JPH07321164A - プロービング方法 - Google Patents
プロービング方法Info
- Publication number
- JPH07321164A JPH07321164A JP11116694A JP11116694A JPH07321164A JP H07321164 A JPH07321164 A JP H07321164A JP 11116694 A JP11116694 A JP 11116694A JP 11116694 A JP11116694 A JP 11116694A JP H07321164 A JPH07321164 A JP H07321164A
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- Japan
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- stage
- center
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 プロービング装置のステージに装着されたウ
ェーハのスクライブ線の位置のメモリが、実際のスクラ
イブ線の位置からずれると言う不具合を解決するプロー
ビング方法を提供する。 【構成】 半導体装置のウェーハ状態での電気的特性を
測定するプロービング方法において、プロービング装置
のステージの中心マークと位置合わせ手段３とを合わせ
る工程、ステージ１上にウェーハ４を載せ、ステージ１
を移動させ、位置合わせ手段３に実スクライブ線の交差
部５ａを合わせる工程、ウェーハ４のオリエンテーショ
ンフラット４ａを含むウェーハサイズ、形状、および位
置をメモリする工程および外周または中心からの距離と
して与えられたウェーハの測定境界にペレットの一部も
かからない測定境界内のペレットの電気的特性を測定
し、電気的特性不良ペレット、および電気的特性を測定
しないペレットに、不良識別マークを付ける工程を含
む。
ェーハのスクライブ線の位置のメモリが、実際のスクラ
イブ線の位置からずれると言う不具合を解決するプロー
ビング方法を提供する。 【構成】 半導体装置のウェーハ状態での電気的特性を
測定するプロービング方法において、プロービング装置
のステージの中心マークと位置合わせ手段３とを合わせ
る工程、ステージ１上にウェーハ４を載せ、ステージ１
を移動させ、位置合わせ手段３に実スクライブ線の交差
部５ａを合わせる工程、ウェーハ４のオリエンテーショ
ンフラット４ａを含むウェーハサイズ、形状、および位
置をメモリする工程および外周または中心からの距離と
して与えられたウェーハの測定境界にペレットの一部も
かからない測定境界内のペレットの電気的特性を測定
し、電気的特性不良ペレット、および電気的特性を測定
しないペレットに、不良識別マークを付ける工程を含
む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ペレットのウェ
ーハでの電気的特性を測定、選別するプロービング方法
に関する。
ーハでの電気的特性を測定、選別するプロービング方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】図面を用いて従来の技術について説明す
る。図４は、プロービング装置のステージの中心マーク
に顕微鏡の視野の中心を合わせたところを示す。図５
は、ステージにウェーハを載せ固定し、ペレットの中心
を顕微鏡の視野の中心に合わせたところを示す。図６は
ウェーハ上の実際のペレットのスクライブ線とプロービ
ング装置の操作からメモリしたスクライブ線の一例を示
す。プロービングでの電気的特性を測定するペレット
は、図６のウェーハ４の周辺部または中心から一定距離
のウェーハ測定境界６にペレットの一部もかからない、
ウェーハ測定境界６内のペレットである。外周部のペレ
ットは電気的特性は良品であっても電極パターンが不完
全等信頼性不良が発生する可能性があるので測定せずに
不良とする。この電気的特性を測定しないペレットに不
良識別マークを付ける。まず、プロービング装置のステ
ージ位置の原点出しをおこない、この位置をプロービン
グ装置にメモリさせる。つぎに図４に示したようにプロ
ービング装置のステージの中心マーク２が顕微鏡の視野
の中心８（顕微鏡の視野を７で示す）に振り分けで合う
ように顕微鏡を動かす。その後、図５に示したように、
ステージ１の略中心にウェーハ４を載せ固定する。プロ
ービング装置は自動的にウェーハ４の中心を通るＸ軸、
Ｙ軸（ステージの移動方向である）と、ウェーハ周辺と
交わる周辺近傍の４箇所で、光学的反射率の変動により
ウェーハ４上に形成された実スクライブ線５を検出し、
ステージ１を回転させ、回転軸を固定する。この作業に
よって、ウェーハ上の実際のスクライブ線（実スクライ
ブ線５）はＸ軸、Ｙ軸に平行になる。
る。図４は、プロービング装置のステージの中心マーク
に顕微鏡の視野の中心を合わせたところを示す。図５
は、ステージにウェーハを載せ固定し、ペレットの中心
を顕微鏡の視野の中心に合わせたところを示す。図６は
ウェーハ上の実際のペレットのスクライブ線とプロービ
ング装置の操作からメモリしたスクライブ線の一例を示
す。プロービングでの電気的特性を測定するペレット
は、図６のウェーハ４の周辺部または中心から一定距離
のウェーハ測定境界６にペレットの一部もかからない、
ウェーハ測定境界６内のペレットである。外周部のペレ
ットは電気的特性は良品であっても電極パターンが不完
全等信頼性不良が発生する可能性があるので測定せずに
不良とする。この電気的特性を測定しないペレットに不
良識別マークを付ける。まず、プロービング装置のステ
ージ位置の原点出しをおこない、この位置をプロービン
グ装置にメモリさせる。つぎに図４に示したようにプロ
ービング装置のステージの中心マーク２が顕微鏡の視野
の中心８（顕微鏡の視野を７で示す）に振り分けで合う
ように顕微鏡を動かす。その後、図５に示したように、
ステージ１の略中心にウェーハ４を載せ固定する。プロ
ービング装置は自動的にウェーハ４の中心を通るＸ軸、
Ｙ軸（ステージの移動方向である）と、ウェーハ周辺と
交わる周辺近傍の４箇所で、光学的反射率の変動により
ウェーハ４上に形成された実スクライブ線５を検出し、
ステージ１を回転させ、回転軸を固定する。この作業に
よって、ウェーハ上の実際のスクライブ線（実スクライ
ブ線５）はＸ軸、Ｙ軸に平行になる。
【０００３】一方、プロービング装置は、ステージ１上
の略中央に固定されたウェーハ４がＸ方向、Ｙ方向に自
動的にステージ１とともに移動し、ウェーハ端部の静電
容量の変動によりウェーハサイズ、形状、およびウェー
ハの中心位置をメモリし、ウェーハの中心が顕微鏡の視
野の中心８に合う位置でステージ１が停止する。その
後、ステージ１を移動し、ウェーハ４上に形成されたペ
レットの中心９を顕微鏡の視野の中心８に振り分けで合
わせ、この位置をプロービング装置にメモリさせる。ス
テージ１のＸ軸、Ｙ軸方向への移動量、および事前に電
気的特性を測定するウェーハ４の種類によって、ペレッ
トサイズおよびオリエンテーションフラット４ａをプロ
ービング装置にインプットしておくことにより、プロー
ビング装置はステージの中心マーク２とペレットの中心
９とのズレ量算出してメモリスクライブ線１０をメモリ
する。この時、スクライブ線はＸ軸、Ｙ軸に平行として
メモリされる。以上の操作により、ウェーハ４上にメモ
リスクライブ線１０をメモリする。このウェーハ４上の
メモリスクライブ線１０により、ウェーハ４の外周また
は中心から一定の距離として与えられたウェーハ測定境
界６にペレットの一部もかからない、ウェーハ測定境界
６内のペレットのみ電気的特性を測定し、電気的特性不
良ペレットおよび電気的特性を測定しないペレットに、
不良識別マークを付ける。
の略中央に固定されたウェーハ４がＸ方向、Ｙ方向に自
動的にステージ１とともに移動し、ウェーハ端部の静電
容量の変動によりウェーハサイズ、形状、およびウェー
ハの中心位置をメモリし、ウェーハの中心が顕微鏡の視
野の中心８に合う位置でステージ１が停止する。その
後、ステージ１を移動し、ウェーハ４上に形成されたペ
レットの中心９を顕微鏡の視野の中心８に振り分けで合
わせ、この位置をプロービング装置にメモリさせる。ス
テージ１のＸ軸、Ｙ軸方向への移動量、および事前に電
気的特性を測定するウェーハ４の種類によって、ペレッ
トサイズおよびオリエンテーションフラット４ａをプロ
ービング装置にインプットしておくことにより、プロー
ビング装置はステージの中心マーク２とペレットの中心
９とのズレ量算出してメモリスクライブ線１０をメモリ
する。この時、スクライブ線はＸ軸、Ｙ軸に平行として
メモリされる。以上の操作により、ウェーハ４上にメモ
リスクライブ線１０をメモリする。このウェーハ４上の
メモリスクライブ線１０により、ウェーハ４の外周また
は中心から一定の距離として与えられたウェーハ測定境
界６にペレットの一部もかからない、ウェーハ測定境界
６内のペレットのみ電気的特性を測定し、電気的特性不
良ペレットおよび電気的特性を測定しないペレットに、
不良識別マークを付ける。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の従来
のプロービング装置のステージの中心マーク、およびペ
レットの中心を顕微鏡の視野の中心に合わせて、ウェー
ハ上のペレットのメモリスクライブ線位置を求めてい
た。この方法では、顕微鏡の視野の中心とペレットの中
心と言うように、正確な位置合わせができないと言う欠
点があった。この欠点により、ペレットの品種により、
プロービング装置のメモリしたウェーハ上の電気的特性
の測定を指定した境界と、プロービング装置のメモリし
た測定境界がずれる場合があった。このため、実際は測
定境界内のペレットの一部が測定境界外にある（図６の
１１）と判断し、電気的特性を測定しなかったり、測定
境界外のペレットを測定境界内にある（図示せず）と判
断し、測定すると言うことが発生する欠点があった。
のプロービング装置のステージの中心マーク、およびペ
レットの中心を顕微鏡の視野の中心に合わせて、ウェー
ハ上のペレットのメモリスクライブ線位置を求めてい
た。この方法では、顕微鏡の視野の中心とペレットの中
心と言うように、正確な位置合わせができないと言う欠
点があった。この欠点により、ペレットの品種により、
プロービング装置のメモリしたウェーハ上の電気的特性
の測定を指定した境界と、プロービング装置のメモリし
た測定境界がずれる場合があった。このため、実際は測
定境界内のペレットの一部が測定境界外にある（図６の
１１）と判断し、電気的特性を測定しなかったり、測定
境界外のペレットを測定境界内にある（図示せず）と判
断し、測定すると言うことが発生する欠点があった。
【０００５】
【問題を解決するための手段】本発明は、半導体ペレッ
トのウェーハでの電気的特性を測定、選別する装置のプ
ロービング方法において、ステージの中心マークを位置
合わせ手段と一致させる工程、その後ステージ上にウェ
ーハを載せ、ステージの移動により、スクライブ線の交
差部を位置合わせ手段に一致させる工程、ウェーハのサ
イズ、形状および位置をメモリする工程、およびウェー
ハの所定位置からの距離で示されるウェーハの測定境界
内の個々のペレットの電気的特性を測定し、電気的特性
不良ペレット、および電気的特性を測定しないペレット
に不良識別マークを付ける工程を含むことを特徴とする
プロービング方法である。
トのウェーハでの電気的特性を測定、選別する装置のプ
ロービング方法において、ステージの中心マークを位置
合わせ手段と一致させる工程、その後ステージ上にウェ
ーハを載せ、ステージの移動により、スクライブ線の交
差部を位置合わせ手段に一致させる工程、ウェーハのサ
イズ、形状および位置をメモリする工程、およびウェー
ハの所定位置からの距離で示されるウェーハの測定境界
内の個々のペレットの電気的特性を測定し、電気的特性
不良ペレット、および電気的特性を測定しないペレット
に不良識別マークを付ける工程を含むことを特徴とする
プロービング方法である。
【０００６】
【作用】上記の位置合わせは、点と点を合わせることに
より、実スクライブ線がメモリスクライブ線に一致す
る。そのために、正確に指定したウェーハの測定範囲内
のペレットのみを測定することができる。
より、実スクライブ線がメモリスクライブ線に一致す
る。そのために、正確に指定したウェーハの測定範囲内
のペレットのみを測定することができる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明について図面を用いて説明す
る。図１は、プロービング装置のステージの中心マーク
と、位置合わせ手段の一例の針状物の先端とを合わせた
ところを示す。図２は、ステージにウェーハを載せ、ス
クライブ線の交差部を針状物の先端を合わせたところを
示す。図３はウェーハ上の実際のスクライブ線位置とプ
ロービング装置の操作からメモリしたスクライブ線位置
が一致したところを示す。まず、図１に示したように、
プロービング装置のステージ位置の原点出しをおこな
い、中心マーク２に針状物の先端３ａを合わせ、プロー
ビング装置のステージの中心マーク２位置をメモリさせ
る。ここで、針状物としてプローブ電極を用いてもよ
い。また、逆に固定された位置合わせ手段にステージ１
の中心マーク２を合わせ、そこをステージの原点位置と
してもよい。次に、図２に示したように、ステージ１の
略中心にウェーハ４を載せ固定する。プロービング装置
は自動的にウェーハ４の中心を通るＸ軸、Ｙ軸（ステー
ジの移動方向である）と、ウェーハ４の周辺と交わる周
辺近傍の４箇所で、光学的反射率の変動により、ウェー
ハ４上に形成された実スクライブ線５を検出しステージ
１を回転させ、回転軸を固定する。この作業によって、
ウェーハ上の実際のスクライブ線（実スクライブ線５）
はＸ軸、Ｙ軸に平行になる。
る。図１は、プロービング装置のステージの中心マーク
と、位置合わせ手段の一例の針状物の先端とを合わせた
ところを示す。図２は、ステージにウェーハを載せ、ス
クライブ線の交差部を針状物の先端を合わせたところを
示す。図３はウェーハ上の実際のスクライブ線位置とプ
ロービング装置の操作からメモリしたスクライブ線位置
が一致したところを示す。まず、図１に示したように、
プロービング装置のステージ位置の原点出しをおこな
い、中心マーク２に針状物の先端３ａを合わせ、プロー
ビング装置のステージの中心マーク２位置をメモリさせ
る。ここで、針状物としてプローブ電極を用いてもよ
い。また、逆に固定された位置合わせ手段にステージ１
の中心マーク２を合わせ、そこをステージの原点位置と
してもよい。次に、図２に示したように、ステージ１の
略中心にウェーハ４を載せ固定する。プロービング装置
は自動的にウェーハ４の中心を通るＸ軸、Ｙ軸（ステー
ジの移動方向である）と、ウェーハ４の周辺と交わる周
辺近傍の４箇所で、光学的反射率の変動により、ウェー
ハ４上に形成された実スクライブ線５を検出しステージ
１を回転させ、回転軸を固定する。この作業によって、
ウェーハ上の実際のスクライブ線（実スクライブ線５）
はＸ軸、Ｙ軸に平行になる。
【０００８】一方、プロービング装置は、ステージ１上
の略中央に固定されたウェーハ４がＸ方向、Ｙ方向に自
動的にステージ１とともに移動し、ウェーハ端部の静電
容量の変動により、ウェーハサイズ、形状、およびウェ
ーハの中心位置をメモリし、ウェーハの中心が針状物の
先端３ａと合う位置でステージ１が停止する。次に、ス
テージ１を移動し、ウェーハ４上に形成された実スクラ
イブ線の交差部５ａを針状物の先端３ａに合わせる。こ
こで、Ｘ軸、Ｙ軸方向それぞれのペレットサイズの半分
の距離だけステージ１を機械的に移動させると、針状物
の先端３ａはペレットの中心に合致する。この位置をプ
ロービング装置にメモリさせる。ステージ１のＸ軸、Ｙ
軸方向への移動量、および事前に電気的特性を測定する
ウェーハ４の種類によって、ペレットサイズをプロービ
ング装置にインプットしておくことにより、プロービン
グ装置はステージの中心マーク２とペレットの中心との
ズレ量を算出してメモリスクライブ線１０をメモリす
る。この時、スクライブ線はＸ軸、Ｙ軸に平行としてメ
モリされる。以上の操作により、点と点を位置合わせし
求めた、ウェーハ上のメモリスクライブ線１０が、実ス
クライブ線５に一致する。そのために、指定したウェー
ハの測定範囲６内のペレットのみを測定する。
の略中央に固定されたウェーハ４がＸ方向、Ｙ方向に自
動的にステージ１とともに移動し、ウェーハ端部の静電
容量の変動により、ウェーハサイズ、形状、およびウェ
ーハの中心位置をメモリし、ウェーハの中心が針状物の
先端３ａと合う位置でステージ１が停止する。次に、ス
テージ１を移動し、ウェーハ４上に形成された実スクラ
イブ線の交差部５ａを針状物の先端３ａに合わせる。こ
こで、Ｘ軸、Ｙ軸方向それぞれのペレットサイズの半分
の距離だけステージ１を機械的に移動させると、針状物
の先端３ａはペレットの中心に合致する。この位置をプ
ロービング装置にメモリさせる。ステージ１のＸ軸、Ｙ
軸方向への移動量、および事前に電気的特性を測定する
ウェーハ４の種類によって、ペレットサイズをプロービ
ング装置にインプットしておくことにより、プロービン
グ装置はステージの中心マーク２とペレットの中心との
ズレ量を算出してメモリスクライブ線１０をメモリす
る。この時、スクライブ線はＸ軸、Ｙ軸に平行としてメ
モリされる。以上の操作により、点と点を位置合わせし
求めた、ウェーハ上のメモリスクライブ線１０が、実ス
クライブ線５に一致する。そのために、指定したウェー
ハの測定範囲６内のペレットのみを測定する。
【０００９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明はプロー
ビング装置のステージ中心マークとウェーハのスクライ
ブ線の交差点に、位置合わせ手段として、針状物の先
端、または光学系のスポット、または光学系のクロスラ
インを合わせることにより、位置合わせの精度が向上
し、ウェーハ上のスクライブ線を正確にプロービング装
置がメモリする。このために、指定した測定すべきペレ
ットは確実に測定し、測定すべきでないペレットは確実
に不良識別マークを付けることができる。
ビング装置のステージ中心マークとウェーハのスクライ
ブ線の交差点に、位置合わせ手段として、針状物の先
端、または光学系のスポット、または光学系のクロスラ
インを合わせることにより、位置合わせの精度が向上
し、ウェーハ上のスクライブ線を正確にプロービング装
置がメモリする。このために、指定した測定すべきペレ
ットは確実に測定し、測定すべきでないペレットは確実
に不良識別マークを付けることができる。
【図１】 本発明のプローバの中心マークに針状物の先
を合わせた図面
を合わせた図面
【図２】 本発明のプローバ上のウェーハのパターンの
スクライブ線の交差部を針状物の先端部に合わせた図面
スクライブ線の交差部を針状物の先端部に合わせた図面
【図３】 本発明の方法によるウェーハ上の実際のペレ
ット配列とプロービング装置の操作からメモリしたペレ
ット配列が一致した図面
ット配列とプロービング装置の操作からメモリしたペレ
ット配列が一致した図面
【図４】 従来の方法によるプローバの中心マークに顕
微鏡の視野の中心を合わせた図面
微鏡の視野の中心を合わせた図面
【図５】 従来の方法によるプローバ上のウェーハのペ
レットの中心を顕微鏡の視野の中心に合わせた図面
レットの中心を顕微鏡の視野の中心に合わせた図面
【図６】 従来の方法によるウェーハ上の実際のペレッ
ト配列とプロービング装置の操作からメモリしたペレッ
ト配列がずれた図面
ト配列とプロービング装置の操作からメモリしたペレッ
ト配列がずれた図面
１ ステージ ２ ステージの中心マーク ３ 位置合わせ手段（針状物） ３ａ 針状物の先端 ４ ウエーハ ４ａ オリエンテーションフラット ５ スクライブ線（実スクライブ線） ５ａ スクライブ線の交差部（実スクライブ線の交差
部） ６ 測定境界
部） ６ 測定境界
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｇ 21/301
Claims (4)
- 【請求項１】半導体ペレットのウェーハでの電気的特性
を測定、選別する装置によるプロービング方法におい
て、ステージの中心マークを位置合わせ手段と一致させ
る工程、その後ステージ上にウェーハを載せ、ステージ
の移動により、スクライブ線の交差部を位置合わせ手段
に一致させる工程、ウェーハのサイズ、形状および位置
をメモリする工程、およびウェーハの所定位置からの距
離で示されるウェーハの測定境界内の個々のペレットの
電気的特性を測定し、電気的特性不良ペレット、および
電気的特性を測定しないペレットに不良識別マークを付
ける工程を含むことを特徴とするプロービング方法。 - 【請求項２】請求項１において、位置合わせ手段が針状
物先端であることを特徴とするプロービング方法。 - 【請求項３】請求項１において、位置合わせ手段が光学
系のスポットであることを特徴とするプロービング方
法。 - 【請求項４】請求項１において、位置合わせ手段が光学
系のクロスラインであることを特徴とするプロービング
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11116694A JPH07321164A (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | プロービング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11116694A JPH07321164A (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | プロービング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07321164A true JPH07321164A (ja) | 1995-12-08 |
Family
ID=14554158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11116694A Pending JPH07321164A (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | プロービング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07321164A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009283977A (ja) * | 2009-08-21 | 2009-12-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
| US8525984B2 (en) | 2007-03-28 | 2013-09-03 | Hitachi High-Technologies Corporation | Inspection apparatus and inspection method |
-
1994
- 1994-05-25 JP JP11116694A patent/JPH07321164A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8525984B2 (en) | 2007-03-28 | 2013-09-03 | Hitachi High-Technologies Corporation | Inspection apparatus and inspection method |
| JP2009283977A (ja) * | 2009-08-21 | 2009-12-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
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