JPH07301819A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法

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JPH07301819A
JPH07301819A JP11337594A JP11337594A JPH07301819A JP H07301819 A JPH07301819 A JP H07301819A JP 11337594 A JP11337594 A JP 11337594A JP 11337594 A JP11337594 A JP 11337594A JP H07301819 A JPH07301819 A JP H07301819A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoresist layer
connection terminal
liquid crystal
display device
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP11337594A
Other languages
English (en)
Inventor
Kinichi Naya
欣一 納谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ラビング処理する際に接続端子の表面に傷が
付かないようにする。 【構成】 下側基板1の上面全体に透明導電膜を形成し
た後、その上面の所定の個所に形成したフォトレジスト
層6をマスクとしてエッチングすることにより、透明電
極3、接続端子4およびその間の引き回し線5を形成す
る。次に、接続端子4上以外のフォトレジスト層6を除
去し、この後配向膜を形成してラビング処理する。この
場合、接続端子4はフォトレジスト層6によって被われ
ているので、接続端子4の表面に傷が付くことはない。
なお、接続端子4上に残存するフォトレジスト層6は、
ラビング処理後に除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は液晶表示装置の製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、一般に、相対向する面
にそれぞれ透明電極および配向膜が形成されたガラスや
樹脂等からなる2枚の基板をシール材を介して貼り合わ
せ、シール材の内側における両基板間に液晶を封入した
構造となっている。また、このような液晶表示装置で
は、外部と電気的に接続するために、一例として、下側
基板の一端部を上側基板の一端部から突出させ、この突
出部の上面に接続端子を設けたものがある。
【0003】ところで、従来のこのような液晶表示装置
を製造する場合、例えば下側基板の上面の各所定の個所
にITOからなる透明電極および接続端子等を形成し、
次いで液晶封入領域に対応する部分の上面にポリイミド
樹脂等からなる配向膜を形成し、次いで配向膜の表面を
織布やフェルト等からなるラビング布で一定方向に擦っ
てラビング処理している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような液晶表示装置の製造方法では、ラビング処理
のとき、透明電極は配向膜によって被われているが、接
続端子は配向膜によって被われずにむき出しとなってい
るので、接続端子の表面もラビング布によって擦られ、
接続端子の表面に傷が付くことがある。このような場合
には、接続端子に例えばフレキシブル配線基板の一端部
を異方導電性接着剤を介して熱圧着する際に、接続端子
の傷が付いた部分に圧力によってクラックが発生し、断
線してしまうことがあるという問題があった。この発明
の目的は、ラビング処理する際に接続端子の表面に傷が
付かないようにすることのできる液晶表示装置の製造方
法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
基板の一の面の各所定の個所に透明電極および接続端子
を形成し、その上面の所定の個所に配向膜を形成し、前
記接続端子をフォトレジスト層で被った状態で前記配向
膜の表面をラビング処理し、この後前記フォトレジスト
層を除去するようにしたものである。請求項2記載の発
明は、基板の一の面の各所定の個所に透明電極および接
続端子をフォトレジスト層をマスクとしたエッチングに
より形成し、前記接続端子上以外の前記フォトレジスト
層を除去した後、その上面の所定の個所に配向膜を形成
してその表面をラビング処理し、この後前記接続端子上
の前記フォトレジスト層を除去するようにしたものであ
る。
【0006】
【作用】この発明によれば、ラビング処理のとき接続端
子がフォトレジスト層によって被われていることになる
ので、ラビング処理する際に接続端子の表面に傷が付か
ないようにすることができる。
【0007】
【実施例】図1〜図5はそれぞれこの発明の一実施例に
おける液晶表示装置の各製造工程を示したものである。
そこで、これらの図を順に参照しながら、この実施例の
液晶表示装置の製造方法について説明する。
【0008】まず、図1に示すように、ガラスや樹脂等
からなる下側基板1の上面全体にITOからなる透明導
電膜2を形成し、その上面の所定の個所(すなわち、7
つで1組とされた透明電極(セグメント電極)形成領域
3a、7つの接続端子形成領域4aおよびその間の引き
回し線形成領域5a)にフォトリソグラフィ技術により
ポジ型のフォトレジスト層6を形成する。この場合、7
つの接続端子形成領域4aは、下側基板1の所定の一端
部に集められている。また、フォトレジスト層6は未露
光状態となっている。次に、フォトレジスト層6をマス
クとしてエッチングすると、図2に示すように、フォト
レジスト層6下に残存する透明導電膜2により透明電極
3、接続端子4および引き回し線5が形成される。
【0009】次に、シール材形成領域7の外側における
接続端子4自体または接続端子4を含む部分全体に対応
する部分に遮光部を有する露光マスク(図示せず)を用
いて露光し、次いで現像すると、図3に示すように、シ
ール材形成領域7の外側における接続端子4上にのみフ
ォトレジスト層6が残存する。すなわち、シール材形成
領域7の外側における接続端子4上以外のフォトレジス
ト層6が除去され、透明電極3、引き回し線5およびシ
ール材形成領域7における接続端子4が露出される。
【0010】次に、図4に示すように、シール材形成領
域7の内側における上面全体にポリイミド樹脂等からな
る配向膜8を形成する。次に、配向膜8の表面を織布や
フェルト等からなるラビング布で一定方向に擦ってラビ
ング処理する。この場合、シール材形成領域7の外側に
おける接続端子4はフォトレジスト層6によって被われ
ているので、この部分における接続端子4の表面に傷が
付くことはない。なお、シール材形成領域7における接
続端子4および引き回し線5はむき出しとなっているの
で、この部分における接続端子4および引き回し線5の
表面には傷が付くことがある。この後、接続端子4上の
フォトレジスト層6を剥離液または酸素プラズマによる
ドライエッチングにより除去する。これにより、シール
材形成領域7の外側ににおける接続端子4が露出される
ことになる。なお、接続端子4上に残存するフォトレジ
スト層6の除去は、ラビング処理後であれば、いつであ
ってもよい。
【0011】次に、図5に示すように、シール材形成領
域7にエポキシ樹脂等からなるシール材9を形成する。
次に、図示していないが、シール材9の内側における配
向膜8の上面にスペーサを散布する。次に、シール材9
の上面に上側基板10を重ね合わせる。上側基板10の
下面には、図示していないが、ITOからなる透明電極
(コモン電極)およびポリイミド樹脂等からなる配向膜
等が予め形成されている。この状態では、下側基板1の
一端部つまり接続端子4の形成された部分が上側基板1
0の一端部から突出されている。次に、両基板1、10
の上下から熱圧着すると、シール材9が硬化し、この硬
化したシール材9を介して両基板1、10が貼り合わさ
れる。次に、シール材9に形成された液晶注入口(図示
せず)を介して液晶(図示せず)をシール材9の内側に
おける両基板1、10間に注入し、次いで液晶注入口を
封止材(図示せず)で封止する。かくして、この実施例
の液晶表示装置の製造が終了する。
【0012】このようにして得られた液晶表示装置で
は、ラビング処理する際に接続端子4の表面に傷が付か
ないようにすることができるので、図示していないが、
この接続端子4に例えばフレキシブル配線基板の一端部
を異方導電性接着剤を介して熱圧着する際に、接続端子
4に傷に起因するクラックや断線が発生することがな
く、したがって接続の信頼性を向上することができる。
なお、ラビング処理する際にシール材形成領域7におけ
る接続端子4および引き回し線5の表面に傷が付くこと
があっても、接続端子4に例えばフレキシブル配線基板
の一端部を異方導電性接着剤を介して熱圧着する際、シ
ール材形成領域7における接続端子4および引き回し線
5には熱も圧力も加わらないので、別に問題はない。
【0013】なお、上記実施例では、図4に示すよう
に、シール材形成領域7の内側に配向膜8を形成する場
合について説明したが、シール材形成領域7にも形成す
るようにしてもよい。この場合、配向膜8を印刷により
形成するとき、配向膜8の一部がシール材形成領域7の
外側におけるフォトレジスト層6の上に形成されたとし
ても、フォトレジスト層6を除去する際にその上に形成
された不要な配向膜8もリフトオフにより除去されるこ
とになるので、配向膜8を形成する際の印刷精度を緩和
することができる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ラビング処理する際に接続端子の表面に傷が付かな
いようにすることができるので、接続端子に例えばフレ
キシブル配線基板の一端部を異方導電性接着剤を介して
熱圧着する際に、接続端子に傷に起因するクラックや断
線が発生することがなく、したがって接続の信頼性を向
上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例おける液晶表示装置の製造
に際し、下側基板の上面全体に透明導電膜を形成すると
ともにその上面の所定の個所にフォトレジスト層を形成
した状態の平面図。
【図2】同製造に際し、フォトレジスト層下に残存する
透明導電膜により透明電極、接続端子および引き回し線
を形成した状態の平面図。
【図3】同製造に際し、シール材形成領域の外側におけ
る接続端子上以外のフォトレジスト層を除去した状態の
平面図。
【図4】同製造に際し、配向膜を形成した状態の平面
図。
【図5】同製造に際し、接続端子上のフォトレジスト層
を除去した後下側基板に上側基板をシール材を介して貼
り合わせた状態の平面図。
【符号の説明】
1 下側基板 3 透明電極 4 接続端子 5 引き回し線 6 フォトレジスト層 8 配向膜

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の一の面の各所定の個所に透明電極
    および接続端子を形成し、その上面の所定の個所に配向
    膜を形成し、前記接続端子をフォトレジスト層で被った
    状態で前記配向膜の表面をラビング処理し、この後前記
    フォトレジスト層を除去することを特徴とする液晶表示
    装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 基板の一の面の各所定の個所に透明電極
    および接続端子をフォトレジスト層をマスクとしたエッ
    チングにより形成し、前記接続端子上以外の前記フォト
    レジスト層を除去した後、その上面の所定の個所に配向
    膜を形成してその表面をラビング処理し、この後前記接
    続端子上の前記フォトレジスト層を除去することを特徴
    とする液晶表示装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記フォトレジスト層はポジ型のフォト
    レジストからなることを特徴とする請求項2記載の液晶
    表示装置の製造方法。
JP11337594A 1994-05-02 1994-05-02 液晶表示装置の製造方法 Pending JPH07301819A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997044705A1 (fr) * 1996-05-22 1997-11-27 Seiko Epson Corporation Panneau d'affichage a cristaux liquides et son procede de production
JP2009008868A (ja) * 2007-06-28 2009-01-15 Citizen Finetech Miyota Co Ltd 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子

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