JPH0729636Y2 - Semiconductor wafer inspection system - Google Patents

Semiconductor wafer inspection system

Info

Publication number
JPH0729636Y2
JPH0729636Y2 JP1989134997U JP13499789U JPH0729636Y2 JP H0729636 Y2 JPH0729636 Y2 JP H0729636Y2 JP 1989134997 U JP1989134997 U JP 1989134997U JP 13499789 U JP13499789 U JP 13499789U JP H0729636 Y2 JPH0729636 Y2 JP H0729636Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test head
semiconductor wafer
performance board
contact
wafer inspection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1989134997U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0373446U (en
Inventor
秀樹 川崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Priority to JP1989134997U priority Critical patent/JPH0729636Y2/en
Publication of JPH0373446U publication Critical patent/JPH0373446U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0729636Y2 publication Critical patent/JPH0729636Y2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、ICチップの特性検査と共にデッバグ作業を行
うことができる半導体ウェハー検査装置に関し、更に詳
しくは、パフォーマンスボード等から直接にデバッグの
ための電気信号を得ることができるコンタクトリングを
設けた半導体ウェハー検査装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a semiconductor wafer inspection apparatus capable of performing a debugging work together with a characteristic inspection of an IC chip. More specifically, for debugging directly from a performance board or the like. The present invention relates to a semiconductor wafer inspection device provided with a contact ring capable of obtaining the electric signal of

〈従来の技術〉 半導体ウェハー検査装置は、一枚のウェハー上に完成さ
れた単位チップ毎の電極パッドに、検査装置から導出さ
れた多数のプローブを接触させて電気特性を測定するも
のである。
<Prior Art> A semiconductor wafer inspection apparatus measures electrical characteristics by bringing a large number of probes derived from the inspection apparatus into contact with an electrode pad for each unit chip completed on one wafer.

プローバーからの電気信号は、テストヘッドに導かれて
解析されるが、ICの検査項目が、ICの使用目的及び機能
に応じてまちまちのために、プローバーとテストヘッド
の間のパフォーマンスボードに、そのICに要求される検
査機能を有する回路を設けて多様の検査項目に対応でき
るようにしている。
The electrical signal from the prober is guided to the test head and analyzed, but the inspection items of the IC vary depending on the purpose and function of the IC, and therefore, on the performance board between the prober and the test head. A circuit with the inspection function required for ICs is provided to support various inspection items.

このような半導体ウェハー検査装置でのデバッグ作業
は、信号波形を良い品位で得るために、デバッグのため
の信号をICに近接した位置で得る必要がある。このため
従来の検査装置は、パフォーマンスボード上の電気配線
に測定用ケーブル接続して、デバッグのための信号を得
るように構成していた。
In the debugging work in such a semiconductor wafer inspection apparatus, it is necessary to obtain a signal for debugging at a position close to the IC in order to obtain a good signal waveform. For this reason, the conventional inspection apparatus is configured to obtain a signal for debugging by connecting the measurement cable to the electric wiring on the performance board.

〈考案が解決しようとする課題〉 しかしながら、このような構成の従来装置は以下に示す
ような問題点を有している。
<Problems to be Solved by the Invention> However, the conventional device having such a configuration has the following problems.

1)測定ポイントを変える場合、テストヘッドをその都
度パフォーマンスボードから外し、測定用ケーブルを希
望の測定ポイントに接続し直さねばならない。
1) When changing the measurement point, the test head must be removed from the performance board and the measurement cable must be reconnected to the desired measurement point.

2)ICチップの品種が変わるたびにパフォーマンスボー
ドを交換しなくてはならないので、パフォーマンスボー
ドとデバッグ用の測定ケーブルを再度接続し直す必要が
ある。
2) The performance board must be replaced every time the type of IC chip changes, so it is necessary to reconnect the performance board and the measurement cable for debugging.

3)パフォーマンスボードからデバッグ用に別配線する
測定用ケーブルを、テストヘッドの外側に引き出してか
らテストポイントまで配線しなければならないので、信
号伝達の距離が長くなり、信号波形が崩れてしまい品位
の良い信号波形を得ることが困難である。
3) It is necessary to pull out the measurement cable, which is separately wired from the performance board for debugging, to the outside of the test head and then connect it to the test point. Therefore, the signal transmission distance becomes long and the signal waveform collapses, resulting in poor quality. It is difficult to obtain a good signal waveform.

4)デバッグのための信号をパフォーマンスボードのみ
から得ているので、ウェハー検査装置の電気回路の異常
箇所の判定が困難である。
4) Since the signal for debugging is obtained only from the performance board, it is difficult to determine the abnormal portion of the electric circuit of the wafer inspection device.

本考案は、このような点に鑑みてなされたもので、ICチ
ップからの測定信号の品位を落とさないで、高感度で簡
単にデバッグ作業を行うことができ、かつ電気回路の異
常箇所を特定することができる半導体ウェハー検査装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such a point, and it is possible to easily debug with high sensitivity without degrading the quality of the measurement signal from the IC chip, and to identify the abnormal portion of the electric circuit. It is an object of the present invention to provide a semiconductor wafer inspection device that can be manufactured.

〈課題を解決するための手段〉 このような目的を達成するために、本考案は、プローバ
ーに実装されたパフォーマンスボードと電気的接続がさ
れる着脱可能なテストヘッドを備え、プローバーとテス
トヘッドとに顕微鏡覗き穴が設けられた半導体ウェハー
検査装置において、 前記顕微鏡の覗き穴に挿入され、前記パフォーマンスボ
ードに対向する底面にICチップとの入出力信号を授受す
るコンタクトピンを有するとともに、上面に前記コンタ
クトピンに同軸ケーブルを介して接続されるテストポイ
ントを有するコンタクトリングを設けたことを特徴とし
ている。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve such an object, the present invention is provided with a removable test head electrically connected to a performance board mounted on a prober, and includes a prober and a test head. In the semiconductor wafer inspection device provided with a microscope peephole in, the insertion into the peephole of the microscope, having a contact pin for exchanging input and output signals with the IC chip on the bottom surface facing the performance board, the top surface of the It is characterized in that a contact ring having a test point connected to the contact pin via a coaxial cable is provided.

また、前記パフォーマンスボードの電気信号が接続さ
れ、前記テストヘッド内のプリント基板が実装される中
継ボードと電気信号の授受を行うコンタクトピンを有す
るコンタクトリングを設けたようにしてもよい。
Further, a contact ring having a contact pin for transmitting / receiving an electric signal to / from a relay board to which an electric signal of the performance board is connected and a printed circuit board in the test head is mounted may be provided.

〈作用〉 ステージに搭載されたICウェハーがプローバーのプロー
ブピンと接触して電気信号が授受される。この電気信号
はプローバーに実装されるパフォーマンスボードを介し
テストヘッドで特性解析がされる。IC回路のデバッグの
ための電気信号は、パフォーマンスボードのランドから
テストヘッドの顕微鏡の覗き穴に設けられたコンタクト
リングのコンタクトピンと接続され、テストポイントで
特性評価される。テストヘッド内の電気特性は、複数の
プリント基板が実装されたテストヘッド内の中継ボード
にコンタクトリングの中ほどに設けられたコンタクトピ
ンが接続され、電気信号が授受されて測定される。
<Operation> The IC wafer mounted on the stage comes into contact with the probe pins of the prober to exchange electric signals. This electrical signal is analyzed by the test head through the performance board mounted on the prober. The electrical signal for debugging the IC circuit is connected from the land of the performance board to the contact pin of the contact ring provided in the observation hole of the microscope of the test head, and is characterized at the test point. The electrical characteristics in the test head are measured by connecting and receiving an electrical signal by connecting a contact pin provided in the middle of the contact ring to a relay board in the test head on which a plurality of printed circuit boards are mounted.

〈実施例〉 以下図面を用いて、本考案の一実施例を詳細に説明す
る。
<Embodiment> An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は、本考案の一実施例を示す半導体ウェハー検査
装置の構成図で、(A)は断面図、(B)は電気的な接
続を説明するためにB−B-部から見た要部平面図であ
る。図中、10はICウェハー11が搭載されるステージで、
XY軸方向に移動することができるようになっていて、IC
ウェハー11内に形成されたICチップのパッドにプローブ
ピン12が位置あわせができるように構成されている。こ
のステージ10は、ICチップとプローブピンの位置合わせ
が完了した後に矢印U方向にアップしてICチップに形成
された多数のパッドとプローブピン12が接触できるよう
になっている。13は複数のプローブピン12が中心方向に
放射状に設けられた円形状のプローブカードで、中心部
は上部から顕微鏡で覗いてICチップとプローブピン12と
の位置合わせ用の覗き穴14が設けられている。プローブ
カード13の上部にはフロッグリング15が設けられてい
て、コンタクトピン151(↑↓の矢印がコンタクトピン
を示している)でプローブカード13と電気的な接続がな
され、さらにねじ(図省略)で機械的な接続がなされて
いる。さらに、このフロッブリング15はコンタクトピン
152を介してパフォーマンスボード16と電気的な接続が
なされている。
Figure 1 is a block diagram of a semiconductor wafer inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, (A) is a sectional view, (B) is B-B in order to explain the electrical connection - as seen from the section It is a principal part top view. In the figure, 10 is a stage on which the IC wafer 11 is mounted.
It is possible to move in the XY axis direction, and IC
The probe pins 12 are configured to be aligned with the pads of the IC chip formed in the wafer 11. After the alignment of the IC chip and the probe pin is completed, the stage 10 is moved up in the direction of the arrow U so that many pads formed on the IC chip can come into contact with the probe pin 12. Reference numeral 13 is a circular probe card in which a plurality of probe pins 12 are radially provided in the center direction, and the center portion is provided with a peep hole 14 for aligning the IC chip and the probe pin 12 when viewed through a microscope from above. ing. A frog ring 15 is provided on the upper part of the probe card 13, and the contact pins 151 (arrows ↑ ↓ indicate the contact pins) are electrically connected to the probe card 13, and a screw (not shown) is used. The mechanical connection is made in. In addition, this flob ring 15 is a contact pin
It is electrically connected to the performance board 16 via 152.

パフォーマンスボード16の電気配線161は、スルーホー
ル(図省略)を介してテストヘッド17側及びパフォーマ
ンスボード16内に配線されている(パフォーマンスボー
ドの電気配線161は積層プリント基板の内部に配線され
ており、図では破線によって示している)。この電気配
線161には、ICチップの違いに応じて種種のテストを行
うことができるようにリレー、アンプ及び信号源等の電
子部品162が組み合わされて実装されて、ICチップの機
能テストを行う電気回路を構成している。163はパフォ
ーマンスボード16でテストされた信号をテストヘッド17
に接続するためのランドで、テストヘッド17に設けられ
たコンタクトピン171が押圧されて電気的な接続がなさ
れる。
The electric wiring 161 of the performance board 16 is wired inside the test head 17 side and the performance board 16 through through holes (not shown) (The electric wiring 161 of the performance board is wired inside the laminated printed circuit board. , Indicated by dashed lines in the figure). Electronic components 162 such as a relay, an amplifier and a signal source are combined and mounted on the electric wiring 161 so that various kinds of tests can be performed according to the difference of the IC chips, and the functional test of the IC chips is performed. It constitutes an electric circuit. 163 test head with signals tested on performance board 16
The contact pin 171 provided on the test head 17 is pressed by the land for connecting to the.

18はテストヘッド17の顕微鏡覗き穴172の内壁に設置さ
れる略円柱状のコンタクトリングで、テストヘッド17の
上部からテストヘッド17の顕微鏡覗き穴172の内壁に沿
って挿入され、着脱できるようになっている。このため
にコンタクトリング18は、テストヘッド17がパフォーマ
ンスボード16上に実装された測定時の状態でを取り付け
ることが可能である。
18 is a substantially cylindrical contact ring installed on the inner wall of the microscope peep hole 172 of the test head 17, and is inserted from the upper part of the test head 17 along the inner wall of the microscope peep hole 172 of the test head 17 so that it can be attached and detached. Has become. For this reason, the contact ring 18 can be attached in a state in which the test head 17 is mounted on the performance board 16 at the time of measurement.

181はテストヘッド17に設けられたデバッグのためのコ
ンタクトピンで、スルーホール(図省略)の周囲に設け
られたランド164に押圧しICチップからの電気信号をコ
ンタクトリング18の上部に設けられたテストポイント18
2まで、最短距離で取り出すことができるようになって
いる。このコンタクトピン181は、測定するICの最大数
のパッドに対応できるようなピン数を元から有してい
て、全てのICチップに対してデバッグ作業を行うことが
できるようになっている。
Reference numeral 181 denotes a contact pin provided on the test head 17 for debugging, which is pressed against a land 164 provided around a through hole (not shown) and an electric signal from the IC chip is provided above the contact ring 18. Test point 18
Up to 2 can be taken out in the shortest distance. The contact pin 181 originally has the number of pins corresponding to the maximum number of pads of the IC to be measured, and debugging work can be performed on all the IC chips.

183はコンタクトリング18に設けられた位置決め用のガ
イドピンで、テストヘッド17側に設けられた略凹状のガ
イド用溝173に嵌合してコンタクトピン181が正確にラン
ド164を押圧できるようになっている。174はコンタクト
リング18をテストヘッド17に固定するためのストッパー
で、矢印S方向に移動できコンタクトリング18に設けら
れたストッパ溝183に係合し、コンタクトリング18を矢
印D方向に押圧し固定する。
Reference numeral 183 denotes a positioning guide pin provided on the contact ring 18, which fits into a substantially concave guide groove 173 provided on the test head 17 side so that the contact pin 181 can press the land 164 accurately. ing. 174 is a stopper for fixing the contact ring 18 to the test head 17, which is movable in the arrow S direction and engages with a stopper groove 183 provided in the contact ring 18 to press and fix the contact ring 18 in the arrow D direction. .

尚、図示されていないが、コンタクトリング18とパフォ
ーマンスボード16の間には、ランド164を押圧して電気
的接続をするコンタクトピン181の押圧力を一定に保つ
ために、コンタクトリング18が一定以上の力でパフォー
マンスボード16を押圧しないように、コンタクトリング
18を支える台座が設けられている。
Although not shown, between the contact ring 18 and the performance board 16, in order to maintain a constant pressing force of the contact pin 181 that presses the land 164 and makes an electrical connection, the contact ring 18 has a certain amount or more. Contact ring to prevent the performance board 16 from being pressed by
A pedestal that supports 18 is provided.

第2図は、テストヘッドにコンタクトリングを取り付け
る前後の状態の説明図で、(A)は取り付け前、(B)
は取り付け途中、(C)は取り付け完了後の状態を示し
ている。
FIG. 2 is an explanatory view of the state before and after attaching the contact ring to the test head, (A) before attachment, (B)
In the middle of mounting, (C) shows the state after the completion of mounting.

第2図(A)は、テストヘッド17がパフォーマンスボー
ド16に搭載された測定時の状態で、半導体ウェハー検査
装置の本来の使用状態を示している。この場合は、ICの
特性検査を行う機能のみで特にデバッグのための機能は
有していない。
FIG. 2 (A) shows the original state of use of the semiconductor wafer inspection apparatus when the test head 17 is mounted on the performance board 16 during measurement. In this case, only the function for inspecting the characteristics of the IC is provided, and the function for debugging is not included.

第2図(B)は、デバッグ機能を有した、コンタクトリ
ング18がテストヘッド17の顕微鏡の覗き穴172に沿って
挿入される途中の状態である。デバッグ用の信号ケーブ
ルを別途パフォーマンスボード16に接続する必要が無い
ために、第2図(A)の測定状態を維持したままでコン
タクトリング18を挿入することができる。
FIG. 2B shows a state in which the contact ring 18 having the debug function is being inserted along the inspection hole 172 of the microscope of the test head 17. Since it is not necessary to separately connect a signal cable for debugging to the performance board 16, the contact ring 18 can be inserted while maintaining the measurement state of FIG. 2 (A).

第2図(C)は、テストヘッド17にコンタクトリング18
の取り付けが完了した状態で、コンタクトリング18のコ
ンタクトピン181とパフォーマンスボード16上のランド1
64の電気的接合が取られた状態を示している。この状態
で、ICの測定とともにデバッグ作業を行うことができ
る。
In FIG. 2 (C), the contact ring 18 is attached to the test head 17.
The contact pin 181 of the contact ring 18 and the land 1 on the performance board 16
It shows a state where 64 electrical connections are taken. In this state, IC measurement and debugging work can be performed.

第3図は、本考案の他の実施例を示す半導体ウェハー検
査装置の構成断面図、第4図は、コンタクトリングの構
成斜視図である。
FIG. 3 is a sectional view showing the construction of a semiconductor wafer inspection apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a perspective view showing the construction of a contact ring.

図中、第1図と同一作用をするものは同一符号を付けて
説明する。20は中心軸を含むように切断した、断面形状
が略逆凸形のコンタクトリングで、第1の実施例で説明
したのと同じく、位置決め用ガイドピン201がテストヘ
ッド21側に設けられたガイド溝211に嵌合し位置合わせ
される。位置合わせ後、ストッパー212がストッパー溝2
02に係合され、コンタクトリング20がテストヘッド21に
完全に固定係止される。
In the figure, components having the same functions as those in FIG. Reference numeral 20 is a contact ring that is cut so as to include the central axis and has a substantially inverted convex cross-sectional shape. As in the first embodiment, the guide pin 201 for positioning is provided on the test head 21 side. The groove 211 is fitted and aligned. After alignment, stopper 212 will be in stopper groove 2
02, so that the contact ring 20 is completely fixed and locked to the test head 21.

203はパフォーマンスボード16からICの電気信号を直接
受ける第1のプローブピンで、IC回路及びプローブピン
12からフロッグリング15間の回路の異常を調べる働きを
している(P領域)。第1のコンタクトピン203は、コ
ンタクトリング20内に布設した同軸ケーブル204を会し
てコンタクトリング20の中を最短距離でコンタクトリン
グ20の上部に設けられたテストポイント205まで導か
れ、第1のコンタクトピン203でピックアップされた信
号がオシロスコープ等で解析される。
203 is the first probe pin that directly receives the electric signal of the IC from the performance board 16, and is the IC circuit and probe pin.
It works to check for abnormalities in the circuit between 12 and the frog ring 15 (P region). The first contact pin 203 meets the coaxial cable 204 laid inside the contact ring 20 and is guided through the contact ring 20 to the test point 205 provided on the contact ring 20 at the shortest distance. The signal picked up by the contact pin 203 is analyzed by an oscilloscope or the like.

206はテストヘッド21内の中継ボード213から直接にテス
トヘッド21内の電気信号を受ける第2のコンタクトピン
で、テストヘッド21内に実装された複数のプリント基板
によって形成されたの回路の異常を測定する働きをして
いる(H領域)。この第2のコンタクトピン206も第1
のコンタクトピン203と同様に同軸ケーブル204でコンタ
クトリング20上のテストポイント207に接続されて信号
特性が解析される。
Reference numeral 206 denotes a second contact pin that receives an electric signal in the test head 21 directly from the relay board 213 in the test head 21, and detects an abnormality in a circuit formed by a plurality of printed circuit boards mounted in the test head 21. It works to measure (H area). This second contact pin 206 is also the first
Similarly to the contact pin 203, the coaxial cable 204 is connected to the test point 207 on the contact ring 20 to analyze the signal characteristics.

このように、第1のコンタクトピン203でP領域の回路
を、第2のコンタクトピン206でH領域の回路の良否を
測定することができるので、半導体ウエハー検査装置の
回路の異常をブロック的にチックすることができ、回路
中の異常箇所の発見がたやすい。例えば、パフォーマン
スボード16に故障箇所があり、半導体ウェハー検査装置
が異常を示した場合、第1及び第2のコンタクトピン20
3、206によりP領域及びH領域の測定が正常であること
が確認され、パフォーマンスボード16の異常を判定する
という具合である。
As described above, since it is possible to measure the quality of the circuit in the P region with the first contact pin 203 and the circuit in the H region with the second contact pin 206, it is possible to block the circuit abnormality of the semiconductor wafer inspection apparatus in a block manner. It is possible to tick and it is easy to find an abnormal point in the circuit. For example, when the performance board 16 has a failure point and the semiconductor wafer inspection apparatus shows an abnormality, the first and second contact pins 20
3, 206 confirms that the measurement of the P area and the H area is normal, and the abnormality of the performance board 16 is determined.

第5図は、第3図で示された半導体ウェハー検査装置の
信号の流れを示すブロック図示である。図中、実線で示
された矢印は従来のHFタイプ(高周波測定用タイプ)の
テストヘッドを用いた半導体ウェハー検査装置の信号の
流れを示している。
FIG. 5 is a block diagram showing a signal flow of the semiconductor wafer inspection apparatus shown in FIG. In the figure, the arrow shown by the solid line shows the signal flow of the semiconductor wafer inspection device using the conventional HF type (high frequency measurement type) test head.

装置本体のコントローラーからの入力信号がテストヘッ
ド21を介しプローブカード13の入力用のプローブピン12
からICチップに入力される。このように入力された信号
は、他の出力用のプローブピン12から出力信号として取
り出されて、入力経路と全く反対の経路でコントローラ
ーに伝達され、ここでICチップの特性解析がなされる。
The input signal from the controller of the device body goes through the test head 21 and the probe pin 12 for input of the probe card 13
Input to the IC chip. The signal thus input is taken out as an output signal from the other output probe pin 12 and is transmitted to the controller through a path completely opposite to the input path, where the characteristic analysis of the IC chip is performed.

次にデバッグ時の流れについて説明する。破線で示され
た矢印は、デバッグ時に出力信号が取り出される経路で
ある。コントローラーからの入力信号が従来の検査と同
じようにICチップに入力される。ICチップから出力され
た信号はパフォーマンスボード16からテストヘッド21の
下部に設けられた第1のコンタクトピン203でコンタク
トリング20上のテストポイント205に取り出されてオシ
ロスコープ等によりP領域の信号特性が解析される。
Next, the flow at the time of debugging will be described. The arrow shown by a broken line is a path through which an output signal is taken out during debugging. The input signal from the controller is input to the IC chip as in the conventional inspection. The signal output from the IC chip is taken out from the performance board 16 to the test point 205 on the contact ring 20 by the first contact pin 203 provided under the test head 21, and the signal characteristic in the P region is analyzed by an oscilloscope or the like. To be done.

一方、テストヘッド21の中位に設けられた第2のコンタ
クトピン206は、テストヘッド21内の電気信号をコンタ
クトリング20上のテストポイント207に取り出し、H領
域の特性解析を行う。
On the other hand, the second contact pin 206 provided in the middle of the test head 21 takes out the electric signal in the test head 21 to the test point 207 on the contact ring 20 and analyzes the characteristic of the H region.

〈考案の効果〉 以上詳細に説明したように、本考案の半導体ウェハー検
査装置は、パフォーマンスボード及び中継リングからデ
バッグのための電気信号を直接に得ることができるコン
タクトピンを有するコンタクトリングを設けたことで次
のような効果を有する。
<Effect of Device> As described in detail above, the semiconductor wafer inspection apparatus of the present invention is provided with the contact ring having the contact pin that can directly obtain the electric signal for debugging from the performance board and the relay ring. This has the following effects.

1)テストヘッドをパフォーマンスボードに乗せたまま
ICチップのデバッグ作業を行えるので、ICチップのデバ
ッグ作業が簡単に行える。
1) With the test head on the performance board
Since the IC chip debug work can be performed, the IC chip debug work can be easily performed.

2)全てのICの品種に対応できるように、最大数のコン
タクトピンをはじめから中継リングに設けているので、
デバッグ用の接続ケーブルをいちいちパフォーマンスボ
ードに接続する必要がない。
2) Since the maximum number of contact pins is provided on the relay ring from the beginning, so as to be compatible with all IC types,
It is not necessary to connect the connection cable for debugging to the performance board one by one.

3)ICチップからの電気信号をパフォーマンスボードか
ら最短距離で得ることができるので、信号波形を良い品
位で得ることができる。
3) Since the electric signal from the IC chip can be obtained from the performance board at the shortest distance, the signal waveform can be obtained with good quality.

4)中継リングからも測定信号を得ることができるの
で、半導体ウェハー検査装置の異常箇所を、IC部、パフ
ォーマンスボード部、テストヘッド部とブロック的に判
断できる。
4) Since the measurement signal can be obtained from the relay ring, the abnormal portion of the semiconductor wafer inspection device can be determined in a block manner from the IC portion, performance board portion, and test head portion.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本考案の一実施例を示す半導体ウェハー検査装
置の構成図で、(A)は断面図、(B)はB−B-部から
見た要部平面図、第2図はテストヘッドにコンタクトリ
ングを取り付ける前後の状態の説明図で、(A)は取り
付け前、(B)は取り付け途中、(C)は取り付け完了
後、第3図は本考案の他の実施例を示す半導体ウェハー
検査装置の構成断面図、第4図はコンタクトリングの構
成斜視図、第5図は第3図で示された半導体ウェハー検
査装置の信号の流れを示すブロック図である。 16…パフォーマンスボード、164…ランド、17、21…テ
ストヘッド、172…顕微鏡の覗き穴、173、211…ガイド
溝、174、212…ストッパー、18、20…コンタクトリン
グ、181…コンタクトピン、183、201…ガイドピン、203
…第1のコンタクトピン、206…第2のコンタクトピ
ン、213…中継ボード。
Figure 1 is a block diagram of a semiconductor wafer inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, (A) is a sectional view, (B) is B-B - fragmentary plan view as seen from the section, Fig. 2 Test FIGS. 3A and 3B are explanatory views of a state before and after attaching a contact ring to a head. FIG. 3A is a state before attachment, FIG. FIG. 4 is a configuration sectional view of the wafer inspection apparatus, FIG. 4 is a configuration perspective view of the contact ring, and FIG. 5 is a block diagram showing a signal flow of the semiconductor wafer inspection apparatus shown in FIG. 16 ... Performance board, 164 ... Land, 17, 21 ... Test head, 172 ... Microscope peephole, 173, 211 ... Guide groove, 174, 212 ... Stopper, 18, 20 ... Contact ring, 181, ... Contact pin, 183, 201 ... Guide pin, 203
... first contact pin, 206 ... second contact pin, 213 ... relay board.

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】プローバーに実装されたパフォーマンスボ
ードと電気的接続がされる着脱可能なテストヘッドを備
え、プローバーとテストヘッドとに顕微鏡覗き穴が設け
られた半導体ウェハー検査装置において、 前記顕微鏡の覗き穴に挿入され、前記パフォーマンスボ
ードに対向する底面にICチップとの入出力信号を授受す
るコンタクトピンを有するとともに、上面に前記コンン
タクトピンに同軸ケーブルを介して接続されるテストポ
イントを有するコンタクトリングを設けたことを特徴と
する半導体ウェハー検査装置。
1. A semiconductor wafer inspection apparatus comprising a removable test head electrically connected to a performance board mounted on a prober, wherein the prober and the test head are provided with microscope inspection holes. A contact ring that is inserted into the hole and has a contact pin that exchanges input / output signals with the IC chip on the bottom surface facing the performance board, and a test point that is connected to the contact pin via a coaxial cable on the top surface. A semiconductor wafer inspection apparatus characterized by being provided with.
【請求項2】前記パフォーマンスボードの電気信号が接
続され、前記テストヘッド内のプリント基板が実装され
る中継ボードと電気信号の授受を行うコンタクトピンを
有するコンタクトリングを設けた請求項(1)記載の半
導体ウェハー検査装置。
2. A contact ring having a contact pin for transmitting and receiving an electric signal to and from a relay board, to which an electric signal of the performance board is connected, and a printed circuit board in the test head is mounted. Semiconductor wafer inspection equipment.
JP1989134997U 1989-11-21 1989-11-21 Semiconductor wafer inspection system Expired - Lifetime JPH0729636Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989134997U JPH0729636Y2 (en) 1989-11-21 1989-11-21 Semiconductor wafer inspection system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989134997U JPH0729636Y2 (en) 1989-11-21 1989-11-21 Semiconductor wafer inspection system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0373446U JPH0373446U (en) 1991-07-24
JPH0729636Y2 true JPH0729636Y2 (en) 1995-07-05

Family

ID=31682290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1989134997U Expired - Lifetime JPH0729636Y2 (en) 1989-11-21 1989-11-21 Semiconductor wafer inspection system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0729636Y2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3560907A (en) * 1968-05-17 1971-02-02 Peter V N Heller Test connector for microminiature circuits
JPS57103062A (en) * 1980-12-19 1982-06-26 Fujitsu Ltd Probe test device
JPS6143854A (en) * 1984-08-08 1986-03-03 Hitachi Ltd Carrier regenerating circuit
JPS6178135A (en) * 1984-09-25 1986-04-21 Mitsubishi Electric Corp Measuring device for semiconductor wafer

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3560907A (en) * 1968-05-17 1971-02-02 Peter V N Heller Test connector for microminiature circuits
JPS57103062A (en) * 1980-12-19 1982-06-26 Fujitsu Ltd Probe test device
JPS6143854A (en) * 1984-08-08 1986-03-03 Hitachi Ltd Carrier regenerating circuit
JPS6178135A (en) * 1984-09-25 1986-04-21 Mitsubishi Electric Corp Measuring device for semiconductor wafer

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0373446U (en) 1991-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6856154B2 (en) Test board for testing IC package and tester calibration method using the same
JP2002164136A (en) Ic socket for bga
JPH0729636Y2 (en) Semiconductor wafer inspection system
JP3730340B2 (en) Semiconductor test equipment
JP2609639B2 (en) Test head
JP3224519B2 (en) Wafer measuring jig, test head device and wafer measuring device
CN113341360A (en) Radio frequency calibration device for chip test and calibration method thereof
JPH07122601A (en) Probe unit and maintenance jig therefor
JPH0644586B2 (en) Probe device
JPS63211642A (en) Apparatus for testing semiconductor
CN215728605U (en) Probe apparatus
JP3076424B2 (en) Circuit board inspection method, inspection board, and circuit board inspection device
KR940002455Y1 (en) Semiconductor wafer test equipment with test signal check board
JPH0441342Y2 (en)
KR20050066413A (en) Connecting apparatus for wafer testing system
KR950009876Y1 (en) Test board for semiconductor test machine
TW202309540A (en) Apparatus and method for probing device-under-test
JPS6137776B2 (en)
JPH066443Y2 (en) Specimen mounting mechanism in electron beam prober
KR960005098B1 (en) Probe card
JPH10197596A (en) Inspection device for semiconductor devices
JP2636877B2 (en) Probe card and test method using this probe card
JPH0340940B2 (en)
JP2000314748A (en) Board for measuring wafer
KR20030021900A (en) Apparatus of testing wafer having alignment tool for probe card

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 7

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080831

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090831

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100831

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110831

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120831

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130831

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250