JPH07309817A - 1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン誘導体の製造法 - Google Patents

1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン誘導体の製造法

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JPH07309817A
JPH07309817A JP10523394A JP10523394A JPH07309817A JP H07309817 A JPH07309817 A JP H07309817A JP 10523394 A JP10523394 A JP 10523394A JP 10523394 A JP10523394 A JP 10523394A JP H07309817 A JPH07309817 A JP H07309817A
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JP
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tris
aminophenoxy
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benzene
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JP10523394A
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Akio Karasawa
昭夫 唐澤
Tsutomu Ishida
努 石田
Yuichi Okawa
祐一 大川
Keisaburo Yamaguchi
桂三郎 山口
Teruhiro Yamaguchi
彰宏 山口
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式(1)で表される1,3,5−トリハ
ロゲノベンゼン誘導体と3−アミノフェノール誘導体と
を、脱ハロゲン化水素剤の存在下、非プロトン性極性溶
剤中で、反応させる1,3,5−トリス(3−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン誘導体の製造法。 (式中、X1 、X2 およびX3 はハロゲン原子を表し、
1 は炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコキシ基
を表し、nは、0〜3の整数を表す) 【効果】 トリハロゲノベンゼン誘導体と3−アミノ
フェノール誘導体から、一工程で、高純度の1,3,5
−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン誘導体が高
収率で得られ、コスト的に有利に製造することが可能に
なった。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、1,3,5−トリス
(3−アミノフェノキシ)ベンゼンの製造法に関する。
さらに詳しくは、耐熱性樹脂原料、その中間体等として
有用な1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼンの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、1,3,5−トリス(4ーアミノ
フェノキシ)ベンゼンの製造法としては、トリヒドロキ
シベンゼンと4ーフルオロニトロベンゼンを縮合し、
1,3,5−トリス(4ーニトロフェノキシ)ベンゼン
としたのち、還元して、1,3,5−トリス(4ーアミ
ノフェノキシ)ベンゼンを製造する方法が知られている
(Macromolecules 19(8) 2094(1986) )。しかし、この
方法では、トータル収率が約29%と低く、その上、二
工程からなり、工業的生産には、不向きである。また、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンの製造
時に、副生物として、1,3,5−トリス(3−アミノ
フェノキシ)ベンゼンが副生することが知られている
(特開昭60−87247)が、1,3,5−トリス
(3−アミノフェノキシ)ベンゼンは、反応残査で有
り、製造の主目的生成物ではない。従って、1,3,5
−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンを高収率で
選択的に製造する方法は、これまで知られていなかっ
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本願の目的は、耐熱性
樹脂原料、その中間体等として有用な1,3,5−トリ
ス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンを、高収率で、選
択的に製造する工業的に利用しうる方法を提供すること
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】このような状況に鑑み、
本発明者らは問題を解決すべく鋭意検討した結果、農医
薬原料、溶剤等に広く利用されている1,3,5−トリ
ハロゲノベンゼンと3−アミノフェノールを縮合させる
ことにより、1,3,5−トリス(3−アミノフェノキ
シ)べンゼンを高収率で製造しうることを見出し、本発
明を完成した。すなわち、本発明は、一般式(1)(化
3)で表される1,3,5−トリハロゲノベンゼン誘導
体と、一般式(2)(化4)で表される3−アミノフェ
ノール誘導体とを、脱ハロゲン化水素剤の存在下、非プ
ロトン性溶媒中で反応させる1,3,5−トリス(3−
アミノフェノキシ)ベンゼン誘導体の製造法に関するも
のである。
【0005】
【化3】 (式中、X1 、X2 およびX3 はハロゲン原子を表し、
1 は炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコキシ基
を表し、nは、0〜3の整数を表す)
【0006】
【化4】 (式中、R2 は炭素数1〜10の直鎖または分岐のアル
キル基または炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコ
キシ基を表し、mは0〜4の整数を表す) 本発明の方法によれば、前述の1,3,5−トリヒドロ
キシベンゼンと4−フルオロニトロベンゼンとの反応の
ような二工程反応でなく、一工程で、且つ、高収率で
1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン
誘導体を製造することができる。
【0007】本発明で使用する原料の1,3,5−トリ
ハロゲノベンゼン誘導体は、前記一般式(1)で表され
る。X1 、X2 およびX3 のハロゲン原子としては、塩
素原子、臭素原子、沃素原子または弗素原子が挙げら
れ、R1 の炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコキ
シ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、2−メチルヘキシルオキシ基等が挙げ
られる。例えば、1,3,5−トリハロゲノベンゼン誘
導体としては、1,3,5−トリクロロベンゼン、1,
3−ジクロロ−5−ブロモベンゼン、1,3−ジブロモ
−5−クロロベンゼン、1,3,5−トリブロモベンゼ
ン、1,3−ジクロロ−5−ヨードベンゼン、1,3,
5−トリフルオロベンゼン、2,4,6−トリフルオロ
アニソール、2,4,6−トリクロロアニソール等が挙
げられる。
【0008】本発明で使用する3−アミノフェノール誘
導体は、一般式(2)で表される。R2 の炭素数1〜1
0の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t
−ブチル基、アミル基、イソアミル基、オクチル基等が
挙げられ、炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコキ
シ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、2−メチルヘキシルオキシ基等が挙げ
られる。例えば、3−アミノフェノール誘導体として
は、3−アミノ−o−クレゾール、5−アミノ−2−メ
トキシフェノール等が挙げられる。本発明の方法におい
て、3−アミノフェノール誘導体の使用量は、1,3,
5−トリハロゲノベンゼン誘導体に対して、3〜8倍モ
ルであり、好ましくは3.3〜4.5倍モルである。
【0009】本発明の方法で使用する脱ハロゲン化水素
剤は、アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩また
はアルコキシド類であり、例えば、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化リチウム、重炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム、カリウムエトキシド、カリウムイソプ
ロポキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、リチウムエトキシド等が挙げられる。これらは単
独は無論、2種以上を併用しても特に差し支えない。こ
れらの脱ハロゲン化水素剤の使用量は、原料の3−アミ
ノフェノール誘導体と当量以上であればよく、好ましく
は1〜1.5当量である。
【0010】本発明の方法では反応溶剤として、非プロ
トン性極性溶剤を使用する。非プロトン性極性溶剤とし
ては、N−メチルホルムアミド、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルスルホン、スルホラン、N−メチ
ルピロリドン、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノ
ン、リン酸へキサメチルトリアミド等が挙げられる。こ
れらの溶剤の使用量は、特に限定されないが、通常、原
料に対して1〜10重量倍で十分である。好ましい反応
溶剤としては、200℃以上の沸点を有するジメチルス
ルホン、スルホラン、N−メチルピロリドン、1、3−
ジメチル−2−イミダゾリジノン、リン酸ヘキサメチル
トリアミド等が挙げられる。
【0011】本発明の方法で、1,3,5−トリス(3
−アミノフェノキシ)ベンゼン誘導体を得る反応におけ
る一般的な実施様態としては、所定量の3−アミノフェ
ノール誘導体、脱ハロゲン化水素剤及び溶剤を装入し、
3−アミノフェノール誘導体をアルカリ金属塩としたの
ち、1,3,5−トリハロゲノベンゼン誘導体を添加し
反応させるか、或いは、あらかじめ、1,3,5−トリ
ハロゲノベンゼン誘導体を含む全原料を同時に加え、そ
のまま昇温して反応させるか、のいずれであっても良
い。無論、これらに限定されるものではなく、その他の
態様によっても適宜実施できる。
【0012】反応系内で水が生成する場合の除去方法と
しては、窒素ガス等を通気させることによって、反応
中、徐々に系外に排出させる方法もあるが、一般的に
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等
を少量使用して共沸により系外へ取り除く方法が多用さ
れる。
【0013】本発明の方法では、通常、2個目までの置
換反応は170〜180℃で進行するが、3個目の置換
反応を行うためには、200℃以上必要であり、3個目
の反応温度は、好ましくは、200〜250℃の範囲で
ある。しかし、反応促進剤、例えば、銅化合物、銅化合
物及び8−オキシキノリン等、とを併用する場合は、こ
の限りではない。この反応の終点は、薄層クロマトグラ
フィーまたは高速液体クロマトグラフィーにより未反応
中間体(ジアミノフェノキシ体)の減少を見ながら決定
することができる。
【0014】反応終了後、溶媒を濃縮した後、イソプロ
ピルアルコール等の有機溶媒に溶解させた後、塩酸水を
滴下して、目的生成物の塩酸塩を析出させて粗製品を得
る。目的物の精製塩酸塩は、この粗製品を、例えば、含
水イソプロピルアルコール等で再結晶することによって
得られる。また、この塩酸塩を希アンモニア水等で中和
することによって、フリー体の目的物を得ることができ
る。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明はこれによりなんら制限されるもの
ではない。 実施例1 攪拌装置及び水分離器を備えた3リッターのフラスコ
に、3−アミノフェノール 600.2g( 5.51 モル)、水
酸化カリウム 370.9g( 6.61 モル)、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン(以下、DMIと略記する)
1500 g及びトルエン 150gを装入し、攪拌下に窒素を
通気させながら昇温して、145 〜 150℃で、共沸脱水に
より反応系内の水分を除去した。次に、1,3,5−ト
リクロロベンゼン 272.2g( 1.50 モル)を加え、 170
℃で6時間、さらに 220℃で32時間反応を行った。反
応終了後、直ちにアスピレーターを用いて真空度 50 〜
70 mmHg の圧力で、溶剤のDMIを留去させて、回収し
た。この回収残査に、イソプロピルアルコール 600gを
加え溶解した後、36%塩酸水溶液 650gを滴下し、晶
析させた。析出した固体を濾別し、1035gのウェットケ
ーキを得た。得られたウェットケーキをイソプロピルア
ルコール 600gおよび水 100gに加え、70℃で、1時間
攪拌し、完溶させた。その後、冷却し、析出した固体を
濾過し、10%食塩水で水洗後、乾燥した。この収量
は、709.4g(収率 93 %)であった。次いで、この1,
3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンの塩
酸塩を2%含水イソプロパノールで再結晶し、得られた
プレスケーキを水に溶解させ、希アンモニア水で中和し
たのち、濾別、乾燥した。このものの融点は、98.0〜10
0.5 ℃で、元素分析の結果は次の通りであった。
【0016】実施例2 攪拌装置及び水分離器を備えた3リッターのフラスコ
に、3−アミノフェノール 600.2g( 5.51 モル)、水
酸化カリウム 370.9g( 6.61 モル)、DMI 1500 g
及びキシレン 100gを装入し、攪拌下に窒素を通気させ
ながら昇温して、150 〜155 ℃で、共沸脱水により反応
系内の水分を除去した。次に、1,3−ジブロモ−5−
クロロベンゼン 378.4g( 1.40 モル)を加え、190 ℃
で6時間、さらに 225℃で29時間反応を行った。反応
終了後、直ちにアスピレーターを用いて真空度 50 〜70
mmHg の圧力で、溶剤のDMIを留去させて、回収し
た。この回収残査に、イソプロピルアルコール 600gを
加え、溶解した後、36%塩酸水溶液 650gを滴下し、
晶析させた。析出した固体を濾別し、1135gのウェット
ケーキを得た。得られたウェットケーキをイソプロピル
アルコール 600gおよび水 100gに加え、70℃で、1時
間攪拌し、完溶させた。その後、冷却し、析出した固体
を濾過し、10%食塩水で水洗後、乾燥した。この収量
は、654.9 g(収率 92 %)であった。次いで、この
1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン
の塩酸塩を2%含水イソプロパノールで再結晶し、得ら
れたプレスケーキを水に溶解させ、希アンモニア水で中
和したのち、濾別、乾燥した。このものの融点は、98.5
〜 99.9 ℃で、元素分析の結果は次の通りであった。
【0017】実施例3 攪拌装置及び水分離器を備えた3リッターのフラスコ
に、3−アミノフェノール 600.2g( 5.51 モル)、水
酸化ナトリウム 216g( 5.40 モル)、スルホラン1500
g及びキシレン 120gを装入し、攪拌下に窒素を通気さ
せながら昇温し、145 〜150 ℃で、共沸脱水により反応
系内の水分を除去した。次に、1,3−ジブロモ−5−
クロロベンゼン 410g( 1.52 モル)を加え、220 ℃で
37時間反応を行った。反応終了後、直ちにアスピレー
ターを用いて減圧下でスルホランを留去させて、回収し
た。この回収残査に、イソプロピルアルコール 600gを
加え、溶解した後、36%塩酸水溶液 650gを滴下し、
晶析させた。析出した固体を濾別し、1020gのウェット
ケーキを得た。得られたウェットケーキをイソプロピル
アルコール 600gおよび水 100gに加え、70℃で、1時
間攪拌し完溶した。その後、冷却し、析出した固体を濾
過し、10%食塩水で水洗後、乾燥した。この収量は、
695.6 g(収率 90 %)であった。次いで、この1,
3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンの塩
酸塩を2%含水イソプロパノールで再結晶し、得られた
プレスケーキを水に溶解させ、希アンモニア水で中和し
たのち、濾別、乾燥した。このものの融点は、98.9〜9
9.7℃で、元素分析の結果は次の通りであった。
【0018】実施例4 攪拌装置及び水分離器を備えた3リッターのフラスコ
に、3−アミノフェノール 600.2g( 5.51 モル)、水
酸化ナトリウム 216g( 5.54 モル)、DMI 1500 g
及びキシレン 100gを装入し、攪拌下に窒素を通気させ
ながら昇温して、150 〜 155℃で、共沸脱水により反応
系内の水分を除去した。次に、1,3,5−トリブロモ
ベンゼン 472g( 1.50 モル)を加え、190 ℃で6時
間、さらに 220℃で32時間反応を行った。反応終了
後、直ちにアスピレーターを用いて真空度 50 〜70 mmH
g の圧力で、溶剤のDMIを留去させて、回収した。こ
の回収残査に、イソプロピルアルコール 600gを加え、
溶解した後、36%塩酸水溶液 650gを滴下し、晶析さ
せた。析出した固体を濾別し、1005gのウェットケーキ
を得た。得られたウェットケーキをイソプロピルアルコ
ール 600gおよび水 100gに加え、70℃で、1時間攪拌
し、完溶した。その後、冷却し、析出した固体を濾過
し、10%食塩水で水洗後、乾燥した。この収量は、67
8.8 g(収率 89 %)であった。次いで、この1,3,
5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンの塩酸塩
を2%含水イソプロパノールで再結晶し、得られたプレ
スケーキを水に溶解させ、希アンモニア水で中和したの
ち、濾別、乾燥した。このものの融点は、99.0〜99.7℃
で、元素分析の結果は次の通りであった。
【0019】実施例5 攪拌装置及び水分離器を備えた3リッターのフラスコ
に、3−アミノ−o−クレゾール 608.9g( 4.95 モ
ル)、水酸化ナトリウム 216g( 5.40 モル)、DMI
1500 g及びキシレン 100gを装入し、攪拌下に窒素を
通気させながら昇温して、145 〜150 ℃で、共沸脱水に
より反応系内の水分を除去した。次に、1,3,5−ト
リクロロベンゼン 272.2g( 1.50 モル)を加え、180
℃で6時間、さらに 220℃で32時間反応を行った。反
応終了後、直ちにアスピレーターを用いて真空度 50 〜
70mmHgの圧力で、溶剤のDMIを留去させて、回収し
た。この回収残査に、イソプロピルアルコール 600gを
加え、溶解させた後、36%塩酸水溶液 650gを滴下
し、晶析させた。析出した固体を濾別し、1020gのウェ
ットケーキを得た。得られたウェットケーキをイソプロ
ピルアルコール 600gおよび水 100gに加え、70℃で、
1時間攪拌し、完溶させた。その後、冷却し、析出した
固体を濾過し、10%食塩水で水洗後、乾燥した。この
収量は、776.2 g(収率 94 %)であった。次いで、こ
の1,3,5−トリス(3−アミノ−2−メチルフェノ
キシ)ベンゼンの塩酸塩を2%含水イソプロパノールで
再結晶し、得られたプレスケーキを水に溶解させ、希ア
ンモニア水で中和したのち、濾別、乾燥した。このもの
の元素分析の結果は次の通りであった。
【0020】実施例6 攪拌装置及び水分離器を備えた3リッターのフラスコ
に、5−アミノ−2−メトキシフェノール 708.9g(
5.10 モル)、水酸化ナトリウム 216g( 5.40 モ
ル)、スルホラン 1600 g及びトルエン 100gを装入
し、攪拌下に窒素を通気させながら昇温して、145 〜15
5 ℃で共沸脱水により反応系内の水分を除去した。次
に、1,3,5−トリクロロベンゼン 272.2g( 1.50
モル)を加え、 180℃で6時間、さらに 230℃で30時
間反応を行った。反応終了後、直ちにアスピレーターを
用いて減圧下でスルホランを留去させて、回収した。こ
の回収残査に、イソプロピルアルコール 600gを加え、
溶解させた後、36%塩酸水溶液 650gを滴下し、晶析
させた。析出した固体を濾別し、1044gのウェットケー
キを得た。得られたウェットケーキをイソプロピルアル
コール 600gおよび水 100gに加え、70℃で、1時間攪
拌し、溶解させた。その後、冷却し、析出した固体を濾
過し、10%食塩水で水洗後、乾燥した。この収量は、
825.9 g(収率 92 %)であった。次いで、この1,
3,5−トリス(5−アミノ−2−メトキシフェノキ
シ)ベンゼンの塩酸塩を2%含水イソプロパノールで再
結晶し、得られたプレスケーキを水に溶解させ、希アン
モニア水で中和したのち、濾別、乾燥した。このものの
元素分析の結果は次の通りであった。
【0021】
【発明の効果】本発明により、1,3,5−トリハロゲ
ノベンゼン誘導体と3−アミノフェノール誘導体から、
一工程で、高純度の1,3,5−トリス(3−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン誘導体が高収率で得られ、コスト的
に有利に製造することが可能になった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 桂三郎 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 山口 彰宏 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1)(化1)で表される1,
    3,5−トリハロゲノベンゼン誘導体と、 【化1】 (式中、X1 、X2 およびX3 はハロゲン原子を表し、
    1 は炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコキシ基
    を表し、nは、0〜3の整数を表す) 一般式(2)(化2)で表される3−アミノフェノール
    誘導体 【化2】 (式中、R2 は炭素数1〜10の直鎖または分岐のアル
    キル基または炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコ
    キシ基を表し、mは0〜4の整数を表す)とを、脱ハロ
    ゲン化水素剤の存在下、非プロトン性極性溶剤中で反応
    させることを特徴とする1,3,5−トリス(3−アミ
    ノフェノキシ)ベンゼン誘導体の製造法。
  2. 【請求項2】 反応温度が 200℃以上である請求項1記
    載の1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベン
    ゼン誘導体の製造法。
JP10523394A 1994-05-19 1994-05-19 1,3,5−トリス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン誘導体の製造法 Pending JPH07309817A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002064544A1 (fr) * 2001-02-13 2002-08-22 Mitsui Chemicals, Inc. Procede de production de 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002064544A1 (fr) * 2001-02-13 2002-08-22 Mitsui Chemicals, Inc. Procede de production de 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene
US6664425B2 (en) 2001-02-13 2003-12-16 Mitsui Chemicals, Inc. Process for producing 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene

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