上における測定ピッチを０．１μｍとして、任意の３個のフラックスコートボールの表面粗さ（Ｒａ）を測定し、それらの算術平均を、真の算術平均粗さとして採用し、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）を求めた。この結果を表１に示した。
フラックスコートボールの表面粗さ、すなわち、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）は、以下のようにして測定することにより求めた。
測定試料であるフラックスコートボール表面、すなわちフラックス層表面を、コンフォーカル顕微鏡（機種名：ＯＰＴＥＬＩＣＳ Ｃ１３０、レーザーテック株式会社製）で測定した。対物レンズの倍率を５０倍に調整し、ｚ軸上における測定ピッチを０．１μｍとして、任意の３個のフラックスコートボールの表面粗さ（Ｒａ）を測定し、それらの算術平均を、真の算術平均粗さとして採用し、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）を求めた。この結果を表１に示した。
［フラックス層の剥がれにくさ］
各例のフラックスコートボールについて、フラックス層の剥がれにくさを、以下の試験方法により評価した。この結果を表１に示した。
各例のフラックスコートボールについて、フラックス層の剥がれにくさを、以下の試験方法により評価した。この結果を表１に示した。
試験方法（１）：円筒状の遠沈管（直径４ｃｍ、長さ１２ｃｍ）に、フラックスコートボール５ｇを投入して密閉した。次いで、このフラックスコートボールを投入した前記遠沈管を、室温（２３℃）で、前記遠沈管の長軸方向に振盪撹拌の操作を６０分間続けた。振盪撹拌の操作後のフラックスコートボールの表面状態を、顕微鏡により観察した。
試験方法（２）：円筒状の遠沈管（直径４ｃｍ、長さ１２ｃｍ）に、フラックスコートボール１００個と、ソルダボール（Ｓｎ９６．５質量％とＡｇ３．０質量％とＣｕ０．５質量％との合金からなるソルダボール、直径０．６ｍｍ）１００個とを投入して密閉した。次いで、これらのボールを投入した前記遠沈管を、室温（２３℃）で、前記遠沈管の長軸方向に振盪撹拌の操作を６０分間続けた。振盪撹拌の操作後のフラックスコートボールの表面状態を、顕微鏡により観察した。
［フラックスコートボールの濡れ性］
各例のフラックスコートボールについて、フラックスコートボールの濡れ性を、以下のＦＣボール濡れ広がり試験により評価した。この結果を表１に示した。
本評価におけるＦＣボール濡れ広がり試験は、ホットプレート上に、１５０℃で１時間焼き銅板を置き、その銅板上にフラックスコートボールを搭載し、窒素雰囲気でリフローした。リフロー条件は、ピーク温度２５０℃、昇温速度１℃／ｓｅｃに設定した。リフロー後、濡れ広がった状態のボールの径（ボール広がり径）を測定した。この測定を、フラックスコートボール１０個について行い、その平均値を求めた。
濡れ広がった状態のボールの径（ボール広がり径）が、大きい値ほど、濡れ性は良いとされる。
各例のフラックスコートボールについて、フラックスコートボールの濡れ性を、以下のＦＣボール濡れ広がり試験により評価した。この結果を表１に示した。
本評価におけるＦＣボール濡れ広がり試験は、ホットプレート上に、１５０℃で１時間焼き銅板を置き、その銅板上にフラックスコートボールを搭載し、窒素雰囲気でリフローした。リフロー条件は、ピーク温度２５０℃、昇温速度１℃／ｓｅｃに設定した。リフロー後、濡れ広がった状態のボールの径（ボール広がり径）を測定した。この測定を、フラックスコートボール１０個について行い、その平均値を求めた。
濡れ広がった状態のボールの径（ボール広がり径）が、大きい値ほど、濡れ性は良いとされる。
［製造直後のボールの分散状態］
製造直後のボールの分散状態について、実施例１の場合には、振盪撹拌の操作後のフラックスコートボールの分散状態を評価した。比較例１の場合には、アセトンを揮発除去した後のフラックスコートボールの分散状態を評価した。この結果を表１に示した。
製造直後のボールの分散状態について、実施例１の場合には、振盪撹拌の操作後のフラックスコートボールの分散状態を評価した。比較例１の場合には、アセトンを揮発除去した後のフラックスコートボールの分散状態を評価した。この結果を表１に示した。
表１に示す結果から、本発明を適用した実施例１のフラックスコートボールは、比較例１のフラックスコートボールに比べて、ボール広がり径が大きい値であり、銅板に対する濡れ性がより高められていることが確認された。
加えて、実施例１のフラックスコートボールの製造では、その製造直後、ボールが凝集することは無かった。一方、比較例１のフラックスコートボールの製造では、その製造直後、一部のボールが凝集していた。
また、実施例１のフラックスコートボールは、密閉容器内で、粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）とソルダボール（Ｃ－１）とを加熱しつつ振盪撹拌することにより製造されている。このように、実施例１のフラックスコートボールは、湿式処理に比べて簡便な方法である乾式処理によって製造することが可能であることも確認された。
また、実施例１のフラックスコートボールは、密閉容器内で、粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）とソルダボール（Ｃ－１）とを加熱しつつ振盪撹拌することにより製造されている。このように、実施例１のフラックスコートボールは、湿式処理に比べて簡便な方法である乾式処理によって製造することが可能であることも確認された。
＜フラックスコートボールの製造（２）＞
（実施例２～４）
フラックス材料（Ｓ－１）を、フラックス材料（Ｓ－２）、フラックス材料（Ｓ－３）、フラックス材料（Ｓ－４）へそれぞれ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例２～４の各フラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、何れの実施例においても、フラックス材料の融点マイナス２０℃に設定した。すなわち、実施例２では１２４℃、実施例３では１１５℃、実施例４では１３３℃に設定した。
振盪撹拌の操作は、何れの実施例においても、実施例１と同様にして行った。
（実施例２～４）
フラックス材料（Ｓ－１）を、フラックス材料（Ｓ－２）、フラックス材料（Ｓ－３）、フラックス材料（Ｓ－４）へそれぞれ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例２～４の各フラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、何れの実施例においても、フラックス材料の融点マイナス２０℃に設定した。すなわち、実施例２では１２４℃、実施例３では１１５℃、実施例４では１３３℃に設定した。
振盪撹拌の操作は、何れの実施例においても、実施例１と同様にして行った。
（実施例５）
ソルダボール（Ｃ－１）をソルダボール（Ｃ－６）へ変更し、また、フラックス材料（Ｓ－１）をフラックス材料（Ｓ－５）へ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例５のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるピメリン酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例５では８６℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例１と同様にして行った。
ソルダボール（Ｃ－１）をソルダボール（Ｃ－６）へ変更し、また、フラックス材料（Ｓ－１）をフラックス材料（Ｓ－５）へ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例５のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるピメリン酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例５では８６℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例１と同様にして行った。
（実施例６）
円筒状の遠沈管（直径４ｃｍ、長さ１２ｃｍ）に、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）１．２ｇと、ソルダボール（Ｃ－２）６ｇとを投入して密閉した。
次いで、フラックス材料（Ｓ－１）とソルダボール（Ｃ－２）とを投入した前記遠沈管に対して、温度１３２℃で５分間の予備加熱を行った。予備加熱の温度条件は、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。
次いで、予備加熱後の前記遠沈管を、温度１３２℃で、前記遠沈管の長軸方向に振盪撹拌の操作を６０分間続けた。ここでの加熱の温度条件は、予備加熱の温度条件と同様に、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。また、振盪撹拌の操作は、２０００ｓｐｍにして行った。
次いで、振盪撹拌の操作後、室温（２３℃）まで冷却することにより、ソルダボール（Ｃ－２）からなるコア部と、グルタル酸の層（フラックス層）からなり、コア部の全体を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールを得た。
円筒状の遠沈管（直径４ｃｍ、長さ１２ｃｍ）に、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）１．２ｇと、ソルダボール（Ｃ－２）６ｇとを投入して密閉した。
次いで、フラックス材料（Ｓ－１）とソルダボール（Ｃ－２）とを投入した前記遠沈管に対して、温度１３２℃で５分間の予備加熱を行った。予備加熱の温度条件は、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。
次いで、予備加熱後の前記遠沈管を、温度１３２℃で、前記遠沈管の長軸方向に振盪撹拌の操作を６０分間続けた。ここでの加熱の温度条件は、予備加熱の温度条件と同様に、フラックス材料（Ｓ－１）の融点マイナス２０℃に設定した。また、振盪撹拌の操作は、２０００ｓｐｍにして行った。
次いで、振盪撹拌の操作後、室温（２３℃）まで冷却することにより、ソルダボール（Ｃ－２）からなるコア部と、グルタル酸の層（フラックス層）からなり、コア部の全体を被覆するシェル部と、を備えたフラックスコートボールを得た。
（実施例７）
フラックス材料（Ｓ－１）を、フラックス材料（Ｓ－６）へ変更した以外は、実施例６のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例７のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるアジピン酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例７では１６５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例６と同様にして行った。
フラックス材料（Ｓ－１）を、フラックス材料（Ｓ－６）へ変更した以外は、実施例６のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例７のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるアジピン酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例７では１６５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例６と同様にして行った。
（実施例８～１０）
ソルダボール（Ｃ－１）を、ソルダボール（Ｃ－３）、ソルダボール（Ｃ－４）、ソルダボール（Ｃ－５）へそれぞれ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例８～１０の各フラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、何れの実施例においても、フラックス材料であるグルタル酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例８～１０ではいずれも７５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、何れの実施例においても、実施例１と同様にして行った。
ソルダボール（Ｃ－１）を、ソルダボール（Ｃ－３）、ソルダボール（Ｃ－４）、ソルダボール（Ｃ－５）へそれぞれ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例８～１０の各フラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、何れの実施例においても、フラックス材料であるグルタル酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例８～１０ではいずれも７５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、何れの実施例においても、実施例１と同様にして行った。
（実施例１１）
ソルダボール（Ｃ－１）をソルダボール（Ｃ－２）へ変更し、また、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）の投入量を、３ｇへ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例１１のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるグルタル酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例１１では７５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例１と同様にして行った。
ソルダボール（Ｃ－１）をソルダボール（Ｃ－２）へ変更し、また、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）の投入量を、３ｇへ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例１１のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるグルタル酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例１１では７５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例１と同様にして行った。
（実施例１２）
ソルダボール（Ｃ－１）をソルダボール（Ｃ－２）へ変更し、また、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）の投入量を、１０ｇへ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例１２のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるグルタル酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例１２では７５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例１と同様にして行った。
ソルダボール（Ｃ－１）をソルダボール（Ｃ－２）へ変更し、また、全体積を１００％として累積カーブを求めたときの５０％粒子径が３１４μｍの粉末状のフラックス材料（Ｓ－１）の投入量を、１０ｇへ変更した以外は、実施例１のフラックスコートボールの製造方法と同様にして、実施例１２のフラックスコートボールを得た。
予備加熱の温度条件、振盪撹拌の際の加熱の温度条件は、フラックス材料であるグルタル酸の融点マイナス２０℃、すなわち、実施例１２では７５℃に設定した。振盪撹拌の操作は、実施例１と同様にして行った。
＜評価（２）＞
上記で得られた実施例２～１２のフラックスコートボールについて、外観、フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及びその標準偏差、フラックスコートボールの真球度及びその標準偏差、フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）、フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合、フラックスコートボールの酸化膜厚、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）、フラックス層の剥がれにくさ、フラックスコートボールの濡れ性、製造直後のボールの分散状態 をそれぞれ評価した。
各評価の詳細については、上記＜評価（１）＞で記載した説明と同様である。これらの結果を、図３及び表２～４に示した。
上記で得られた実施例２～１２のフラックスコートボールについて、外観、フラックスコートボールの径（Ｒ１００）及びその標準偏差、フラックスコートボールの真球度及びその標準偏差、フラックス層の厚さ（Ｔ１２０）、フラックスコートボールに占めるシェル部の含有割合、フラックスコートボールの酸化膜厚、フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）、フラックス層の剥がれにくさ、フラックスコートボールの濡れ性、製造直後のボールの分散状態 をそれぞれ評価した。
各評価の詳細については、上記＜評価（１）＞で記載した説明と同様である。これらの結果を、図３及び表２～４に示した。
［外観］
図３は、実施例２～５の各フラックスコートボール、及びソルダボールのみの外観を示す写真である。
図３から、振盪撹拌する乾式処理工程において、加熱の温度条件の適正化により、コア部である金属ボールを、各種フラックス材料で被覆することが可能であること、が確認できる。
図３は、実施例２～５の各フラックスコートボール、及びソルダボールのみの外観を示す写真である。
図３から、振盪撹拌する乾式処理工程において、加熱の温度条件の適正化により、コア部である金属ボールを、各種フラックス材料で被覆することが可能であること、が確認できる。
表２～４に示す結果から、本発明を適用した実施例２～１２のフラックスコートボールは、いずれも、ボール広がり径が大きい値であり、銅板に対する濡れ性がより高められていることが確認された。
加えて、実施例２～１２のフラックスコートボールの製造では、何れの場合も、その製造直後、ボールが凝集することは無かった。
また、実施例２～１２のフラックスコートボールは、密閉容器内で、粉末状のフラックス材料とソルダボールとを加熱しつつ振盪撹拌することにより製造されている。このように、実施例２～１２のフラックスコートボールは、いずれも、湿式処理に比べて簡便な方法である乾式処理によって製造することが可能であることも確認された。
また、実施例２～１２のフラックスコートボールは、密閉容器内で、粉末状のフラックス材料とソルダボールとを加熱しつつ振盪撹拌することにより製造されている。このように、実施例２～１２のフラックスコートボールは、いずれも、湿式処理に比べて簡便な方法である乾式処理によって製造することが可能であることも確認された。
１００ フラックスコートボール、１１０ コア部、１２０ シェル部
Claims (14)
- コア部と、前記コア部を被覆するシェル部とを備えたフラックスコートボールであって、
前記コア部は、ソルダボール又は銅核ボールからなり、
前記シェル部は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、
前記フラックスコートボールに占める、前記シェル部の含有割合は、０．２質量％以上５質量％以下であり、
前記コア部表面に存在する酸化膜の厚さを意味し、ＳｉＯ ２ 換算値である酸化膜厚が３ｎｍ以下であり、
さらに、真球度が０．９９０以上である、フラックスコートボール。 - 前記フラックスコートボールの直径から、前記コア部の直径を差し引いた後、２で除することにより求める前記フラックス層の厚さが０．１０μｍ以上２．０μｍ以下であり、
前記コア部の直径は、３０μｍ以上２９５μｍ以下である、請求項１に記載のフラックスコートボール。 - 前記フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）が２．０μｍ以下である、請求項１又は２に記載のフラックスコートボール。
- 前記活性剤が、少なくとも有機酸を含む、請求項１～３のいずれか一項に記載のフラックスコートボール。
- 前記有機酸が、グルタル酸、ジグリコール酸、マロン酸、クエン酸、ピメリン酸、アジピン酸及び２，２－ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項４に記載のフラックスコートボール。
- コア部と、前記コア部を被覆するシェル部とを備えたフラックスコートボールであって、
前記コア部は、ソルダボール又は銅核ボールからなり、
前記シェル部は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、
前記フラックスコートボールに占める、前記シェル部の含有割合は、０．２質量％以上５質量％以下であり、
前記フラックス層の表面粗さ（Ｒａ）が２．０μｍ以下であり、
前記コア部表面に存在する酸化膜の厚さを意味し、ＳｉＯ ２ 換算値である酸化膜厚が３ｎｍ以下である、フラックスコートボール。 - 前記フラックスコートボールの直径から、前記コア部の直径を差し引いた後、２で除することにより求める前記フラックス層の厚さが０．１０μｍ以上２．０μｍ以下であり、
前記コア部の直径は、３０μｍ以上２９５μｍ以下である、請求項６に記載のフラックスコートボール。 - 前記活性剤が、少なくとも有機酸を含む、請求項６又は７に記載のフラックスコートボール。
- 前記有機酸が、グルタル酸、ジグリコール酸、マロン酸、クエン酸、ピメリン酸、アジピン酸及び２，２－ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項８に記載のフラックスコートボール。
- コア部と、前記コア部を被覆するシェル部とを備えたフラックスコートボールであって、
前記コア部は、ソルダボール又は銅核ボールからなり、
前記シェル部は、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス層からなり、
前記活性剤が、グルタル酸、ジグリコール酸、マロン酸、クエン酸、ピメリン酸、アジピン酸及び２，２－ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸からなる群より選択される少なくとも一種の有機酸を含み、
前記フラックスコートボールに占める、前記シェル部の含有割合は、０．２質量％以上５質量％以下であり、
前記コア部表面に存在する酸化膜の厚さを意味し、ＳｉＯ ２ 換算値である酸化膜厚が３ｎｍ以下である、フラックスコートボール。 - 前記フラックスコートボールの直径から、前記コア部の直径を差し引いた後、２で除することにより求める前記フラックス層の厚さが０．１０μｍ以上２．０μｍ以下であり、
前記コア部の直径は、３０μｍ以上２９５μｍ以下である、請求項１０に記載のフラックスコートボール。 - ボール全体の径が３０μｍ以上３００μｍ以下である、請求項１～１１のいずれか一項に記載のフラックスコートボール。
- 請求項１～１２のいずれか一項に記載のフラックスコートボールの製造方法であって、
ソルダボール又は銅核ボールと、活性剤及び樹脂成分からなる群より選択される少なくとも一種を含有するフラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する乾式処理工程を有し、
前記乾式処理工程における前記加熱の温度条件は、前記フラックス材料の融点マイナス３５℃以上、融点マイナス５℃以下である、フラックスコートボールの製造方法。 - 前記乾式処理工程において、
前記フラックス材料に対する、前記のソルダボール又は銅核ボールの質量比を１～１０として、
前記のソルダボール又は銅核ボールと、前記フラックス材料と、を加熱しつつ振盪撹拌する、請求項１３に記載のフラックスコートボールの製造方法。
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