JPH07323675A - クリームはんだ印刷マスク - Google Patents
クリームはんだ印刷マスクInfo
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- JPH07323675A JPH07323675A JP14263494A JP14263494A JPH07323675A JP H07323675 A JPH07323675 A JP H07323675A JP 14263494 A JP14263494 A JP 14263494A JP 14263494 A JP14263494 A JP 14263494A JP H07323675 A JPH07323675 A JP H07323675A
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- mask
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1216—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing
Abstract
(57)【要約】
【目的】 突出部が形成された基板上面に、標準的な塗
布辺形状のスキージを用いて面内均一にクリームはんだ
を印刷できる印刷マスクを提供する。 【構成】 基板71上に載置した状態で、基板71の突
出部74を収納する窪み12と基板71の印刷部75の
上方に配置される孔パターン13とが板状のマスク材1
1に形成されている印刷マスク1で、マスク材11のス
キージ走査面11aは平坦に形成され、孔パターン13
内の所定高さtの全面にはメッシュパターン14が配置
されている。このため、孔パターン13内に供給された
クリームはんだがメッシュパターン14の配置面で分離
され易くなり、メッシュパターン14の配置高さtに依
存したクリームはんだの印刷厚が得られる。また、スキ
ージ走査面11aではクリームはんだの供給具合が面内
均一化される。
布辺形状のスキージを用いて面内均一にクリームはんだ
を印刷できる印刷マスクを提供する。 【構成】 基板71上に載置した状態で、基板71の突
出部74を収納する窪み12と基板71の印刷部75の
上方に配置される孔パターン13とが板状のマスク材1
1に形成されている印刷マスク1で、マスク材11のス
キージ走査面11aは平坦に形成され、孔パターン13
内の所定高さtの全面にはメッシュパターン14が配置
されている。このため、孔パターン13内に供給された
クリームはんだがメッシュパターン14の配置面で分離
され易くなり、メッシュパターン14の配置高さtに依
存したクリームはんだの印刷厚が得られる。また、スキ
ージ走査面11aではクリームはんだの供給具合が面内
均一化される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の実装工程
でICを基板上にはんだ付けする際に用いるクリームは
んだ印刷マスクに関する。
でICを基板上にはんだ付けする際に用いるクリームは
んだ印刷マスクに関する。
【0002】
【従来の技術】混成集積回路を形成する際には、例えば
図5に示すように基板71上にICチップ72をベアチ
ップ実装した後に、モールドしたIC(図示せず)を基
板71上にはんだ付けする工程を行う。上記はんだ付け
工程では、先ず、クリームはんだ印刷マスク(以下、印
刷マスクと記す)6を用いて基板71の印刷部75に形
成されたランド76上にクリームはんだを印刷する。
図5に示すように基板71上にICチップ72をベアチ
ップ実装した後に、モールドしたIC(図示せず)を基
板71上にはんだ付けする工程を行う。上記はんだ付け
工程では、先ず、クリームはんだ印刷マスク(以下、印
刷マスクと記す)6を用いて基板71の印刷部75に形
成されたランド76上にクリームはんだを印刷する。
【0003】上記印刷マスク6は、クリームはんだの印
刷厚とランド76の厚みとを合わせた程度の板厚を有す
るマスク材61を加工してなるものである。このマスク
材61には、その一部分を凹型形状に形成してなるキャ
ビティ62が形成されている。このキャビティ62は、
マスク材61をその凹型形状が形成された面を下方にし
て基板71上に当該マスク材61を載置する際に、その
凹型内部にICチップ72及びこれを覆うチップコート
樹脂73を収納する部分である。また、マスク材61の
平坦部分には、孔パターン63が形成されている。この
孔パターン63は、上記のようにマスク材61を基板7
1上に載置した状態で、マスク材61からランド76が
露出するように形成されている。
刷厚とランド76の厚みとを合わせた程度の板厚を有す
るマスク材61を加工してなるものである。このマスク
材61には、その一部分を凹型形状に形成してなるキャ
ビティ62が形成されている。このキャビティ62は、
マスク材61をその凹型形状が形成された面を下方にし
て基板71上に当該マスク材61を載置する際に、その
凹型内部にICチップ72及びこれを覆うチップコート
樹脂73を収納する部分である。また、マスク材61の
平坦部分には、孔パターン63が形成されている。この
孔パターン63は、上記のようにマスク材61を基板7
1上に載置した状態で、マスク材61からランド76が
露出するように形成されている。
【0004】上記の印刷マスク6を用いて印刷を行う際
には、当該印刷マスク6の表面形状に合わせた形状の塗
布辺81aを有するスキージ81を用意する。そして、
塗布辺81aをマスク材61のスキージ走査面61aに
押し当てながらスキージ81を所定方向に走査させると
共に、スキージ81の走査方向前方の基板71上にクリ
ームはんだを供給する。これによって、孔パターン63
内をクリームはんだで埋め込み、基板71上にクリーム
はんだを印刷する。上記印刷では、ランド76上に印刷
されるクリームはんだの印刷厚は、マスク材61の板厚
によって制御される。また、ICチップ72はキャビテ
ィ62で覆われるため、当該ICチップ72に影響を与
えることなく基板71上にクリームはんだが印刷され
る。
には、当該印刷マスク6の表面形状に合わせた形状の塗
布辺81aを有するスキージ81を用意する。そして、
塗布辺81aをマスク材61のスキージ走査面61aに
押し当てながらスキージ81を所定方向に走査させると
共に、スキージ81の走査方向前方の基板71上にクリ
ームはんだを供給する。これによって、孔パターン63
内をクリームはんだで埋め込み、基板71上にクリーム
はんだを印刷する。上記印刷では、ランド76上に印刷
されるクリームはんだの印刷厚は、マスク材61の板厚
によって制御される。また、ICチップ72はキャビテ
ィ62で覆われるため、当該ICチップ72に影響を与
えることなく基板71上にクリームはんだが印刷され
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の印刷マ
スクには、以下のような課題があった。すなわち、混成
集積回路におけるICチップの実装位置は、その回路設
計によってそれぞれ異なる。このため、印刷マスクは、
各混成集積回路におけるICチップのベアチップ実装位
置に対応した形状のものを用意する必要があり、これら
の印刷マスクはそれぞれ表面形状が異なるものになる。
したがって、これらの印刷マスクを用いてクリームはん
だを印刷する場合には、それぞれの印刷マスクの表面形
状に合わせたスキージを用意しなければならない。
スクには、以下のような課題があった。すなわち、混成
集積回路におけるICチップの実装位置は、その回路設
計によってそれぞれ異なる。このため、印刷マスクは、
各混成集積回路におけるICチップのベアチップ実装位
置に対応した形状のものを用意する必要があり、これら
の印刷マスクはそれぞれ表面形状が異なるものになる。
したがって、これらの印刷マスクを用いてクリームはん
だを印刷する場合には、それぞれの印刷マスクの表面形
状に合わせたスキージを用意しなければならない。
【0006】また、上記印刷マスクを用いた印刷では、
スキージによるクリームハンダの供給状態が、キャビテ
ィ周辺の平坦部分とその外の平坦部分とで異なる。この
ため、ICチップがベアチップ実装されている周辺の基
板部分とその外の基板部分とに、同様の印刷厚でクリー
ムはんだを印刷することができない。したがって、上記
の各基板部分に、モールドしたICを同条件ではんだ付
けすることができない。そこで、混成集積回路の製造工
程では、ICチップがベアチップ実装されている付近に
はモールドしたICが実装されないように回路設計を行
っている。これは、混成集積回路の回路設計を制限する
要因になっている。
スキージによるクリームハンダの供給状態が、キャビテ
ィ周辺の平坦部分とその外の平坦部分とで異なる。この
ため、ICチップがベアチップ実装されている周辺の基
板部分とその外の基板部分とに、同様の印刷厚でクリー
ムはんだを印刷することができない。したがって、上記
の各基板部分に、モールドしたICを同条件ではんだ付
けすることができない。そこで、混成集積回路の製造工
程では、ICチップがベアチップ実装されている付近に
はモールドしたICが実装されないように回路設計を行
っている。これは、混成集積回路の回路設計を制限する
要因になっている。
【0007】そこで、本発明は、上記の課題を解決する
印刷マスクを提供することを目的とする。
印刷マスクを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のクリームはんだ印刷マスクは、基板上に載置
した状態で、当該基板の突出部を収納する窪みと当該基
板の印刷部の上方に配置される孔パターンとを板状のマ
スク材に形成してなる。このマスク材はスキージ走査面
が平坦であり、上記孔パターン内の所定高さには、その
全面にメッシュパターンが配置される。
の本発明のクリームはんだ印刷マスクは、基板上に載置
した状態で、当該基板の突出部を収納する窪みと当該基
板の印刷部の上方に配置される孔パターンとを板状のマ
スク材に形成してなる。このマスク材はスキージ走査面
が平坦であり、上記孔パターン内の所定高さには、その
全面にメッシュパターンが配置される。
【0009】また、上記孔パターンと孔パターンとの間
のマスク材部分の上面を、上記スキージ走査面よりも低
く形成しても良い。
のマスク材部分の上面を、上記スキージ走査面よりも低
く形成しても良い。
【0010】
【作用】上記クリームはんだ印刷マスクは、孔パターン
内の所定高さ全面にメッシュパターンが形成されている
ため、当該孔パターン内に供給されたクリームはんだの
所定面にはメッシュパターンが埋め込まれる。クリーム
はんだはそのチクソ性によって静止状態では粘度が高
く、上記メッシュパターンが埋め込まれることによって
その配置面を境にして分離されやすくなる。このため、
この印刷マスクを基板上に載置してクリームはんだ印刷
を行うと、孔パターン内に供給されたクリームはんだの
内、メッシュパターンより下方のクリームはんだは基板
に粘着してそのまま基板上に印刷される。一方、メッシ
ュパターンより上方のクリームはんだは、基板上に残ら
ない。したがって、上記印刷マスクを用いたクリームは
んだの印刷では、マスク材の板厚によらずメッシュパタ
ーンの配置高さに依存したクリームはんだの印刷厚が得
られる。また、上記印刷マスクは、マスク材のスキージ
走査面は平坦であり、スキージの走査によるクリームは
んだの供給状態は、上記スキージ走査面の面内で均一に
なる。
内の所定高さ全面にメッシュパターンが形成されている
ため、当該孔パターン内に供給されたクリームはんだの
所定面にはメッシュパターンが埋め込まれる。クリーム
はんだはそのチクソ性によって静止状態では粘度が高
く、上記メッシュパターンが埋め込まれることによって
その配置面を境にして分離されやすくなる。このため、
この印刷マスクを基板上に載置してクリームはんだ印刷
を行うと、孔パターン内に供給されたクリームはんだの
内、メッシュパターンより下方のクリームはんだは基板
に粘着してそのまま基板上に印刷される。一方、メッシ
ュパターンより上方のクリームはんだは、基板上に残ら
ない。したがって、上記印刷マスクを用いたクリームは
んだの印刷では、マスク材の板厚によらずメッシュパタ
ーンの配置高さに依存したクリームはんだの印刷厚が得
られる。また、上記印刷マスクは、マスク材のスキージ
走査面は平坦であり、スキージの走査によるクリームは
んだの供給状態は、上記スキージ走査面の面内で均一に
なる。
【0011】さらに、孔パターン間のマスク材部分の上
面をスキージ走査面よりも低く形成した場合には、マス
ク材の上面からマスク材の下面に向かって孔パターンの
開口面積の縮小率が大きくなる。したがって、孔パター
ン内がクリームはんだで埋め込まれ易くなる。
面をスキージ走査面よりも低く形成した場合には、マス
ク材の上面からマスク材の下面に向かって孔パターンの
開口面積の縮小率が大きくなる。したがって、孔パター
ン内がクリームはんだで埋め込まれ易くなる。
【0012】
【実施例】本発明の第1実施例のクリームはんだ印刷マ
スク(以下、印刷マスク)を図1の構成図により説明す
る。ここでは、一例として、混成集積回路の基板71上
にクリームはんだを印刷する際に用いる印刷マスク1の
構成を説明する。尚、基板71上には、ICチップ72
がベアチップ実装され、このICチップ72はチップコ
ート樹脂73で覆われている。これによって、基板71
は、その上面71aに突出部74が形成された状態にな
っている。また、この基板71には、クリームはんだの
印刷部75にランド76が形成されている。
スク(以下、印刷マスク)を図1の構成図により説明す
る。ここでは、一例として、混成集積回路の基板71上
にクリームはんだを印刷する際に用いる印刷マスク1の
構成を説明する。尚、基板71上には、ICチップ72
がベアチップ実装され、このICチップ72はチップコ
ート樹脂73で覆われている。これによって、基板71
は、その上面71aに突出部74が形成された状態にな
っている。また、この基板71には、クリームはんだの
印刷部75にランド76が形成されている。
【0013】上記の基板71にクリームはんだを印刷す
る際に用いる印刷マスク1は、基板71の上面71aに
載置する板状のマスク材11からなるものである。この
マスク材11には、窪み12と、孔パターン13とが形
成されている。また、孔パターン13の内部には、メッ
シュパターン14が形成されている。
る際に用いる印刷マスク1は、基板71の上面71aに
載置する板状のマスク材11からなるものである。この
マスク材11には、窪み12と、孔パターン13とが形
成されている。また、孔パターン13の内部には、メッ
シュパターン14が形成されている。
【0014】上記マスク材11は、例えば金属平板から
なるものであり、印刷の際に上面側になるスキージ走査
面11aと印刷の際に基板71と接する載置面11bと
が平坦に形成されている。また、マスク材11は、印刷
を行う基板71に対して充分に広い面積を有している。
そして、マスク材11の板厚Tは、上記窪み12の深さ
T1 よりも厚くなっている。
なるものであり、印刷の際に上面側になるスキージ走査
面11aと印刷の際に基板71と接する載置面11bと
が平坦に形成されている。また、マスク材11は、印刷
を行う基板71に対して充分に広い面積を有している。
そして、マスク材11の板厚Tは、上記窪み12の深さ
T1 よりも厚くなっている。
【0015】上記窪み12は、印刷マスク1を基板71
上に載置した状態で、基板71上の突出部74が当たる
部分に形成される。また、この窪み12は、上記の状態
でその内壁面に突出部74が接触することなく当該突出
部74を収納するように、充分な大きさを有している。
上に載置した状態で、基板71上の突出部74が当たる
部分に形成される。また、この窪み12は、上記の状態
でその内壁面に突出部74が接触することなく当該突出
部74を収納するように、充分な大きさを有している。
【0016】上記孔パターン13は、印刷マスク1を基
板71上に載置した状態で、ランド76の上方になる位
置に形成される。この孔パターン13の開口形状は、ラ
ンド76の形状に対応している。また、孔パターン13
の壁面形状は、上部開口と下部開口とから内側に向かっ
てテーパーが付けられ、メッシュパターン14の形成高
さtで最も開口面積が小さくなっている。これによっ
て、クリームはんだを印刷する際に、孔パターン13の
内部が充分にクリームはんだで埋め込まれかつ基板71
と接触したクリームはんだが基板71から剥がれること
のないようにする。
板71上に載置した状態で、ランド76の上方になる位
置に形成される。この孔パターン13の開口形状は、ラ
ンド76の形状に対応している。また、孔パターン13
の壁面形状は、上部開口と下部開口とから内側に向かっ
てテーパーが付けられ、メッシュパターン14の形成高
さtで最も開口面積が小さくなっている。これによっ
て、クリームはんだを印刷する際に、孔パターン13の
内部が充分にクリームはんだで埋め込まれかつ基板71
と接触したクリームはんだが基板71から剥がれること
のないようにする。
【0017】上記メッシュパターン14は、無数の微細
な開口を一枚の面上に形成してなるパターンである。こ
のメッシュパターン14は、孔パターン13内の載置面
11bからの所定高さtにおいてその全面に形成され
る。上記高さtは、例えばランド76の高さとはんだの
印刷厚とを合わせた高さにする。また、メッシュパター
ン14の開口形状,開口率及び断面形状は、例えば印刷
に使用するクリームはんだのチクソ性に基づいて、印刷
の際にメッシュパターン14の上方から下方に充分にク
リームはんだが供給されかつメッシュパターン14によ
って孔パターン13内のクリームはんだが充分に分離さ
れるように決定される。
な開口を一枚の面上に形成してなるパターンである。こ
のメッシュパターン14は、孔パターン13内の載置面
11bからの所定高さtにおいてその全面に形成され
る。上記高さtは、例えばランド76の高さとはんだの
印刷厚とを合わせた高さにする。また、メッシュパター
ン14の開口形状,開口率及び断面形状は、例えば印刷
に使用するクリームはんだのチクソ性に基づいて、印刷
の際にメッシュパターン14の上方から下方に充分にク
リームはんだが供給されかつメッシュパターン14によ
って孔パターン13内のクリームはんだが充分に分離さ
れるように決定される。
【0018】上記構成の印刷マスク1では、孔パターン
13内の所定高さtにおけるその全面にメッシュパター
ン14が形成されているため、当該孔パターン13内を
クリームはんだ(図示せず)で埋め込むと、クリームは
んだの所定面にメッシュパターン14が配置される。ク
リームはんだはそのチクソ性によって静止状態では粘度
が高いため、このメッシュパターン14の配置面を境に
してクリームはんだが分離されやすくなる。このため、
この印刷マスク1を基板71上に載置してクリームはん
だ印刷を行うと、孔パターン13内に供給されたクリー
ムはんだの内、メッシュパターン14より下方のクリー
ムはんだは基板71に粘着してそのまま基板上に印刷さ
れる。印刷マスク1を用いたクリームはんだの印刷で
は、マスク材11の板厚Tによらずメッシュパターン1
4の配置高さtに依存したクリームはんだの印刷厚が得
られる。また、マスク材11のスキージ走査面11aは
平坦に形成されているため、印刷の際には、塗布辺形状
が直線状に形成されたスキージを用いてクリームはんだ
を印刷することができる。そして、スキージ走査面11
a上では、どの部分においてもクリームはんだの供給状
態が同じになる。
13内の所定高さtにおけるその全面にメッシュパター
ン14が形成されているため、当該孔パターン13内を
クリームはんだ(図示せず)で埋め込むと、クリームは
んだの所定面にメッシュパターン14が配置される。ク
リームはんだはそのチクソ性によって静止状態では粘度
が高いため、このメッシュパターン14の配置面を境に
してクリームはんだが分離されやすくなる。このため、
この印刷マスク1を基板71上に載置してクリームはん
だ印刷を行うと、孔パターン13内に供給されたクリー
ムはんだの内、メッシュパターン14より下方のクリー
ムはんだは基板71に粘着してそのまま基板上に印刷さ
れる。印刷マスク1を用いたクリームはんだの印刷で
は、マスク材11の板厚Tによらずメッシュパターン1
4の配置高さtに依存したクリームはんだの印刷厚が得
られる。また、マスク材11のスキージ走査面11aは
平坦に形成されているため、印刷の際には、塗布辺形状
が直線状に形成されたスキージを用いてクリームはんだ
を印刷することができる。そして、スキージ走査面11
a上では、どの部分においてもクリームはんだの供給状
態が同じになる。
【0019】上記印刷マスク1の形成方法の一例を説明
する。先ず、図2(1)に示すように、マスク材11の
両面にレジストを塗布してレジスト膜21を成膜する。
そして、マスク材11の載置面11b側のレジスト膜2
1に開口パターン22を形成する。次いで、このレジス
ト膜21をマスクにしてマスク材11を等方的にハーフ
エッチングし、マスク材11に窪み12を形成する。
する。先ず、図2(1)に示すように、マスク材11の
両面にレジストを塗布してレジスト膜21を成膜する。
そして、マスク材11の載置面11b側のレジスト膜2
1に開口パターン22を形成する。次いで、このレジス
ト膜21をマスクにしてマスク材11を等方的にハーフ
エッチングし、マスク材11に窪み12を形成する。
【0020】次に、図2(2)に示すように、上記レジ
スト膜(21)を除去した後、マスク材11の両面にレ
ジストを新たに塗布してレジスト膜23を成膜する。そ
して、マスク材11のスキージ走査面11a側のレジス
ト膜23に、孔パターン(13)を形成するための開口
パターン24を形成する。次いで、このレジスト膜23
をマスクにして、メッシュパターン(14)を形成する
面の近くまでマスク材11を等方的にハーフエッチング
する。
スト膜(21)を除去した後、マスク材11の両面にレ
ジストを新たに塗布してレジスト膜23を成膜する。そ
して、マスク材11のスキージ走査面11a側のレジス
ト膜23に、孔パターン(13)を形成するための開口
パターン24を形成する。次いで、このレジスト膜23
をマスクにして、メッシュパターン(14)を形成する
面の近くまでマスク材11を等方的にハーフエッチング
する。
【0021】その後、図2(3)に示すように、上記レ
ジスト膜(23)を除去した後、マスク材11の両面に
レジストを新たに塗布してレジスト膜25を成膜する。
そして、マスク材11の載置面11b側のレジスト膜2
5に、孔パターン(13)を形成するための開口パター
ン26を形成する。次いで、このレジスト膜25をマス
クにして、メッシュパターン(14)を形成する面の近
くまでマスク材11を等方的にハーフエッチングする。
ジスト膜(23)を除去した後、マスク材11の両面に
レジストを新たに塗布してレジスト膜25を成膜する。
そして、マスク材11の載置面11b側のレジスト膜2
5に、孔パターン(13)を形成するための開口パター
ン26を形成する。次いで、このレジスト膜25をマス
クにして、メッシュパターン(14)を形成する面の近
くまでマスク材11を等方的にハーフエッチングする。
【0022】次いで、メッシュパターンを形成する工程
を行う。図2(4)には、メッシュパターン14形成部
分の拡大図を示す。ここでは、先ず、上記レジスト膜
(25)を除去した後、マスク材11の両面にレジスト
を新たに塗布してレジスト膜27を成膜する。そして、
孔パターン13内の両面のレジスト膜27に、微細な開
口パターン28を形成する。次いで、このレジスト膜2
7をマスクにして、マスク材11を両側から等方的にエ
ッチングする。これによって、孔パターン13内にメッ
シュパターン14を形成する。
を行う。図2(4)には、メッシュパターン14形成部
分の拡大図を示す。ここでは、先ず、上記レジスト膜
(25)を除去した後、マスク材11の両面にレジスト
を新たに塗布してレジスト膜27を成膜する。そして、
孔パターン13内の両面のレジスト膜27に、微細な開
口パターン28を形成する。次いで、このレジスト膜2
7をマスクにして、マスク材11を両側から等方的にエ
ッチングする。これによって、孔パターン13内にメッ
シュパターン14を形成する。
【0023】上記のように、印刷マスク1を形成するこ
とによって、孔パターン13の内壁面はメッシュパター
ン14の形成部に向かってテーパーを有する形状にな
る。
とによって、孔パターン13の内壁面はメッシュパター
ン14の形成部に向かってテーパーを有する形状にな
る。
【0024】次に、上記印刷マスク1を用いたクリーム
はんだの印刷を説明する。先ず、図3(1)に示すよう
に、ICチップ72がベアチップ実装された基板71上
に印刷マスク1を載置する。この際、窪み12内に基板
71上の突出部74が収納されかつ基板71のランド7
6上に孔パターン13が配置されるように、印刷マスク
1を基板71上に載置する。
はんだの印刷を説明する。先ず、図3(1)に示すよう
に、ICチップ72がベアチップ実装された基板71上
に印刷マスク1を載置する。この際、窪み12内に基板
71上の突出部74が収納されかつ基板71のランド7
6上に孔パターン13が配置されるように、印刷マスク
1を基板71上に載置する。
【0025】そして、図3(2)に示すように、マスク
材11のスキージ走査面11aの形状に合わせて、例え
ば塗布辺8aが直線であるスキージ8を用意する。次
に、スキージ8の塗布辺8aを印刷マスク1の上面(す
なわちスキージ走査面11a)に押し当ててながらスキ
ージ8を矢印の方向に走査させると共に、スキージ8の
走査方向前方の印刷マスク11上にクリームはんだ9を
供給する。これによって、孔パターン13内にクリーム
はんだ9を埋め込む。
材11のスキージ走査面11aの形状に合わせて、例え
ば塗布辺8aが直線であるスキージ8を用意する。次
に、スキージ8の塗布辺8aを印刷マスク1の上面(す
なわちスキージ走査面11a)に押し当ててながらスキ
ージ8を矢印の方向に走査させると共に、スキージ8の
走査方向前方の印刷マスク11上にクリームはんだ9を
供給する。これによって、孔パターン13内にクリーム
はんだ9を埋め込む。
【0026】上記の後、図3(3)に示すように、基板
71を固定した状態で印刷マスク1を上昇させる。
71を固定した状態で印刷マスク1を上昇させる。
【0027】上記のクリームはんだ印刷では、印刷マス
ク1を上昇させると、メッシュパターン14より下方の
クリームはんだ9aは、ランド76との粘着によってラ
ンド76上に残る。そして、孔パターン13内のクリー
ムはんだ9は、メッシュパターン14で上下に分離され
る。このため、メッシュパターン14より上方のクリー
ムはんだ9bは、メッシュパターン14によって印刷マ
スク1と共に上方に持ち上げられる。そして、孔パター
ン13内におけるメッシュパターン14の配置高さtか
らランド76の高さを引いた印刷厚で、クリームはんだ
9がランド76上に印刷される。
ク1を上昇させると、メッシュパターン14より下方の
クリームはんだ9aは、ランド76との粘着によってラ
ンド76上に残る。そして、孔パターン13内のクリー
ムはんだ9は、メッシュパターン14で上下に分離され
る。このため、メッシュパターン14より上方のクリー
ムはんだ9bは、メッシュパターン14によって印刷マ
スク1と共に上方に持ち上げられる。そして、孔パター
ン13内におけるメッシュパターン14の配置高さtか
らランド76の高さを引いた印刷厚で、クリームはんだ
9がランド76上に印刷される。
【0028】次に、第2実施例の印刷マスクを図4の構
成図に基づいて説明する。ここで説明する印刷マスク4
は、上記と同様の基板71上にクリームはんだを印刷す
る際に用いるものである。上記印刷マスク4は、上記第
1実施例で示したと同様の印刷マスクにおいて、、孔パ
ターン13と孔パターン13との間のマスク材部分41
の上面41aを、マスク材11のスキージ走査面11a
よりも低く形成してなるものである。
成図に基づいて説明する。ここで説明する印刷マスク4
は、上記と同様の基板71上にクリームはんだを印刷す
る際に用いるものである。上記印刷マスク4は、上記第
1実施例で示したと同様の印刷マスクにおいて、、孔パ
ターン13と孔パターン13との間のマスク材部分41
の上面41aを、マスク材11のスキージ走査面11a
よりも低く形成してなるものである。
【0029】この印刷マスク4は、上記第1実施例と同
様のハーフエッチ技術によって形成する。
様のハーフエッチ技術によって形成する。
【0030】また、上記印刷マスク4を用いたクリーム
はんだの印刷は、上記第1実施例と同様に行う。
はんだの印刷は、上記第1実施例と同様に行う。
【0031】上記構成の印刷マスク4では、マスク材1
1のスキージ走査面11aから載置面11bに向かって
孔パターン13の開口面積の縮小率が大きくなる。この
ため、マスク材11のスキージ走査面11a側から供給
されたクリームはんだ(図示せず)が、孔パターン13
の内部を埋め込み易くなる。したがって、より微細な印
刷パターンを鮮明に印刷することが可能になる。
1のスキージ走査面11aから載置面11bに向かって
孔パターン13の開口面積の縮小率が大きくなる。この
ため、マスク材11のスキージ走査面11a側から供給
されたクリームはんだ(図示せず)が、孔パターン13
の内部を埋め込み易くなる。したがって、より微細な印
刷パターンを鮮明に印刷することが可能になる。
【0032】
【発明の効果】以上、説明したように本発明のクリーム
はんだ印刷マスクによれば、孔パターン内の所定高さ全
面にメッシュパターンを形成したことによって、スキー
ジ走査面が平坦に形成された肉厚の印刷マスクを用いて
所定の印刷厚でクリームはんだを印刷することができ
る。このため、上記基板上にクリームはんだを印刷する
際には、突出部の形成位置によらず標準的な塗布辺形状
のスキージを用いることが可能になる。さらに、スキー
ジによるクリームはんだの供給状態が印刷マスクのスキ
ージ走査面上で均一化し、基板上面のほとんどの位置に
同条件でクリームはんだを印刷することが可能になる。
このため、ICチップがベアチップ実装された基板上に
おいてモールドしたICの実装位置の制限を緩和するこ
とができる。したがって、混成集積回路の回路設計の自
由度が向上する。
はんだ印刷マスクによれば、孔パターン内の所定高さ全
面にメッシュパターンを形成したことによって、スキー
ジ走査面が平坦に形成された肉厚の印刷マスクを用いて
所定の印刷厚でクリームはんだを印刷することができ
る。このため、上記基板上にクリームはんだを印刷する
際には、突出部の形成位置によらず標準的な塗布辺形状
のスキージを用いることが可能になる。さらに、スキー
ジによるクリームはんだの供給状態が印刷マスクのスキ
ージ走査面上で均一化し、基板上面のほとんどの位置に
同条件でクリームはんだを印刷することが可能になる。
このため、ICチップがベアチップ実装された基板上に
おいてモールドしたICの実装位置の制限を緩和するこ
とができる。したがって、混成集積回路の回路設計の自
由度が向上する。
【図1】第1実施例の印刷マスクの構成図である。
【図2】印刷マスクの形成方法を示す工程図である。
【図3】クリームはんだ印刷の工程図である。
【図4】第2実施例の印刷マスクの構成図である。
【図5】従来の印刷マスクの構成図である。
1,4 印刷マスク 11 マスク材 11a スキージ走査面 12 窪み 13 孔パターン 14 メッシュパターン 41 マスク材部分 41a 上面 71 基板 74 突出部 75 印刷部 t 高さ
Claims (2)
- 【請求項1】 突出部が形成されている基板の上面にク
リームはんだを印刷する際に用いる印刷マスクであっ
て、前記基板上に載置した状態で前記突出部を収納する
窪みと当該基板の印刷部の上方に配置される孔パターン
とを板状のマスク材に形成してなる印刷マスクにおい
て、 前記マスク材は、前記印刷マスクを前記基板上に載置し
た状態でその上面側になるスキージ走査面が平坦なもの
であり、 前記孔パターン内の所定高さには、その全面にメッシュ
パターンが配置されることを特徴とするクリームはんだ
印刷マスク。 - 【請求項2】 請求項1記載のクリームはんだ印刷マス
クにおいて、 前記孔パターンと孔パターンとの間のマスク材部分は、
その上面が前記スキージ走査面よりも低く形成されてい
ることを特徴とするクリームはんだ印刷マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14263494A JPH07323675A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | クリームはんだ印刷マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14263494A JPH07323675A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | クリームはんだ印刷マスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07323675A true JPH07323675A (ja) | 1995-12-12 |
Family
ID=15319918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14263494A Pending JPH07323675A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | クリームはんだ印刷マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07323675A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998027797A1 (en) * | 1996-12-18 | 1998-06-25 | Micro Metallic Limited | Improved stencil and method of producing such |
DE10037170C2 (de) * | 1999-08-27 | 2003-09-25 | Minami Co Ltd | Verfahren zum Selektiven aufbringen von Siebgedruckten Schutzschichten auf Bauteile |
CN112519394A (zh) * | 2020-11-19 | 2021-03-19 | 浙江硕克科技有限公司 | 一种半导体电子部件精密线路印刷金属版 |
-
1994
- 1994-05-31 JP JP14263494A patent/JPH07323675A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998027797A1 (en) * | 1996-12-18 | 1998-06-25 | Micro Metallic Limited | Improved stencil and method of producing such |
DE10037170C2 (de) * | 1999-08-27 | 2003-09-25 | Minami Co Ltd | Verfahren zum Selektiven aufbringen von Siebgedruckten Schutzschichten auf Bauteile |
CN112519394A (zh) * | 2020-11-19 | 2021-03-19 | 浙江硕克科技有限公司 | 一种半导体电子部件精密线路印刷金属版 |
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