JPH0730153A - 発光ダイオードチップ、その台座、及び発光ダイオード - Google Patents

発光ダイオードチップ、その台座、及び発光ダイオード

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JPH0730153A
JPH0730153A JP17390293A JP17390293A JPH0730153A JP H0730153 A JPH0730153 A JP H0730153A JP 17390293 A JP17390293 A JP 17390293A JP 17390293 A JP17390293 A JP 17390293A JP H0730153 A JPH0730153 A JP H0730153A
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JP
Japan
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emitting diode
chip
electrode
light emitting
recess
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JP17390293A
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Yasushi Minagawa
康 皆川
Tsunehiro Unno
恒弘 海野
Ryuichi Nakazono
隆一 中園
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • H01L33/38Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape

Abstract

(57)【要約】 【目的】青色LEDチップの電極構造を改善して発光光
度を高める一方、LEDチップに合わせた専用の台座を
設けて実装を容易にする。 【構成】サファイア基板2の上にGaN層からなるpn
エピタキシャル層を形成する。その表面中央に孔7を形
成してn型GaN層3を円形に露出させ、その周辺にp
型GaN層4を残す。孔7内に露出された円形n型層3
上に円形のn側電極6を、残したp型層4上にn側電極
6を囲繞するp側電極5をそれぞれ形成してLEDチッ
プ1を構成する。このLEDチップ1は、チップを入れ
る凹部にチップ1に対応した2つの電極を形成した専用
の台座に装着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板に絶縁性または半
絶縁性基板が用いられて基板下面より電極を取り出せな
い構造の発光ダイオードチップ(LEDチップ)、その
台座、及び発光ダイオード(LED)に関するもので、
特にGaN青色LEDに好適である。
【0002】
【従来の技術】基板が絶縁性であるため基板下面より電
極を取り出せない構造のLEDとして、青色LEDがあ
る。青色LED材料としてGaN、SiC、ZnSeな
どが研究されている。この中で現在のところ最も光度が
高くなる可能性が高いのはGaNである。このGaN青
色LEDを、例えばCVD法によって基板上に作製する
が、GaNの融点が非常に高いために、サファイアを基
板に使用する。
【0003】しかし、このサファイア基板は絶縁体であ
るため、通常のLEDチップのようにチップ裏面を電気
的に接続することができない。このため、従来のGaN
青色LEDチップは、図7(A)に示すように、チップ
1の表面にp側とn側の両電極5、6を形成していた。
【0004】チップ1表面に両方の電極5、6を形成す
るために、サファイア基板2上に積層したp型GaN層
4及びn型GaN層3の一部を除去して、n型GaN層
3を露出させる。この露出したn型GaN層3上にn側
電極6を形成し、p側電極5をp型GaN層4上に形成
する。チップの小型化のため、電極5、6の形状は2本
の短い平行線状とし、p側電極5と線対称の位置にn側
電極6を形成している。このチップ1を台座10に実装
する場合には、図7(B)に示すように電極側を下面に
して、その電極5、6をボード11上に形成した平行電
極15、16に位置合せして接続していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来の技術では、電極5、6の形状が2本の平行線状な
ので、チップ1を台座10に装着する時に、お互いが少
しでもずれると電極同士が接続されなくなるため、実装
しにくい。そのため実装に失敗することが多く時間もか
かるために、製造コストが上がってしまう。
【0006】また、従来から作製されている青色LED
チップの電極構造は、2本の短い平行線状なので、発光
層が一方の電極付近の狭いエピタキシャル層に限られて
しまう。そのため、LEDチップを効率よく利用できず
発光光度が低くなってしまう。また、電極構造が非対称
であるため、等方的な発光をさせることができない。本
発明の目的は、前記した従来技術の問題点を解消し、チ
ップを台座に容易に装着させることができ、しかも発光
光度を上げることが可能な発光ダイオードチップ、その
台座、及び発光ダイオードを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の発光ダイオード
チップは、絶縁性または半絶縁性基板上にpn接合を形
成するエピタキシャル層を積層した発光ダイオードチッ
プにおいて、発光ダイオードチップ表面の中央に表面側
に形成された一方のエピタキシャル層を貫通する深さの
凹部を形成して他方のエピタキシャル層を露出させ、表
面側の一方のエピタキシャル層上に凹部を囲繞する一方
の電極を、凹部内に露出された他方のエピタキシャル層
上に他方の電極をそれぞれ形成したものである。
【0008】また本発明の発光ダイオードチップは、絶
縁性または半絶縁性基板上にpn接合を形成するエピタ
キシャル層を積層した発光ダイオードチップにおいて、
発光ダイオードチップ表面の周辺の、表面側に形成され
た一方のエピタキシャル層を除去して周辺に他方のエピ
タキシャル層を露出させるとともに、中央にpn接合の
露出した凸部を形成し、この凸部の表面側の一方のエピ
タキシャル層上に一方の電極を、周辺に露出させた他方
のエピタキシャル層上に凸部を囲繞する他方の電極をそ
れぞれ形成したものである。
【0009】また、本発明の発光ダイオードの台座は、
表面に発光ダイオードチップを入れる凹部を形成し、そ
の凹部の底面中央に一方の電極を、この一方の電極の周
辺にこれを囲繞する他方の電極をそれぞれ形成し、上記
一方の電極と上記他方の電極を凹部の外へそれぞれ取り
出す取出配線を設けたものである。この凹部の表面に光
反射膜を形成することが好ましい。
【0010】また、本発明の発光ダイオードは、上記し
た発光ダイオードチップの台座の凹部に、上記した発光
ダイオードチップを固定して、対応するチップと台座の
電極間が接続されているものである。この発光ダイオー
ドにおいて、凹部に固定したチップを樹脂封止すること
が好ましい。
【0011】
【作用】本発明の発光ダイオードチップのように、チッ
プ中央に凹部を形成して、一方の電極をこの凹部を囲繞
するように形成すると、電極の面積をより大きくとるこ
とができ、これによって、チップが台座に装着し易くな
る。また、一方の電極をチップ中央の凹部を囲繞するよ
うに形成し、凹部内に他方の電極を形成すると、等方的
な発光が可能となるので、さらに電極面積を大きくする
ことによって発光層領域を増加させることができる。
【0012】また、本発明の発光ダイオードチップのよ
うに、中央に形成した凸部に一方の電極を、その周辺に
他方の電極を形成すると、上記発明のチップと同様な作
用に加えて、pn接合が露出しているので光の取出しが
一層良好になる。
【0013】本発明の発光ダイオードの台座によれば、
電極の形状が同心的な面状の広がりをもつので、チップ
を台座に装着する時に、チップと台座が少し位ずれても
電極同士の接続が容易で実装しやすくなる。凹部の表面
に光反射膜を形成すると、光の取出しが容易となり、一
層光度を上げることができる。
【0014】そして、本発明の発光ダイオードのよう
に、上記した発光ダイオードチップの台座の凹部に、上
記した発光ダイオードチップを固定すると、チップを台
座に装着する時に、実装しやすく短時間にでき、安価に
製造できる。凹部に固定したチップを樹脂封止すると、
信頼性が向上する。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。まず、図1を用いて第1実施例のGaN青色LED
チップ構造を説明しよう。チップ1の構造は、サファイ
ア基板2の上にn型GaN層3とp型GaN層4が積層
されて、pn接合が形成されている。サファイア基板2
のサイズは500μm 角で、厚さは300μm である。
n型GaN層3とp型GaN層4の厚さは各々3μm と
1μm である。
【0016】チップ表面の中央にp型GaN層4を貫通
してn型GaN層3まで達する凹部を構成する円柱状の
孔7が開けられる。孔7は、後述する取出配線を通すた
めに、チップ1の一辺から孔7に通じる切欠き8が設け
られており、丁度鍵孔の形状に似た恰好をしている。
【0017】孔7の底部中央のn型GaN層3上に円形
のn側電極6が形成される。p側電極5は、この円形n
側電極6ないし孔7を囲繞するようにp型GaN層4の
表面に形成される。p側電極5の形状は四角形をしてお
り、その中央にn側電極6が同心状に配置される円形孔
9が開けられ、その円形孔9は切欠き8に対応して一辺
に開口している。これら両電極5、6上は、両電極が同
一高さとなるようにハンダで高さが調節されている。直
接GaN層に形成されるp側電極5とn側電極6の材料
は、ともにAlである。
【0018】このGaN青色LEDの製作方法を述べ
る。まず、厚さ300μm のサファイア基板2上にn
型、p型のGaNエピタキシャル層3、4をMOVPE
法により成長させる。各チップ1の中央部分となるべき
p型GaN層4を、この下のn型GaN層3の表層部を
含めて、フォトリソグラフィにより円柱状に除去した。
このとき、除去部分は図1に示すように、チップ1の一
辺に達するように鍵孔形状とした。
【0019】その後、p側電極5とn側電極6をAlで
形成した。ここで、n側電極6の形状は円形で直径10
0μm であり、一方のp側電極5は外形が四角形で一辺
が400μm 、中央の円形孔9の内径が150μm であ
り、n側電極6の一部を残して同心状取り囲んでいる。
さらに、これら両電極5、6の上にハンダを載せて面一
とした。ハンダを含めた電極の厚さはp側電極5が0.
5μm 、n側電極6が2.5μm である。
【0020】最後に、このエピタキシャルウェハをダイ
シングソーでカットし、550μm間隔で升目状にチッ
プ1を分離した。
【0021】このようにして得られた青色LEDチップ
は、その電極構造が、中央部の円形のn側電極6と、そ
の周りを囲繞するp側電極5とで構成された同心状電極
であるため、pn界面近傍のp型GaN層にできる発光
層が円周方向の広い範囲に亘って形成される。そのた
め、LEDチップを効率よく利用でき、発光光度が高く
なる。また、電極構造が対称であるため、等方的な発光
をさせることができる。一方、上記したLEDチップを
実装する専用の台座を図2を用いて説明しよう。台座1
0は矩形状の厚みのある絶縁体で構成され、その表面に
LEDチップを入れる凹部12を形成してある。凹部1
2の大きさはLEDチップよりも大きく、深さも余裕を
もって作ってある。凹部12は開口面より底面13が徐
々に狭くなるように台形状にくり抜いた形状をしてい
る。
【0022】その凹部12の底面13の中央に、チップ
1のn側電極6に対応する一方の電極16を円形に形成
し、この一方の円形電極16の周辺にこれを囲繞する他
方の電極15を形成する。この他方の電極15は、チッ
プ1のp側電極5に対応する電極形状をしており、外形
が四角形で内部に円形の孔19を有し、四角形の一辺に
切欠き18が形成されて孔19の一部が開口している。
一方の円形電極16には、これより他方の電極15の切
欠き18を通って凹部12の外へ延出された取出配線2
6が接続される。同様に他方の電極15にもこれより凹
部12の外へ延出された取出配線25が接続される。こ
れらの取出電極25、26は台座10の同一面に設ける
ことができる。凹部12の電極15、16を除いた底面
13、および傾斜した側面14にLEDチップで発生し
た光を反射して凹部12の外に出力する光反射膜17を
形成する。
【0023】さて、上述したLEDチップ1と専用の台
座10とを用いてGaN青色LEDを形成するには、図
3に示すように、同心状の電極を形成したチップ1を、
これらに対応した電極を形成した台座10にダイボンダ
ー装置によって実装し、対応する電極間が互に接続され
るように台座10の凹部12にチップ1を固定する。そ
の後、台座10に固定したチップ1を覆うように、凹部
12の中に樹脂20を入れ樹脂モールドを行う。
【0024】このように本実施例によれば、チップの電
極5、6の形状が面的に広がった同心状をしているの
で、電極の面積をより大きくすることができ、チップ1
を台座10に装着する時に、お互いが少しぐらいずれて
も電極同士を確実に接着できるため、チップを台座に実
装しやすくなる。そのため実装の失敗が少なく作業時間
も短時間ですみ、製造コストが安くなる。
【0025】また、中央電極6の周囲に周辺電極5を形
成することによって等方的な発光をさせることができ、
さらに電極面積を大きくすることによって発光部分を増
加させることができる。
【0026】ここで、16×16ドットの基盤ボードに
LEDディスプレイを作る際、本実施例と従来例との比
較結果について説明する。従来例のものは、チップその
ものを装着する場合の歩留りが60%だったが、本実施
例の台座付LEDを用いることによりその歩留りを97
%にすることができ、より確実にチップを台座に装着す
ることができた。
【0027】更に発光光度は、従来のLEDでは50mc
d だったものが、本実施例のものは75mcd となり50
%も高くすることができた。
【0028】図4にLEDチップの第2実施例を示す。
このチップ1では、チップ中央の周辺のp型GaN層4
及びその下部にあるn型GaN層3の表層部を除去し、
中心部だけに発光層となるp型GaN層4を円柱状の凸
部として残す。そして、円柱状に残したp型GaN層4
の凸部表面に円形のp側電極5を形成し、露出したn型
GaN層3の表面にp側電極5を囲繞するようにn側電
極6を形成する。両電極を形成するに際して、図示する
ように、両電極を面一にしないで、n側層極6は低いま
まとする。これに対応する台座は、電極の凹凸に合せて
台座電極を形成する。これにより発光層となるp型Ga
N層4の接合界面近傍が、n側電極6によって囲まれる
ことなく完全に露出するため、光の取出量をより上げる
ことができる。
【0029】また、図5と図6に示すのは、図1、図2
を変形した第3実施例のLEDチップとその台座であ
る。図1及び図2と異なる点は、p型電極5がLEDチ
ップ1の中心部のn側電極6を完全に取り囲んでおり、
それにしたがって台座10の周囲電極15が閉じている
点である。これにより、台座10上に延出する2本の取
出配線25、26のうち、中央電極16に接続される取
出配線26が裏面配線になっている。このように構成す
ると、チップと台座の周辺電極5及び15に切欠きがな
くなるので、実装する際に、周方向の方向性がなくなる
ため、チップ1の台座10への装着をより簡便かつ確実
にすることができる。
【0030】
【発明の効果】
(1) 請求項1に記載の発光ダイオードチップによれば、
一方の電極を、他方の電極を形成したチップ中央の凹部
を囲繞するように形成すると、電極の面積が大きくと
れ、しかも等方的な発光が可能となり、大幅に光度を上
げることができる。
【0031】(2) 請求項2に記載の発光ダイオードチッ
プによれば、上記効果に加え、pn接合を露出させるの
で、光の取出しが一層良好になる。
【0032】(3) 請求項3に記載の発光ダイオードの台
座によれば、電極の形状が同心的な面状の広がりをもつ
ので、チップを台座に装着しやすくなる。
【0033】(4) 請求項4に記載の発光ダイオードの台
座によれば、凹部の表面に光反射膜を形成すると、光の
取出しが容易となり、一層光度を上げることができる。
【0034】(5) 請求項5に記載の発光ダイオードによ
れば、発光ダイオードチップの台座の凹部に、発光ダイ
オードチップを固定すると、チップを台座に装着する時
に、チップと台座が少し位ずれていても電極同士の接続
が容易で、失敗も少なく確実に行うことができ、しかも
短時間で安価に製造できる。
【0035】(6) 請求項6に記載の発光ダイオードによ
れば、樹脂封止するようにしたので、信頼性、耐湿性を
向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のGaN青色LEDチップ構造の第1実
施例を説明するための斜視図及び断面図。
【図2】第1実施例のLEDチップを実装するための台
座構造を説明するための斜視図。
【図3】第1実施例の台座に第1実施例のLEDチップ
を実装したLEDを説明するための発光ダイオードの断
面図。
【図4】第2実施例を説明するためのLEDチップ構造
の斜視図。
【図5】第3実施例を説明するためのLEDチップ構造
の斜視図。
【図6】第3実施例のLEDチップを実装するための台
座構造を説明するための斜視図。
【図7】従来のGaNのLEDチップ構造の斜視断面図
及び実装の説明図。
【符号の説明】
1 チップ 2 サファイア基板 3 n型GaN層 4 p型GaN層 5 p側電極 6 n側電極 7 孔(凹部) 8 切欠き 9 円形孔

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁性または半絶縁性基板上にpn接合を
    形成するエピタキシャル層を積層した発光ダイオードチ
    ップにおいて、発光ダイオードチップ表面の中央に表面
    側に形成された一方のエピタキシャル層を貫通する深さ
    の凹部を形成して他方のエピタキシャル層を露出させ、
    上記表面側の一方のエピタキシャル層上に上記凹部を囲
    繞する一方の電極を、上記凹部内に露出された他方のエ
    ピタキシャル層上に他方の電極をそれぞれ形成したこと
    を特徴とする発光ダイオードチップ。
  2. 【請求項2】絶縁性または半絶縁性基板上にpn接合を
    形成するエピタキシャル層を積層した発光ダイオードチ
    ップにおいて、発光ダイオードチップ表面の周辺の、表
    面側に形成された一方のエピタキシャル層を除去して周
    辺に他方のエピタキシャル層を露出させるとともに、中
    央にpn接合の露出した凸部を形成し、上記凸部の表面
    側の一方のエピタキシャル層上に一方の電極を、上記周
    辺に露出させた他方のエピタキシャル層上に上記凸部を
    囲繞する他方の電極をそれぞれ形成したことを特徴とす
    る発光ダイオードチップ。
  3. 【請求項3】表面に発光ダイオードチップを入れる凹部
    を形成し、その凹部の底面中央に一方の電極を、この一
    方の電極の周辺にこれを囲繞する他方の電極をそれぞれ
    形成し、上記一方の電極と上記他方の電極を凹部の外へ
    それぞれ取り出す取出配線を設けたことを特徴とする発
    光ダイオードチップの台座。
  4. 【請求項4】上記凹部の表面に光反射膜を形成した請求
    項3に記載の発光ダイオードチップの台座。
  5. 【請求項5】請求項3または4に記載の発光ダイオード
    チップの台座の凹部に、請求項1または2に記載の発光
    ダイオードチップを固定して、チップと台座の対応する
    電極間が接続されている発光ダイオード。
  6. 【請求項6】上記請求項5に記載の発光ダイオードにお
    いて、上記凹部に固定した上記チップを樹脂封止した発
    光ダイオード。
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