JPH07301786A - 光変調素子の製造方法 - Google Patents
光変調素子の製造方法Info
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- JPH07301786A JPH07301786A JP7047895A JP4789595A JPH07301786A JP H07301786 A JPH07301786 A JP H07301786A JP 7047895 A JP7047895 A JP 7047895A JP 4789595 A JP4789595 A JP 4789595A JP H07301786 A JPH07301786 A JP H07301786A
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Abstract
少なくとも一方が透明な基板で狭持する場合に空気が混
入しない光変調素子を提供すること。 【構成】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散して
なる液晶/高分子複合膜を、少なくとも一方が透明であ
る2枚の基板で狭持してなる光変調素子の製造方法にお
いて、液晶/高分子複合膜を2枚の基板上に、あるいは
基板上及び保護層上に夫々形成し、夫々の液晶/高分子
複合膜面を対向させて両基板等を貼り合わせることを特
徴とする光変調素子の製造方法。
Description
し、情報の表示や記録を行うことが出来る液晶/高分子
複合膜を用いた光変調素子に関し、本発明の光変調素子
は、ディスプレイ、調光パネル、書き換え可能表示・記
録媒体(カード・OHP等)等に幅広く用いることが出
来る。
力、軽量、薄膜等の特徴を有している為、文字や画像の
表示媒体として、腕時計、電卓、パソコン、テレビ等に
幅広く用いられている。一般的なTN−及びSTN−液
晶ディスプレイは、透明電極を有するガラス板間に所定
のシール等が施された液晶セル中に液晶を封入し、更に
両面から偏光板でサンドイッチされたものである。
(1)2枚の偏光板が必要である為に視野角が狭く、
又、輝度が不足している為に高消費電力のバックライト
が必要である、(2)セル厚依存性が大きく、大面積化
が困難である、(3)構造が複雑で、セルへの液晶の封
入が困難な為に製造コストが高い等の問題があり、液晶
ディスプレイの軽量化、薄膜化、大面積化、低消費電力
化及び低コスト化等には限界がある。
して、液晶を高分子マトリックス中に分散させた液晶/
高分子複合膜の応用が期待され、その研究開発が活発化
してきた。液晶/高分子複合膜の製造方法は主としてエ
マルジョン法と相分離法に分類することが出来る。エマ
ルジョン法としては、ポリビニルアルコール(PVA)
を保護コロイドとして液晶を水中に乳化した水溶液から
作製する方法(特表昭58−501631号公報)、液
晶エマルジョンをラテックスと混合して水溶液から作製
する方法(特開昭60−252687号公報)等が挙げ
られる。一方、相分離法は、液晶とマトリックス樹脂の
相分離状態を固定する方法と膜形成時に、液晶をマトリ
ックス樹脂から相分離させる方法に分類することが出来
る。
/高分子複合膜を用いることにより、光利用効率の高い
明るい液晶表示素子が得られ、製造も塗布法を用いるこ
とが出来、低価格化の可能性がある有利な方法であり、
通常は液晶エマルジョンをシルクスクリーンやメタルス
クリーンによって基板上に塗布し乾燥させて形成してい
る。しかしながら、液晶/高分子複合膜を用いた光変調
素子は、上述した様な特徴を有しているが、液晶/高分
子複合膜を作製する際及び該膜を少なくとも一方が透明
な2枚の基板で挟持する場合あるいは基板と透明な保護
層で挟持する場合に空気が混入し、複合膜中に気泡が生
じてしまうという問題点がある。従って本発明の目的
は、上記従来技術の問題点を解決し、液晶/高分子複合
膜を作製する際及び該膜を少なくとも一方が透明な2枚
の基板で挟持する場合あるいは基板と透明な保護層で挟
持する場合に空気が混入しない光変調素子を提供するこ
とである。
によって達成される。即ち、本発明は、液晶粒子が高分
子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜
を、少なくとも一方が透明である2枚の基板で挟持して
なる光変調素子の製造方法において、液晶/高分子複合
膜を少なくとも一方が透明である2枚の基板上に夫々形
成し、夫々の液晶/高分子複合膜面を対向させて両基板
を貼り合わせることを特徴とする光変調素子の製造方法
である。
と保護層の間に液晶/高分子複合膜を挟持する場合に、
空気が混入して気泡が生じることがなく、欠陥のない液
晶/高分子複合膜を用いた光変調素子を作製することが
出来る。
図面を参照して本発明を更に詳しく説明する。図1及び
2は本発明の好ましい実施態様の光変調素子の製造方法
を図解的に説明する図である。先ず、図1及び2に示す
様に、基板の表面にITO膜等の電極が形成されている
動電性基板1,1’又は3と保護層4を用意する。
公知の液晶表示素子に一般的に使用されているものであ
って、本発明では、従来公知の導電性基板はいずれも使
用可能であり、具体的には、例えば、ITO系、SnO
2 系、ZnO系の様な透明導電性材料をガラスや高分子
フィルム等の様な透明基板に付着させた一対の電極基板
である。この時、他の一方に不透明導電性基板を用いる
場合には、その電極が反射板としての機能も要求される
為、例えば、アルミニウム反射電極を設けた基板が好ま
しい。その基板自体はガラス、高分子フィルム或いはそ
の他のものであってもよい。又、ITO系、SnO2
系、ZnO系の様な透明導電性材料を白PET(ポリエ
チレンテレフタレート)等の様な反射板に付着させたも
のであってもよい。
と同様であるが、保護層4は架橋重合体フィルムで形成
される。架橋重合体は、例えば、トリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート等の多官能性モノマーの少な
くとも1種又はこれと他の共重合性モノマーとの架橋
(共)重合体が挙げられる。
に夫々液晶/高分子複合膜を形成するが、次に複合膜の
製造に付いて説明するが、この方法に限定されるもので
はない。複合膜のマトリックを形成する高分子と液晶
は、エマルジョンとして使用されるが、本発明で使用す
る液晶エマルジョンは従来公知の液晶エマルジョン法に
よるものでも相分離法によるものであってもよく、特に
限定されないが、液晶エマルジョン法によるものが好ま
しい。エマルジョン法で使用するマトリックス高分子と
しては、PVAが好ましく用いられるが、ゼラチン、ア
クリル酸共重合体、水溶性アルキド樹脂等、水に分散若
しくは溶解するものであればよい。
態を示す有機混合物であって、ネマチック液晶、コレス
テリック液晶、スメクチック液晶が含まれる。これらの
液晶は、本発明で得られる光変調素子の用途によって選
択されるが、例えば、ディスプレイ用の場合にはネマチ
ック液晶が、書き換え可能な表示媒体としての用途の場
合にはスメクチック液晶が用いられる。これらの液晶は
マイクロカプセル化されたものであってもよい。上記の
液晶は二色性色素で着色してもよい。液晶を着色する理
由としては、着色によるカラー表示という目的と共に、
電圧印加時と無印加時の光の吸収の差を利用して表示画
像のコントラストを高めるという目的もある。
TN型液晶ディスプレイで一般的に使用されているゲス
ト・ホストタイプのものを用いてもよいし、液晶/高分
子複合膜用の色素を用いてもよい。但し、液晶への溶解
度が大きくて高分子マトリックスへの溶解度が小さく、
しかも2色性比が大きいものが良いが、これらの特性
は、用いる液晶によって異なるので液晶毎に決定する必
要がある。色素の添加量が多過ぎると高分子マトリック
スへの溶解が多くなり、電圧印加時の色残りが生じて好
ましくない。又、色素の量が少な過ぎると電圧印加時と
無印加時の光の吸収の差が小さくなり、コントラストの
向上効果が十分ではない。その為に、本発明で得られる
素子をディスプレイ用途に用いる場合には、用いる液晶
に対して0.1〜5重量%の範囲で使用することが好ま
しい。又、書き換え可能な表示媒体として用いる場合に
は、液晶に対して1〜10重量%の範囲で使用すること
が好ましい。
量としては、ディスプレイ用途として用いる場合には、
マトリックス高分子/液晶の混合比(重量比)は5/9
5〜50/50の範囲が好ましくで、又書き換え可能な
表示媒体として用いる場合の混合比は55/45〜35
/65の範囲が好ましく、いずれれの場合も液晶の使用
量が少なすぎると、電圧印加時の透明性が不足するだけ
でなく、膜を透明状態にする為に多大の電圧を必要とす
る等の点で不十分であり、一方、液晶の使用量が多すぎ
ると、電圧無印加時の散乱(濁度)が不足するだけでな
く、膜の強度が低下したりするので好ましくない。複合
膜形成の為に、マトリックスを形成する高分子の水溶液
に上記液晶を分散させるが、分散方法としては、超音波
分散機等の各種の撹拌装置による混合方法や、膜乳化法
(中島忠夫・清水政高、PHARMTECH JAPA
N 4巻、10号(1988)参照)等の分散方法が有
効である。液晶エマルジョン粒子の大きさは、得られる
光学素子の用途や用いる分散方法に依存するが、ディス
プレイ用途の場合には、一般的には体積分布において液
晶粒子の平均粒子径(直径)が0.5〜2μmの範囲に
あり、重量分布において液晶粒子の平均粒子径(直径)
が1.1〜2.1μmの範囲にあり、又、個数分布にお
いて液晶粒子の平均粒子径(直径)が0.9〜1.5μ
mの範囲内にあることが好ましい。又、書き換え可能な
表示媒体用途の場合には、体積分布において1μm以下
の粒子径(直径)が全粒子の10重量%以下であること
が好ましい。
ィスプレイ用途に用いる場合には、上記一対の基板1、
1’上に、又、書き換え可能な表示媒体用途に用いる場
合には、基板3と保護層4上に液晶エマルジョンをコー
ティングするがコーティング方法としては、例えば、ド
クターコ−ティング法やブレ−ドコ−ティング法、電着
コーティング法、スクリーン印刷、メタルマスクを用い
たステンシル印刷、刷毛塗り、スプレーコーティング等
が挙げられる。製造する光学素子の用途に応じて最適な
方法を用いて液晶/高分子複合膜が形成される。
れる液晶/高分子複合膜2、2’あるいは5、5’の厚
みは、通常約1〜22μm程度である。又、塗布された
液晶エマルジョンは、室温又はエマルジョンに影響を与
えない程度の温度で乾燥させる。両方の基板を複合膜面
を対向させて貼り合わせる方法としては、ラミネーター
を使う方法が有効である。ラミネートする時に加える温
度としては、マトリックスとして用いている高分子材料
のガラス転移点以上であることが望ましい。上記温度未
満であると貼り合わせる膜面が軟化しにくい為に貼り合
わせた時に空気が混入して気泡が生じてしまうことがあ
る。マトリックス樹脂としてポリビニルアルコールを用
いた場合には加える温度としては50℃〜100℃であ
ることが望ましい。
いは基板3、保護層4上に形成した液晶/高分子複合膜
2、2’面あるいは5、5’面を夫々対向させ、貼り合
わせることによって本発明の光学変調素子とすることが
出来る。この様に貼り合わせた状態における液晶/高分
子複合膜の厚みは、光学素子をディスプレイ用途として
用いる場合には、(2+2’)の厚みは、は通常約3〜
13μmの範囲が好ましい。書き換え可能な表示媒体と
しての用途の場合には、(5+5’)の厚みは通常約3
〜23μmの範囲が好ましい。いずれの場合も、膜厚が
夫々上記範囲未満であると表示のコントラストが低くな
る等の点で好ましくなく、一方、膜厚が上記範囲を越え
ると表示を消去する際の電圧(駆動電圧)が高くなる等
の点で好ましくない。
明する。 実施例1 PVA(KP−06、日本合成化学工業製、重合度:6
00、鹸化度:71.0〜75.0)の5重量%水溶液
に、液晶(BL−010、メルク社製)を液晶/PVA
の混合比が95/5(重量比)となる様に添加して、孔
径:0.20μm(直径)の多孔質ガラス膜管(伊勢化
学工業(株)社製)を用いて膜乳化方法で分散し、液晶
粒子の粒子径の体積分布、重量分布及び個数分布を測定
した。この体積分布の測定にはマイクロトラックMK−
IISPA粒度分布計(LEED&NORTHRUP社
製)を用い、重量、個数分布の測定にはコールター・マ
ルチサイザーII(COULTER社製)を用いた。
は1.6μm、重量分布の平均粒子径(直径)は1.1
μm、個数分布の平均粒子径(直径)は1.4μmであ
った。次にこの分散液に増粘剤としてPVA(KH−2
0、日本合成化学工業製、重合度:2,000、鹸化
度:78.5〜81.5)をBL−010/(KP−0
6+KH−20)=83/17(重量比)となる様に添
加して撹拌した。この分散液を用い、一方のITO蒸着
ガラス基板上にドクターブレードを用いて塗付し乾燥さ
せて成膜を行なった。この液晶/高分子複合膜の膜厚は
4.3μmであった。
Tフイルム上に、ドクターブレードを用いて塗付し乾燥
させて成膜を行なった。この液晶/高分子複合膜の膜厚
は4.1μmであった。この様にして作製した基板とフ
ィルムを液晶/高分子複合膜面を対向させる様にして、
温度60℃下でラミネーター(LAP−330、日本オ
フィスラミネーター(株))を用いて積層した。得られ
た光変調素子は空気の混入もなく外観も良い光変調素子
であった。次に、LCD−5000(大塚電子(株)
製)を用いて電圧印加前後の透過率を測定した。尚、測
定条件として、集光角を2.7°、印加電圧を1kH
z、8.4Vのサイン波とした。測定の結果、電圧印加
前の透過率は全面1.6%以下、電圧印加後の透過率は
全面55.1%以上であった。
MPG膜乳化システム(伊勢化学工業(株)製)を用い
て、以下の組成からO/W型エマルジョンを作製した。 油相: メタクリル酸メチル 6.00部 メタクリル酸 2.00部 ネマチック液晶BL−010(メルク社製) 100.00部 アゾイソブチロニトリル 0.16部 水相: ポリビニルアルコール(KP−06、 5.30部 日本合成化学工業(株)製) 水 100.70部 このエマルジョンを70℃で20時間加熱することによ
って、液晶をメタクリル酸メチルメタクリル酸共重合体
でマイクロカプセル化した。実施例1と同様にして、マ
イクロカプセル化した液晶粒子の粒子径分布を測定した
結果、液晶粒子の体積分布の平均粒子径(直径)は1.
5μm、重量分布の平均粒子径(直径)1.3μm、そ
して個数分布の平均粒子径(直径)は1.3μmであっ
た。
の組成の電着液を調整した。 マイクロカプセル化液晶 50.0部 トリエチルアミン 1.1部 水 220.0部 ITO透明導電膜付きガラス基板上に、20V、30秒
通電し、液晶/高分子複合膜を形成した。次いで、電極
基板を電着浴から引上げ、水洗後、60℃で1時間乾燥
させた。得られた液晶/高分子複合膜の厚さは4.4μ
mであった。又、先の電着液を用いて、ITO蒸着PE
Tフイルム上に、上記と同様にして電着塗装し乾燥させ
て成膜を行なった。この液晶/高分子複合膜の膜厚は
4.0μmであった。
晶/高分子複合膜面を対向させる様にして、温度60℃
下でラミネーター(LAP−330、日本オフィスラミ
ネーター(株))を用いて積層した。得られた光変調素
子は空気の混入もなく外観も良い光変調素子であった。
次に、LCD−5000(大塚電子(株)製)を用いて
電圧印加前後の透過率を測定した。尚、測定条件とし
て、集光角を2.7°、印加電圧を1kHz、8.4V
のサイン波とした。測定の結果、電圧印加前の透過率は
全面1.5%以下、電圧印加後の透過率は全面55.3
%以上であった。
05、日本合成化学社製)の10%水溶液510部を添
加して機械分散を行った。得られた液晶粒子の平均粒子
径(直径)は7.1μmであり、1μm以下の粒子の割
合は5.1%であった。粒子径は、粒度分布計マイクロ
トラック MK−IISPA(LEED& NORTH
RAP社製)を用いて測定した体積分布における平均粒
子径である。上記の分散液をITO付きPET基板のI
TO側に、ドクターブレードを用いて塗布及び乾燥させ
て4.6μm厚みの液晶/高分子複合膜を形成した。P
ET製離型フィルム(MC−19 麗光社製)にドクタ
ーブレードを用いてトリメチロールプロパントリアクリ
レート(EXG−40−8、大日精化工業社製)を塗布
し、乾燥させた後、4Mradの電子線を照射して該ア
クリレートの架橋重合体を形成させた。膜厚は2.0μ
mであった。この膜面に上記の分散液をドクターブレー
ドを用いて塗布、乾燥させて液晶/高分子複合膜を形成
させた。膜厚は4.1μmであった。
ィルム上の夫々の複合膜面を対向させるようにしてラミ
ネーター(LAP−330、日本オフィスラミネーター
社製)で65℃で積層した。離型フィルムを剥離した結
果、平滑な(Ra=0.01μm)保護層を有する光変
調素子が得られた。この光学変調素子は、空気の混入も
なく、外観も良好であった。透過率を測定した結果、全
面で1.8%以下であった。次に、この素子をコロナワ
イヤー下を通して電界強度約50V/μmの電圧を印加
した後に透過率を測定した結果56.2%であった。
るいは導電性基板と保護層間に液晶/高分子複合膜を挟
持する場合に、空気が混入して気泡が生じることがな
く、欠陥のないな液晶/高分子複合膜を用いた光変調素
子を作製することが出来る。
に説明する図。
に説明する図。
Claims (4)
- 【請求項1】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散
してなる液晶/高分子複合膜を、少なくとも一方が透明
である2枚の基板で挟持してなる光変調素子の製造方法
において、液晶/高分子複合膜を2枚の基板上に夫々形
成し、夫々の液晶/高分子複合膜面を対向させて両基板
を貼り合わせることを特徴とする光変調素子の製造方
法。 - 【請求項2】 前記の2枚の基板が導電性基板である請
求項1に記載の光変調素子の製造方法。 - 【請求項3】 前記の基板の一方が導電性基板で、他方
が透明な保護層である請求項1に記載の光変調素子の製
造方法。 - 【請求項4】 液晶がマイクロカプセル化されている請
求項1に記載の光変調素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7047895A JPH07301786A (ja) | 1994-03-11 | 1995-02-14 | 光変調素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6648594 | 1994-03-11 | ||
JP6-66485 | 1994-03-11 | ||
JP7047895A JPH07301786A (ja) | 1994-03-11 | 1995-02-14 | 光変調素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07301786A true JPH07301786A (ja) | 1995-11-14 |
Family
ID=26388102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7047895A Pending JPH07301786A (ja) | 1994-03-11 | 1995-02-14 | 光変調素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07301786A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6309672B1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-04-11 | シェンヂェン ウィックー オプトーエレクトロニクス カンパニー リミテッドShenzhen Wicue Optoelectronics. Co. Ltd | 手書き用の液晶薄膜、その製造方法及び製造装置 |
JP2019005698A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 日東電工株式会社 | 調光フィルムの製造方法 |
-
1995
- 1995-02-14 JP JP7047895A patent/JPH07301786A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6309672B1 (ja) * | 2017-06-01 | 2018-04-11 | シェンヂェン ウィックー オプトーエレクトロニクス カンパニー リミテッドShenzhen Wicue Optoelectronics. Co. Ltd | 手書き用の液晶薄膜、その製造方法及び製造装置 |
JP2019005698A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 日東電工株式会社 | 調光フィルムの製造方法 |
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