JPH07315954A - 多孔質セラミック板の製造装置およびその製法 - Google Patents
多孔質セラミック板の製造装置およびその製法Info
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- JPH07315954A JPH07315954A JP10874094A JP10874094A JPH07315954A JP H07315954 A JPH07315954 A JP H07315954A JP 10874094 A JP10874094 A JP 10874094A JP 10874094 A JP10874094 A JP 10874094A JP H07315954 A JPH07315954 A JP H07315954A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 意匠性を損うことなく製品の厚み感を増すこ
とができるとともに、生産性の向上ができる多孔質セラ
ミック板の製造装置を提供する。 【構成】 焼成炉３と、該焼成炉３の内部および外部を
走行する搬送体２と、前記焼成炉３の外部における搬送
体２の上方に配置される少なくともベース層原料８の供
給器４および化粧層原料１０の供給器５からなる多孔質
セラミック板Ｍの製造装置１であって、前記焼成炉３と
化粧層原料１０の供給器５とのあいだに、前記各供給器
４、５から積層される積層体Ｓを成形するための成形型
６が備えられている。
とができるとともに、生産性の向上ができる多孔質セラ
ミック板の製造装置を提供する。 【構成】 焼成炉３と、該焼成炉３の内部および外部を
走行する搬送体２と、前記焼成炉３の外部における搬送
体２の上方に配置される少なくともベース層原料８の供
給器４および化粧層原料１０の供給器５からなる多孔質
セラミック板Ｍの製造装置１であって、前記焼成炉３と
化粧層原料１０の供給器５とのあいだに、前記各供給器
４、５から積層される積層体Ｓを成形するための成形型
６が備えられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は多孔質セラミック板の製
造装置およびその製法に関する。さらに詳しくは、意匠
性を損なうことなく製品の厚み感を増すことができる多
孔質セラミック板の製造装置およびその製法に関する。
造装置およびその製法に関する。さらに詳しくは、意匠
性を損なうことなく製品の厚み感を増すことができる多
孔質セラミック板の製造装置およびその製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】多孔質セラミック板は、軽量であり、耐
火性や断熱性などに優れているため建築材料として用い
られつつある。かかる多孔質セラミック板においてもサ
イズの多様化が進んでおり、たとえば、１５０〜９００
ｍｍ□のタイルサイズの製品をつくるには、従来より、
９００ｍｍ×１８００ｍｍまたは９００ｍｍ×２４００
ｍｍといった長尺のセラミック板を作製し、そののち所
定のサイズにカッティングしている。図７はかかる多孔
質セラミック板の概略斜視図であり、このものはベース
層２１と表面化粧層２２とからなっている。
火性や断熱性などに優れているため建築材料として用い
られつつある。かかる多孔質セラミック板においてもサ
イズの多様化が進んでおり、たとえば、１５０〜９００
ｍｍ□のタイルサイズの製品をつくるには、従来より、
９００ｍｍ×１８００ｍｍまたは９００ｍｍ×２４００
ｍｍといった長尺のセラミック板を作製し、そののち所
定のサイズにカッティングしている。図７はかかる多孔
質セラミック板の概略斜視図であり、このものはベース
層２１と表面化粧層２２とからなっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の方法では、表面が平坦であるため製品に厚み感
がなく、一方、厚み感を出すために表面化粧層２２の小
口（角部）を面取加工すると、その面取部に化粧面の泡
がみが見えるため、製品価値が低下してしまうという問
題がある。
た従来の方法では、表面が平坦であるため製品に厚み感
がなく、一方、厚み感を出すために表面化粧層２２の小
口（角部）を面取加工すると、その面取部に化粧面の泡
がみが見えるため、製品価値が低下してしまうという問
題がある。
【０００４】また、前記カッティング作業は、焼成によ
り硬質とされた長尺のセラミック板を切断するため、セ
ラミック板にクラックが発生しやすくなり、生産性がよ
くないという問題がある。
り硬質とされた長尺のセラミック板を切断するため、セ
ラミック板にクラックが発生しやすくなり、生産性がよ
くないという問題がある。
【０００５】本発明は叙上の事情に鑑み、意匠性を損う
ことなく製品の厚み感を増すことができるとともに、生
産性の向上ができる多孔質セラミック板の製造装置およ
びその製法を提供することを目的とする。
ことなく製品の厚み感を増すことができるとともに、生
産性の向上ができる多孔質セラミック板の製造装置およ
びその製法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の多孔質セラミッ
ク板の製造装置は、（ａ）焼成炉と、（ｂ）該焼成炉の
内部および外部を走行する搬送体と、（ｃ）前記焼成炉
の外部における搬送体の上方に配置される少なくともベ
ース層原料の供給器および化粧層原料の供給器からなる
多孔質セラミック板の製造装置であって、前記焼成炉と
化粧層原料の供給器とのあいだに、前記各供給器から積
層される積層体を成形するための成形型が備えられてな
ることを特徴としている。
ク板の製造装置は、（ａ）焼成炉と、（ｂ）該焼成炉の
内部および外部を走行する搬送体と、（ｃ）前記焼成炉
の外部における搬送体の上方に配置される少なくともベ
ース層原料の供給器および化粧層原料の供給器からなる
多孔質セラミック板の製造装置であって、前記焼成炉と
化粧層原料の供給器とのあいだに、前記各供給器から積
層される積層体を成形するための成形型が備えられてな
ることを特徴としている。
【０００７】また、本発明の多孔質セラミック板の製法
は、（ａ）少なくともベース層原料および化粧層原料を
順次積層させる積層工程と、（ｂ）えられた積層体を焼
成炉へ搬送する搬送工程と、（ｃ）前記焼成炉により前
記積層体を溶化一体化させる焼成工程からなる多孔質セ
ラミック板の製法であって、前記焼成工程のまえに前記
積層体を成形型により成形するための成形工程を有する
ことを特徴としている。
は、（ａ）少なくともベース層原料および化粧層原料を
順次積層させる積層工程と、（ｂ）えられた積層体を焼
成炉へ搬送する搬送工程と、（ｃ）前記焼成炉により前
記積層体を溶化一体化させる焼成工程からなる多孔質セ
ラミック板の製法であって、前記焼成工程のまえに前記
積層体を成形型により成形するための成形工程を有する
ことを特徴としている。
【０００８】前記成形型に周溝で囲まれる凹所が形成さ
れている。
れている。
【０００９】また、周溝に吸引口が形成されているのが
好ましい。
好ましい。
【００１０】
【作用】本発明の多孔質セラミック板の製造装置および
その製法によれば、少なくともベース層と表面化粧層と
から構成される積層体は焼成されるまえに成形型により
押圧される。そして、該成形型に形成された凹所により
所定形状の積層体が単独成形される。この成形時、凹所
周辺に押し出される余分なベース層の原料および表面化
粧層の原料は、凹所を囲む周溝に排出される。
その製法によれば、少なくともベース層と表面化粧層と
から構成される積層体は焼成されるまえに成形型により
押圧される。そして、該成形型に形成された凹所により
所定形状の積層体が単独成形される。この成形時、凹所
周辺に押し出される余分なベース層の原料および表面化
粧層の原料は、凹所を囲む周溝に排出される。
【００１１】つぎに前記単独成形した積層体を加熱焼成
させると、表面化粧層の周辺角部が溶融し、ベース層上
の端部にまわり込む。そのため、焼成後は、表面化粧層
の周辺角部がＲ形状となり、厚み感を呈する多孔質セラ
ミック板をうることができる。
させると、表面化粧層の周辺角部が溶融し、ベース層上
の端部にまわり込む。そのため、焼成後は、表面化粧層
の周辺角部がＲ形状となり、厚み感を呈する多孔質セラ
ミック板をうることができる。
【００１２】前記周溝に排出される余分な原料を周溝に
形成される吸引口から外部に吸い出すことにより、成形
時の精度に悪影響を及ぼすことがなくなるとともに、焼
成後に前記余分な原料の焼成体を除去する手間がはぶけ
る。
形成される吸引口から外部に吸い出すことにより、成形
時の精度に悪影響を及ぼすことがなくなるとともに、焼
成後に前記余分な原料の焼成体を除去する手間がはぶけ
る。
【００１３】
【実施例】以下、添付図面に基づき本発明の多孔質セラ
ミック板の製造装置およびその製法を説明する。
ミック板の製造装置およびその製法を説明する。
【００１４】図１は本発明の多孔質セラミック板の製造
装置の一態様を示す説明図、図２〜５は図１における成
形型の動作を示す説明図である。
装置の一態様を示す説明図、図２〜５は図１における成
形型の動作を示す説明図である。
【００１５】図１に示すように、製造装置１は、メッシ
ュベルトからなる搬送体２が焼成炉３の内部および外部
を走行している。また、搬送体２の上方には、ホッパー
などの供給器４と供給器５とが配置されている。そし
て、供給器５と焼成炉３とのあいだには、成形型６が備
えられている。
ュベルトからなる搬送体２が焼成炉３の内部および外部
を走行している。また、搬送体２の上方には、ホッパー
などの供給器４と供給器５とが配置されている。そし
て、供給器５と焼成炉３とのあいだには、成形型６が備
えられている。
【００１６】前記供給器４からは、ベース層７を構成す
るベース層原料８が、また供給器５からは、表面化粧層
９を構成する化粧層原料１０が順次供給されて、所定の
厚さに積層される。
るベース層原料８が、また供給器５からは、表面化粧層
９を構成する化粧層原料１０が順次供給されて、所定の
厚さに積層される。
【００１７】なお、本態様では、連続的な積層である
が、本発明においては、これに限られるものではなく、
断続的な積層とすることができる。ただし、成形型と断
続的な積層を同一位置に合わすことが困難なので連続的
に積層するのが好ましい。
が、本発明においては、これに限られるものではなく、
断続的な積層とすることができる。ただし、成形型と断
続的な積層を同一位置に合わすことが困難なので連続的
に積層するのが好ましい。
【００１８】また、本発明においては、ベース層の下地
層やベース層と表面化粧層とのあいだの中間層や表面化
粧層の上地層として、たとえばガラス粉を積層してもよ
い。
層やベース層と表面化粧層とのあいだの中間層や表面化
粧層の上地層として、たとえばガラス粉を積層してもよ
い。
【００１９】前記ベース層原料８としては、発泡性無機
造粒物などが用いられる。この発泡性無機造粒物は、酸
性白土、シラス、真珠岩、抗火石、長石などのＡｌ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 系鉱物を主原料として、これにソーダ灰、
硝酸ソーダ、ガラス粉、硼酸、硼砂などの融剤やドロマ
イト、ＳｉＣ、炭酸バリウム、炭酸カリウムなどの発泡
剤などを補助的に配合したものを粉末化して、造粒した
ものである。原料の種類やその配合割合は、発泡倍率、
溶融温度などに応じて適宜選定すればよく、本発明にお
いてとくに限定されるものではない。
造粒物などが用いられる。この発泡性無機造粒物は、酸
性白土、シラス、真珠岩、抗火石、長石などのＡｌ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 系鉱物を主原料として、これにソーダ灰、
硝酸ソーダ、ガラス粉、硼酸、硼砂などの融剤やドロマ
イト、ＳｉＣ、炭酸バリウム、炭酸カリウムなどの発泡
剤などを補助的に配合したものを粉末化して、造粒した
ものである。原料の種類やその配合割合は、発泡倍率、
溶融温度などに応じて適宜選定すればよく、本発明にお
いてとくに限定されるものではない。
【００２０】前記配合原料は、たとえば直径１０ｍｍ程
度のスチールボールと共にポットミルに入れられ、数時
間程度乾式粉砕される。えられる粉末は、３２５メッシ
ュパス９６％以上程度の大きさであり、この粉末に糖蜜
水溶液やＣＭＣ水溶液などを噴霧しながらパンペレタイ
ザーなどで造粒が行なわれる。この造粒物の粒径は通常
０．５〜５ｍｍ程度であり、好ましくは約１．０〜２．
５ｍｍである。
度のスチールボールと共にポットミルに入れられ、数時
間程度乾式粉砕される。えられる粉末は、３２５メッシ
ュパス９６％以上程度の大きさであり、この粉末に糖蜜
水溶液やＣＭＣ水溶液などを噴霧しながらパンペレタイ
ザーなどで造粒が行なわれる。この造粒物の粒径は通常
０．５〜５ｍｍ程度であり、好ましくは約１．０〜２．
５ｍｍである。
【００２１】ベース層７の厚さは、本発明においてとく
に限定されないが、通常３〜３５ｍｍ程度であり、好ま
しくは約１０ｍｍである。
に限定されないが、通常３〜３５ｍｍ程度であり、好ま
しくは約１０ｍｍである。
【００２２】また、前記化粧層原料１０としては、着色
配合された釉薬粒などを用いることができる。この釉薬
粒は、ガラス粉、フリットなど主原料とし、これに着色
剤として無機着色顔料を配合した原料を粉末化して、造
粒したものである。この造粒物の粒径は、通常０．５〜
３．５ｍｍ程度であり、好ましくは約１〜２．５ｍｍで
ある。さらに、表面化粧層９の厚さとしては、通常３〜
７ｍｍ程度であり、好ましくは約５ｍｍである。
配合された釉薬粒などを用いることができる。この釉薬
粒は、ガラス粉、フリットなど主原料とし、これに着色
剤として無機着色顔料を配合した原料を粉末化して、造
粒したものである。この造粒物の粒径は、通常０．５〜
３．５ｍｍ程度であり、好ましくは約１〜２．５ｍｍで
ある。さらに、表面化粧層９の厚さとしては、通常３〜
７ｍｍ程度であり、好ましくは約５ｍｍである。
【００２３】前記成形型６は、図１および図２に示すよ
うに、前述のごとく積層される積層体Ｓの上方に配置さ
れている。この成形型６には、四方の枠部１１により囲
まれる略台形錐の凹所１２が形成されている。なお、凹
所の数については、本発明においてとくに限定されるも
のではない。また、前記枠部１１には、凹所１２を囲む
ように周溝１３が形成されているとともに、この周溝１
３から外部に連通する吸引口１４が形成されている。な
お、前記枠部１１の断面形状は、原料内に侵入しやすく
するため、略台形形状にされている。また、周溝１３の
幅については、本発明において、とくに限定されるもの
ではないが、原料の排出しやすさを考慮すると、通常３
ｍｍ以上、好ましくは５〜３０ｍｍとする。
うに、前述のごとく積層される積層体Ｓの上方に配置さ
れている。この成形型６には、四方の枠部１１により囲
まれる略台形錐の凹所１２が形成されている。なお、凹
所の数については、本発明においてとくに限定されるも
のではない。また、前記枠部１１には、凹所１２を囲む
ように周溝１３が形成されているとともに、この周溝１
３から外部に連通する吸引口１４が形成されている。な
お、前記枠部１１の断面形状は、原料内に侵入しやすく
するため、略台形形状にされている。また、周溝１３の
幅については、本発明において、とくに限定されるもの
ではないが、原料の排出しやすさを考慮すると、通常３
ｍｍ以上、好ましくは５〜３０ｍｍとする。
【００２４】前記積層体Ｓ上に前記成形型６を押圧させ
ることにより、完成品である多孔質セラミック板Ｍの形
状に近い単独の積層体Ｓａが成形される。
ることにより、完成品である多孔質セラミック板Ｍの形
状に近い単独の積層体Ｓａが成形される。
【００２５】成形された積層体Ｓａは、前記焼成炉３内
に搬入され、順に、予熱帯、焼成帯、徐冷帯、冷却帯を
通過し、炉出口よりベース層７と表面化粧層９とが溶化
一体化された多孔質セラミック板Ｍが搬出される。
に搬入され、順に、予熱帯、焼成帯、徐冷帯、冷却帯を
通過し、炉出口よりベース層７と表面化粧層９とが溶化
一体化された多孔質セラミック板Ｍが搬出される。
【００２６】えられた多孔質セラミック板Ｍは、表面化
粧層９の角部が溶融し、Ｒ形状を呈している。
粧層９の角部が溶融し、Ｒ形状を呈している。
【００２７】なお、図６に示すように、多孔質セラミッ
ク板は四方端部を一部切断したものとすることができ
る。これにより、化粧層の切断部はなく釉薬でおおわ
れ、ベースのみの切断であり美しい仕上りとなる。
ク板は四方端部を一部切断したものとすることができ
る。これにより、化粧層の切断部はなく釉薬でおおわ
れ、ベースのみの切断であり美しい仕上りとなる。
【００２８】つぎに図１〜５に基づき前記成形型６の動
作を説明する。
作を説明する。
【００２９】まず、図１に示すように、前記成形型６
は、下降ａ、前進ｂ、上昇ｃおよび後退ｄを順次繰り返
すように駆動される。なお、駆動するための装置につい
ては、本発明においてとくに限定されるものではなく、
公知の駆動装置、たとえばモーター駆動装置などを用い
ることができる。
は、下降ａ、前進ｂ、上昇ｃおよび後退ｄを順次繰り返
すように駆動される。なお、駆動するための装置につい
ては、本発明においてとくに限定されるものではなく、
公知の駆動装置、たとえばモーター駆動装置などを用い
ることができる。
【００３０】また、前記前進ｂの動作は、前記搬送体２
の移動速度（たとえば２５ｃｍ／分）に同期するように
コントロールされている。
の移動速度（たとえば２５ｃｍ／分）に同期するように
コントロールされている。
【００３１】図２および図３に示すように、前記成形型
６を下降ａさせて、積層体Ｓ上に押圧させる。これによ
り凹所１２内において単独の積層体Ｓａが所定形状に成
形される。成形時は、枠部１１から押し出されるベース
層原料８および化粧層原料１０が周溝１３に排出され
る。
６を下降ａさせて、積層体Ｓ上に押圧させる。これによ
り凹所１２内において単独の積層体Ｓａが所定形状に成
形される。成形時は、枠部１１から押し出されるベース
層原料８および化粧層原料１０が周溝１３に排出され
る。
【００３２】そして、図４に示すように、周溝１３内に
排出される余分な原料は、前進ｂ中に前記吸引口１４か
ら吸引されて、図４中の矢印方向の外部へと除去され
る。なお、吸引するための装置については、本発明にお
いてとくに限定されるものではなく、公知の吸引装置、
たとえば集塵装置などを用いることができる。除去され
た原料は、選別することにより再利用することができる
ので、材料の歩留りを低減させることがない。
排出される余分な原料は、前進ｂ中に前記吸引口１４か
ら吸引されて、図４中の矢印方向の外部へと除去され
る。なお、吸引するための装置については、本発明にお
いてとくに限定されるものではなく、公知の吸引装置、
たとえば集塵装置などを用いることができる。除去され
た原料は、選別することにより再利用することができる
ので、材料の歩留りを低減させることがない。
【００３３】成形が終了すると、図１に示すように前記
成形型６を上昇ｃおよび後退ｄさせる。これにより、図
１および５に示すように、積層体Ｓから多孔質セラミッ
ク板Ｍの形状に近い単独の積層体Ｓａが複数個えられ
る。
成形型６を上昇ｃおよび後退ｄさせる。これにより、図
１および５に示すように、積層体Ｓから多孔質セラミッ
ク板Ｍの形状に近い単独の積層体Ｓａが複数個えられ
る。
【００３４】つぎに本発明の多孔質セラミック板の製法
を説明する。
を説明する。
【００３５】本発明における多孔質セラミック板は、前
述のごとくしてあらかじめ調整しておいた原料をホッパ
ーなどから供給して連続的または断続的な積層体を形成
する。そののち該積層体を所定形状に成形し、えられた
積層体を焼成炉にて加熱焼成して溶化一体化させること
によりうることができる。
述のごとくしてあらかじめ調整しておいた原料をホッパ
ーなどから供給して連続的または断続的な積層体を形成
する。そののち該積層体を所定形状に成形し、えられた
積層体を焼成炉にて加熱焼成して溶化一体化させること
によりうることができる。
【００３６】以下、本発明の多孔質セラミック板の製法
を実施例に基づき説明するが、本発明はもとよりかかる
実施例にのみ限定されるものではない。
を実施例に基づき説明するが、本発明はもとよりかかる
実施例にのみ限定されるものではない。
【００３７】実施例１ベース層原料の調製 大谷石６４．５％（重量％、以下同様）、ソーダ灰１８
％、水ガラス粉５％、三立タルク１２％およびＳｉＣ
０．５％からなる配合原料を１０ｍｍφのスチールボー
ルとともにポットミルに入れ４時間のあいだ乾式粉砕し
た。えられた粉末は３２５メッシュパス９６％以上の大
きさであった。この粉末に１５％糖蜜液を噴霧しながら
パンペレタイザーにて造粒し、粒径１〜４ｍｍの造粒物
をえた。えられた造粒物を乾燥してベース層原料とし
た。
％、水ガラス粉５％、三立タルク１２％およびＳｉＣ
０．５％からなる配合原料を１０ｍｍφのスチールボー
ルとともにポットミルに入れ４時間のあいだ乾式粉砕し
た。えられた粉末は３２５メッシュパス９６％以上の大
きさであった。この粉末に１５％糖蜜液を噴霧しながら
パンペレタイザーにて造粒し、粒径１〜４ｍｍの造粒物
をえた。えられた造粒物を乾燥してベース層原料とし
た。
【００３８】化粧層原料の調製 ガラス粉６２％、フリット２５％、水簸粘度５％および
ケイ酸ジルコニウム８％からなる配合原料を１０ｍｍφ
のスチールボールとともにポットミルに入れ５時間のあ
いだ乾式粉砕した。えられた粉末は３２５メッシュパス
９６％以上の大きさであった。この粉末に１０％糖蜜液
を噴霧しながらパンペレタイザーにて造粒し、粒径が１
〜２．５ｍｍの造粒物をえた。ついで、えられた造粒物
のまわりに着色粉コーティングして化粧層原料とした。
ケイ酸ジルコニウム８％からなる配合原料を１０ｍｍφ
のスチールボールとともにポットミルに入れ５時間のあ
いだ乾式粉砕した。えられた粉末は３２５メッシュパス
９６％以上の大きさであった。この粉末に１０％糖蜜液
を噴霧しながらパンペレタイザーにて造粒し、粒径が１
〜２．５ｍｍの造粒物をえた。ついで、えられた造粒物
のまわりに着色粉コーティングして化粧層原料とした。
【００３９】積層および成形 以上のようにして調製した原料をそれぞれ前記供給器４
および供給器５に入れた。そして、離型材としてアルミ
ナが塗布されている前記搬送体２上にベース層原料を１
０ｍｍの厚さとなるように均一にチャージし、さらにそ
の上に化粧層原料を厚さ５ｍｍとなるように積層した。
および供給器５に入れた。そして、離型材としてアルミ
ナが塗布されている前記搬送体２上にベース層原料を１
０ｍｍの厚さとなるように均一にチャージし、さらにそ
の上に化粧層原料を厚さ５ｍｍとなるように積層した。
【００４０】えられた積層体から前記成形型６により単
独の所定形状の積層体を成形した。
独の所定形状の積層体を成形した。
【００４１】焼 成 前記成形された積層体を焼成炉３内に搬送し、その後順
に予熱帯、焼成帯、徐冷帯、冷却帯と通過させて炉出口
より搬出した。
に予熱帯、焼成帯、徐冷帯、冷却帯と通過させて炉出口
より搬出した。
【００４２】なお、焼成温度は９００℃であった。また
搬送体の移動速度は２５ｃｍ／分であり、焼成炉に入れ
て焼成炉から出るまでの所要時間は約１６０分であっ
た。
搬送体の移動速度は２５ｃｍ／分であり、焼成炉に入れ
て焼成炉から出るまでの所要時間は約１６０分であっ
た。
【００４３】えられた多孔質セラミック板では、目視に
て観察したところ、表面化粧層の四方角部にＲ形状が形
成されることから、厚み感のある外観をうることができ
る。
て観察したところ、表面化粧層の四方角部にＲ形状が形
成されることから、厚み感のある外観をうることができ
る。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の多孔質セ
ラミック板の製造装置およびその製法においては、成形
型により積層体を完成品の多孔質セラミック板に近い形
状の単独積層体に成形し、そののち焼成すると、表面化
粧層の四方角部が溶融によりベース層上の端部にまわり
込むため、表面化粧層の端部に泡がみが見えない。それ
に、表面化粧層の四方角部がＲ形状になるため、厚み感
のある外観を呈する多孔質セラミック板をうることがで
きる。
ラミック板の製造装置およびその製法においては、成形
型により積層体を完成品の多孔質セラミック板に近い形
状の単独積層体に成形し、そののち焼成すると、表面化
粧層の四方角部が溶融によりベース層上の端部にまわり
込むため、表面化粧層の端部に泡がみが見えない。それ
に、表面化粧層の四方角部がＲ形状になるため、厚み感
のある外観を呈する多孔質セラミック板をうることがで
きる。
【００４５】また、焼成後に長尺のセラミック板をカッ
ターなどにて切断する必要がなくなるので、クラックが
発生しなくなり生産性を向上させることができる。
ターなどにて切断する必要がなくなるので、クラックが
発生しなくなり生産性を向上させることができる。
【図１】本発明の多孔質セラミック板の製造装置の一態
様である。
様である。
【図２】図１における成形型の下降動作を示す説明図で
ある。
ある。
【図３】図２における成形型の成形動作を示す説明図で
ある。
ある。
【図４】図３における成形型の吸引動作を示す説明図で
ある。
ある。
【図５】図４における成形型の成形完了を示す説明図で
ある。
ある。
【図６】本発明の製造装置によりえられる多孔質セラミ
ック板の他の例の概略斜視図である。
ック板の他の例の概略斜視図である。
【図７】従来の多孔質セラミック板の概略斜視図であ
る。
る。
１ 製造装置 ２ 搬送体 ３ 焼成炉 ４、５ 供給器 ６ 成形型 ８ ベース層原料 １０ 化粧層原料 Ｓ 積層体 Ｍ 多孔質セラミック板
Claims (6)
- 【請求項１】 （ａ）焼成炉と、（ｂ）該焼成炉の内部
および外部を走行する搬送体と、（ｃ）前記焼成炉の外
部における搬送体の上方に配置される少なくともベース
層原料の供給器および化粧層原料の供給器からなる多孔
質セラミック板の製造装置であって、前記焼成炉と化粧
層原料の供給器とのあいだに、前記各供給器から積層さ
れる積層体を成形するための成形型が備えられてなるこ
とを特徴とする多孔質セラミック板の製造装置。 - 【請求項２】 前記成形型に周溝で囲まれる凹所が形成
されてなる請求項４記載の多孔質セラミック板の製造装
置。 - 【請求項３】 前記周溝に吸引口が形成されてなる請求
項２記載の多孔質セラミック板の製造装置。 - 【請求項４】 （ａ）少なくともベース層原料および化
粧層原料を順次積層させる積層工程と、（ｂ）えられた
積層体を焼成炉へ搬送する搬送工程と、（ｃ）前記焼成
炉により前記積層体を溶化一体化させる焼成工程からな
る多孔質セラミック板の製法であって、前記焼成工程の
まえに前記積層体を成形型により成形するための成形工
程を有することを特徴とする多孔質セラミック板の製
法。 - 【請求項５】 前記成形型に周溝で囲まれる凹所が形成
されてなる請求項４記載の多孔質セラミック板の製法。 - 【請求項６】 前記周溝に吸引口が形成されてなる請求
項５記載の多孔質セラミック板の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6108740A JP3048840B2 (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 多孔質セラミック板の製造装置およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6108740A JP3048840B2 (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 多孔質セラミック板の製造装置およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07315954A true JPH07315954A (ja) | 1995-12-05 |
| JP3048840B2 JP3048840B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=14492324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6108740A Expired - Lifetime JP3048840B2 (ja) | 1994-05-23 | 1994-05-23 | 多孔質セラミック板の製造装置およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3048840B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106239701A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-12-21 | 江苏省陶瓷研究所有限公司 | 一种热敏陶瓷基片成型方法 |
-
1994
- 1994-05-23 JP JP6108740A patent/JP3048840B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106239701A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-12-21 | 江苏省陶瓷研究所有限公司 | 一种热敏陶瓷基片成型方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3048840B2 (ja) | 2000-06-05 |
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|---|---|---|---|
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