JPH07304710A - トリフエニレン誘導体の混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】液晶材料として有用な新規なトリフェニレン誘
導体の混合物、特に相転移温度の低下した混合物を提供
する。 【構成】少なくとも一種の、式（１）の２，３，６，
７，１０，１１−ヘキサ（置換ベンゾイルあるいは置換
シンナモイルオキシ）トリフェニレン誘導体と、少なく
とも一種の２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ（アリ
ールオキシまたはアリールチオアルカノイルオキシ）ト
リフェニレン誘導体を含有する混合物。 式（１） （式中、Ｙ^１はハロゲン原子、アルキル基およびアルコ
キシ基を表す。ｍ^１は０または１を表し、ｎ^１は１ない
し３の整数を表す）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶材料として有用な新
規な化合物であるトリフェニレン誘導体の混合物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示素子はワードプロセッサ
ー、パーソナルコンピューター、テレビなどに広く用い
られるようになり、それに関連する素材、装置などの産
業活動が活発に行われている。液晶表示材料の根本をな
す素材である液晶化合物についても活発な開発研究が行
われ、数多くの化合物が開発されてきた。これらの化合
物は、表示素子に限らず種々の用途の開発に向け利用が
考えられている。従来からよく知られ、よく利用されて
いる棒状の液晶化合物に加え、最近では円盤状の液晶化
合物、いわゆるディスコティック液晶化合物が注目を浴
びるようになった。

【０００３】ディスコティック液晶化合物として代表的
なものは、C.Destradeらの研究報告、Mol. Cryst. Liq.
Cryst. ７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されて
いるように、例えばベンゼン誘導体、トリフェニレン誘
導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体が挙げ
られ、一般的にこれらを分子の中心の母核とし、直鎖の
アルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等
がその側鎖として放射状に置換された構造である。なか
でもトリフェニレン誘導体は、比較的ディスコティック
ネマティック相を形成し易く、魅力のある化合物であ
る。

【０００４】ところで、液晶の代表的な構造である棒状
の化合物において知られているように、その構造の微妙
な違いで、形成される液晶相および各相間の転移温度は
しばしば著しく変化する。このとこは、棒状液晶化合物
に限られることではなく、ディスコティック液晶化合物
においても同様である。このような相転移温度の変化は
化合物の混合によっても生じることが知られており、従
って優れた混合物の発見もまた新規化合物の発見に劣ら
ず重要である。必要とする液晶相、各相間の転移温度
は、目的とする素子によって異なる。従って、多種多様
な化合物を用意することにより初めて選択の幅を広げる
ことができ、種々の目的に対応することが可能になる。
しかしながら、ディスコティック液晶化合物において
は、未だ多くの化合物が知られるには至っておらず、優
れた混合物についてもあまり知られていない。このこと
は特に魅力のある化合物であるトリフェニレン誘導体に
おいても同じであり、C.Destradeら著、J.Phsique,４０
巻、４号、Ｃ３−１７（1979)および C.Vauchier ら
著、Mol. Cryst. Liq. Cryst. ６６巻、１０３頁（1981
年）に数例記載されているのみであり、更に有用な混合
物の発見が望まれている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は液晶材料として有用な新規なトリフェニレン誘導体の
混合物、特に相転移温度の低下した混合物を提供するこ
とにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究を重
ねた結果、少なくとも一種の、２，３，６，７，１０，
１１−ヘキサ（置換ベンゾイルあるいは置換シンナモイ
ルオキシ）トリフェニレン誘導体と、少なくとも一種の
２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ（アリールオキシ
またはアリールチオアルカノイルオキシ）トリフェニレ
ン誘導体を含有することを特徴とする混合物により、よ
り詳しくは、下記一般式（１）で表される化合物の少な
くとも一種と、下記一般式（２）で表される化合物の少
なくとも一種とからなる混合物により本発明の目的が達
成できることを見出した。 一般式（１）

【０００７】

【化３】

【０００８】式中、Ｙ¹ はハロゲン原子、アルキル基お
よびアルコキシ基を表す。ｍ¹ は０または１を表し、ｎ
¹ は１ないし３の整数を表す。 一般式（２）

【０００９】

【化４】

【００１０】式中、Ｊ² はメチレン鎖を表し、Ｘ² は酸
素原子または硫黄原子を表す。Ｙ²はハロゲン原子、ア
ルキル基およびアルコキシ基を表す。ｎ² は１ないし３
の整数を表す。

【００１１】以下に、本発明を詳しく説明する。置換ベ
ンゾイルあるいは置換シンナモイルにおける置換基とし
ては、C.Hansch、A.Leo 、R.W.Taft著、ケミカルレビュ
ー誌(Chem.Rev.) １９９１年、９１巻、１６５−１９５
ページ（アメリカ化学会）に記載されている置換基のア
ルキル同族体が挙げられ、代表例としてアルキル基、ア
ルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子が
挙げられる。アリール基としては、例えばフェニル基、
ナフチル基が挙げられ、それぞれ前述の置換基を有して
いても良い。

【００１２】以下に、一般式（１）および一般式（２）
について詳しく説明する。Ｙ¹ およびＹ² により表され
るアルキル基は置換あるいは分岐鎖のいずれでもよく、
また無置換でも、例えばアルコキシ基、アリール基、ハ
ロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）により置換されてい
てもよい。例えばアルキル基（例えば、ｎ−ペンチル、
ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニ
ル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｉ−
プロピル、ｉ−ブチル、sec −ブチル、ｔ−アミル、２
−エチルヘキシル）、アルコキシアルキル基（例えば、
２−メトキシエチル、２−（２−メトキシエトキシ）エ
チル、２−〔２−（２−メトキシエトキシ）〕エチル、
２−ｎ−ブトキシエチル、２−エトキシエチル、２−
（２−エトキシエトキシ）エチル、３−メトキシプロピ
ル、３−エトキシプロピル、３−ｎ−プロピルオキシプ
ロピル、３−ベンジルオキシプロピル、２−メチルブチ
ルオキシメチル）、アラルキル基（例えば、２−フェニ
ルエチル、２−（４−ｎ−ブチルオキシフェニル）エチ
ル）が挙げられる。

【００１３】Ｙ¹ として好ましくは、アルキル基、アル
コキシアルキル基およびそれらを有するアルコキシ基で
あり、中でもアルコキシ基が好ましい。そのうち更に好
ましくは、主鎖の原子数が６ないし１２のものである。
Ｙ² として好ましくは、アルキル基、アルコキシアルキ
ル基およびそれらを有するアルコキシ基であり、中でも
アルキル基が好ましい。そのうち更に好ましくは、炭素
数４ないし８の３級アルキル基である。Ｙ¹ およびＹ²
により表されるハロゲン原子として好ましくは、フッ
素、塩素、臭素が挙げられ、中でも塩素が好ましい。ｍ
¹ において好ましくは０であり、ｎ¹ およびｎ² におい
て好ましくは１または２であり、より好ましくはｎ¹ で
は１、ｎ² では２である。ｎ¹ およびｎ² が２または３
のとき、複数個存在するＹ¹ およびＹ² はそれぞれ同一
でも異なっていてもよい。

【００１４】Ｊ² で表されるメチレン鎖は、無置換でも
置換されていてもよい。メチレン鎖長として好ましく
は、１ないし５であり、更に好ましくは、１ないし３で
ある。置換基としては例えば、アルキル基（例えば、メ
チル、エチル、ブチル、オクチル）、アルコキシ基（例
えば、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ）、アリー
ル基（例えば、フェニル、トリル）、ハロゲン原子（例
えば、フッ素、塩素）が挙げられる。好ましくは、アル
キル基であり、更に好ましくはメチルおよびエチルであ
る。Ｘ² については、好ましくは酸素原子である。

【００１５】これらの組み合わせによって得られる一般
式（１）において好ましいものは、Ｙ¹ が分岐の無いア
ルコキシ基であり、置換位置は４位、ｍ¹ が０または
１、ｎ ¹ が１の場合であり、液晶相としてディスコティ
ックネマティック相を示す化合物が特に好ましい。同様
に、一般式（２）において好ましいものは、Ｙ² が３級
アルキル基であり、置換位置は２位および４位、ｎ² が
２、メチレン鎖長が１であり、且つ無置換あるいは１個
のメチルで置換されたもの、Ｘ² が酸素原子の場合であ
り、液晶相を示さない化合物が特に好ましい。

【００１６】一般式（１）で表される化合物と一般式
（２）で表される化合物との混合物における混合比は、
好ましくは一般式（１）で表される化合物の含有量とし
て５０％以上９９％以下であり、更に好ましくは６０％
以上９０％以下である。以下に本発明に用いられる化合
物の具体例を示すが、本発明の範囲はこれらのみに限定
されるものではない。具体例は下記一般式（３）および
それの置換基Ｒにより具体的に示す。

【００１７】

【化５】

【００１８】

【化６】

【００１９】

【化７】

【００２０】

【化８】

【００２１】

【化９】

【００２２】

【化１０】

【００２３】

【化１１】

【００２４】

【化１２】

【００２５】

【化１３】

【００２６】

【化１４】

【００２７】

【化１５】

【００２８】

【化１６】

【００２９】本発明の化合物の合成は、一般的に２，
３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニ
レンと酸塩化物とのエステル化により可能である。エス
テル化反応については、サンドラーカロ（Sandler Kar
o) 著、オーガニック ファンクショナル グループ
プレパレーションズ パート１（Organic Functional G
roup Preparations Part 1) １０章、アカデミック プ
レス（Akademic Press) １９８６年刊を参照して行なう
ことができる。

【００３０】反応に用いる塩基としては、ピリジンなど
の芳香族アミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミンなどの３級アミンから選ぶことができる。好
ましい塩基としては、ピリジンが挙げられる。反応に用
いる溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル、ピリジンなどの極性溶媒や、クロ
ロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒から選
ぶことができる。好ましい溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、アセトニトリル、ピリジンが挙げら
れ、より好ましくはピリジンが挙げられる。反応温度
は、−８０℃〜１５０℃の範囲から選ぶことができる。
−１０℃〜１００℃の範囲が好ましく、より好ましくは
１０℃〜５０℃の範囲である。

【００３１】原料である２，３，６，７，１０，１１−
ヘキサヒドロキシトリフェニレンの合成法は、Advanced
Material.２（１９９０）No. ２の４０頁に記載されて
おり、本発明においては、その処方に準じて合成した。
また、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシ
トリフェニレンについては、同様に上記文献に記載され
ている２，３，６，７，１０，１１−ヘキサアセトキシ
トリフェニレンの合成法の途中で添加される無水酢酸を
入れずに後処理を行ない、同様の収率で目的物を得た。

【００３２】以下に合成例を示し具体的に説明する。 （合成例） 合成例１ ２，３，６，７，１０，１１−ヘキサメトキシトリフェ
ニレン（ＨＭＴＰ）の合成 氷冷した２リットルの三口フラスコに、１５０ｇの塩化
第二鉄と氷水１３５mlを入れ、完全に溶解した後、３０
ｇのベラトロールを添加した。メカニカルスタラーで激
しく攪拌しながら、濃硫酸４９０mlを徐々に添加した。
１２時間後、この反応混合物を３リットルの氷水中に注
ぎ、３時間後析出物を濾過し、ＨＭＴＰの粗結晶１３ｇ
（４３％）を得た。

【００３３】合成例２ ２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフ
ェニレン（ＨＨＴＰ）の合成 ＨＭＴＰ１０．３ｇを５０mlのジクロロメタンに懸濁さ
せ、三臭化ホウ素１５．５mlを徐々に添加した。２時間
後、氷水５００ml中に注ぎ、これを２．５リットルの酢
酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、セラ
イト濾過を行なった。溶媒を減圧濃縮後、残渣をアセト
ニトリルとジクロロメタンの混合溶媒から再結晶し、Ｈ
ＨＴＰを７．５０ｇ（９２％）得た。

【００３４】合成例３ 化合物１−３の合成 ａ）４−ヘプチルオキシ安息香酸（１−３ａ）の合成 １リットル三口フラスコに、４−ヒドロキシ安息香酸エ
チル３５．０ｇ、臭化ヘプチル５４．６ｇ、炭酸カリウ
ム１５０ｇ及び１００mlのアセトニトリルを入れ、湯浴
上で加熱還流下、メカニカルスタラーで６時間激しく攪
拌した。冷却後、反応混合物をセライト濾過し、残査を
３００mlの酢酸エチルで洗浄した。減圧濃縮後、２００
mlのエタノールに再溶解し、１５．０ｇの水酸化カリウ
ムを溶解した水溶液４０mlを徐々に滴下し、８０℃で１
時間加熱攪拌した。冷却後、析出した結晶を減圧濾過
し、残査をエタノール１００mlで洗浄した。これを４０
℃の希塩酸３００ml中で１時間攪拌し、減圧濾過、乾燥
後、目的物４０．０ｇ（８０％）を得た。

【００３５】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（４−ヘプチルオキシベンゾイルオキシ）トリフェニレ
ン（１−３）の合成 ２００mlフラスコに８．３４ｇの１−３ａと１０mlの塩
化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。加熱した状態
で、減圧下、過剰の塩化チオニルを留去した。冷却後、
０．７０ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、２
０時間加熱還流下攪拌した。冷却後、減圧下過剰のピリ
ジンを留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て目的物を精製単離した。収量３．０５ｇ（７５％）

【００３６】 ＮＭＲ（測定溶媒 ＣＤＣｌ₃) δ０．９２（１８Ｈ，ｔ） δ１．３５（４８Ｈ，ｍ） δ１．７８（１２Ｈ，ｍ） δ３．９０（１２Ｈ，ｔ） δ６．６５（１２Ｈ，ｄ） δ７．９０（１２Ｈ，ｄ） δ８．３７（６Ｈ，ｓ）

【００３７】合成例４ 化合物１−１１の合成 ａ）４−ヘプチルオキシ桂皮酸（１−１１ａ）の合成 ４−ヒドロキシ桂皮酸１５．５ｇ、臭化ヘプチル３０．
０ｇ、炭酸カリウム５０．０ｇをジメチルスルホキシド
５０mlに懸濁させ、メカニカルスタラーで激しく攪拌し
つつ、湯浴上で１０時間加熱した。冷却後、セライト濾
過し、残査を酢酸エチル３００mlで洗浄した。これに水
５００mlを加え、抽出後、有機層を減圧濃縮した。これ
にエタノール１００mlを加え、１０ｇの水酸化カリウム
を含む水溶液２０mlを添加し、８０℃で１時間攪拌し
た。冷却後、析出した結晶を減圧濾過し、残査をエタノ
ール１００mlで洗浄した。これを４０℃の希塩酸３００
ml中で１時間攪拌し、減圧濾過、乾燥後、目的物１９．
１ｇ（７８％）を得た。

【００３８】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（４−ヘプチルオキシシンナモイルオキシ）トリフェニ
レン（１−１１）の合成 ２００mlフラスコに１０．４ｇの１−１１ａと１０mlの
塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。加熱した状
態で、減圧下、過剰の塩化チオニルを留去した。冷却
後、０．７０ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加
し、２０時間加熱還流下攪拌した。冷却後、減圧下過剰
のピリジンを留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて目的物を精製後、アセトニトリルとアセトンの
混合溶媒で再結晶した。収量３．５５ｇ（９０％）

【００３９】 ＮＭＲ（測定溶媒 ＣＤＣｌ₃) δ０．９２（１８Ｈ，ｔ） δ１．３５（４８Ｈ，ｍ） δ１．７８（１２Ｈ，ｍ） δ３．９０（１２Ｈ，ｔ） δ６．６５（６Ｈ，ｄ） δ６．６５（１２Ｈ，ｄ） δ７．２５（１２Ｈ，ｄ） δ７．８３（６Ｈ，ｄ） δ８．２０（６Ｈ，ｓ）

【００４０】合成例５ 化合物１−２０の合成 ａ）４−（３，６−ジオキサヘプチルオキシ）安息香酸
（１−２０ａ）の合成 １リットル三口フラスコに、４−ヒドロキシ安息香酸３
２．０ｇ、３，６−ジオキサヘプチルクロリド１００m
l、炭酸カリウム１５０ｇ及びアセトニトリル１００ml
を入れ、湯浴上で加熱還流下、メカニカルスタラーで６
時間激しく攪拌した。冷却後、反応混合物をセライト濾
過し、３００mlの酢酸エチルで洗浄した。濾液を減圧濃
縮後、２００mlのエタノールに再溶解し、１５ｇの水酸
化カリウムを溶解した水溶液４０mlを徐々に滴下し、８
０℃で１時間加熱攪拌した。冷却後、希塩酸１リットル
中に注ぎ、析出した結晶を減圧濾過し、氷水３００mlで
洗浄した。風乾後、１−２０ａを３８ｇ（６８％）得
た。

【００４１】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
〔４−（３，６−ジオキサヘプチルオキシ）ベンゾイル
オキシ〕トリフェニレン（１−２０）の合成 ２００ml三口フラスコに８．３４ｇの１−２０ａと１０
mlの塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。加熱し
た状態で、減圧下、過剰の塩化チオニルを留去した。冷
却後、０．７ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加
し、２０時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて１−
２０ ３．０５ｇ（７５％）を単離精製した。

【００４２】１−２０の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 3080、2980、2930、2880、2830、1745、1610、1585、15
15、1455、1420、1360、1315、1250、1200、1175、112
5、1075、1060、1010、990 、940 、925、905 、850 、
815 、760 、695 、660 、635 、605

【００４３】１−２３も１−２０と同様の処方で合成し
た。以下に、その同定データを示す。 １−２３の同定データー： ＩＲ（cm^-1) 3080、2955、2930、2870、1745、1608、1582、1515、14
55、1420、1362、1315、1245、1175、1125、1070、101
0、980 、925 、903 、845 、815 、760、695 、657 、
635 、605

【００４４】合成例６ 化合物１−５６の合成 ａ）ｐ−（ヘプチルオキシメチル）安息香酸（１−５６
ａ）の合成 ５００mlの三口フラスコに、ｐ−（ブロモメチル）安息
香酸１０．８ｇ、ｎ−ヘプタノール７０ml及び濃硫酸
０．５mlを入れ、１００℃で３日間攪拌した。冷却後、
８．０ｇの水酸化カリウムを溶解したエタノール溶液１
５０mlを滴下し、６０℃で４時間攪拌した。冷却後析出
した結晶をろ過し、その後結晶を１リットルの水に溶解
させた。この溶液を塩酸で酸性にし、析出した結晶をろ
過した。風乾後１−５６ａを６．２ｇ（５０％）得た。

【００４５】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（ｐ−（ヘプチルオキシメチル）ベンゾイルオキシ）ト
リフェニレン（１−５６）の合成 １００mlの三口フラスコに、４．５ｇの１−５６ａと５
mlの塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。反応終
了後、過剰の塩化チオニルを留去した。これに０．６５
ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、４０℃で４
時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去後、シリ
カゲルクロマトグラフィーを用いて精製し１−５６を
２．７５ｇ（８０％）得た。

【００４６】１−５６の同定データ： ＩＲ（cm^-1) KBr ディスク 2960、2940、2860、1750、1620、1510、1420、1270、11
80、1130、1100、1080、1020、900 、840 、750 ＤＳＣ（℃） 86、105 、136 、154

【００４７】同様にして化合物１−３６ｂを合成した。 １−３６ｂの同定データ： ＩＲ（cm^-1) KBr ディスク 2960、2940、2880、2860、1750、1620、1510、1460、14
20、1260、1180、1130、1100、1080、1020、900 、850
、750 、 ＤＳＣ（℃） 93、125

【００４８】合成例７ 化合物１−４０の合成 ａ）３−ヘプチルオキシ安息香酸（１−４０ａ）の合成 ２リットル三口フラスコに、３−ヒドロキシ安息香酸メ
チル１００ｇ、１−ブロモヘプタン１４３ｇ、炭酸カリ
ウム１４０ｇ及びＤＭＡ_C ３００mlを入れ、湯浴上で加
熱下、メカニカルスターラーで２時間攪拌した。冷却
後、１リットルの水中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮
後、２００mlのメタノールに再溶解し８４ｇの水酸化カ
リウムを溶解した水溶液４０mlを徐々に滴下し、１時間
加熱還流した。冷却後、生じた結晶を濾取した後、結晶
を１．５リットルの水に溶解した。濃塩酸を６０ml加
え、析出した結晶を減圧濾過し、氷水で洗浄した。風乾
後、１−４０ａを１３０ｇ（８４％）得た。

【００４９】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（３−ヘプチルオキシベンゾイルオキシ）トリフェニレ
ン（１−４０）の合成 ２００ml三口フラスコに４４．８ｇの１−４０ａと４４
mlの塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。加熱し
た状態で、減圧下、過剰の塩化チオニルを留去した。冷
却後、６．５ｇのＨＨＴＰと２００mlのピリジンを添加
し、２０時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去
後、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて１−４０を
２８．１ｇ（８６％）を単離精製した。

【００５０】１−４０の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 3070、2950、2930、2850、1740、1600、1440、1420、13
20、1285、1275、1215、1110、1090、1060、890 、800
、740 、

【００５１】１−３８も１−４０も同様の処方で合成し
た。以下にその同定データを示す。１−３８の同定デー
タ： ＩＲ（cm^-1) 3700、2950、2930、2850、1750、1600、1580、1510、14
90、1440、1420、1320、1285、1275、1215、1120、106
0、800 、740 、 ＤＳＣ（℃） 40、117

【００５２】ａ）α−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノ
キシ）−酢酸（２−１ａ）の合成 ５００mlの三口フラスコに、２，４−ジ−ｔ−アミルフ
ェノール２５ｇ、α−ブロモ酢酸１５ｇ、炭酸カリウム
２０ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００mlを入
れ、１２０℃で５時間攪拌した。冷却後、反応混合物を
水２００mlに注ぎ、塩酸で酸性にした後、３００mlの酢
酸エチルで抽出し、水１００mlで２回洗浄した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、ろ過を行い溶媒を減圧留去
し、２−１ａを２４ｇ（８２％）得た。

【００５３】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（α−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）−アセチ
ルオキシ）トリフェニレン（２−１）の合成 １００mlの三口フラスコに、６．４ｇの２−１ａと５ml
の塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。反応終了
後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去した。これに０．
７ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、４０℃で
４時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し２−
１を３．１５ｇ（８０％）得た。

【００５４】２−１の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 2960、2925、2875、1795、1770、1620、1600、1500、14
80、1460、1420、1400、1380、1360、1295、1250、122
0、1200、1150、1120、1100、1090、1010、920 、890
、810 、780

【００５５】２−３、２−８、２−１１、２−３１も２
−１と同様の処方で合成した。以下にそれぞれの合成方
法を具体的に示す。

【００５６】合成例９ ２−３の合成 ａ）α−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）−ブタ
ン酸（２−３ａ）の合成 ５００mlの三口フラスコに、２，４−ジ−ｔ−アミルフ
ェノール２５ｇ、４−ブロモブタン酸１８ｇ、炭酸カリ
ウム２０ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ml
を入れ、１２０℃で５時間攪拌した。冷却後、反応混合
物を水２００mlに注ぎ、塩酸で酸性にした後、３００ml
の酢酸エチルで抽出し、水１００mlで２回洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過を行い溶媒を減圧留
去し、２−３ａを２５ｇ（８０％）得た。

【００５７】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（γ−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）−ブタノ
イルオキシ）トリフェニレン（２−３）の合成 １００mlの三口フラスコに、６．４ｇの２−３ａと５ml
の塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。反応終了
後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去した。これに０．
７ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、４０℃で
４時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し２−
３を３．２ｇ（７５％）得た。

【００５８】２−３の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 2960、2950、2900、2875、1765、1620、1600、1500、14
75、1460、1450、1420、1400、1380、1360、1295、124
5、1220、1200、1150、1120、1100、1050、1000、960
、920 、895 、810 、780 、750 、670 、650

【００５９】合成例１０ ２−８の合成 ａ）γ−（４−ｔ−アミル−２−クロロフェノキシ）−
ブタン酸（２−８ａ）の合成 ５００mlの三口フラスコに、４−ｔ−アミル−２−クロ
ロフェノール２０ｇ、４−ブロモブタン酸１８ｇ、炭酸
カリウム２０ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０
０mlを入れ、１２０℃で５時間攪拌した。冷却後、反応
混合物を水２００mlに注ぎ、塩酸で酸性にした後、３０
０mlの酢酸エチルで抽出し、水１００mlで２回洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過を行い溶媒を
減圧留去し、２−８ａを２４．２ｇ（７８％）得た。

【００６０】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（γ−（４−ｔ−アミル−２−クロロフェノキシ）−ブ
タノイルオキシ）トリフェニレン（２−８）の合成 １００mlの三口フラスコに、６．４ｇの２−８ａと５ml
の塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。反応終了
後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去した。これに０．
７ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、４０℃で
４時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し２−
８を２．６７ｇ（７８％）得た。

【００６１】２−８の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 2960、2955、2880、1765、1680、1620、1600、1510、14
95、1475、1440、1420、1380、1360、1290、1260、122
0、1200、1140、1120、1090、1060、1040、880 、810
、780 、720

【００６２】合成例１１ ２−１１の合成 ａ）α−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）−プロ
ピオン酸（２−１１ａ）の合成 ５００mlの三口フラスコに、２，４−ジ−ｔ−アミルフ
ェノール２５ｇ、２−ブロモプロピオン酸１５．３ｇ、
炭酸カリウム２０ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
１００mlを入れ、１２０℃で５時間攪拌した。冷却後、
反応混合物を水２００mlに注ぎ、塩酸で酸性にした後、
３００mlの酢酸エチルで抽出し、水１００mlで２回洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過を行い溶媒
を減圧留去し、２−１１ａを２６ｇ（８５％）得た。

【００６３】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（α−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）−プロパ
ノイルオキシ）トリフェニレン（２−１１）の合成 １００mlの三口フラスコに、６．４ｇの２−１１ａと５
mlの塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。反応終
了後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去した。これに
０．７ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、４０
℃で４時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製
し２−１１を３．１２ｇ（７６％）得た。

【００６４】２−１１の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 2960、2930、2850、1790、1770、1620、1600、1500、14
75、1460、1410、1400、1380、1360、1295、1250、122
0、1200、1150、1130、1100、1090、1010、920 、890
、810 、770

【００６５】合成例１２ ２−３１の合成 ａ）α−（４−ｔ−アミルフェノキシ）−酢酸（２−３
１ａ）の合成 ５００mlの三口フラスコに、４−ｔ−アミルフェノール
１７ｇ、α−ブロモ酢酸１５ｇ、炭酸カリウム２０ｇ及
びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００mlを入れ、１２
０℃で５時間攪拌した。冷却後、反応混合物を水２００
mlに注ぎ、塩酸で酸性にした後、３００mlの酢酸エチル
で抽出し、水１００mlで２回洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、ろ過を行い溶媒を減圧留去し、２−３
１ａを１９．６ｇ（８８％）得た。

【００６６】ｂ）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ
（α−（４−ｔ−アミルフェノキシ）−アセチルオキ
シ）トリフェニレン（２−３１）の合成 １００mlの三口フラスコに、６．４ｇの２−３１ａと５
mlの塩化チオニルを入れ、２時間加熱還流した。反応終
了後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去した。これに
０．７ｇのＨＨＴＰと２０mlのピリジンを添加し、４０
℃で４時間攪拌した。減圧下、過剰のピリジンを留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製
し２−３１を２．４９ｇ（８０％）得た。

【００６７】２−３１の同定データ： ＩＲ（cm^-1) 2960、2955、2880、1765、1690、1625、1605、1520、14
95、1480、1435、1420、1375、1360、1290、1260、122
0、1195、1140、1100、1080、1050、1030、880 、810
、780 、740

【００６８】一般式（１）で表される化合物と一般式
（２）で表される化合物との混合物の作製方法としては
例えば、両者の粉末を乳鉢、ボールミル、ペイントシェ
ーカー等を用いて混合する。あるいは両者の粉末を加熱
溶融した液体状態で攪拌し混合する。更には両者の粉末
を溶媒を用いて溶液とした後混合する方法が挙げられ
る。溶液法に於いて用いることの可能な溶媒は例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）などの極性溶媒から、ベンゼン
やヘキサンなどの非極性溶媒までの範囲から選ぶことが
できる。ベンゼン、ヘキサンなどの非極性溶媒、ジクロ
ロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化溶媒、酢酸メ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類、アセトン、メチル
エチルトケンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、
１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類が好まし
く、混合溶媒を用いることもできる。中でもハロゲン化
溶媒およびケトン類が好ましい。

【００６９】

【実施例】次に本発明を実施例に基づき更に詳しく説明
する。 実施例１ 化合物１−３と化合物２−１の混合 化合物１−３の１．０ｇに塩化メチレンを加え１０ミリ
リットルとした溶液と化合物２−１の１．０ｇに塩化メ
チレンを加え１０ミリリットルとした溶液とを調製し、
それぞれの溶液の適当量を量り取ることにより、化合物
１−３／化合物２−１の重量比が、２／１、１／１の混
合物の溶液を調製した。それぞれの溶液の一部を取りス
ライドガラス上に滴下した後、溶媒を蒸発させ乾固させ
た。混合物の付いたスライドガラスを、メトラー社製Ｆ
Ｐ８２ＨＴ型ホットステージ上で加熱しながら、偏光顕
微鏡にてテクスチャーの変化を観察し、相転移温度を記
録した 比較として、化合物１−３および化合物２−１のそれぞ
れにつき、単独での相変化の観察も行った。結果を表１
に示す。

【００７０】

【表１】

【００７１】実施例２ 化合物１−３５ａと化合物２−１の混合 実施例１と同様にして化合物１−３５ａ／化合物２−１
の重量比が２／１、１／１の混合物の溶液を調製し、ス
ライドガラス上に乾固させた試料を作成した。実施例１
と同様に観察を行った。比較として、化合物１−３５ａ
の単独での相変化の観察も行った。結果を表２に示す。

【００７２】実施例３ 化合物１−３５ａと化合物２−１１の混合 実施例１と同様にして化合物１−３５ａ／化合物２−１
１の重量比が２／１、１／１の混合物の溶液を調製し、
スライドガラス上に乾固させた試料を作成した。実施例
１と同様に観察を行った。比較として、化合物２−１１
の単独での相変化の観察も行なった。結果を表２に示
す。

【００７３】

【表２】

【００７４】実施例４ 化合物１−３５ｂと化合物２−１の混合 実施例１と同様にして化合物１−３５ａ／化合物２−１
の重量比が２／１、１／１の混合物の溶液を調製し、ス
ライドガラス上に乾固させた試料を作成した。実施例１
と同様に観察を行った。比較として、化合物１−３５ｂ
の単独での相変化の観察も行った。結果を表３に示す。

【００７５】実施例５ 化合物１−３６ｂと化合物２−１の混合 実施例１と同様にして化合物１−３６ｂ／化合物２−１
の重量比が２／１、１／１の混合物の溶液を調製し、ス
ライドガラス上に乾固させた試料を作成した。実施例１
と同様に観察を行った。比較として、化合物１−３６ｂ
の単独での相変化の観察も行った。結果を表３に示す。

【００７６】

【表３】

【００７７】比較例１ 化合物１−３と化合物１−４の混合 実施例１と同様にして化合物１−３／化合物１−４の重
量比が２／１、１／１、１／２の混合物の溶液を調製
し、スライドガラス上に乾固させた試料を作成した。実
施例１と同様に観察を行った。結果を表４に示す。

【００７８】比較例２ 化合物１−４と化合物１−８の混合 実施例１と同様にして化合物１−４／化合物１−８の重
量比が１／１の混合物の溶液を調製し、スライドガラス
上に乾固させた試料を作成した。実施例１と同様に観察
を行った。同時に化合物１−４および化合物１−８それ
ぞれ単独での相変化の観察も行なった。結果を表４に示
す。

【００７９】

【表４】

【００８０】本発明の混合物は比較例の混合物に較べ、
混合による相変化温度の変化が大きく、混合の効果が著
しいことが明らかである。

【００８１】

【発明の効果】以上の実施例により、本発明の混合物が
液晶材料として有用であり、その相転移温度の制御に有
用であることが明らかである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 323/22 7419−4Ｈ Ｃ０９Ｋ 19/32 9279−4Ｈ 19/42 9279−4Ｈ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも一種の、２，３，６，７，１
   ０，１１−ヘキサ（置換ベンゾイルあるいは置換シンナ
   モイルオキシ）トリフェニレン誘導体と、少なくとも一
   種の２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ（アリールオ
   キシまたはアリールチオアルカノイルオキシ）トリフェ
   ニレン誘導体を含有することを特徴とする混合物。
2. 【請求項２】 請求項１において、該混合物を成す化合
   物が下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも一
   種と、下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも
   一種とからなる混合物。 一般式（１） 【化１】 式中、Ｙ¹ はハロゲン原子、アルキル基およびアルコキ
   シ基を表す。ｍ¹ は０または１を表し、ｎ¹ は１ないし
   ３の整数を表す。 一般式（２） 【化２】 式中、Ｊ² はメチレン鎖を表し、Ｘ² は酸素原子または
   硫黄原子を表す。Ｙ²はハロゲン原子、アルキル基およ
   びアルコキシ基を表す。ｎ² は１ないし３の整数を表
   す。
3. 【請求項３】 請求項２において、一般式（１）で表さ
   れる化合物の含有率が重量比５０％以上９９％以下であ
   る混合物。